TWI513689B - Aromatic salt compounds - Google Patents

Aromatic salt compounds Download PDF

Info

Publication number
TWI513689B
TWI513689B TW099139653A TW99139653A TWI513689B TW I513689 B TWI513689 B TW I513689B TW 099139653 A TW099139653 A TW 099139653A TW 99139653 A TW99139653 A TW 99139653A TW I513689 B TWI513689 B TW I513689B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
group
carbon atoms
represented
unsubstituted
substituted
Prior art date
Application number
TW099139653A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201134814A (en
Inventor
Yoshie Makabe
Yuta Okuyama
Original Assignee
Adeka Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Adeka Corp filed Critical Adeka Corp
Publication of TW201134814A publication Critical patent/TW201134814A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI513689B publication Critical patent/TWI513689B/zh

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D219/00—Heterocyclic compounds containing acridine or hydrogenated acridine ring systems
    • C07D219/04—Heterocyclic compounds containing acridine or hydrogenated acridine ring systems with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to carbon atoms of the ring system
    • C07D219/06—Oxygen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/68—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the catalysts used
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/68—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the catalysts used
    • C08G59/681—Metal alcoholates, phenolates or carboxylates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L63/00—Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/0041—Photosensitive materials providing an etching agent upon exposure
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
    • G03F7/2004—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by the use of a particular light source, e.g. fluorescent lamps or deep UV light

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Other In-Based Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
  • Polymerization Catalysts (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)

Description

芳香族鋶鹽化合物
本發明係關於一種新穎之芳香族鋶鹽化合物，詳細而言，係關於芳香族鋶鹽化合物、使用其之光酸產生劑及陽離子聚合起始劑、以及含有該等之抗蝕組合物及陽離子聚合性組合物。
鋶鹽化合物係藉由受到光等之能量線照射而產生酸之物質，係用於半導體等之電子電路形成時使用之光微影用抗蝕組合物中之光酸產生劑、或光造形用樹脂組合物、塗料、塗佈劑、接著劑等光聚合性組合物中之陽離子聚合起始劑等。
專利文獻1~3中揭示有芳香族鋶鹽化合物、包含其之光酸產生劑以及含有該光酸產生劑之光聚合性組合物。但是，該等光酸產生劑之顯影性並不充分，尤其於用作負型抗蝕劑之情形時，微細之圖案化並不容易。
先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開平9-143212號公報
專利文獻2：日本專利特開平9-157350號公報
專利文獻3：日本專利特開2000-186071號公報
因此，本發明之目的在於提供一種顯影性高之光酸產生劑以及硬化性高之陽離子聚合起始劑，又，在於提供使用該等之抗蝕組合物以及陽離子聚合性組合物。
本發明者等人為了解決上述問題而進行潛心研究，結果發現，具有特定結構之芳香族鋶鹽化合物可解決上述問題，從而達成本發明。
即，本發明係提供下述通式(I)所表示之新穎芳香族鋶鹽化合物。
[化1]
(式(I)中，R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R7 、R8 、R9 及R10 分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、硝基、未經取代或具有取代基之碳原子數1~18之烷基、未經取代或具有取代基之碳原子數6~20之芳基、或者未經取代或具有取代基之碳原子數7~20之芳基烷基，R11 、R12 、R13 、R14 、R15 、R16 及R17 分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、硝基、或者未經取代或具有取代基之碳原子數1~18之烷基，R18 表示氫原子、未經取代或具有取代基之碳原子數1~18之烷基、未經取代或具有取代基之碳原子數6~20之芳基、或者未經取代或具有取代基之碳原子數7~20之芳基烷基，對R1 ~R18 所表示之碳原子數1~18之烷基、R1 ~R10 及R18 所表示之碳原子數6~20之芳基、以及R1 ~R10 及R18 所表示之碳原子數7~20之芳基烷基所具有之取代基之數並無限制，R1 ~R18 所表示之碳原子數1~18之烷基、R1 ~R10 及R18 所表示之碳原子數6~20之芳基、以及R1 ~R10 及R18 所表示之碳原子數7~20之芳基烷基中之亞甲基鏈可經-O-、-S-、-CO-、-CO-O-或者-O-CO-中斷，X1 - 表示一價陰離子。)
又，本發明提供一種光酸產生劑，其特徵在於：包含上述芳香族鋶鹽化合物。
又，本發明提供一種抗蝕組合物，其特徵在於：含有上述光酸產生劑而成。
又，本發明提供一種陽離子聚合起始劑，其特徵在於：包含上述芳香族鋶鹽化合物。
進而，本發明提供一種陽離子聚合性組合物，其特徵在於：含有上述陽離子聚合起始劑而成。
利用本發明之芳香族鋶鹽化合物，獲得顯影性高之光酸產生劑。含有該光酸產生劑之光聚合性組合物之光阻劑由於具有高感度及高解像度，故可用作用以製作感應紫外線、電子束、X射線等放射線之半導體積體電路，LCD(Liquid Crystal Display，液晶顯示器)用TFT(Thin Film Transistor，薄膜電晶體)電路以及電路製成用之遮罩的負型抗蝕劑。
進而，本發明之芳香族鋶鹽化合物亦可用作陽離子聚合起始劑，藉由使用其而獲得硬化性優異之陽離子聚合性組合物。
以下，基於較佳之實施形態，對本發明進行詳細說明。
首先，對上述通式(I)所表示之本發明之芳香族鋶鹽化合物進行說明。
作為上述通式(I)中之R1 ~R17 所表示之鹵素原子，可列舉氟、氯、溴、碘等，作為上述通式(I)中之R1 ~R18 所表示之未經取代或具有取代基之碳原子數1~18之烷基，可列舉：甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、第二丁基、第三丁基、異丁基、戊基、異戊基、第三戊基、己基、環己基、異己基、2-乙基己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十一烷基、十二烷基、十三烷基、異十三烷基、十四烷基、十六烷基、十七烷基、十八烷基、1-金剛烷基、2-金剛烷基、2-甲基-1-金剛烷基、2-甲基-2-金剛烷基、2-乙基-1-金剛烷基、2-乙基-2-金剛烷基、2-降基、2-降基甲基、乙烯基、烯丙基、異丙烯基、1-丙烯基、氟甲基、二氟甲基、三氟甲基、氯甲基、二氯甲基、三氯甲基、溴甲基、二溴甲基、三溴甲基、二氟乙基、三氯乙基、二氯二氟乙基、五氟乙基、七氟丙基、九氟丁基、十氟戊基、十三氟己基、十五氟庚基、十七氟辛基、氰基甲基、羥基甲基、1-羥基乙基、2-羥基乙基、3-羥基丙基、3-羥基丁基、4-羥基丁基、1,2-二羥基乙基等，作為上述通式(I)中之R1 ~R10 及R18 所表示之未經取代或具有取代基之碳原子數6~20之芳基，可列舉：苯基、萘基、2-甲基苯基、3-甲基苯基、4-甲基苯基、4-乙烯基苯基、3-異丙基苯基、4-異丙基苯基、4-丁基苯基、4-異丁基苯基、4-第三丁基苯基、4-己基苯基、4-環己基苯基、4-辛基苯基、4-(2-乙基己基)苯基、4-硬脂基苯基、2,3-二甲基苯基、2,4-二甲基苯基、2,5-二甲基苯基、2,6-二甲基苯基、3,4-二甲基苯基、3,5-二甲基苯基、2,4-二-第三丁基苯基、環己基苯基、羥基苯基等，作為上述通式(I)中之R1 ~R10 及R18 所表示之未經取代或具有取代基之碳原子數7~20之芳基烷基，可列舉：苄基、苯乙基、苄醯甲基、2-苯基丙-2-基、二苯基甲基、三苯基甲基、苯乙烯基、桂醯基、2-羥基苄基、3-羥基苄基、4-羥基苄基、2-羥基苯乙基、3-羥基苯乙基、4-羥基苯乙基、2-羥基苄醯甲基、3-羥基苄醯甲基、4-羥基苄醯甲基、2-苯氧基乙基、2-苯基硫基乙基等。
上述烷基、芳基及芳基烷基中之亞甲基鏈可經-O-、-S-、-CO-、-CO-O-或者-O-CO-中斷。具體而言，可列舉：未經取代或具有取代基之碳原子數1~18之烷氧基、未經取代或具有取代基之碳原子數6~20之芳基氧基、未經取代或具有取代基之碳原子數1~18之硫基烷氧基、未經取代或具有取代基之碳原子數6~20之硫基苯氧基、未經取代或具有取代基之碳原子數1~12之酯基等。
作為上述未經取代或具有取代基之碳原子數1~18之烷氧基，可列舉：甲氧基、乙氧基、丙基氧基、異丙基氧基、丁基氧基、第二丁基氧基、第三丁基氧基、異丁基氧基、戊基氧基、異戊基氧基、第三戊基氧基、己基氧基、環己基氧基、環己基甲基氧基、四氫呋喃基氧基、四氫吡喃基氧基、羥基甲基氧基、1-羥基乙基氧基、2-羥基乙基氧基、3-羥基丙基氧基、2-羥基丙基氧基、2,3-二羥基丙基氧基、2-羥基-1-甲基乙基氧基、2-羥基丁基氧基、4-羥基丁基氧基、2,3-二羥基丁基氧基、3,4-二羥基丁基氧基、2,3,4-三羥基丁基氧基、2-(2-羥基乙基氧基)乙基氧基、2-羥基-3-甲氧基丙基氧基、5-羥基戊基氧基、2-羥基-2-(羥基甲基)丁基氧基、3-羥基-2-二(羥基甲基)丙基氧基、6-羥基己基氧基、5,6-二羥基己基氧基、2-羥基環己基氧基、4-羥基環己基氧基、2,3,4,5,6-五羥基環己基氧基、2-(2-(2-羥基乙基氧基)乙基氧基)乙基氧基、4-羥基甲基環己基甲基氧基、2-二(羥基甲基)丁基氧基等，作為上述未經取代或具有取代基之碳原子數6~20之芳基氧基，可列舉：苯氧基、羥基苯基氧基等，作為上述未經取代或具有取代基之碳原子數1~18之硫基烷氧基，可列舉：甲基硫基、乙基硫基、丙基硫基、異丙基硫基、丁基硫基、第二丁基硫基、第三丁基硫基、異丁基硫基、戊基硫基、異戊基硫基、第三戊基硫基、己基硫基、環己基硫基、金剛烷基硫基、2-羥基乙基硫基、3-羥基丙基硫基、2,3-二羥基丙基硫基、2-羥基-1-甲基丙基硫基等，作為上述未經取代或具有取代基之碳原子數6~20之硫基苯氧基，可列舉：苯基硫基、羥基苯基硫基等，作為上述未經取代或具有取代基之碳原子數1~12之酯基，可列舉：甲氧基羰基、乙氧基羰基、異丙基氧基羰基、苯氧基羰基、乙醯氧基、甲氧基乙醯基氧基、丙醯基氧基、丁醯基氧基、第三丁基羰基氧基、苯甲醯基氧基、金剛烷基羰基氧基、2-羥基乙氧基羰基、3-羥基丙基氧基羰基、4-羥基苯氧基羰基、3-羥基丙醯基氧基、4-羥基丁醯基氧基、4-羥基苯甲醯基氧基等。
上述通式(I)中之R1 ~R18 所表示之碳原子數1~18之烷基、上述通式(I)中之R1 ~R18 所表示之碳原子數1~18之烷氧基、上述通式(I)中之R1 ~R18 所表示之碳原子數1~18之硫基烷氧基、上述通式(I)中之R1 ~R18 所表示之碳原子數1~12之酯基、上述通式(I)中之R1 ~R10 及R18 所表示之碳原子數6~20之芳基、上述通式(I)中之R1 ~R10 及R18 所表示之碳原子數7~20之芳基烷基、上述通式(I)中之R1 ~R10 及R18 所表示之碳原子數6~20之芳基氧基、上述通式(I)中之R1 ~R10 及R18 所表示之碳原子數6~20之硫基苯氧基可具有取代基。
作為上述取代基之具體例，可列舉：甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、第三丁基、戊基、異戊基、第三戊基、新戊基、己基、異己基、庚基、辛基、2-乙基己基、壬基、癸基、十一烷基、十二烷基、十三烷基、異十三烷基、肉豆蔻基、棕櫚基、硬脂基、環丙基、環己基、1-金剛烷基、2-金剛烷基、2-甲基-1-金剛烷基、2-甲基-2-金剛烷基、2-乙基-1-金剛烷基、2-乙基-2-金剛烷基、2-降基、2-降基甲基、樟腦-10-基、乙烯基、烯丙基、異丙烯基、1-丙烯基、2-甲氧基-1-丙烯基、氟甲基、二氟甲基、三氟甲基、氯甲基、二氯甲基、三氯甲基、溴甲基、二溴甲基、三溴甲基、二氟乙基、三氯乙基、二氯二氟乙基、五氟乙基、七氟丙基、九氟丁基、十氟戊基、十三氟己基、十五氟庚基、十七氟辛基、甲氧基甲基、甲氧基乙氧基甲基、甲基硫基甲基、乙氧基乙基、丁氧基甲基、第三丁基硫基甲基、4-戊烯基氧基甲基、三氯乙氧基甲基、雙(2-氯乙氧基)甲基、甲氧基環己基、1-(2-氯乙氧基)乙基、甲氧基乙基、1-甲基-1-甲氧基乙基、乙基二硫基乙基、三甲基矽烷基乙基、第三丁基二甲基矽烷基氧基甲基、2-(三甲基矽烷基)乙氧基甲基、第三丁氧基羰基甲基、乙基氧基羰基甲基、乙基羰基甲基、第三丁氧基羰基甲基、丙烯醯基氧基乙基、甲基丙烯醯基氧基乙基、2-甲基-2-金剛烷基氧基羰基甲基、乙醯基乙基等烷基；苯基、1-萘基、2-萘基、蒽-1-基、菲-1-基、鄰甲苯基、間甲苯基、對甲苯基、4-乙烯基苯基、乙基苯基、丙基苯基、3-異丙基苯基、4-異丙基苯基、4-丁基苯基、4-異丁基苯基、4-第三丁基苯基、4-己基苯基、4-環己基苯基、4-辛基苯基、4-(2-乙基己基)苯基、2,3-二甲基苯基、2,4-二甲基苯基、2,5-二甲基苯基、2,6-二甲基苯基、3,4-二甲基苯基、3,5-二甲基苯基、2,4-二-第三丁基苯基、2,5-二-第三丁基苯基、2,6-二-第三丁基苯基、2,4-二-第三戊基苯基、2,5-二-第三戊基苯基、環己基苯基、聯苯基、2,4,5-三甲基苯基、9-茀基、4-氯苯基、3,4-二氯苯基、4-三氯苯基、4-三氟苯基、氟苯基、三氟甲基苯基、五氟苯基、七氟-對甲苯基、4-甲醯基苯基、4-硝基苯基、乙氧基萘基、4-氟甲基苯基、4-甲氧基苯基、2,4-二硝基苯基等芳基；苄基、甲基苄基、二甲基苄基、三甲基苄基、苯基苄基、二苯基甲基、三苯基甲基、2-苯基乙基、2-苯基丙基、苯乙烯基、桂醯基、氟苄基、氯苄基、溴苄基、氰基苄基、二氯苄基、甲氧基苄基、二甲氧基苄基、苄基氧基甲基、甲氧基苄基氧基甲基、1-甲基-1-苄基氧基乙基、1-甲基-1-苄基氧基-2-氟乙基、癒創木酚甲基、苯氧基甲基、苯基硫基甲基、硝基苄基、二硝基二苯甲基、二苯并環庚基、(苯基二甲基矽烷基)甲氧基甲基、苯基磺醯基乙基、三苯基磷基乙基、三苯基甲氧基甲基、苄醯甲基、溴苄醯甲基等芳基烷基；含有上述烷基、芳基、芳基烷基，或四氫吡喃基、3-溴四氫吡喃基、四氫噻喃基、甲氧基四氫吡喃基、甲氧基四氫噻喃基、4-甲氧基四氫噻喃-S,S-二氧化物-4-基、1-[(2-氯-4-甲基)苯基]-4-甲氧基哌啶-4-基、1,4-二烷-2-基、四氫呋喃基、四氫硫代呋喃基、2,3,3a,4,5,6,7,7a-八氫-7,8,8-三甲基-4,7-亞甲基苯并呋喃-2-基、2-吡啶基甲基、4-吡啶基甲基、3-甲基吡啶-N-氧化物-2-基甲基、1,3-苯并二硫雜環戊基、苯并異噻唑啉-S,S-二氧化物-3-基、四氟-4-吡啶基等雜環基作為R的由RO-所表示之烷氧基；RCO-所表示之醯基；RCOO-或ROCO-所表示之酯基；ROCOO-所表示之碳酸酯基；RS-所表示之硫烷基；RSO-所表示之亞磺醯基；RSO2 -所表示之磺醯基；RSO3 -所表示之磺酸酯基；甲醯基；羧基；甲醯基氧基；磺基；三甲基矽烷基氧基、三乙基矽烷基氧基、三丙基矽烷基氧基、二甲基丙基矽烷基氧基、二乙基丙基矽烷基氧基、二甲基(1,1,2,2-四甲基)乙基矽烷基氧基、丁基二甲基矽烷基氧基、丁基二苯基矽烷基氧基、三苄基矽烷基氧基、三(二甲苯基)矽烷基氧基、三苯基矽烷基氧基、二苯基甲基矽烷基氧基、丁基甲氧基苯基矽烷基氧基等矽烷基氧基；磷酸酯基；苄基硫代碳酸酯；甲基二硫代碳酸酯；羥基；硝基；氟、氯、溴、碘等鹵素原子。
作為上述通式(I)中之X1 - 所表示之陰離子，例如可列舉：氯陰離子、溴陰離子、碘陰離子、氟陰離子等鹵素陰離子；過氯酸陰離子、氯酸陰離子、硫代氰酸陰離子、六氟化磷酸陰離子、六氟化銻陰離子、六氟化砷陰離子、四氟化硼陰離子等無機系陰離子；甲磺酸離子、氟磺酸離子、苯磺酸陰離子、甲苯磺酸陰離子、1-萘基磺酸陰離子、2-萘基磺酸陰離子、三氟甲磺酸陰離子、五氟乙磺酸陰離子、七氟丙磺酸陰離子、九氟丁磺酸陰離子、十一氟戊磺酸陰離子、十三氟己磺酸陰離子、十五氟庚磺酸陰離子、十七氟辛磺酸離子、全氟-4-乙基環己磺酸離子、N-烷基(或芳基)二苯基胺-4-磺酸陰離子、2-胺基-4-甲基-5-氯苯磺酸陰離子、2-胺基-5-硝基苯磺酸陰離子、日本專利特開2004-53799號公報中記載之磺酸陰離子、樟腦磺酸陰離子、氟苯磺酸陰離子、二氟苯磺酸陰離子、三氟苯磺酸陰離子、四氟苯磺酸陰離子、五氟苯磺酸陰離子等有機磺酸陰離子；辛基磷酸陰離子、十二烷基磷酸陰離子、十八烷基磷酸陰離子、苯基磷酸陰離子、壬基苯基磷酸陰離子、2,2'-亞甲基雙(4,6-二-第三丁基苯基)膦酸陰離子等有機磷酸系陰離子；雙(三氟甲磺)醯亞胺離子、雙(五氟乙磺)醯亞胺離子、雙(七氟丙磺)醯亞胺離子、雙(九氟丁磺)醯亞胺離子、雙(十一氟戊磺)醯亞胺離子、雙(十五氟庚磺)醯亞胺離子、雙(十三氟己磺)醯亞胺離子、雙(十七氟辛磺醯亞胺)離子、(三氟甲磺)(九氟丁磺)醯亞胺離子、(甲磺)(三氟甲磺)醯亞胺離子、環-六氟丙烷-1,3-雙(磺醯基)醯亞胺陰離子等有機氟磺醯亞胺離子；四(五氟苯基)硼酸陰離子、四(4-氟苯基)硼酸離子、四苯基硼酸離子、日本專利特開2007-112854號公報中記載之硼酸陰離子、日本專利特開平成6-184170號公報中記載之硼酸陰離子、日本專利特表2002-526391號公報中記載之硼酸陰離子、日本專利特願2007-285538號公報中記載之硼酸陰離子等四芳基硼酸陰離子；各種脂肪族或者芳香族碳酸陰離子；三(三氟甲磺醯基)甲基化物、三(甲磺醯基)甲基化物等有機磺醯基甲基化物離子等，進而可列舉：烷基磺酸離子或經氟取代之烷基磺酸離子、烷基磺醯亞胺、經氟取代之烷基磺醯亞胺經丙烯醯基氧基、甲基丙烯醯基氧基取代者，或經降基、金剛烷基等脂肪族環狀烷基取代者。又，具有使處於激發狀態之活性分子去激發(淬滅)之功能的淬滅劑陰離子或於環戊二烯基環上具有羧基或磺酸基、具有磺酸基等陰離子性基之二茂鐵、二茂釕等二茂金屬化合物陰離子等亦可視需要使用。該等陰離子中，就安全性及反應性(脫保護反應及交聯反應)之方面而言，較佳為有機磺酸陰離子。
上述通式(I)所表示之化合物中，下述通式(II)所表示之化合物由於獲得對溶劑之溶解性高且顯影性高之光酸產生劑，故較佳。
[化2]
(式(II)中，R21 、R22 、R23 、R24 、R25 、R26 、R27 、R28 、R29 及R30 分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、硝基、未經取代或具有取代基之碳原子數1~18之烷基、未經取代或具有取代基之碳原子數6~20之芳基、或者未經取代或具有取代基之碳原子數7~20之芳基烷基，R31 、R32 、R33 、R34 、R35 、R36 及R37 分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、硝基、或者未經取代或具有取代基之碳原子數1~18之烷基，R38 表示未經取代之碳原子數1~10之烷基，對R21 ~R38 所表示之碳原子數1~18之烷基、R21 ~R30 所表示之碳原子數6~20之芳基、以及R21 ~R30 所表示之碳原子數7~20之芳基烷基所具有之取代基之數並無限制，R21 ~R38 所表示之碳原子數1~18之烷基、R21 ~R30 所表示之碳原子數6~20之芳基、以及R21 ~R30 所表示之碳原子數7~20之芳基烷基中之亞甲基鏈可經-O-、-S-、-CO-、-CO-O-或者-O-CO-中斷，X2 - 表示一價陰離子。
其中，R21 ~R30 中之至少一者為羥基、經羥基取代之碳原子數1~18之硫基烷氧基、或者經羥基取代之硫基苯氧基。)
作為上述通式(II)中之R21 ~R37 所表示之鹵素原子，可列舉氟、氯、溴、碘等，作為上述通式(II)中之R21 ~R37 所表示之未經取代或具有取代基之碳原子數1~18之烷基、及R38 所表示之未經取代之碳原子數1~10之烷基，可列舉：甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、第二丁基、第三丁基、異丁基、戊基、異戊基、第三戊基、己基、環己基、異己基、2-乙基己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十一烷基、十二烷基、十三烷基、異十三烷基、十四烷基、十六烷基、十七烷基、十八烷基、1-金剛烷基、2-金剛烷基、2-甲基-1-金剛烷基、2-甲基-2-金剛烷基、2-乙基-1-金剛烷基、2-乙基-2-金剛烷基、2-降基、2-降基甲基、乙烯基、烯丙基、異丙烯基、1-丙烯基、氟甲基、二氟甲基、三氟甲基、氯甲基、二氯甲基、三氯甲基、溴甲基、二溴甲基、三溴甲基、二氟乙基、三氯乙基、二氯二氟乙基、五氟乙基、七氟丙基、九氟丁基、十氟戊基、十三氟己基、十五氟庚基、十七氟辛基、氰基甲基、羥基甲基、1-羥基乙基、2-羥基乙基、3-羥基丙基、3-羥基丁基、4-羥基丁基、1,2-二羥基乙基等，作為上述通式(II)中之R21 ~R30 所表示之未經取代或具有取代基之碳原子數6~20之芳基，可列舉：苯基、萘基、2-甲基苯基、3-甲基苯基、4-甲基苯基、4-乙烯基苯基、3-異丙基苯基、4-異丙基苯基、4-丁基苯基、4-異丁基苯基、4-第三丁基苯基、4-己基苯基、4-環己基苯基、4-辛基苯基、4-(2-乙基己基)苯基、4-硬脂基苯基、2,3-二甲基苯基、2,4-二甲基苯基、2,5-二甲基苯基、2,6-二甲基苯基、3,4-二甲基苯基、3,5-二甲基苯基、2,4-二-第三丁基苯基、環己基苯基、羥基苯基等，上述通式(II)中之R21 ~R30 所表示之未經取代或具有取代基之碳原子數7~20之芳基烷基，可列舉：苄基、苯乙基、苄醯甲基、2-苯基丙-2-基、二苯基甲基、三苯基甲基、苯乙烯基、桂醯基、2-羥基苄基、3-羥基苄基、4-羥基苄基、2-羥基苯乙基、3-羥基苯乙基、4-羥基苯乙基、2-羥基苄醯甲基、3-羥基苄醯甲基、4-羥基苄醯甲基、2-苯氧基乙基、2-苯基硫基乙基等。
上述烷基、芳基、及芳基烷基中之亞甲基鏈可經-O-、-S-、-CO-、-CO-O-或者-O-CO-中斷。具體而言，可列舉：未經取代或具有取代基之碳原子數1~18之烷氧基、未經取代或具有取代基之碳原子數6~20之芳基氧基、未經取代或具有取代基之碳原子數1~18之硫基烷氧基、未經取代或具有取代基之碳原子數6~20之硫基苯氧基、未經取代或具有取代基之碳原子1~12之酯基等。
作為上述未經取代或具有取代基之碳原子數1~18之烷氧基，可列舉：甲氧基、乙氧基、丙基氧基、異丙基氧基、丁基氧基、第二丁基氧基、第三丁基氧基、異丁基氧基、戊基氧基、異戊基氧基、第三戊基氧基、己基氧基、環己基氧基、環己基甲基氧基、四氫呋喃基氧基、四氫吡喃基氧基、羥基甲基氧基、1-羥基乙基氧基、2-羥基乙基氧基、3-羥基丙基氧基、2-羥基丙基氧基、2,3-二羥基丙基氧基、2-羥基-1-甲基乙基氧基、2-羥基丁基氧基、4-羥基丁基氧基、2,3-二羥基丁基氧基、3,4-二羥基丁基氧基、2,3,4-三羥基丁基氧基、2-(2-羥基乙基氧基)乙基氧基、2-羥基-3-甲氧基丙基氧基、5-羥基戊基氧基、2-羥基-2-(羥基甲基)丁基氧基、3-羥基-2-二(羥基甲基)丙基氧基、6-羥基己基氧基、5,6-二羥基己基氧基、2-羥基環己基氧基、4-羥基環己基氧基、2,3,4,5,6-五羥基環己基氧基、2-(2-(2-羥基乙基氧基)乙基氧基)乙基氧基、4-羥基甲基環己基甲基氧基、2-二(羥基甲基)丁基氧基等，作為上述未經取代或具有取代基之碳原子數6~20之芳基氧基，可列舉：苯氧基、羥基苯基氧基等，作為上述未經取代或具有取代基之碳原子數1~18之硫基烷氧基，可列舉：甲基硫基、乙基硫基、丙基硫基、異丙基硫基、丁基硫基、第二丁基硫基、第三丁基硫基、異丁基硫基、戊基硫基、異戊基硫基、第三戊基硫基、己基硫基、環己基硫基、金剛烷基硫基、2-羥基乙基硫基、3-羥基丙基硫基、2,3-二羥基丙基硫基、2-羥基-1-甲基丙基硫基等，作為上述未經取代或具有取代基之碳原子數6~20之硫基苯氧基，可列舉：苯基硫基、羥基苯基硫基等，作為上述未經取代或具有取代基之碳原子數1~12之酯基，可列舉：甲氧基羰基、乙氧基羰基、異丙基氧基羰基、苯氧基羰基、乙醯氧基、甲氧基乙醯基氧基、丙醯基氧基、丁醯基氧基、第三丁基羰基氧基、苯甲醯基氧基、金剛烷基羰基氧基、2-羥基乙氧基羰基、3-羥基丙基氧基羰基、4-羥基苯氧基羰基、3-羥基丙醯基氧基、4-羥基丁醯基氧基、4-羥基苯甲醯基氧基等。
上述通式(II)中之R21 ~R37 所表示之碳原子數1~18之烷基、上述通式(II)中之R21 ~R37 所表示之碳原子數1~18之烷氧基、上述通式(II)中之R21 ~R37 所表示之碳原子數1~18之硫基烷氧基、上述通式(II)中之R21 ~R37 所表示之碳原子數1~12之酯基、上述通式(II)中之R21 ~R30 所表示之碳原子數6~20之芳基、上述通式(II)中之R21 ~R30 所表示之碳原子數7~20之芳基烷基、上述通式(II)中之R21 ~R30 所表示之碳原子數6~20之芳基氧基、上述通式(II)中之R21 ~R30 所表示之碳原子數6~20之硫基苯氧基可具有取代基。
作為上述取代基之具體例，可列舉：甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基.、第三丁基、戊基、異戊基、第三戊基、新戊基、己基、異己基、庚基、辛基、2-乙基己基、壬基、癸基、十一烷基、十二烷基、十三烷基、異十三烷基、肉豆蔻基、棕櫚基、硬脂基、環丙基、環己基、1-金剛烷基、2-金剛烷基、2-甲基-1-金剛烷基、2-甲基-2-金剛烷基、2-乙基-1-金剛烷基、2-乙基-2-金剛烷基、2-降基、2-降基甲基、樟腦-10-基、乙烯基、烯丙基、異丙烯基、1-丙烯基、2-甲氧基-1-丙烯基、氟甲基、二氟甲基、三氟甲基、氯甲基、二氯甲基、三氯甲基、溴甲基、二溴甲基、三溴甲基、二氟乙基、三氯乙基、二氯二氟乙基、五氟乙基、七氟丙基、九氟丁基、十氟戊基、十三氟己基、十五氟庚基、十七氟辛基、甲氧基甲基、甲氧基乙氧基甲基、甲基硫基甲基、乙氧基乙基、丁氧基甲基、第三丁基硫基甲基、4-戊烯基氧基甲基、三氯乙氧基甲基、雙(2-氯乙氧基)甲基、甲氧基環己基、1-(2-氯乙氧基)乙基、甲氧基乙基、1-甲基-1-甲氧基乙基、乙基二硫基乙基、三甲基矽烷基乙基、第三丁基二甲基矽烷基氧基甲基、2-(三甲基矽烷基)乙氧基甲基、第三丁氧基羰基甲基、乙基氧基羰基甲基、乙基羰基甲基、第三丁氧基羰基甲基、丙烯醯基氧基乙基、甲基丙烯醯基氧基乙基、2-甲基-2-金剛烷基氧基羰基甲基、乙醯基乙基等烷基；苯基、1-萘基、2-萘基、蒽-1-基、菲-1-基、鄰甲苯基、間甲苯基、對甲苯基、4-乙烯基苯基、乙基苯基、丙基苯基、3-異丙基苯基、4-異丙基苯基、4-丁基苯基、4-異丁基苯基、4-第三丁基苯基、4-己基苯基、4-環己基苯基、4-辛基苯基、4-(2-乙基己基)苯基、2,3-二甲基苯基、2,4-二甲基苯基、2,5-二甲基苯基、2,6-二甲基苯基、3,4-二甲基苯基、3,5-二甲基苯基、2,4-二-第三丁基苯基、2,5-二-第三丁基苯基、2,6-二-第三丁基苯基、2,4-二-第三戊基苯基、2,5-二-第三戊基苯基、環己基苯基、聯苯基、2,4,5-三甲基苯基、9-茀基、4-氯苯基、3,4-二氯苯基、4-三氯苯基、4-三氟苯基、氟苯基、三氟甲基苯基、五氟苯基、七氟-對甲苯基、4-甲醯基苯基、4-硝基苯基、乙氧基萘基、4-氟甲基苯基、4-甲氧基苯基、2,4-二硝基苯基等芳基；苄基、甲基苄基、二甲基苄基、三甲基苄基、苯基苄基、二苯基甲基、三苯基甲基、2-苯基乙基、2-苯基丙基、苯乙烯基、桂醯基、氟苄基、氯苄基、溴苄基、氰基苄基、二氯苄基、甲氧基苄基、二甲氧基苄基、苄基氧基甲基、甲氧基苄基氧基甲基、1-甲基-1-苄基氧基乙基、1-甲基-1-苄基氧基-2-氟乙基、癒創木酚甲基、苯氧基甲基、苯基硫基甲基、硝基苄基、二硝基二苯甲基、二苯并環庚基、(苯基二甲基矽烷基)甲氧基甲基、苯基磺醯基乙基、三苯基磷基乙基、三苯基甲氧基甲基、苄醯甲基、溴苄醯甲基等芳基烷基；含有上述烷基、芳基、芳基烷基，或四氫吡喃基、3-溴四氫吡喃基、四氫噻喃基、甲氧基四氫吡喃基、甲氧基四氫噻喃基、4-甲氧基四氫噻喃-S,S-二氧化物-4-基、1-[(2-氯-4-甲基)苯基]-4-甲氧基哌啶-4-基、1,4-二烷-2-基、四氫呋喃基、四氫硫代呋喃基、2,3,3a,4,5,6,7,7a-八氫-7,8,8-三甲基-4,7-亞甲基苯并呋喃-2-基、2-吡啶基甲基、4-吡啶基甲基、3-甲基吡啶-N-氧化物-2-基甲基、1,3-苯并二硫雜環戊基、苯并異噻唑啉-S,S-二氧化物-3-基、四氟-4-吡啶基等雜環基作為R的由RO-所表示之烷氧基；RCO-所表示之醯基；RCOO-或ROCO-所表示之酯基；ROCOO-所表示之碳酸酯基；RS-所表示之硫烷基；RSO-所表示之亞磺醯基；RSO2 -所表示之磺醯基；RSO3 -所表示之磺酸酯基；甲醯基；羧基；甲醯基氧基；磺基；三甲基矽烷基氧基、三乙基矽烷基氧基、三丙基矽烷基氧基、二甲基丙基矽烷基氧基、二乙基丙基矽烷基氧基、二甲基(1,1,2,2-四甲基)乙基矽烷基氧基、丁基二甲基矽烷基氧基、丁基二苯基矽烷基氧基、三苄基矽烷基氧基、三(二甲苯基)矽烷基氧基、三苯基矽烷基氧基、二苯基甲基矽烷基氧基、丁基甲氧基苯基矽烷基氧基等矽烷基氧基；磷酸酯基；苄基硫代碳酸酯；甲基二硫代碳酸酯；羥基；硝基；氟、氯、溴、碘等鹵素原子。
作為上述通式(II)中之X2 - 所表示之陰離子,例如可列舉：氯陰離子、溴陰離子、碘陰離子、氟陰離子等鹵素陰離子；過氯酸陰離子、氯酸陰離子、硫代氰酸陰離子、六氟化磷酸陰離子、六氟化銻陰離子、六氟化砷陰離子、四氟化硼陰離子等無機系陰離子；甲磺酸離子、氟磺酸離子、苯磺酸陰離子、甲苯磺酸陰離子、1-萘基磺酸陰離子、2-萘基磺酸陰離子、三氟甲磺酸陰離子、五氟乙磺酸陰離子、七氟丙磺酸陰離子、九氟丁磺酸陰離子、十一氟戊磺酸陰離子、十三氟己磺酸陰離子、十五氟庚磺酸陰離子、十七氟辛磺酸離子、全氟-4-乙基環己磺酸離子、N-烷基(或芳基)二苯基胺-4-磺酸陰離子、2-胺基-4-甲基-5-氯苯磺酸陰離子、2-胺基-5-硝基苯磺酸陰離子、日本專利特開2004-53799號公報中記載之磺酸陰離子、樟腦磺酸陰離子、氟苯磺酸陰離子、二氟苯磺酸陰離子、三氟苯磺酸陰離子、四氟苯磺酸陰離子、五氟苯磺酸陰離子等有機磺酸陰離子；辛基磷酸陰離子、十二烷基磷酸陰離子、十八烷基磷酸陰離子、苯基磷酸陰離子、壬基苯基磷酸陰離子、2,2'-亞甲基雙(4,6-二-第三丁基苯基)膦酸陰離子等有機磷酸系陰離子；雙(三氟甲磺)醯亞胺離子、雙(五氟乙磺)醯亞胺離子、雙(七氟丙磺)醯亞胺離子、雙(九氟丁磺)醯亞胺離子、雙(十一氟戊磺)醯亞胺離子、雙(十五氟庚磺)醯亞胺離子、雙(十三氟己磺)醯亞胺離子、雙(十七氟辛磺醯亞胺)離子、(三氟甲磺)(九氟丁磺)醯亞胺離子、(甲磺)(三氟甲磺)醯亞胺離子、環-六氟丙烷-1,3-雙(磺醯基)醯亞胺陰離子等有機氟磺醯亞胺離子；四(五氟苯基)硼酸陰離子、四(4-氟苯基)硼酸離子、四苯基硼酸離子、日本專利特開2007-112854號公報中記載之硼酸陰離子、日本專利特開平成6-184170號公報中記載之硼酸陰離子、日本專利特表2002-526391號公報中記載之硼酸陰離子、日本專利特願2007-285538號公報中記載之硼酸陰離子等四芳基硼酸陰離子；各種脂肪族或芳香族碳酸陰離子；三(三氟甲磺醯基)甲基化物、三(甲磺醯基)甲基化物等有機磺醯基甲基化物離子等，進而可列舉烷基磺酸離子或經氟取代之烷基磺酸離子、烷基磺醯亞胺、經氟取代之烷基磺醯亞胺經丙烯醯基氧基、甲基丙烯醯基氧基取代者，或經降基、金剛烷基等脂肪族環狀烷基取代者。又，具有使處於激發狀態之活性分子去激發(淬滅)之功能之淬滅劑陰離子或於環戊二烯基環上具有羧基或膦酸基、磺酸基等陰離子性基之二茂鐵、二茂釕等二茂金屬化合物陰離子等亦可視需要使用。該等陰離子中，就安全性及反應性(脫保護反應及交聯反應)之方面而言，較佳為有機磺酸陰離子。
作為上述通式(II)所表示之芳香族鋶鹽化合物之陽離子之具體例，可列舉以下之No.1~No.16之結構。
[化3]
[化4]
上述通式(I)所表示之化合物中，下述通式(III)所表示之化合物由於獲得硬化性高之陽離子聚合起始劑而較佳。
[化5]
(式(III)中，R41 、R42 、R43 、R44 、R45 、R46 、R47 、R48 、R49 及R50 分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、硝基、未經取代或具有取代基之碳原子數1~18之烷基、未經取代或具有取代基之碳原子數6~20之芳基、或者未經取代或具有取代基之碳原子數7~20之芳基烷基，R51 、R52 、R53 、R54 、R55 、R56 及R57 分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、硝基、或者未經取代或具有取代基之碳原子數1~18之烷基，R58 表示氫原子、具有取代基之碳原子數1~10之烷基、未經取代或具有取代基之碳原子數11~18之烷基、未經取代或具有取代基之碳原子數6~20之芳基、或者未經取代或具有取代基之碳原子數7~20之芳基烷基，對R41 ~R58 所表示之碳原子數1~18之烷基、R41 ~R50 及R58 所表示之碳原子數6~20之芳基、以及R41 ~R50 及R58 所表示之碳原子數7~20之芳基烷基所具有之取代基之數並無限制，R41 ~R58 所表示之碳原子數1~18之烷基、R41 ~R50 及R58 所表示之碳原子數6~20之芳基、以及R81 ~R90 及R98 所表示之碳原子數7~20之芳基烷基中之亞甲基鏈可經-O-、-S-、-CO-、-CO-O-或者-O-CO-中斷，X3 - 表示一價之陰離子。)
作為上述通式(III)中之R41 ~R57 所表示之鹵素原子，可列舉氟、氯、溴、碘等，作為上述通式(III)中之R41 ~R57 所表示之未經取代或具有取代基之碳原子數1~18之烷基、R58 所表示之具有取代基之碳原子數1~10之烷基、及R58 所表示之未經取代或具有取代基之碳原子數11~18之烷基，可列舉：甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、第二丁基、第三丁基、異丁基、戊基、異戊基、第三戊基、己基、環己基、異己基、2-乙基己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十一烷基、十二烷基、十三烷基、異十三烷基、十四烷基、十六烷基、十七烷基、十八烷基、1-金剛烷基、2-金剛烷基、2-甲基-1-金剛烷基、2-甲基-2-金剛烷基、2-乙基-1-金剛烷基、2-乙基-2-金剛烷基、2-降基、2-降基甲基、乙烯基、烯丙基、異丙烯基、1-丙烯基、氟甲基、二氟甲基、三氟甲基、氯甲基、二氯甲基、三氯甲基、溴甲基、二溴甲基、三溴甲基、二氟乙基、三氯乙基、二氯二氟乙基、五氟乙基、七氟丙基、九氟丁基、十氟戊基、十三氟己基、十五氟庚基、十七氟辛基、氰基甲基、羥基甲基、1-羥基乙基、2-羥基乙基、3-羥基丙基、3-羥基丁基、4-羥基丁基、1,2-二羥基乙基等，作為上述通式(III)中之R41 ~R50 及R58 所表示之未經取代或具有取代基之碳原子數6~20之芳基，可列舉：苯基、萘基、2-甲基苯基、3-甲基苯基、4-甲基苯基、4-乙烯基苯基、3-異丙基苯基、4-異丙基苯基、4-丁基苯基、4-異丁基苯基、4-第三丁基苯基、4-己基苯基、4-環己基苯基、4-辛基苯基、4-(2-乙基己基)苯基、4-硬脂基苯基、2,3-二甲基苯基、2,4-二甲基苯基、2,5-二甲基苯基、2,6-二甲基苯基、3,4-二甲基苯基、3,5-二甲基苯基、2,4-二-第三丁基苯基、環己基苯基、羥基苯基等，作為上述通式(III)中之R41 ~R50 及R58 所表示之未經取代或具有取代基之碳原子數7~20之芳基烷基，可列舉：苄基、苯乙基、苄醯甲基、2-苯基丙-2-基、二苯基甲基、三苯基甲基、苯乙烯基、桂醯基、2-羥基苄基、3-羥基苄基、4-羥基苄基、2-羥基苯乙基、3-羥基苯乙基、4-羥基苯乙基、2-羥基苄醯甲基、3-羥基苄醯甲基、4-羥基苄醯甲基、2-苯氧基乙基、2-苯基硫基乙基等。
上述烷基、芳基及芳基烷基中之亞甲基鏈可經-O-、-S-、-CO-、-CO-O-或者-O-CO-中斷。具體而言，可列舉：未經取代或具有取代基之碳原子數1~18之烷氧基、未經取代或具有取代基之碳原子數6~20之芳基氧基、未經取代或具有取代基之碳原子數1~18之硫基烷氧基、未經取代或具有取代基之碳原子數6~20之硫基苯氧基、未經取代或具有取代基之碳原子數1~12之酯基等。
作為上述未經取代或具有取代基之碳原子數1~18之烷氧基，可列舉：甲氧基、乙氧基、丙基氧基、異丙基氧基、丁基氧基、第二丁基氧基、第三丁基氧基、異丁基氧基、戊基氧基、異戊基氧基、第三戊基氧基、己基氧基、環己基氧基、環己基甲基氧基、四氫呋喃基氧基、四氫吡喃基氧基、羥基甲基氧基、1-羥基乙基氧基、2-羥基乙基氧基、3-羥基丙基氧基、2-羥基丙基氧基、2,3-二羥基丙基氧基、2-羥基-1-甲基乙基氧基、2-羥基丁基氧基、4-羥基丁基氧基、2,3-二羥基丁基氧基、3,4-二羥基丁基氧基、2,3,4-三羥基丁基氧基、2-(2-羥基乙基氧基)乙基氧基、2-羥基-3-甲氧基丙基氧基、5-羥基戊基氧基、2-羥基-2-(羥基甲基)丁基氧基、3-羥基-2-二(羥基甲基)丙基氧基、6-羥基己基氧基、5,6-二羥基己基氧基、2-羥基環己基氧基、4-羥基環己基氧基、2,3,4,5,6-五羥基環己基氧基、2-(2-(2-羥基乙基氧基)乙基氧基)乙基氧基、4-羥基甲基環己基甲基氧基、2-二(羥基甲基)丁基氧基等，作為上述未經取代或具有取代基之碳原子數6~20之芳基氧基，可列舉：苯氧基、羥基苯基氧基等，作為上述未經取代或具有取代基之碳原子數1~18之硫基烷氧基，可列舉：甲基硫基、乙基硫基、丙基硫基、異丙基硫基、丁基硫基、第二丁基硫基、第三丁基硫基、異丁基硫基、戊基硫基、異戊基硫基、第三戊基硫基、己基硫基、環己基硫基、金剛烷基硫基、2-羥基乙基硫基、3-羥基丙基硫基、2,3-二羥基丙基硫基、2-羥基-1-甲基丙基硫基等，作為上述未經取代或具有取代基之碳原子數6~20之硫基苯氧基，可列舉：苯基硫基、羥基苯基硫基等，作為上述未經取代或具有取代基之碳原子數1~12之酯基，可列舉：甲氧基羰基、乙氧基羰基、異丙基氧基羰基、苯氧基羰基、乙醯氧基、甲氧基乙醯基氧基、丙醯基氧基、丁醯基氧基、第三丁基羰基氧基、苯甲醯基氧基、金剛烷基羰基氧基、2-羥基乙氧基羰基、3-羥基丙基氧基羰基、4-羥基苯氧基羰基、3-羥基丙醯基氧基、4-羥基丁醯基氧基、4-羥基苯甲醯基氧基等。
上述通式(III)中之R41 ~R58 所表示之碳原子數1~18之烷基、上述通式(III)中之R41 ~R58 所表示之碳原子數1~18之烷氧基、上述通式(III)中之R41 ~R58 所表示之碳原子數1~18之硫基烷氧基、上述通式(III)中之R41 ~R58 所表示之碳原子數1~12之酯基、上述通式(III)中之R41 ~R50 及R58 所表示之碳原子數6~20之芳基、上述通式(III)中之R41 ~R50 及R58 所表示之碳原子數7~20之芳基烷基、上述通式(III)中之R41 ~R50 及R58 所表示之碳原子數6~20之芳基氧基、上述通式(III)中之R41 ~R50 及R58 所表示之碳原子數6~20之硫基苯氧基可具有取代基。
作為上述取代基之具體例，可列舉：甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、第三丁基、戊基、異戊基、第三戊基、新戊基、己基、異己基、庚基、辛基、2-乙基己基、壬基、癸基、十一烷基、十二烷基、十三烷基、異十三烷基、肉豆蔻基、棕櫚基、硬脂基、環丙基、環己基、1-金剛烷基、2-金剛烷基、2-甲基-1-金剛烷基、2-甲基-2-金剛烷基、2-乙基-1-金剛烷基、2-乙基-2-金剛烷基、2-降基、2-降基甲基、樟腦-10-基、乙烯基、烯丙基、異丙烯基、1-丙烯基、2-甲氧基-1-丙烯基、氟甲基、二氟甲基、三氟甲基、氯甲基、二氯甲基、三氯甲基、溴甲基、二溴甲基、三溴甲基、二氟乙基、三氯乙基、二氯二氟乙基、五氟乙基、七氟丙基、九氟丁基、十氟戊基、十三氟己基、十五氟庚基、十七氟辛基、甲氧基甲基、甲氧基乙氧基甲基、甲基硫基甲基、乙氧基乙基、丁氧基甲基、第三丁基硫基甲基、4-戊烯基氧基甲基、三氯乙氧基甲基、雙(2-氯乙氧基)甲基、甲氧基環己基、1-(2-氯乙氧基)乙基、甲氧基乙基、1-甲基-1-甲氧基乙基、乙基二硫基乙基、三甲基矽烷基乙基、第三丁基二甲基矽烷基氧基甲基、2-(三甲基矽烷基)乙氧基甲基、第三丁氧基羰基甲基、乙基氧基羰基甲基、乙基羰基甲基、第三丁氧基羰基甲基、丙烯醯基氧基乙基、甲基丙烯醯基氧基乙基、2-甲基-2-金剛烷基氧基羰基甲基、乙醯基乙基等烷基；苯基、1-萘基、2-萘基、蒽-1-基、菲-1-基、鄰甲苯基、間甲苯基、對甲苯基、4-乙烯基苯基、乙基苯基、丙基苯基、3-異丙基苯基、4-異丙基苯基、4-丁基苯基、4-異丁基苯基、4-第三丁基苯基、4-己基苯基、4-環己基苯基、4-辛基苯基、4-(2-乙基己基)苯基、2,3-二甲基苯基、2,4-二甲基苯基、2,5-二甲基苯基、2,6-二甲基苯基、3,4-二甲基苯基、3,5-二甲基苯基、2,4-二-第三丁基苯基、2,5-二-第三丁基苯基、2,6-二-第三丁基苯基、2,4-二-第三戊基苯基、2,5-二-第三戊基苯基、環己基苯基、聯苯基、2,4,5-三甲基苯基、9-茀基、4-氯苯基、3,4-二氯苯基、4-三氯苯基、4-三氟苯基、氟苯基、三氟甲基苯基、五氟苯基、七氟-對甲苯基、4-甲醯基苯基、4-硝基苯基、乙氧基萘基、4-氟甲基苯基、4-甲氧基苯基、2,4-二硝基苯基等芳基；苄基、甲基苄基、二甲基苄基、三甲基苄基、苯基苄基、二苯基甲基、三苯基甲基、2-苯基乙基、2-苯基丙基、苯乙烯基、桂醯基、氟苄基、氯苄基、溴苄基、氰基苄基、二氯苄基、甲氧基苄基、二甲氧基苄基、苄基氧基甲基、甲氧基苄基氧基甲基、1-甲基-1-苄基氧基乙基、1-甲基-1-苄基氧基-2-氟乙基、癒創木酚甲基、苯氧基甲基、苯基硫基甲基、硝基苄基、二硝基二苯甲基、二苯并環庚基、(苯基二甲基矽烷基)甲氧基甲基、苯基磺醯基乙基、三苯基磷基乙基、三苯基甲氧基甲基、苄醯甲基、溴苄醯甲基等芳基烷基；含有上述烷基、芳基、芳基烷基，或四氫吡喃基、3-溴四氫吡喃基、四氫噻喃基、甲氧基四氫吡喃基、甲氧基四氫噻喃基、4-甲氧基四氫噻喃-S,S-二氧化物-4-基、1-[(2-氯-4-甲基)苯基]-4-甲氧基哌啶-4-基、1,4-二烷-2-基、四氫呋喃基、四氫硫代呋喃基、2,3,3a,4,5,6,7,7a-八氫-7,8,8-三甲基-4,7-亞甲基苯并呋喃-2-基、2-吡啶基甲基、4-吡啶基甲基、3-甲基吡啶-N-氧化物-2-基甲基、1,3-苯并二硫雜環戊基、苯并異噻唑啉-S,S-二氧化物-3-基、四氟-4-吡啶基等雜環基作為R的由RO-所表示之烷氧基；RCO-所表示之醯基；RCOO-或ROCO-所表示之酯基；ROCOO-所表示之碳酸酯基；RS-所表示之硫烷基；RSO-所表示之亞磺醯基；RSO2 -所表示之磺醯基；RSO3 -所表示之磺酸酯基：甲醯基；羧基；甲醯基氧基；磺基；三甲基矽烷基氧基、三乙基矽烷基氧基、三丙基矽烷基氧基、二甲基丙基矽烷基氧基、二乙基丙基矽烷基氧基、二甲基(1,1,2,2-四甲基)乙基矽烷基氧基、丁基二甲基矽烷基氧基、丁基二苯基矽烷基氧基、三苄基矽烷基氧基、三(二甲苯基)矽烷基氧基、三苯基矽烷基氧基、二苯基甲基矽烷基氧基、丁基甲氧基苯基矽烷基氧基等矽烷基氧基；磷酸酯基；苄基硫代碳酸酯；甲基二硫代碳酸酯；羥基；硝基；氟、氯、溴、碘等鹵素原子。
作為上述通式(III)中之X3 - 所表示之陰離子，例如可列舉：氯陰離子、溴陰離子、碘陰離子、氟陰離子等鹵素陰離子；過氯酸陰離子、氯酸陰離子、硫代氰酸陰離子、六氟化磷酸陰離子、六氟化銻陰離子、六氟化砷陰離子、四氟化硼陰離子等無機系陰離子；甲磺酸離子、氟磺酸離子、苯磺酸陰離子、甲苯磺酸陰離子、1-萘基磺酸陰離子、2-萘基磺酸陰離子、三氟甲磺酸陰離子、五氟乙磺酸陰離子、七氟丙磺酸陰離子、九氟丁磺酸陰離子、十一氟戊磺酸陰離子、十三氟己磺酸陰離子、十五氟庚磺酸陰離子、十七氟辛磺酸離子、全氟-4-乙基環己磺酸離子、N-烷基(或芳基)二苯基胺-4-磺酸陰離子、2-胺基-4-甲基-5-氯苯磺酸陰離子、2-胺基-5-硝基苯磺酸陰離子、日本專利特開2004-53799號公報中記載之磺酸陰離子、樟腦磺酸陰離子、氟苯磺酸陰離子、二氟苯磺酸陰離子、三氟苯磺酸陰離子、四氟苯磺酸陰離子、五氟苯磺酸陰離子等有機磺酸陰離子；辛基磷酸陰離子、十二烷基磷酸陰離子、十八烷基磷酸陰離子、苯基磷酸陰離子、壬基苯基磷酸陰離子、2,2'-亞甲基雙(4,6-二-第三丁基苯基)膦酸陰離子等有機磷酸系陰離子；雙(三氟甲磺)醯亞胺離子、雙(五氟乙磺)醯亞胺離子、雙(七氟丙磺)醯亞胺離子、雙(九氟丁磺)醯亞胺離子、雙(十一氟戊磺)醯亞胺離子、雙(十五氟庚磺)醯亞胺離子、雙(十三氟己磺)醯亞胺離子、雙(十七氟辛磺醯亞胺)離子、(三氟甲磺)(九氟丁磺)醯亞胺離子、(甲磺)(三氟甲磺)醯亞胺離子、環-六氟丙烷-1,3-雙(磺醯基)醯亞胺陰離子等有機氟磺醯亞胺離子；四(五氟苯基)硼酸陰離子、四(4-氟苯基)硼酸離子、四苯基硼酸離子、日本專利特開2007-112854號公報中記載之硼酸陰離子、日本專利特開平成6-184170號公報中記載之硼酸陰離子、日本專利特表2002-526391號公報中記載之硼酸陰離子、日本專利特願2007-285538號公報中記載之硼酸陰離子等四芳基硼酸陰離子；各種脂肪族或者芳香族碳酸陰離子；三(三氟甲磺醯基)甲基化物、三(甲磺醯基)甲基化物等有機磺醯基甲基化物離子等，進而可列舉烷基磺酸離子或經氟取代之烷基磺酸離子、烷基磺醯亞胺、經氟取代之烷基磺醯亞胺經丙烯醯基氧基、甲基丙烯醯基氧基取代者，或經降基、金剛烷基等脂肪族環狀烷基取代者。又，具有使處於激發狀態之活性分子去激發(淬滅)之功能之淬滅劑陰離子或於環戊二烯基環上具有羧基或膦酸基、磺酸基等陰離子性基之二茂鐵、二茂釕等二茂金屬化合物陰離子等亦可視需要使用。該等陰離子中，就安全性及反應性(脫保護反應及交聯反應)之方面而言，較佳為有機磺酸陰離子。
作為上述通式(III)所表示之芳香族鋶鹽化合物之陽離子之具體例，可列舉以下之No.17~26之結構。
[化6]
上述通式(I)或者(III)所表示之化合物中，下述通式(IV)所表示之化合物由於獲得酸產生能力高之光酸產生劑而較佳。
[化7]
(式(IV)中，R61 、R62 、R63 、R64 、R65 、R66 、R67 、R68 、R69 及R70 分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、硝基、未經取代或具有取代基之碳原子數1~18之烷基、未經取代或具有取代基之碳原子數6~20之芳基、或者未經取代或具有取代基之碳原子數7~20之芳基烷基，R71 、R72 、R73 、R74 、R75 、R76 及R77 分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、硝基、或者未經取代或具有取代基之碳原子數1~18之烷基，R78 表示未經取代或具有取代基之碳原子數6~20之芳基、或者未經取代或具有取代基之碳原子數7~20之芳基烷基，對R61 ~R77 所表示之碳原子數1~18之烷基、R61 ~R70 及R78 所表示之碳原子數6~20之芳基、及R61 ~R70 及R78 所表示之碳原子數7~20之芳基烷基所具有之取代基之數並無限制，R61 ~R77 所表示之碳原子數1~18之烷基、R61 ~R70 及R78 所表示之碳原子數6~20之芳基、及R61 ~R70 及R78 所表示之碳原子數7~20之芳基烷基中之亞甲基鏈可經-O-、-S-、-CO-、-CO-O-或者-O-CO-中斷，X4 - 表示一價陰離子。)
作為上述通式(IV)中之R61 ~R77 所表示之鹵素原子、上述通式(IV)中之R61 ~R77 所表示之未經取代或具有取代基之碳原子數1~18之烷基、上述通式(IV)中之R61 ~R70 及R78 所表示之未經取代或具有取代基之碳原子數1~18之芳基、上述通式(IV)中之R61 ~R70 及R78 所表示之未經取代或具有取代基之碳原子數1~18之芳基、以及上述通式(IV)中之X4 - 所表示之陰離子，可列舉上述通式(III)之說明中所例示者。
上述通式(I)或(II)所表示之化合物中，下述通式(V)所表示之化合物由於獲得對溶劑之溶解性高且顯影性高之光酸產生劑而較佳。
[化8]
(式(V)中，R81 、R82 、R83 、R84 、R85 、R86 、R87 、R88 、R89 及R90 分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、硝基、未經取代或具有取代基之碳原子數1~18之烷基、未經取代或具有取代基之碳原子數6~20之芳基、或者未經取代或具有取代基之碳原子數7~20之芳基烷基，R91 、R92 、R93 、R94 、R95 、R96 及R97 分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、硝基、或者未經取代或具有取代基之碳原子數1~18之烷基，R98 表示氫原子、具有取代基之碳原子數1~10之烷基、未經取代或具有取代基之碳原子數11~18之烷基、未經取代或具有取代基之碳原子數6~20之芳基、或者未經取代或具有取代基之碳原子數7~20之芳基烷基，對R81 ~R98 所表示之碳原子數1~18之烷基、R81 ~R90 及R98 所表示之碳原子數6~20之芳基、及R81 ~R90 及R98 所表示之碳原子數7~20之芳基烷基所具有之取代基之數並無限制，R81 ~R98 所表示之碳原子數1~18之烷基、R81 ~R90 及R98 所表示之碳原子數6~20之芳基、及R81 ~R90 及R98 所表示之碳原子數7~20之芳基烷基中之亞甲基鏈可經-O-、-S-、-CO-、-CO-O-或者-O-CO-中斷，X5 - 表示一價陰離子。
其中，R81 ~R98 中之至少一者為羥基、經羥基取代之碳原子數1~18之烷基、經羥基取代之芳基、或者經羥基取代之芳基烷基。)
作為上述通式(V)中之R81 ~R97 所表示之鹵素原子、上述通式(V)中之R81 ~R97 所表示之未經取代或具有取代基之碳原子數1~18之烷基、上述通式(V)中之R81 ~R90 及R98 所表示之未經取代或具有取代基之碳原子數1~18之芳基、上述通式(V)中之R81 ~R90 及R98 所表示之未經取代或具有取代基之碳原子數1~18之芳基、以及上述通式(V)中之X5 - 所表示之陰離子，可列舉上述通式(III)之說明中所例示者。
作為上述通式(IV)或(V)所表示之芳香族鋶鹽化合物之陽離子之具體例，可列舉以下之No.27~36之結構。
[化9]
上述通式(II)所表示之芳香族鋶鹽化合物中，R21 、R22 、R23 、R24 、R25 、R26 、R27 、R28 、R29 及R30 中任一者為羥基者由於顯影性及酸產生能力高，故較佳。
又，上述通式(III)所表示之芳香族鋶鹽化合物中，R41 、R42 、R43 、R44 、R45 、R46 、R47 、R48 、R49 及R50 中任一者為鹵素原子或者羥基，且R58 為經羥基取代之碳原子數6~20之芳基或者碳原子數7~20之芳基烷基者由於顯影性及酸產生能力高，故較佳。
作為本發明之芳香族鋶鹽化合物之製造方法，並無特別限制，可使用應用眾所周知之有機合成反應之方法。例如可藉由利用二芳基亞碸化合物、與吖啶酮化合物之鋶基化反應獲得鋶鹽化合物，視需要使用用以導入陰離子成分之鹽化合物進行鹽交換反應，而獲得本發明之芳香族鋶鹽化合物。
本發明之芳香族鋶鹽化合物具有藉由EUV(Extreme Ultra-Violet)、X射線、F2 、ArF、KrF、I線、H線、G線等遠紫外線、電子束、放射線、高頻波等活性能量線之照射而釋放出路易斯酸之特性，可作用於酸反應性有機物質而進行分解或聚合。因此，本發明之鋶鹽化合物可用作正型、及負型光阻劑之光酸產生劑，或者陽離子聚合起始劑。
本發明之光酸產生劑包含上述芳香族鋶鹽化合物。本發明之光酸產生劑係用於酸反應性有機物質、陽離子聚合性化合物之聚合、丙烯酸樹脂中之酯基或醚基等化學鍵之切斷等。於將本發明之光酸產生劑對酸反應性有機物質使用之情形時，其使用量並無特別限制，但較佳為以相對於酸反應性有機物質100質量份，較佳為0.05~100質量份，進而較佳為0.05~20質量份之比例使用。其中，亦可根據酸反應性有機物質之性質、光之照射強度、反應所需要之時間、物性、成本等要因，自上述範圍增減調配量而使用。
作為該酸反應性有機物質，除後述之「藉由酸之作用而使對顯影液之溶解性變化之樹脂」(以下稱作「抗蝕基質樹脂」)以外，可列舉光造形用樹脂等。
本發明之抗蝕組合物係不僅含有作為上述酸反應性有機物質之一的抗蝕基質樹脂，並且含有本發明之芳香族鋶鹽化合物作為必需之光酸產生劑的抗蝕組合物。
本發明之抗蝕組合物中所使用之抗蝕基質樹脂並無特別限制，較佳為活性能量線之波長之吸光係數小，且具有較高之耐蝕刻性之結構者。
作為該抗蝕基質樹脂，可列舉：聚羥基苯乙烯及其衍生物；聚丙烯酸及其衍生物；聚甲基丙烯酸及其衍生物；自羥基苯乙烯、丙烯酸、甲基丙烯酸以及其等之衍生物中選擇而形成之2種以上之共聚物；自羥基苯乙烯、苯乙烯以及其等之衍生物中選擇而形成之2種以上之共聚物；選自環烯烴及其衍生物、順丁烯二酸酐、以及丙烯酸及其衍生物中之3種以上之共聚物；選自環烯烴及其衍生物、順丁烯二醯亞胺、以及丙烯酸及其衍生物中之3種以上之共聚物；聚降烯；選自由複分解開環聚合物所組成之一群中之1種以上之高分子聚合物；對該等高分子聚合物將具有鹼溶解控制能力之酸不穩定基部分地取代而得之高分子聚合物等。作為導入至高分子聚合物中之酸不穩定基，可列舉：三級烷基、三烷基矽烷基、側氧烷基、經芳基取代之烷基、四氫吡喃-2-基等雜脂環基、三級烷基羰基、三級烷基羰基烷基、烷基氧基羰基等。
該抗蝕基質樹脂之詳細具體例揭示於例如日本專利特開2003-192665號公報之請求項8~11、日本專利特開2004-323704之請求項3、日本專利特開平10-10733等。
又，上述抗蝕基質樹脂之利用凝膠滲透層析法(GPC，gel permeation chromatography)之聚苯乙烯換算重量平均分子量(Mw)通常為1,500~300,000、較佳為2,000~200,000，進而較佳為3,000~100,000。於此情形時，當基質樹脂之Mw小於1,500時，存在作為抗蝕劑之耐熱性下降之傾向，另一方面，若超過300,000，則存在作為抗蝕劑之顯影性或塗佈性下降之傾向。
本發明之抗蝕組合物中之光酸產生劑若為含有本發明之芳香族鋶鹽化合物作為必需成分者，則亦可將其以外之光酸產生劑作為任意成分使用。就確保作為抗蝕劑之感度及顯影性之觀點而言，光酸產生劑之使用量相對於抗蝕基質樹脂100質量份，通常為0.01~20質量份，較佳為0.5~10質量份。於此情形時，當光酸產生劑之使用量小於0.01質量份時，存在感度及顯影性下降之情況，另一方面，若超過20質量份，則存在對放射線之透明性下降，變得難以獲得矩形之抗蝕圖案之情況。
作為本發明之芳香族鋶鹽化合物以外之光酸產生劑，可列舉錪鹽化合物、磺醯基醯亞胺化合物等。於使用本發明之芳香族鋶鹽化合物以外之光酸產生劑之情形時，其使用量相對於本發明之芳香族鋶鹽化合物100質量份，較佳為50質量份以下。
包含本發明之芳香族鋶鹽化合物之光酸產生劑亦可與其以外之光酸產生劑一起調配各種添加劑而用於本發明之抗蝕組合物。作為各種添加劑，可列舉：無機填充料、有機填充料、顏料、染料等著色劑、消泡劑、增黏劑、阻燃劑、抗氧化劑、穩定劑、調平劑等各種樹脂添加物等。該等各種添加劑之使用量於本發明之抗蝕組合物中，較佳為合計50質量%以下。
本發明之抗蝕組合物通常在其使用時，藉由以總固體成分濃度通常為5~50重量%、較佳為10~25重量%之方式溶解於溶劑中後，例如以孔徑0.2 μm左右之過濾器進行過濾而調整。本發明之抗蝕組合物可藉由將包含本發明之芳香族鋶鹽化合物之光酸產生劑、其以外之光酸產生劑、抗蝕基質樹脂及其他之任意成分混合、溶解或混練等之方法而製備。
本發明之抗蝕組合物尤其可用作化學增幅型抗蝕劑。化學增幅型抗蝕劑中有以下兩種：利用藉由曝光而由光酸產生劑產生之酸之作用，產生化學連鎖反應，以基質樹脂之交聯反應或極性變化而不溶於顯影液中之負型抗蝕劑；藉由以高分子側鏈之脫保護反應引發之極性變化而可溶於顯影液中之正型抗蝕劑。
作為本發明之抗蝕組合物之曝光中使用之光源，係根據所使用之光酸產生劑之種類而自可見光線、紫外線、遠紫外線、X射線、帶電粒子束等中適當選定而使用，本發明可於使用KrF準分子雷射(波長248 nm)或ArF準分子雷射(波長193 nm)等遠紫外線、同步加速器放射線等X射線、電子束、EUV等帶電粒子束等各種放射線的抗蝕組合物中適宜使用。
本發明之陽離子聚合性組合物包含本發明之芳香族鋶鹽化合物。又，本發明之陽離子聚合性組合物係含有本發明之陽離子聚合起始劑、及陽離子聚合性化合物之組合物，於平板、凸版用印刷板之製成，用於印刷基板或IC(Integrated Circuit，積體電路)、LSI(Large Scale Integration，大型積體電路)製作之光阻劑，起伏像或圖像複製等之圖像形成，光硬化性墨水，塗料，接著劑等較廣範圍之應用領域中有用。
本發明之陽離子聚合性組合物中所使用之陽離子聚合性化合物係指利用藉由光照射而活化之陽離子聚合起始劑來產生高分子化或交聯反應的化合物，可使用1種，或者將2種以上混合使用。
作為上述陽離子聚合性化合物而代表性者為環氧化合物、氧雜環丁烷化合物、環狀內酯化合物、環狀縮醛化合物、環狀硫醚化合物、螺原酸酯化合物、乙烯基化合物等，可使用該等之1種或2種以上。其中，容易獲取且操作便利之環氧化合物及氧雜環丁烷化合物較適合。
其中，作為環氧化合物，較適合為脂環族環氧化合物、芳香族環氧化合物、脂肪族環氧化合物等。
作為上述脂環族環氧化合物之具體例，可列舉藉由將具有至少1個脂環族環之多元醇之聚縮水甘油醚或者含有環己烯或環戊烯環之化合物以氧化劑進行環氧化而獲得之含有氧化環己烯或氧化環戊烯之化合物。例如可列舉：氫化雙酚A二縮水甘油醚、3,4-環氧基環己基甲酸3,4-環氧基環己基甲酯、3,4-環氧基-1-甲基環己基甲酸3,4-環氧基-1-甲基環己酯、6-甲基-3,4-環氧基環己基甲酸6-甲基-3,4-環氧基環己基甲酯、3,4-環氧基-3-甲基環己基甲酸3,4-環氧基-3-甲基環己基甲酯、3,4-環氧基-5-甲基環己基甲酸3,4-環氧基-5-甲基環己基甲酯、2-(3,4-環氧基環己基-5,5-螺-3,4-環氧基)環己烷-間二烷、己二酸雙(3,4-環氧基環己基甲基)酯、3,4-環氧基-6-甲基環己基甲酸酯、亞甲基雙(3,4-環氧基環己烷)、二環戊二烯二環氧化物、伸乙基雙(3,4-環氧基環己基甲酸酯)、環氧基六氫鄰苯二甲酸二辛酯、環氧基六氫鄰苯二甲酸二-2-乙基己酯等。
作為可適宜用作上述脂環族環氧化合物之市售品，可列舉：UVR-6100、UVR-6105、UVR-6110、UVR-6128、UVR-6200(以上由Union Carbide公司製造)、Celloxide 2021、Celloxide 2021P、Celloxide 2081、Celloxide 2083、Celloxide 2085、Celloxide 2000、Celloxide 3000、Cyclomer A200、Cyclomer M100、Cyclomer M101、Epolead GT-301、Epolead GT-302、Epolead 401、Epolead 403、ETHB、Epolead HD300(以上由Daicel化學工業(股)製造)、KRM-2110、KRM-2199(以上由ADEKA(股)製造)等。
上述脂環族環氧化合物中，就硬化性(硬化速度)之方面而言，較佳為具有環己烯氧化物結構之環氧樹脂。
又，作為上述芳香族環氧化合物之具體例，可列舉：具有至少1個芳香族環之多元酚或者其環氧烷加成物之聚縮水甘油醚，例如雙酚A、雙酚F、或者對該等進而加成有環氧烷之化合物之縮水甘油醚或環氧酚醛樹脂等。
進而，作為上述脂肪族環氧化合物之具體例，可列舉：脂肪族多元醇或者其環氧烷加成物之聚縮水甘油醚、脂肪族長鏈多元酸之聚縮水甘油酯、藉由丙烯酸縮水甘油酯或者甲基丙烯酸縮水甘油酯之乙烯基聚合而合成之均聚物、藉由丙烯酸縮水甘油酯或者甲基丙烯酸縮水甘油酯與其他乙烯基單體之乙烯基聚合而合成之共聚物等。作為代表性化合物，可列舉：1,4-丁二醇二縮水甘油醚、1,6-己二醇二縮水甘油醚、甘油之三縮水甘油醚、三羥甲基丙烷之三縮水甘油醚、山梨糖醇之四縮水甘油醚、二季戊四醇之六縮水甘油醚、聚乙二醇之二縮水甘油醚、聚丙二醇之二縮水甘油醚等多元醇之縮水甘油醚，以及藉由對丙二醇、三羥甲基丙烷、甘油等脂肪族多元醇加成1種或2種以上之環氧烷而獲得之聚醚多元醇之聚縮水甘油醚，脂肪族長鏈二元酸之二縮水甘油酯。進而可列舉：脂肪族高級醇之單縮水甘油醚或苯酚、甲酚、丁基苯酚，以及藉由對該等加成環氧烷而獲得之聚醚醇之單縮水甘油醚，高級脂肪酸之縮水甘油酯、環氧化大豆油、環氧基硬脂酸辛酯、環氧基硬脂酸丁酯、環氧化聚丁二烯等。
作為可適宜用作上述芳香族化合物及脂肪族環氧化合物之市售品，可列舉：Epikote 801、Epikote 828(以上由Yuka Shell Epoxy公司製造)、PY-306、0163、DY-022(以上由Ciba Specialty Chemicals公司製造)、KRM-2720、EP-4100、EP-4000、EP-4080、EP-4900、ED-505、ED-506(以上由(股)ADEKA製造)、Epolight M-1230、Epolight EHDG-L、Epolight 40E、Epolight 100E、Epolight 200E、Epolight 400E、Epolight 70P、Epolight 200P、Epolight 400P、Epolight 1500 NP、Epolight 1600、Epolight 80 MF、Epolight 100 MF、Epolight 4000、Epolight 3002、Epolight FR-1500(以上由共榮社化學(股)製造)、Sun Tohto ST0000、YD-716、YH-300、PG-202、PG-207、YD-172、YDPN 638(以上由東都化成(股)製造)等。
又，作為上述氧雜環丁烷化合物之具體例，例如可列舉以下之化合物。可例示：3-乙基-3-羥基甲基氧雜環丁烷、3-(甲基)烯丙基氧基甲基-3-乙基氧雜環丁烷、(3-乙基-3-氧雜環丁基甲氧基)甲基苯、4-氟-[1-(3-乙基-3-氧雜環丁基甲氧基)甲基]苯、4-甲氧基-[1-(3-乙基-3-氧雜環丁基甲氧基)甲基]苯、[1-(3-乙基-3-氧雜環丁基甲氧基)乙基]苯基醚、異丁氧基甲基(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、異基氧基乙基(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、異基(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、2-乙基己基(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、乙基二乙二醇(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、二環戊二烯(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、二環戊烯基氧基乙基(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、二環戊烯基(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、四氫糠基(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、四溴苯基(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、2-四溴苯氧基乙基(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、三溴苯基(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、2-三溴苯氧基乙基(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、2-羥基乙基(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、2-羥基丙基(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、丁氧基乙基(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、五氯苯基(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、五溴苯基(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、基(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、3,7-雙(3-氧雜環丁基)-5-氧雜-壬烷、3,3'-(1,3-(2-亞甲基)丙二基雙(氧基亞甲基))雙-(3-乙基氧雜環丁烷)、1,4-雙[(3-乙基-3-氧雜環丁基甲氧基)甲基]苯、1,2-雙[(3-乙基-3-氧雜環丁基甲氧基)甲基]乙烷、1,3-雙[(3-乙基-3-氧雜環丁基甲氧基)甲基]丙烷、乙二醇雙(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、二環戊烯基雙(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、三乙二醇雙(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、四乙二醇雙(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、三環癸二基二亞甲基(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、三羥甲基丙烷三(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、1,4-雙(3-乙基-3-氧雜環丁基甲氧基)丁烷、1,6-雙(3-乙基-3-氧雜環丁基甲氧基)己烷、季戊四醇三(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、季戊四醇四(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、聚乙二醇雙(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、二季戊四醇六(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、二季戊四醇五(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、二季戊四醇四(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、己內酯改質二季戊四醇六(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、己內酯改質二季戊四醇五(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、二(三羥甲基丙烷)四(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、EO(ethylene oxide，環氧乙烷)改質雙酚A雙(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、PO(propylene oxide，環氧丙烷)改質雙酚A雙(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、EO改質氫化雙酚A雙(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、PO改質氫化雙酚A雙(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、EO改質雙酚F(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚等。
該等氧雜環丁烷化合物若用於尤其需要可撓性之情形時，則有效果，故較佳。
作為上述陽離子聚合性化合物之其他化合物之具體例，可列舉：β-丙內酯、ε-己內酯等環狀內酯化合物；三烷、1,3-二氧戊環、1,3,6-三烷環辛烷等環狀縮醛化合物；四氫噻吩衍生物等環狀硫醚化合物；藉由上述環氧化合物與內酯之反應而獲得之螺原酸酯化合物；乙二醇二乙烯基醚、烷基乙烯基醚、2-氯乙基乙烯基醚、2-羥基乙基乙烯基醚、三乙二醇二乙烯基醚、1,4-環己烷二甲醇二乙烯基醚、羥基丁基乙烯基醚、丙二醇之丙烯基醚等乙烯基醚化合物；苯乙烯、乙烯基環己烯、異丁烯、聚丁二烯等乙烯性不飽和化合物等乙烯基化合物；四氫呋喃、2,3-二甲基四氫呋喃等氧戊環化合物；環硫乙烷、硫基表氯醇等噻喃(thiirane)化合物；1,3-環硫丙烷、3,3-二甲基環硫烷等之環硫烷化合物；聚矽氧類等眾所周知之化合物。
包含本發明之芳香族鋶鹽化合物的陽離子聚合起始劑之使用量相對於上述陽離子聚合性化合物100質量份，較佳為0.01~10質量份，進而較佳為0.1~5質量份。若該使用量少於0.01質量份，則存在硬化不充分之情況，另一方面，即便超過10質量份，亦不會獲得使用效果之增加，並且存在對硬化物之物性造成不良影響之情況。
又，包含本發明之芳香族鋶鹽化合物之陽離子聚合起始劑亦可與上述陽離子聚合性化合物一起調配各種添加劑而用於陽離子聚合性組合物。作為各種添加劑，可列舉：有機溶劑；苯并三唑系、三系、苯甲酸酯系之紫外線吸收劑：酚系、磷系、硫系抗氧化劑；包含陽離子系界面活性劑、陰離子系界面活性劑、非離子系界面活性劑、兩性界面活性劑等的抗靜電劑；鹵素系化合物、磷酸酯系化合物、磷酸醯胺系化合物、三聚氰胺系化合物、氟樹脂或金屬氧化物、(多)磷酸三聚氰胺、(多)磷酸哌等阻燃劑；烴系、脂肪酸系、脂肪族醇系、脂肪族酯系、脂肪族醯胺系或金屬皂系之潤滑劑；染料、顏料、碳黑等著色劑；熏矽、微粒子二氧化矽、矽石、矽藻土類、黏土、高嶺土、矽藻土、矽膠、矽酸鈣、絹雲母、高嶺石、燧石、長石粉、蛭石、鎂鋁海泡石、滑石、雲母、鐵滑石、葉臘石、二氧化矽等矽酸系無機添加劑；玻璃纖維、碳酸鈣等填充劑；成核劑、結晶促進劑等結晶化劑、矽烷偶合劑、可撓性聚合物等橡膠彈性賦予劑；增感劑等。該等各種添加劑之使用量在本發明之陽離子聚合性組合物中，較佳為合計50質量%以下。
又，為使陽離子聚合起始劑於上述陽離子聚合性化合物中之溶解變得容易，亦可預先將陽離子聚合起始劑溶解於適當之溶劑(例如，碳酸丙二酯、卡必醇、卡必醇乙酸酯、丁內酯等)中而使用。本發明之陽離子聚合性組合物可藉由將包含本發明之芳香族鋶鹽化合物之陽離子聚合起始劑、陽離子聚合性化合物及其他之任意成分混合、溶解或者混練等之方法而製備。
本發明之陽離子聚合性組合物藉由照射紫外線等能量線，通常可於0.1秒~數分鐘後硬化成指觸乾燥狀態或者溶劑不溶性之狀態。適當之能量線只要可引發陽離子聚合起始劑之分解，則可為任意者，較佳為利用由超高壓水銀燈、高壓水銀燈、中壓水銀燈、低壓水銀燈、氙氣燈、碳弧燈、金屬鹵化物燈、螢光燈、鎢燈、準分子燈、殺菌燈、準分子雷射、氮氣雷射、氬離子雷射、氦鎘雷射、氦氖雷射、氪離子雷射、各種半導體雷射、YAG(Yttrium Aluminium Garnet，釔鋁石榴石)雷射、發光二極體、CRT(cathode-ray tube，陰極射線管)光源等所獲得的具有2000埃至7000埃之波長之電磁波能量或電子束、X射線、放射線等高能量線。
於能量線中之暴露時間取決於能量線之強度、塗膜厚度或陽離子聚合性有機化合物，通常0.1秒~10秒左右即為充分。但是，對於比較厚之塗裝物較佳為施加其以上之照射時間。於能量線照射後0.1秒~數分鐘後，大部分之組合物藉由陽離子聚合而指觸乾燥，但為促進陽離子聚合而併用加熱或熱感應頭等之熱能量的情況亦視情況而較佳。
實施例
下述實施例1-1~1-7表示本發明之芳香族鋶鹽化合物No.1~No.7之製造例。又，實施例2-1、2-2及比較例2-1表示對將化合物No.1、No.5、及比較化合物No.1調配於鹼顯影性負抗蝕劑中時之對鹼顯影液之溶解性進行確認之評價例。實施例3-1、3-2及比較例3-1表示化合物No.1、No.5及比較化合物No.1之藉由光酸產生量之定量而得的酸產生率之評價例。實施例4-1及比較例4-1表示對調配有化合物No.5及比較化合物No.1之六氟化銻鹽作為光酸產生劑的負型抗蝕劑之曝光感度進行確認之評價例。實施例5表示使用化合物No.1作為陽離子聚合起始劑之陽離子聚合性組合物之製造例以及對該組合物之硬化性進行確認之評價例。
[實施例1-1]化合物No.1之合成
向200 ml之四口燒瓶中，加入65.44 g(0.6810莫耳)之甲磺酸及6.44 g(0.0454莫耳)之五氧化磷，進行氮氣置換，加熱至100℃使其溶解。冷卻後，添加9.50 g(0.0454莫耳)之N-甲基吖啶酮及10.63 g(0.0454莫耳)之雙(羥基苯基)亞碸，於50℃下進行4小時反應。繼而，向1 L之燒杯中混合180 g之冰水、190 g之甲醇及110 g之異丙醚，再向其中投入反應液，攪拌1小時後，靜置。去除上層，向下層中添加370 g之二氯甲烷及23.10 g(0.0683莫耳)之九氟丁磺酸鉀，攪拌1.5小時。將二氯甲烷層以160 g之水清洗3次後，進行減壓濃縮，藉此獲得本發明之化合物No.1(陽離子：上述No.1之結構/陰離子：九氟丁磺酸陰離子)(產量23.29 g，產率70.6%，HPLC純度94.6%)。
[化10]
化合物No.1
[實施例1-2]化合物No.2之合成
除代替九氟丁磺酸鉀而使用18.76 g(0.0683莫耳)之KSbF6 以外，以與實施例1-1相同之方式合成，獲得本發明之化合物No.2(陽離子：上述No.1之結構/陰離子：六氟化銻陰離子)(產量5.83 g，產率19.4%，HPLC純度96.9%)。
[化11]
化合物No.2
[實施例1-3]化合物No.3之合成
向200 ml之四口燒瓶中，加入72.08 g(0.75莫耳)之甲磺酸及7.10 g(0.05莫耳)之五氧化磷，進行氮氣置換，加熱至100℃使其溶解。冷卻後，加入9.76 g(0.05莫耳)之吖啶酮，進而滴加溶解於11.91 g之氯苯中之雙(氟苯基)亞碸11.91 g(0.05莫耳)，於50℃下進行2小時反應。繼而，向1 L燒杯中混合200 g之冰水、80 g之甲醇及200 g之甲苯，再向其中投入反應液，攪拌1小時後，靜置。去除上層，向下層中添加200 g之二氯甲烷及9.36 g(0.06莫耳)之三氟甲磺酸鋰，攪拌1小時。將二氯甲烷層以300 ml之水清洗3次後，進行減壓濃縮，藉此獲得作為黃色固體的本發明之化合物No.3(陽離子：上述No.19之結構/陰離子：九氟丁磺酸陰離子)(產量28.27 g，產率100%，HPLC純度95.5%)。
[化12]
化合物No.3
[實施例1-4]化合物No.4之合成
向200 ml之四口燒瓶中，加入28.27 g(0.05莫耳)實施例1-3中所得之化合物No.3及64.00 g之甲基乙基酮，進行攪拌使其溶解。進而加入2.80 g(0.07莫耳)之氫氧化鈉及4.00 g(0.01莫耳)之四丁基硫酸氫銨，加以攪拌，進行氮氣置換。於內溫30℃下滴加12.06 g(0.06莫耳)之3-甲氧基苄基溴後，升溫至60℃，攪拌3小時。將反應液添加於200 ml之二氯甲烷中，以100 ml之水進行水洗3次，將二氯甲烷層蒸餾去除溶劑。將所得粗產物利用矽膠層析法(二氯甲烷/丙酮=3/1)進行純化，獲得本發明之化合物No.4(陽離子：上述No.30之結構/陰離子：九氟丁磺酸陰離子)(產量14.29 g，產率41.7%，HPLC純度99.0%)。
[化13]
化合物No.4
[實施例1-5]化合物No.5之合成
於50 ml之四口燒瓶中，加入8.00 g(0.0117莫耳)實施例1-4中所得之化合物No.4及24.00 g之二氯甲烷，進行攪拌使其溶解。浸漬於異丙醚/乾冰浴中加以冷卻，滴加7.89 g(0.0315莫耳)之三溴化硼後，於室溫下攪拌24小時。繼而，向1 L燒杯中加入200 ml之二氯甲烷及200 ml之水，投入反應液，攪拌1小時後靜置。去除水層，將二氯甲烷層以200 ml水進行水洗3次，蒸餾去除溶劑，將粗產物利用矽膠層析法(二氯甲烷/丙酮=3/1)進行純化，獲得本發明之化合物No.5(陽離子：上述No.29之結構/陰離子：九氟丁磺酸陰離子)(產量3.57 g，產率45.5%，HPLC純度98.8%)。
[化14]
化合物No.5
[實施例1-6]化合物No.6之合成 <步驟1>中間體No.6之合成
向50 ml之四口燒瓶中，加入18.74 g(0.195莫耳)之甲磺酸及1.845 g(0.013莫耳)之五氧化磷，進行氮氣置換，加熱至100℃使其溶解。冷卻後，添加2.72 g(0.013莫耳)之N-甲基吖啶酮及3.10 g(0.013莫耳)之雙(氟苯基)亞碸，於50℃下進行4小時反應。繼而，向500 ml燒杯中混合30 ml之冰水、25 ml之甲醇及25 ml之異丙醚，再向其中投入反應液，攪拌1小時後靜置。去除上層，添加140 ml之二氯甲烷及4.64 g(0.0169莫耳)之KSbF6 ，攪拌1小時。將二氯甲烷層以70 g之水清洗3次後，蒸餾去除溶劑，獲得作為黃色固體之中間體No.6(產量8.27 g)。
[化15]
中間體No.6
<步驟2>化合物No.6之合成
向30 ml之四口燒瓶中，加入1.332 g步驟1中所得之中間體No.6、8.00 g之二甲基亞碸(DMSO)、0.608 g(0.0044莫耳)之碳酸鉀及0.034 g(0.0001莫耳)之四丁基硫酸氫銨，加以攪拌，進行氮氣置換。滴加巰基乙醇0.313 g(0.004莫耳)，攪拌1小時後，添加於50 ml之二氯甲烷中，以30 ml之水進行水洗4次，自二氯甲烷層中蒸餾去除溶劑，藉此獲得化合物No.6(陽離子：上述No.3之結構/陰離子：六氟化銻陰離子)(產量0.718 g，產率46.0%，HPLC純度93.0%)。
[化16]
化合物No.6
[實施例1-7]化合物No.7之合成 <步驟1>中間體No.7之合成
除代替KSbF6 而使用2.64 g(0.0169莫耳)之三氟甲磺酸鋰以外，以與實施例1-6之步驟1相同之方式進行合成，獲得作為黃色固體之中間體No.7(產量7.03 g)。
[化17]
中間體No.7
<步驟2>化合物No.7之合成
向50 ml之四口燒瓶中，加入1.159 g步驟1中所得之中間體No.7及4.00 g之DMSO，進行攪拌使其溶解後，添加0.216 g(0.0054莫耳)之氫氧化鈉及0.160 g(0.0004莫耳)之四丁基硫酸氫銨，加以攪拌，進行氮氣置換。滴加溶解於1.26 g之DMSO中之4-羥基硫基苯酚1.26 g(0.01莫耳)，於內溫35℃下攪拌6小時。添加之20 ml之二氯甲烷，以20 ml之水進行水洗4次，將二氯甲烷層濃縮。若加入30 ml之甲醇進行攪拌，則產生沈澱，因此將其過濾分離、乾燥，藉此獲得化合物No.7(陽離子：上述No.8之結構/陰離子：九氟丁磺酸陰離子)(產量0.26 g，產率16%，HPLC純度93.8%)。
[化18]
化合物No.7
將上述實施例1-1~1-7中所得之化合物No.1~No.7之藉由H1 及F19 NMR(nuclear magnetic resonance，核磁共振)圖譜資料與TOF MS(time of flight mass spectrometry，飛行時間質譜法)所得之分子量測定結果示於[表1]。再者，關於各化合物之加成位置，係藉由使用[表1]所示之溶劑的NMR之cosy、HMQC、HMBC之各種測定而決定。
[實施例2-1、2-2及比較例2-1]對聚乙烯基苯酚/四甲基氫氧化銨(TMAH)水溶液之溶解度
於螺旋管中量取聚乙烯基苯酚(丸善石油化學製造之S-2P，Mw ：5800)0.36 g、以及10.00 g之3% TMAH水溶液，加熱使其溶解。於另一螺旋管中，分別逐次少量地量取2.00 g之該溶液與上述化合物No.1、No.5及比較化合物No.1(上述實施例1-7之步驟1中所得之中間體No.7)，進行加熱，以目視確認是否溶解，並反覆進行上述操作，以確認飽和之濃度。靜置一晝夜，確認未自飽和溶液中析出固體。將此時各化合物相對於聚乙烯基苯酚之質量比作為溶解度而算出。將結果示於[表2]。
[化19]
比較化合物No.1
由[表2]之結果瞭解到，本發明之芳香族鋶鹽化合物與比較化合物No.1相比，溶解性非常高，顯影性優異。
[實施例3-1、3-2及比較例3-1]藉由光照射之分解及酸產生量之評價
對上述化合物No.1、5及比較化合物No.1，分別製備0.02 mmol/g之乙腈溶液。向內徑93 mm之培養皿中加入5.00 g所製備之乙腈溶液，於TOSHIBA製螢光燈(FL 10 BL，330 mm)之下，將365 nm之光以0.8 mW/cm2 曝光5分鐘。對曝光後之溶液，以BTB(bromothymol blue，溴瑞香草酚藍)為指示劑，以0.05 N之氫氧化鉀乙醇溶液進行滴定。關於所得測定滴定值，根據將對光照射前之溶液同樣地進行滴定所得之值作為空白，進行扣除修正而得之滴定值，利用下述式求出酸產生率。將其結果示於下述[表3]。
酸產生率(%)=酸滴定值(mol)÷各化合物理理論莫耳數(mol)×100
由[表3]之結果確認，本發明之芳香族鋶鹽化合物與比較化合物相比，藉由光之酸產生率高，作為光酸產生劑較為優越。
[實施例4-1及比較例4-1]負型抗蝕組合物之製備及評價
對化合物No.5及比較化合物No.1，另行合成六氟化銻鹽。使100 g日本化藥製造之EPPN-201溶解於100 g之甲基乙基酮(MEK)中而製備樹脂溶液，對上述六氟化銻鹽，使各0.05 g溶解於8.00 g之該樹脂溶液中而製備抗蝕液。將其以＃9之棒式塗佈機塗佈於鋁板上，於80℃下乾燥10分鐘後，使用超高壓水銀燈及照射分光器進行曝光。於80℃下烘烤10分鐘，於MEK中浸漬30秒，藉此進行顯影，以二甲苯清洗。根據藉由照射波長405 nm之光而形成之圖案算出硬化所必需之曝光量。將其結果示於下述[表4]。
由[表4]之結果確認，使用本發明之芳香族鋶鹽化合物之抗蝕組合物與使用比較化合物者相比，硬化性高，尤其作為負型抗蝕組合物而優越。
[實施例5]陽離子聚合性組合物之製造及評價
於混合有80 g之3,4-環氧基環己基甲酸3,4-環氧基環己基甲酯及20 g之1,4-丁二醇二縮水甘油醚者中，添加4 mmol之化合物No.1，充分攪拌使其均勻。將其以＃3棒式塗佈機塗佈於鋁塗佈紙上。對其使用附有帶式輸送機之光照射裝置，照射80 W/cm之高壓水銀燈之光。自燈至帶式輸送機為止之距離為10 cm，帶式輸送機之線速度為8 m/min。硬化後於室溫下放置24小時，然後以蘸有甲基乙基酮之棉棒擦拭塗膜，結果確認，即便往返200次，塗膜亦未被侵入，硬化充分進行。

Claims (7)

  1. 一種芳香族鋶鹽化合物，其係由下述通式(II)表示： (式(II)中，R21 、R22 、R23 、R24 、R25 、R26 、R27 、R28 、R29 及R30 分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、硝基、未經取代或具有取代基之碳原子數1~18之烷基、未經取代或具有取代基之碳原子數6~20之芳基、或者未經取代或具有取代基之碳原子數7~20之芳基烷基，R31 、R32 、R33 、R34 、R35 、R36 及R37 分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、硝基、或者未經取代或具有取代基之碳原子數1~18之烷基，R38 表示未經取代之碳原子數1~10之烷基，R21 ~R38 所表示之碳原子數1~18之烷基、R21 ~R30 所表示之碳原子數6~20之芳基、以及R21 ~R30 所表示之碳原子數7~20之芳基烷基所具有之取代基之數並無限制，R21 ~R38 所表示之碳原子數1~18之烷基、R21 ~R30 所表示之碳原子數6~20之芳基、及R21 ~R30 所表示之碳原子數7~20之芳基烷基中之亞甲基鏈可經-O-、-S-、-CO-、-CO-O-或者-O-CO-中斷，X2 - 表示一價陰離子；其中，R21 ~R30 中之至少一者為羥基)。
  2. 如請求項1之芳香族鋶鹽化合物，其係由下述通式(IV)表示： (式(IV)中，R61 、R62 、R63 、R64 、R65 、R66 、R67 、R68 、R69 及R70 分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、硝基、未經取代或具有取代基之碳原子數1~18之烷基、未經取代或具有取代基之碳原子數6~20之芳基、或者未經取代或具有取代基之碳原子數7~20之芳基烷基，R71 、R72 、R73 、R74 、R75 、R76 及R77 分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、硝基、或者未經取代或具有取代基之碳原子數1~18之烷基，R78 表示未經取代或具有取代基之碳原子數6~20之芳基、或者未經取代或具有取代基之碳原子數7~20之芳基烷基，R61 ~R77 所表示之碳原子數1~18之烷基、R61 ~R70 及R78 所表示之碳原子數6~20之芳基、及R61 ~R70 及R78 所表示之碳原子數7~20之芳基烷基所具有之取代基之數並無限制，R61 ~R77 所表示之碳原子數1~18之烷基、R61 ~R70 及R78 所表示之碳原子數6~20之芳基、及R61 ~R70 及R78 所表示之碳原子數7~20之芳基烷基中之亞甲基鏈可經-O-、-S- 、-CO-、-CO-O-或者-O-CO-中斷，X4 - 表示一價陰離子)。
  3. 如請求項1之芳香族鋶鹽化合物，其係由下述通式(V)表示： (式(V)中，R81 、R82 、R83 、R84 、R85 、R86 、R87 、R88 、R89 及R90 分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、硝基、未經取代之或具有取代基之碳原子數1~18之烷基、未經取代之或具有取代基之碳原子數6~20之芳基、或者未經取代之或具有取代基之碳原子數7~20之芳基烷基，R91 、R92 、R93 、R94 、R95 、R96 及R97 分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、硝基、或者未經取代或具有取代基之碳原子數1~18之烷基，R98 表示氫原子、具有取代基之碳原子數1~10之烷基、未經取代或具有取代基之碳原子數11~18之烷基、未經取代或具有取代基之碳原子數6~20之芳基、或者未經取代或具有取代基之碳原子數7~20之芳基烷基，R81 ~R98 所表示之碳原子數1~18之烷基、R81 ~R90 及R98 所表示之碳原子數6~20之芳基、以及R81 ~R90 及R98 所表示之碳原子數7~20之芳基烷基所具有之取代基之數並無限制， R81 ~R98 所表示之碳原子數1~18之烷基、R81 ~R90 及R98 所表示之碳原子數6~20之芳基、以及R81 ~R90 及R98 所表示之碳原子數7~20之芳基烷基中之亞甲基鏈可經-O-、-S-、-CO-、-CO-O-或者-O-CO-中斷，X5 - 表示一價陰離子；其中，R81 ~R98 中之至少一者為羥基)。
  4. 一種光酸產生劑，其特徵在於：包含如請求項1至3中任一項之芳香族鋶鹽化合物。
  5. 一種抗蝕組合物，其特徵在於：含有如請求項4之光酸產生劑而成。
  6. 一種陽離子聚合起始劑，其特徵在於：包含如請求項1至3中任一項之芳香族鋶鹽化合物。
  7. 一種陽離子聚合性組合物，其特徵在於：含有如請求項6之陽離子聚合起始劑而成。
TW099139653A 2009-11-17 2010-11-17 Aromatic salt compounds TWI513689B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009262367A JP5717959B2 (ja) 2009-11-17 2009-11-17 芳香族スルホニウム塩化合物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201134814A TW201134814A (en) 2011-10-16
TWI513689B true TWI513689B (zh) 2015-12-21

Family

ID=44059660

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW099139653A TWI513689B (zh) 2009-11-17 2010-11-17 Aromatic salt compounds

Country Status (7)

Country Link
US (1) US9073854B2 (zh)
EP (1) EP2502915B1 (zh)
JP (1) JP5717959B2 (zh)
KR (1) KR101767208B1 (zh)
CN (1) CN102510856B (zh)
TW (1) TWI513689B (zh)
WO (1) WO2011062182A1 (zh)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI527792B (zh) 2012-06-26 2016-04-01 羅門哈斯電子材料有限公司 光酸產生劑、含該光酸產生劑之光阻劑及含該光阻劑之經塗覆物件
US9029065B2 (en) 2012-10-26 2015-05-12 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Photoacid generating compound and photoresist composition comprising same, coated article comprising the photoresist and method of making an article
US9067909B2 (en) 2013-08-28 2015-06-30 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Photoacid generator, photoresist, coated substrate, and method of forming an electronic device
JP6082474B2 (ja) * 2013-09-30 2017-02-15 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、硬化膜の製造方法、硬化膜、有機ｅｌ表示装置および液晶表示装置
US9046767B2 (en) 2013-10-25 2015-06-02 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Photoacid generator, photoresist, coated substrate, and method of forming an electronic device
JP2015168617A (ja) * 2014-03-04 2015-09-28 株式会社Adeka 芳香族スルホニウム塩化合物、光酸発生剤、レジスト組成物、カチオン重合開始剤、およびカチオン重合性組成物
CN107406403A (zh) 2015-03-18 2017-11-28 株式会社Adeka 芳香族锍盐化合物、光产酸剂、抗蚀剂组合物、阳离子聚合引发剂和阳离子聚合性组合物
MX2020004902A (es) 2017-11-20 2020-09-09 Silicon Swat Inc Derivados del acido oxoacridinilo acetico y metodos de uso.
US11414387B2 (en) 2017-11-20 2022-08-16 Stingthera, Inc. Oxoacridinyl acetic acid derivatives and methods of use
US10647823B2 (en) * 2018-05-16 2020-05-12 Solenis Technologies, L.P. Adiabatic gel polymerization process for the production of water-soluble polyelectrolytes

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09143212A (ja) * 1995-11-27 1997-06-03 Nippon Kayaku Co Ltd 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物
JPH09157350A (ja) * 1995-12-12 1997-06-17 Nippon Kayaku Co Ltd 樹脂組成物及びその硬化物

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH643538A5 (en) * 1978-10-16 1984-06-15 Sandoz Ag Sulphoxides
DE2923602A1 (de) * 1978-06-23 1980-01-10 Sandoz Ag Verwendung von substituierten alkylarylsulfoxiden und phenylarylsulfoxiden als photoinitiatoren
FR2688783A1 (fr) 1992-03-23 1993-09-24 Rhone Poulenc Chimie Nouveaux borates d'onium ou de complexe organometallique amorceurs cationiques de polymerisation.
US6054501A (en) * 1996-06-12 2000-04-25 Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha Photopolymerization initiator and energy ray curable composition containing the same
JP3780569B2 (ja) 1996-06-20 2006-05-31 Ｊｓｒ株式会社 ＫｒＦエキシマレーザー照射用化学増幅型ネガ型レジスト
JP3503403B2 (ja) 1997-03-17 2004-03-08 東洋インキ製造株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子用発光材料およびそれを使用した有機エレクトロルミネッセンス素子
JP4204113B2 (ja) * 1997-12-04 2009-01-07 株式会社Ａｄｅｋａ 新規な芳香族スルホニウム化合物、これからなる光酸発生剤およびこれを含む光重合性組成物、光造形用樹脂組成物ならびに光学的立体造形法
FR2784025B1 (fr) 1998-10-02 2002-10-31 Rhodia Chimie Sa Composition dentaire a base d'une silicone fonctionnalisee reticulable/polymerisable par voie cationique
JP3991214B2 (ja) 2001-09-28 2007-10-17 信越化学工業株式会社 新規スルホニルジアゾメタン化合物、光酸発生剤、並びにそれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法
JP4173699B2 (ja) 2002-07-18 2008-10-29 株式会社Ａｄｅｋａ 光学フィルター用光吸収剤及び光学フィルター
JP2004323704A (ja) 2003-04-25 2004-11-18 Daicel Chem Ind Ltd フォトレジスト用重合体合成用（メタ）アクリル酸エステルとその製造法
JP2007112854A (ja) 2005-10-18 2007-05-10 Adeka Corp 熱感受性カチオン重合開始剤および熱重合性組成物
JP2007285538A (ja) 2006-04-13 2007-11-01 Calsonic Kansei Corp レシーバタンク付き熱交換器

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09143212A (ja) * 1995-11-27 1997-06-03 Nippon Kayaku Co Ltd 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物
JPH09157350A (ja) * 1995-12-12 1997-06-17 Nippon Kayaku Co Ltd 樹脂組成物及びその硬化物

Also Published As

Publication number Publication date
WO2011062182A1 (ja) 2011-05-26
EP2502915B1 (en) 2015-03-18
TW201134814A (en) 2011-10-16
KR20120101326A (ko) 2012-09-13
EP2502915A4 (en) 2013-03-20
CN102510856B (zh) 2015-08-05
US9073854B2 (en) 2015-07-07
JP2011105645A (ja) 2011-06-02
JP5717959B2 (ja) 2015-05-13
KR101767208B1 (ko) 2017-08-10
EP2502915A1 (en) 2012-09-26
CN102510856A (zh) 2012-06-20
US20120136155A1 (en) 2012-05-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI513689B (zh) Aromatic salt compounds
TWI462896B (zh) Aromatic sulfonium salt compounds
EP2927216B1 (en) Novel sulfonic acid derivative compound, photoacid generator, cationic polymerization initiator, resist composition, and cationically polymerizable composition
TWI526423B (zh) 芳香族鋶鹽化合物
JP6605820B2 (ja) オキシムスルホネート化合物、光酸発生剤、レジスト組成物、カチオン重合開始剤、およびカチオン重合性組成物
JP6274655B2 (ja) スルホン酸誘導体化合物、光酸発生剤、レジスト組成物、カチオン重合開始剤、およびカチオン重合性組成物
JP5448157B2 (ja) 芳香族スルホニウム塩化合物
JP5547790B2 (ja) 芳香族スルホニウム塩化合物
KR102406214B1 (ko) 술폰산 유도체 화합물, 광산 발생제, 레지스트 조성물, 양이온 중합 개시제, 및 양이온 중합성 조성물
US10131646B2 (en) Aromatic sulfonium salt compound, photoacid generator, resist composition, cationic polymerization initiator, and cationically polymerizable composition
TWI640511B (zh) Sulfonic acid derivative compound, photoacid generator, photoresist composition, cationic polymerization initiator, and cationic polymerizable composition
JP2015168617A (ja) 芳香族スルホニウム塩化合物、光酸発生剤、レジスト組成物、カチオン重合開始剤、およびカチオン重合性組成物
TW201634455A (zh) 芳香族鋶鹽化合物、光酸產生劑、光阻組成物、陽離子聚合起始劑、及陽離子聚合性組成物