DE2923602A1 - Verwendung von substituierten alkylarylsulfoxiden und phenylarylsulfoxiden als photoinitiatoren - Google Patents

Verwendung von substituierten alkylarylsulfoxiden und phenylarylsulfoxiden als photoinitiatoren

Info

Publication number
DE2923602A1
DE2923602A1 DE19792923602 DE2923602A DE2923602A1 DE 2923602 A1 DE2923602 A1 DE 2923602A1 DE 19792923602 DE19792923602 DE 19792923602 DE 2923602 A DE2923602 A DE 2923602A DE 2923602 A1 DE2923602 A1 DE 2923602A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
phenyl
alkyl
substituted
formula
compounds
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE19792923602
Other languages
English (en)
Inventor
Lajos Dr Avar
Hans-Werner Dr Finck
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sandoz AG
Original Assignee
Sandoz AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from CH687678A external-priority patent/CH635352A5/de
Priority claimed from CH1069278A external-priority patent/CH643538A5/de
Application filed by Sandoz AG filed Critical Sandoz AG
Publication of DE2923602A1 publication Critical patent/DE2923602A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D333/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
    • C07D333/50Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D333/52Benzo[b]thiophenes; Hydrogenated benzo[b]thiophenes
    • C07D333/62Benzo[b]thiophenes; Hydrogenated benzo[b]thiophenes with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to carbon atoms of the hetero ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C317/00Sulfones; Sulfoxides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D307/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
    • C07D307/02Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
    • C07D307/34Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D307/38Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
    • C07D307/40Radicals substituted by oxygen atoms
    • C07D307/46Doubly bound oxygen atoms, or two oxygen atoms singly bound to the same carbon atom
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D311/00Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings
    • C07D311/02Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D311/78Ring systems having three or more relevant rings
    • C07D311/80Dibenzopyrans; Hydrogenated dibenzopyrans
    • C07D311/82Xanthenes
    • C07D311/84Xanthenes with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached in position 9
    • C07D311/86Oxygen atoms, e.g. xanthones
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D333/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
    • C07D333/02Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
    • C07D333/04Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom
    • C07D333/06Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to the ring carbon atoms
    • C07D333/22Radicals substituted by doubly bound hetero atoms, or by two hetero atoms other than halogen singly bound to the same carbon atom
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D335/00Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
    • C07D335/04Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D335/10Dibenzothiopyrans; Hydrogenated dibenzothiopyrans
    • C07D335/12Thioxanthenes
    • C07D335/14Thioxanthenes with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached in position 9
    • C07D335/16Oxygen atoms, e.g. thioxanthones
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/36Sulfur-, selenium-, or tellurium-containing compounds
    • C08K5/41Compounds containing sulfur bound to oxygen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00Inks
    • C09D11/02Printing inks
    • C09D11/10Printing inks based on artificial resins
    • C09D11/101Inks specially adapted for printing processes involving curing by wave energy or particle radiation, e.g. with UV-curing following the printing
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029

Description

ikmdo'S. AG
4CX)O JMsol Case 150-420.1
Verwendung von substiLuierten Alkylarylsulfoxiden und Phenylarylsulfoxiden als Photo!aitiatoren
Die vorliegende Erfindung betrifft die Verwendung von substituierten Alkylarylsulfoxiden und Phonylary]sulfoxiden als Photoinitiatoren.
Insbesondere betrifft die Erfindung die Verwendung als Photoinitiatoren von Verbindungen der Formel
(D,
R Wasserstoff oder Halogen,
Alkyl(C1-18), CyClOaJJCyI(C5-8), Benzyl, gegebenenfalls durch 1 oder 2 Alkyl(Cj_4) substituierten Phenyl, oder sofern R Wasserstoff, auch
η /ZZ\ (a)
gegebenenfalls durch 1 bis 3 Halogenatome substituiertes Alkyl(C1-C2 AIkOXy(C1-C ) alkyl (C1~Cf), Benzyl, durch eine tertiäre Aininogruppe substituiertes Alkyl(C-,_.), C6Hj-CH=OH-, unsubstituiertes Phenyl oder durch 1-3 Alkyl(C-.-C,2)-, 1-3 Alkoxy(C,-C12)reste nät zusainmen höcfetons .12 Γ-Λίοΐΐοη, 1 odor 2 Halogen, ein Hydroxy und/oder eine ABCy-I(C1-CfJeUtCTiJrUp]Xi Kiib^U tuiorlofj P?ionyl, wobei höchstens 3 dieser ßub:;Mtiic.'ntpn cmw".:nv.'i sind, 2-Tliionyl, 2-lArryl oder 2-(3-Clι Ιο; )].ιί·]ιχ.ο! litf.-iiyl ,
909882/0690 BAD ORIGINAL
R., Wassern; l· off odor /'.ur.nr.'Eti"»n mil: 1'., c.inon R»si.
worin X direkt an den Ring A und die andere freie Valenz an die eingezeichnete Carbonylgruppci des Ringes A gebunden ist,
R. eine der Bedeutungen von YL1 unter Ausschluss des Restes (b), und 4 0Ä
X - O -, - S -, - CH9 -, - C -, - SO9 - oder - N -<Xj) t °^r die direkte Bindung
bedeuten, wobei wenn R, einen Rest (a) bedeutet, in einer solchen Verbindung die Substituenten R9 und R. frei von Halogen sind.
R bedeutet vorzugsweise Wasserstoff. R als Halojen bedeutet vorzugsweise Chlor. Vorzugsweise bedeutet R nur dann Halogen, wenn gleichzeitig R "gegebenenfalls substituiertes Phenyl oder einen Rest (a) bedeutet. Für den Fall, dass R Wasserstoff ist, bedeutet R, vorzugsweise Ri, d.h. Alkyl(C,_-jο) / Benzyl, gegebenenfalls substituiertes Phenyl gerräss der Definition in R, oder einen Rest (a), vorzugsweise RV, d.h. Alkyl(C, , 9), Benzyl, oder gegebenenfalls durch ein Alkyl (C, J substituiertes Phenyl oder einen Rest O
R4 "
und vorzugsweise Ri", d.h. Alkyl(C, ,o) oder Phenyl, vorzugsweise Alkyl, vorzugswei.se mit 1-8 C-Atomen, vorzugsweise Methyl, Prq^yl, Butyl, Hexyl oder Ctotyl, vorzugsv,'eise I'fetl
Für den Fall, dass R zusaimrjn mit R9 einen Rest (b) biJde.t, bedeutet R, vorzugsweise Alkyl(C,_,„), Benzyl oder Phenyl, vorzugsweise AlKyI(C, ,„) oder Phenyl, vorzugswaise Alkyl (C,-, 8) oder Phenyl, vorzugsweise Alkyl (C, , η)/ vorzugsweise Alkyl(C,_,9) , vorzugsweise Alkyl(C4 o) ·
R1 als Phenyl trägt vorzugsv;eise nur 2, vorzugsweise höchstens einen Substituenten, welcher vorzugswaise AIlCyI(C,.) bedeutet.
909882/0 690
BAD
R„ bedeutet vorzug3v;.siso R', d.h. gegebenenfalls durch 1 bis 3 Halogen™ atone substituiertes A]l:yl(C,-C„.,) , Alkoxy (C-,~C,) alkyl (C, ~C,) , unnubstituiertes Phenyl oder durch 1-3 Alkyl (C-, -C-, Δ- oder 1-3 Alko^(C,C12)reste mit zusammen höchstens 12 C-Atomen, 1 oder 2 Halogen und/oder eine AlJq-7I (C,-Cg)estergruppe substituiertes Phenyl, wobei höchstens 3 dieser Substituenten anwesend sind, 2-lhienyl, 2-Furyl oder 2-(3-Chlor)benzothienyl oder zusainmen mit R^ einen Rost (b).
Rp bedeutet vorzugswoise R~, d.h. gegebenenfalls substituiertes Alkyl oder gegebenenfal Is substituiertes Phenyl gemäss der Definition in Rl oder 2-Thienyl oder 2-l\iryl, oder eixien Rest (b) , vorzugsweise RiJ', d.h. AlRyI(C1-C12), iinsubstituiertes Phenyl oder durch 1 oder 2 Alkyl (C-,-Cg) mit zusammen höchstens 9 C-Atoinsn, substituiertes Phenyl, oder zusammen mit R_ einen Rest
(Qj^ (ba).
X1 -
IL· bedeutet vorzugsv/eise R2"1, d.h. AlkyliC,^), Phenyl oder Alkyl (C, ^) phenyl, vorzugsweise tetliyl, Aethyl, Propyl, Phenyl, para-tert.-Butylphenyl, vorzugsvjsise Methyl oder Phenyl, vorzugsweise Phenyl.
Vorzugsweise ist R, vom Rest (b) verschieden. Bedeutet R2 einen Rest (b), so hat dieser vorzugsweise die Bedeutimg von (ba), worm X bzw. X1 die weiter unten angegebenen bevorzugten Bedeutungen haben. R^ als Alkyl hat vorzugsweise 1-18, vorzugsweise 1-12, vorzugsweise 1-8/ vorzugsweise 1-4, vorzugsweise 1-3 C-Atome und bedeutet vorzugsweise Methyl. Bedeutet R2 Phenyl, so trägt dieses vorzugsweise höchstens 1 Substituenten, vorzugsweise einen Alkylrest. Von den heterocyclischen Resten sind 2-Tnienyl und 2-Furyl, insbesondere 2-Puryl bevorzugt..
909882/0690
R„ dir, Alkyl, welches durch eine tcrt. /.:; !ιΓ^α^κ· subriMtulorl ist, bedeutet vorzugsweise (Alkyl C1-4) 2N-/akyJ ;.-■;* (C2-4)- oder UIN-A]^yIcJi(C1-4)-
oder 0 N-7\lky3en(C, ,)-.
R- bedeutet Vorzug: .weise Wasser -it.off.
X bedeutet vorzugsweise - 0 ~, -S-, - CIL, -, - CO - oder die direkte Bindung, vorzugsweise - 0 -, -S-, - CEL -, -CO-, vorzugsweise X1 , d.h.
- 0 -/ - S - oder -CO-, vorzugsweise - S - oder - CO --, vorzugsweise
R. hat, unter Ausschluss des Restes (b), die bevorzugten Bedeutungen von R2. Bedeutet R3 Wasserstoff und R1 einen Fest (a), so h;,ben R, und R. vorzugsweise dieselbe l'odeutung.
Ilalogen bedeutet vorzugsweise Qilor odor Bran,- vorzugsweise Chlor. Vorzugsweise enthalten die Verbindungen der rorji1'!.! (I) kein Halogen. Bevorzugte Verbindungen der Pornt-'l (.Γ) .sWI /..B. cii.ojoni.gon, worin R-. durch Ri, R~ durch R', R. im Rest (a) durch R^ i.r;:;ctzt ist und R Wasserstoff oder Chlor bedeutet.
Bevorzugt für die erfindungsgem-lsse Verwendung sind im weiteren die Verbindungen der Formal ^
R2-c-rrn ? da),
- S - R1
R " Ic*
R3
worin RJJ und R_ die obige Bedeutung haben und R1 für R_ = Wasserstoff: t· -i J.a j
RV, und für R- = Teil des Restes (b): JJJwI(C, , Ρ) Benzol oder Phenvl
■L j X—Xo
bedeuten.
Bevorzugt verwendet man im weiteren Verbindungen der Formel
II A
worin R"' und R"' unter /liisschluss des Rost'-.-;; (ba), die obige Bedeutung
JL £*
haben.
909882/0690
BAD ORIGINAL
Case 15C>4201
Die Verbindungen der Formal
0
(ID, S — R-i
R2 Phenyl, oder durch 1-3 AlXyI(C1-12)-, 1-3 Alkoxy(C1-12)reste mit zusamrren höchstens 12 C-Atomen, 1 oder 2 Halogen, ein Hydroxyl und/oder eine Alkyl (C, Jestergruppe substituiertes Phenyl, wobei höchstens 3 dieser Substituenten anwesend sind, 2-Thienyl, 2-Furyl oder 2(3~Chlor) benzothienyl,
R_ Wasserstoff oder zusammen mit R0 einen oben definierten Rest (b), 3a ^a
bedeuten und R und R, die obige Bedeutung haben, mit der Einschränkung, dass wenn X = die direkte Bindung oder -CO-, R, von Methyl verschieden ist, sind neu.
Bezüglich der Substituenten R, R., R_ und R0" gelten analogerweise die obigen Bevorzugungen. Bezüglich R2 gelten sinngemäss diejenigen von R^ für die Bedeutungen von gegebenenfalls substituiertem Phenyl oder den heterocyclischen Ringen ; R entspricht R .
3a 3
Das Verfahren zur Herstellung der Verbindungen der Formel (II) ist dadurch gekennzeichnet, dass man eine Verbindung der Fonrel 0
- c-r^Y"R (HD/
S-R1
worin R, Rn , R„ und R0 die obige Bedeutung haben, in an sich bekannter
JL ία. jci
Weise zum SuIfoxid oxidiert.
Die Bedingungen für die Oxidation der Verbindungen der Formal (III) zu den entsprechenden SuIfoxiden sind aus analogen Reaktionen bekannt. So verwendet man locispic-lswcisc Wasserstoffperoxid odor M3tach].orperbenzoosäure in an sich bekannter Waise als Oxidationsmittel.
Die übrigen unter die Formel (I) fallenden Verbindungen sind entweder bekannt oder sie könnon in einer an sich bekannten Weise hergestellt worden.
Die Verbindungen der Formal (III) stellt man in einer an sich bekannten Weise her.
909882/0690
dor Verwendung der Verbindungen der Formel (I) als Photoinitiatoron betrifft die Erfindung auch photopolyrrerisierbare Systeme, bestehend aus einer photopolymerisierbaren Zusammensetzung, welche eine erfindungsgeitässe Sulfoxidverbindung der Formal (I), enthält.
Die Erfindung betrifft auch ein Mittel zum Photopolymerisiercn, welches eine erfinciungsgemässe Sulfoxidverbindung enthält. Ein solches Mittel, enthält z.B. Polymere, Vorpolymerisate, wie solche im vsiteren als polymerisierbare Verbindungen bescl-irieben sind oder z.B. auch epoxydierte Verbindungen v;ie epoxydiert.es Leinöl. Ein solches Mittel kann bis zu 90% dos Sulfoxids enthalten.
Die vorliegende Verbindung betrifft auch ein Verfahren zum Photopolymerisieren eines erfindungsgemässen photopolymcrisierbaren Systems, v^lches dadurch gekennzeichnet ist, dass man auf dieses ultraviolettes Licht mit einer Wellenlänge von 250-400 nm einvärken lässt.
Vorzugsweise verv.ündet man erfindungsgemjssse Sulfoxidverbindungen zum ' Photopolymorisieren von photopolyir>?ris.iorl:ören Systemen, die ungesättigte Verbindungen enthalten.
Photopolynerisierbare Zusaimensetzungen für die erfindungsgemässe Verwendung sind im-allgemeinen bekannt, so z.B. in der UV-Beschichtung oder für üV-polymerisierbare Druckfarben.
Vfeitere Additive wie z.B. Antioxidantien, Pigrrtsnte, Füllstoffe können gleichzeitig verwendet werden. Die genaue Zusanmsnsetzung solcher Systems ist nicht kritisch und kann, je nach Verwendungszweck,variiert werden.
Die Menge der verwendeten photosensibilisierend wirkenden Verbindungen der Formel (I) wird je nach Verwendungszweck variieren. Im allgemeinen genügen 0,01 - 10, vorzugsweise 0,05 - 5 Gewichtsprozent, bezogen auf die photopolynerisierbare Zusarmensetzung.
Die Verbindungen der Formel (I) kann man als Photoinitiatoren gegebenenfalls auch in .Gegenwart von Aminen, die mindestens eine c£r-CH-Gruppe aufweisen, verwenden. Solche Amine sind bekannt.
909882/0690
BAD ORIGINAL
- 11 - O Q 9 9 K Π ■? Caso
Die Verbindungen der Formel (I) zeigen eine sehr gute Wirkung auch in dicken Schichten und pigmentierten Systemen.
Die folgenden Beispiele erläutern die Rxrfindung:
Beispiell
11,4 g 4-Eenzoyl-thioanisol verden in 100 g Eisessig bei 19-21° gelöst. Unter schwachen Rühren wird die lösung innert 15 Minuten mit 4,25 g HO1 30%ig versetzt. Anschliessend lässt ran G Stunden stellen. Dann wird die Lösung auf 25 nil Kiswasser qogosGcn. ]V:r ausgefallene Niederrchlag abgesaugt, nut Wasser gewaschen, getrocknet und nut Aether kristallisiert.
Man erhält ein v;eisses Kristallisat vom Srrp. 87-88°, der Formöl
Beispiel 2
Verfährt man analog zu Beispiel 1 und oxydiert 4-Benzoyl~diphenylsulfid so erhält man ein weisses Kristallisat vom Smp. 73-76° der Formel
0 η
<öVc- ~
B e i s ρ i e 1 3
Verfährt man analog zu Beispiel 1 und oxydiert man 4-p-tert-Butyl-benzoyldiphenylsulfid, so erhält man ein veisses Ktristallisat \om Smp. 144-6° der Formal
909882/0690
BAD ORIGINAL
Beispiel
Oxydiert nein, analog zu Beispiel 1, 4-<>~i[^ttiylb;woyl-diphenylsulfid, so erhält man ein Harz der Formal
Beispiel 5
5,7 g 2,2'-Dichlor-4,4' (tert.butyl-bsnzoyl)diphenylsulfid werden in 50 ml Eisessig/Essigsäureanhydrid (60:40) vorgelegt und bei'40° Eadtertperatur innert 30 Minuten mit 0,85 g HO (40%ig) versetzt, wobei eine klare lösung entsteht. Nach 4-stündiger Nachreaktion werden weitere 0,85 g KLO^ zugegeben und die lösung wird weitere 4 Stunden lang bei gleicher Temperatur gerührt. Anschliessend wird die Lösung bei 5° auf 200 rcl Eisv;asser gegossen, wobei das Reaktionsprodulct ausfällt. Der ausgefallene Niederschlag wird abgesaugt, mit Kasser gewaschen und getrocknet. T! erhält ein weisses Produkt vom Smp. 84-94°, der Formel
C(CH,
Beispiel 6
Verfährt man analog zu Beispiel 5, uixl oxydiert 2,2'-Dichlor-4,4'-dib3isoyldiphenylsulfid, so erhält man ein weisses Produkt vom Smp. 114-117° der Formel
o ' ~7 X o
In analoger Weise zu den Beispielen 1-6 stellt man die Verbindungen der Tabelle 1 her.
809882/0690
BAD ORIGINAL
Boisoiel7
1/2 g S-n-Octylhrerkapto-thioxanthon werden in 50 ml Eisessig bei 50°C gelöst. Die Lösung wird mit 0,12 ml H9O9 (30%ig) versetzt und 20 Stunden lang bei 50°C stehen gelassen. Dann wird auf ICO ml Eiswasser gegossen, wobei das Produkt ausfällt. Der ausgefallene Niederschlag wird abgesaugt, mit Wasser gewaschen und aus Methanol kristallisiert. Man erhält ein gelbes Kristallisat Snp. 95-96°C der Formel
S - C8H17(n)
Beispiel 8
14 r2 g 2-Butyl-m3rkapto-antlirachinon,S!Tp. 117-119°C, werden in 200 ml Eisessig bei 50°C gelöst. Dann wird die Lösung innert 25 Minuten mit 4,25 g H3O2 (30%ig) versetzt und weitere 6 Stunden bei 500C gerührt. Dann werden weitere 0,4 g H-O2 zugegeben und das Ganze 16 Stunden lang gerührt. Nun wird das Gemisch auf 250 ml Wasser gegossen wobei das Produkt ausfällt. Dar ausgefallene Niederschlag wird mit Toluol extrahiert, die toluolische Lösung Jieutralcjewaschcn und das Lösungsmittel abaestilliert. Der zurückgebliebene gelbe Rückstand wird aus 30 ml Methanol kristallisiert. Man erhält ein gelbes Produkt vom Smp. 97-98°C der Formal
S - C4H9 (n)
Bej.spiel 9
1,85 g 3-Butylrrerkapto-xanthon (Smp. 83-84°C) werden in einem Gemisch von 30 ml Eisessig und 5 ml Essigsäurehydrid gelöst. Dann wird die Lösung mit 0/6 g H3O2 versetzt und 4,5 Stunden lang bei 200C gerührt. Dann wird die Lösung auf 100 ml Eiswasser gegossen, 15 Minuten nachgerührt, wobei das
909882/0690
Produkt ausfällt. Der ausgefallene Niederschlag wird abgesaugt mit Wasser nautralgewaschen und getrocknet. Das Produkt wird aus Methanol kristallisiert man erhält ein weisses Kristallisat vorn Snp. 128~13O°C der Formal
S - C4H9(n)
In analoger Weise zu den Beispielen 7-9 stellt man die Verbindungen der Tabelle 2 her.
Beispiel 10
Eine Mischung bestehend aus 60 g eines Präpolymeren der Formel
ai2=ai-ccccH2
C(GH3>2
CCH0-CH (CH) -0I0-OCC-CH=CH0 12 2
mit einer Yiscosität von ca. 9000 poise (bei77°C) (vergl, US Patentschrift Nr. 3'713'864), 35 g Pentaerithriotoltetraacrylat und 4O g TiO2 (Chronos Κ-Ϊ63) werden auf dem 3-walzenstuhl innig venaLscht. Zu dieser Mischung v?erden 5,0 % der Verbindung des Beispiels 2 gegeben" und mit einem Mahler Hveimal;irit.25 öndrehungen homogenisiert. Die entstandene Kaiposition v/ird mit einem Spachtel in 3-5 u Dicke auf Kunstdruckpapier und mit einem Ziehstab in 20 μ Dicke auf /Alu-Folie aufgetragen.
Beide Filme v/urden in einem Minicure-Gerät (Primäre) mit einem Hg-Mitteldruc-kbrenner (80 V7/cm) bei hohen Gasdiwindigkeiten bis zur Klebfreiheit c;etrocknet. Man erhielt sel-ir gute Resultate.
909882/0 690
BAD ORIGINAL
Beispiel 11
Eine Karzmischung aus 82 Teilen Plex 6624-0 (Acrylharz der Firma Böhm, Darmstadt) und 18.0 Teilen Plex 6618-0 (Verdünner auf Acrylatbasis der Firma Föhm) und 5 Teilen des Photohärters des !Beispiels 5 vjsrden mit einem Japanspachtel in einer Dicke von 3-5 μ auf Kunstdruckpapier aufgetragen. Diese Filme werden im Minicure-Gerät (Primsrc) mit einem Hg-Kochdruckbrenner (80 Watt/cm) bei liohar Bandgeschwindigkeit zu klebfreien Filrrsn getrocknet.
Beispiel 12
In analoger Ifeise zu den Beispielen 10 und 11 verwendet man die Verbindung aus Beispiel 2 in einer Mischung von 70 Teilen EBECRYL 850 (ein Polyesterharz der UCB, Belgien), Visccsität: 250 Poise (bei 25°C), Molekulargewicht (durchschnittlich): 1500 und 30 Teilen TiO durch Verwendung von 5 % des Photoinitiators. Man erhält sehr gute Resultate.
In analoger Vfeise stellt man die in den Tabellen 1 und 2 aufgeführten Verbindungen her und verwendet diese als Photcinitiatoren.
Tabelle 1
O
■ρ — Γ"1 ff ^\
O
— S-R1
Rl ■Smp. 0C
Nr. R2 CH3
1 QI3 CH3
2 C2H5 C8H17
3 CH3 QI3
4 C Ιτ
11 23
C8U17
5 C8H17 CgH117 (η) ^.38
6
909882/0690
BAD ORIGINAL
TcibellG 1 (Fortsetzung)
Nr.
7 8
10 11 12 13 14 15 16 17 18
19 20 21
CH-
(CH3)C-
H3C
σί
Cl-
(CH3)C-
Cl
S'
oociL
:OOC2H5
CiL·
CHn
CH,
CiL
QL CIL
CH3
CiL QL.
Snp. 0C
102/103
135-136
84-85
148-149.5
13O-131
Harz
105
90988?/ 0690
Tabelle 1 (Fortr;o L'^
Nr.
22 23
24 25 26 27 28
30
31
OCII,
OClL
OCH-
C8H17(t)
Ct)H9C
Ct)H9C4
(t)
OH
R-,
CIL
C12H25
CH3
CH„
CH,
C4H9 (η)
CHn
OL
Slip. 0C
116-117 Harz
125-126 135-136
79-80 134-135 Harz
150-151
188-189
Harz
90-92 90-95
909882/0690
-JH -
Tabelle 1 (Fortsetzung)
Nr. 34 35
36 37 38 39 40 41 42
Tabelle
Nr. 44 45
R,
OH
2H5
CH-
Case 150-4201
R-,
σ-L
CE
CiL·-
(t)
0
"
s -
S-R-,
C=O C=O CO C=O -ClL
C12H25
L.18U37
909882/0690
Sm[J. °C
83-84 86.5-87
71-71.5 151-152
103.5-105 82-83
57-58 (vergl. 6)
' 90-92 89-90
Harz
Sup. 0C
112-113 197-198 174-176 118-119 113-120
ORlGJNAL

Claims (1)

  1. 7850 Lörrach
    Case 150-4201
    Verwendung von substituierten Alkylarylsulfoxiden und Phenylarylsulfoxiden als Photoinitiatoren
    Patentansprüche
    1. Verwendung als Photoinitiatoren von Verbindungen der Formel
    (D,
    R Wasserstoff oder Halogen,
    R1 AIkYl(C1-18), Cycloalkyl (C5-8), Benzyl, gegebenenfalls durch 1 oder 2 AlJCyI(C1-4) substituiertes Phenyl/ oder sofern R3 Wasserstoff, auch
    (a)
    2 gegebenenfalls durch 1 bis 3 Halogenatcne substituiertes AIkOXy(C1-C4JaIJCyI(C1-C6), Benzyl, durch eine tertiäre Aminogruppe substituiertes AlJCyI(C1-4), C6H5CH=CH-, unsubstituiertes Phenyl oder durch 1-3 AJJCyI(C1-C12)-, 1-3 Alkoxy (C1-C12) reste mit zusammen höchstens 12 C-Atomen, 1 oder 2 Halogen, ein Hydroxy und/oder eine Alkyl(C1-Cg)estergruppe substituiertes Phenyl, wobei höchstens 3 dieser Substituenten anwesend sind, 2-Thienyl, 2-Fuiyl oder 2-(3-Chlor)benzothienyl,
    R3 Wasserstoff oder zusammen mit R3 einen RMt
    909882/0690
    - 2 - Case 150-4201
    worin X direkt an den Ring A und die andere freie Valenz an die eingezeichnete Carboxylgruppe des Ringes A gebunden ist,
    R. eine der Bedeutungen von R0 unter Ausschluss des Restes (b), und
    9 ι
    X - O -, - S -, - CH2 -, - C -, - SO2 - oder - N -(Q) / oder die direkte Bindung
    bedeuten, wobei wenn R, einen Rest (a) bedeutet, in einer solchen Verbindung die Substituenten R2 und R. frei von Halogen sind.
    2. Verwendung nach Patentanspruch 1 von Verbindungen der Formel
    (Ia),
    gegebenenfalls durch 1 bis 3 Halogenated substituiertes Alkyl (C,-C1),
    unsubstituiertes Phenyl oder durch 1-3 AJjCyI(C1-C,,,)- oder 1-3 Alkoxy (C1-C12) reste mit zusamrren höchstens 12 C-Atomen, 1 oder'2 Halogen und/ oder eine Alkyl(C1-Cg)estergruppe substituiertes Phenyl, wobei höchstens 3 dieser Substituenten anwesend sind, 2-Ihienyl, 2-Furyl oder zusammen mit R einen Rest (b) gemäss Patentanspruch 1,
    R_ Wasserstoff oder zusammen mit Ri1 einen Rest (b), Rla für R3 = Wasserstoff: AJJCyI(C1-12), Benzyl, oder gegebenenfalls durch ein Alkyl(C1 J substituiertes Phenyl oder einen Rest
    ff
    ÜI _ /-ι
    K4 L
    Rn für R_ = Teil des Reste (b): Alkyl(C1-C10), Benzyl oder Phenyl, und la 3 J- -Lo
    R'4 eine der Bedeutungen von R^ unter Ausschluss des Restes (b) bedeuten.
    3. Verwendung nach den Patentansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Verbindungen der Formeln (I) und (Ia) frei sind von Halogen.
    4. Verwendung nach Patentanspruch 1 von Verbindungen der Formel
    R2" - C-
    909882/0690
    ORIGINAL INSPECTED
    - 3 - ' Case 150-4201
    worin
    R^' AUCyI(C1-12) oder Phenyl und
    R"1 Alkyl(C,_12), unsubstituiertes Phenyl oder durch 1 oder 2 Alley1 (C1-9) mit zusamrren höchstens 9 C-Atomen, substituiertes Phenyl bedeuten.
    ί 5. /verbindungen der Formel
    worin
    R2 Phenyl, oder durch 1-3 Alkyl (C, -^2)-, 1-3 Alkoxy(C1-12)reste mit zusammen höchstens 12 C-Atonen, 1 oder 2 Halogen, ein Hydroxyl und/oder eine Alkyl(C-, ß)estergruppe substituiertes Phenyl, wobei höchstens 3 dieser Substituenten anwesend sind, 2-Thienyl, 2-Furyl oder 2(3-Chlor)benzothienyl,
    R_ Wasserstoff oder zusammen mit R^ einen Rest (b), nach Patentanspruch 1
    bedeuten und R und R, die Bedeutung mach Patentanspruch 1 haben, mit der Einschränkung, dass wenn X = die direkte Bindung oder -CO-, R1 von Methyl verschieden ist.
    6. Verfahren zur Herstellung der Verbindungen der Formel (II) nach Patentanspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass man eine Verbindung der Formel
    0 "
    worin R, R-, R2 und R3 die Bedeutung nach Patentanspruch 5 haben, in an sich bekannter Weise zum SuIf oxid oxidiert.
    7. Photopolymerisierbare Systeme, bestehend aus einer photopolyxnerisierbaren Zusammensetzung, welche eine erfindungsgemässe Sulfoxidverbindung der Formel (I) nach Patentanspruch 1 enthält.
    909882/0690
    8. Verfahren zum PhotopolynBrisieren eines photopolymerisierbaren Systems nach Patentanspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass man auf dieses ultraviolettes Licht mit einer Wellenlänge von 250-400 nm einwirken lässt.
    9. Mittel zum Photopolyinerisieren, welches eine SuIfOxidverbindung nach Patentanspruch 1 enthält.
    909882/0690
DE19792923602 1978-06-23 1979-06-11 Verwendung von substituierten alkylarylsulfoxiden und phenylarylsulfoxiden als photoinitiatoren Withdrawn DE2923602A1 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH687678A CH635352A5 (en) 1978-06-23 1978-06-23 Use of substituted alkyl phenyl sulphoxides and/or substituted phenyl phenyl sulphoxides as photoinitiators
CH1069278A CH643538A5 (en) 1978-10-16 1978-10-16 Sulphoxides

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE2923602A1 true DE2923602A1 (de) 1980-01-10

Family

ID=25700316

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19792923602 Withdrawn DE2923602A1 (de) 1978-06-23 1979-06-11 Verwendung von substituierten alkylarylsulfoxiden und phenylarylsulfoxiden als photoinitiatoren

Country Status (7)

Country Link
US (1) US4324628A (de)
DE (1) DE2923602A1 (de)
ES (1) ES481839A1 (de)
FR (1) FR2429201A1 (de)
GB (1) GB2025991B (de)
IT (1) IT1117247B (de)
NL (1) NL7904770A (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0113236A1 (de) * 1982-12-27 1984-07-11 Eli Lilly And Company Substituierte Imidazopyrimidine, -pyrazine und -triazine
WO1998013341A1 (en) * 1996-09-27 1998-04-02 Rhone-Poulenc Agriculture Ltd. Hydroxybenzophenone derivatives as herbicides

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4636502A (en) * 1982-12-27 1987-01-13 Eli Lilly And Company Methods of producing a positive inotropic effect or vasodilation by administration of 2-phenyl imidazo pyrimidines and pyrazines
US4537889A (en) * 1982-12-27 1985-08-27 Eli Lilly And Company Inotropic agents
IT1208494B (it) * 1985-01-28 1989-07-10 Lamberti Flli Spa Polimerizzazione. derivati solforati di chetoni aromatico-alifatici e alifatici come fotoiniziatori di
IT1187703B (it) * 1985-07-23 1987-12-23 Lamberti Fratelli Spa Benzofenoni sostituiti e loro miscele liquide,atti all'impiego come iniziatori di fotopolimerizzazione
AU625123B2 (en) * 1989-04-24 1992-07-02 Otsuka Pharmaceutical Factory, Inc. 3-halogeno-2,3-diphenylacrylaldehyde derivative, method of production thereof and curing agent for hyperlipidemia
EP1140761B1 (de) 1999-01-12 2003-10-08 Clariant Finance (BVI) Limited Benzophenone und ihre verwendung als photoinitiatoren
JP5717959B2 (ja) * 2009-11-17 2015-05-13 株式会社Adeka 芳香族スルホニウム塩化合物

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2769777A (en) * 1954-01-04 1956-11-06 Monsanto Chemicals Initiation of photopolymerization
US3713864A (en) * 1971-01-06 1973-01-30 Inmont Corp Method of printing or coating using actinic radiation setting of applied coating and coated product
DE2335444A1 (de) * 1972-07-14 1974-01-24 Sandoz Ag Neue uv-strahlen absorbierende verbindungen
EP0035969B1 (de) * 1980-03-07 1985-02-13 Ciba-Geigy Ag Zusammensetzung aus kationisch polymerisierbarem Material und einem Katalysator

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3949084A (en) * 1972-03-03 1976-04-06 Syntex (U.S.A.) Inc. Novel substituted xanthone carboxylic acid compounds
US3903322A (en) * 1974-03-07 1975-09-02 Continental Can Co Photopolymerizable ethylenically unsaturated compounds photoinitiated with benzoyl derivatives of diphenyl sulfide and an organic amine compound
US4165267A (en) * 1974-09-19 1979-08-21 Sandoz Ltd. Photo-polymerizable systems containing 2-haloacetophenone derivatives as photosensitizing agents
CH594705A5 (de) 1974-09-19 1978-01-31 Sandoz Ag
DE2602419A1 (de) * 1976-01-23 1977-07-28 Basf Ag Photopolymerisierbare masse
US4111692A (en) * 1976-06-04 1978-09-05 Toyo Boseki Kabushiki Kaisha Electrostatic printing plate
JPS6032175B2 (ja) * 1977-05-18 1985-07-26 バスフ アクチェン ゲゼルシャフト 版木及びレリ−フ版木を製造するために改良された光重合可能な物質
US4186108A (en) * 1978-02-08 1980-01-29 Minnesota Mining And Manufacturing Company Liquid compositions containing triarylsulfonium complex salts and oxyethylene material

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2769777A (en) * 1954-01-04 1956-11-06 Monsanto Chemicals Initiation of photopolymerization
US3713864A (en) * 1971-01-06 1973-01-30 Inmont Corp Method of printing or coating using actinic radiation setting of applied coating and coated product
DE2335444A1 (de) * 1972-07-14 1974-01-24 Sandoz Ag Neue uv-strahlen absorbierende verbindungen
EP0035969B1 (de) * 1980-03-07 1985-02-13 Ciba-Geigy Ag Zusammensetzung aus kationisch polymerisierbarem Material und einem Katalysator

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0113236A1 (de) * 1982-12-27 1984-07-11 Eli Lilly And Company Substituierte Imidazopyrimidine, -pyrazine und -triazine
WO1998013341A1 (en) * 1996-09-27 1998-04-02 Rhone-Poulenc Agriculture Ltd. Hydroxybenzophenone derivatives as herbicides

Also Published As

Publication number Publication date
FR2429201A1 (fr) 1980-01-18
NL7904770A (nl) 1979-12-28
US4324628A (en) 1982-04-13
ES481839A1 (es) 1980-07-01
IT1117247B (it) 1986-02-17
FR2429201B1 (de) 1984-05-11
GB2025991A (en) 1980-01-30
IT7949459A0 (it) 1979-06-19
GB2025991B (en) 1982-11-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2618871C3 (de) Verfahren zum Herstellen von Diphenyljodoniumsalzen
DE2722264C2 (de) Verwendung von substituierten Oxyalkylphenonen als Photosensibilisatoren
EP0217205B1 (de) Copolymerisierbare Fotoinitiatoren
EP0216884B1 (de) Fotoinitiatoren für die fotopolymerisation von ungesättigten systemen
DE3209706A1 (de) Dialkylthioxanthon-verbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung
DE2614860C3 (de) Durch Lichteinfluß härtbare flüssige Massen
DE3018891A1 (de) Thioxanthoncarbonsaeureester, -thioester und -amide
EP0192167A1 (de) Verwendung thiosubstituierter Ketone als Photoinitiatoren
DE2923602A1 (de) Verwendung von substituierten alkylarylsulfoxiden und phenylarylsulfoxiden als photoinitiatoren
DE1468337A1 (de) Verfahren zur Herstellung von Carbanilidverbindungen
EP0011786B1 (de) Photopolymerisierbares Gemisch
EP1140761B1 (de) Benzophenone und ihre verwendung als photoinitiatoren
EP0291878A2 (de) Photopolymerisierbare Aufzeichnungsmaterialien sowie Photoresistschichten und Flachdruckplatten auf Basis dieser Aufzeichnungsmaterialien
DE2317846C2 (de) Verfahren zur Härtung von säurehärtbaren Harzen mit Hilfe von Photokatalysatoren und 2,2,2-Trichlor-4&#39;-tertiär-butyl-acetophenon
DE19501025C2 (de) Polymerisationsfähige Fotoinitiatoren
EP0291879B1 (de) Photopolymerisierbare Aufzeichnungsmaterialien sowie Photoresistschichten und Flachdruckplatten auf Basis dieser Aufzeichnungsmaterialien sowie neue Chinazolon-4-Verbindungen
WO2010028844A1 (de) Lichthärtende zusammensetzungen
DE2109624B2 (de) Lichtempfindliches gemisch
DE1907403A1 (de) Neue asymmetrische Diaryloxalamide und deren Verwendung als Stabilisatoren und UV-absorber fuer Kunststoffe
EP0058909A1 (de) Durch Bestrahlung härtbare Polyorganosiloxanmasse und ihre Verwendung zur Bildung von Trennüberzügen
DE1793748C3 (de)
DE3000482A1 (de) Photohaertbare masse
DE1768669A1 (de) Neue Carbonsaeureamide,Verfahren zu deren Herstellung und deren Anwendung
CH666267A5 (en) Xanthone and thioxanthone cpds. prodn. from benzophenone cpds. - by reaction with metal sulphide, hydrosulphide or sulphur, useful as photoinitiator
CH643538A5 (en) Sulphoxides

Legal Events

Date Code Title Description
8110 Request for examination paragraph 44
8130 Withdrawal