DE2602419A1 - Photopolymerisierbare masse - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 30
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 22
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 claims description 19
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 8
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 claims description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 5
- ILDSTJYAYOHBEH-UHFFFAOYSA-N (4-methylphenyl)-phenylmethanethione Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C(=S)C1=CC=CC=C1 ILDSTJYAYOHBEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 claims description 4
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 4
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 3
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 claims description 3
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000000976 ink Substances 0.000 claims description 3
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 claims description 3
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 claims description 3
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 claims 1
- -1 aromatic disulfides Chemical class 0.000 description 11
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 5
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N methyl diethanolamine Chemical compound OCCN(C)CCO CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 4
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical compound CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- YNSNJGRCQCDRDM-UHFFFAOYSA-N 1-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2Cl YNSNJGRCQCDRDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical compound C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 2
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 229920003180 amino resin Polymers 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- ZBIAQUSSQDJCSS-UHFFFAOYSA-N bis(4-methylsulfanylphenyl)methanone Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(SC)C=C1 ZBIAQUSSQDJCSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000013877 carbamide Nutrition 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 2
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 2
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 230000003678 scratch resistant effect Effects 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UCBXWZQSJMIWQZ-UHFFFAOYSA-N (2,4-dimethylphenyl)-(2-methylsulfanylphenyl)methanone Chemical compound CSC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=C(C)C=C1C UCBXWZQSJMIWQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODKBLXXTGKPHME-UHFFFAOYSA-N (2-chlorophenyl)-(4-methylphenyl)methanethione Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C(=S)C1=CC=CC=C1Cl ODKBLXXTGKPHME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMLHMNYOFPEUEY-UHFFFAOYSA-N (2-fluorophenyl)-(4-methylphenyl)methanethione Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C(=S)C1=CC=CC=C1F VMLHMNYOFPEUEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZMQHPTVOWAMOL-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxy-5-methylphenyl)-(2-methylsulfanylphenyl)methanone Chemical compound CSC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC(C)=CC=C1O FZMQHPTVOWAMOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPIVVNAJOMHAOP-UHFFFAOYSA-N (2-methylphenyl)-(4-methylphenyl)methanethione Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C(=S)C1=CC=CC=C1C WPIVVNAJOMHAOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZENQBXBKZHQTL-UHFFFAOYSA-N (2-methylphenyl)-phenylmethanethione Chemical compound CC1=CC=CC=C1C(=S)C1=CC=CC=C1 GZENQBXBKZHQTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAQYXVABXCUGPA-UHFFFAOYSA-N (2-methylsulfanylphenyl)-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CSC1=CC=CC=C1C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C ZAQYXVABXCUGPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYZYDSINUXQRRQ-UHFFFAOYSA-N (4-methylphenyl)-naphthalen-2-ylmethanethione Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C(=S)C1=CC=C(C=CC=C2)C2=C1 RYZYDSINUXQRRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MOYDKAXTOCBGMS-UHFFFAOYSA-N (4-methylsulfanylphenyl)-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C MOYDKAXTOCBGMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGNHYOSRJXYRMI-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenylethanethione Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=S)CC1=CC=CC=C1 WGNHYOSRJXYRMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQLXSGCTOLBFAK-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enoyloxypentyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCC(OC(=O)C=C)OC(=O)C=C XQLXSGCTOLBFAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethoxy-1-phenylethanone Chemical compound CCOC(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCOC(=O)C=C QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCOC(=O)C=C JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- 238000005863 Friedel-Crafts acylation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N carbon carbon Chemical compound C.C CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000011111 cardboard Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- 229960002887 deanol Drugs 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012972 dimethylethanolamine Substances 0.000 description 1
- AFOSIXZFDONLBT-UHFFFAOYSA-N divinyl sulfone Chemical class C=CS(=O)(=O)C=C AFOSIXZFDONLBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- HNPDNOZNULJJDL-UHFFFAOYSA-N ethyl n-ethenylcarbamate Chemical class CCOC(=O)NC=C HNPDNOZNULJJDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 210000004905 finger nail Anatomy 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- IVJISJACKSSFGE-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound O=C.NC1=NC(N)=NC(N)=N1 IVJISJACKSSFGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 1
- 150000002605 large molecules Chemical class 0.000 description 1
- 239000000944 linseed oil Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- XMYQHJDBLRZMLW-UHFFFAOYSA-N methanolamine Chemical class NCO XMYQHJDBLRZMLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 1
- 239000011087 paperboard Substances 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N penta-1,4-dien-3-one Chemical class C=CC(=O)C=C UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002587 poly(1,3-butadiene) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 239000006120 scratch resistant coating Substances 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 125000000446 sulfanediyl group Chemical group *S* 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000005028 tinplate Substances 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
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Description
BASF Aktiengesellschaft 2R09A 1 Q
Unser Zeichen: O. Z. Jd δχϋ Dd/ah
67ΟΟ Ludwigshafen, -22.1.1976
Photopolymerisierbare Masse
Die Erfindung betrifft eine photopolymerisierbare Masse, die Photoinitiatoren enthält, sowie ihre Verwendung zur Herstellung
von Überzügen, UV-härtenden Druckfarben und Photopolymerdruckplatten.
Durch UV-Bestrahlung polymerisierbare Gemische von olefinisch ungesättigten
Verbindungen, üblichen Zusatzstoffen und Photoinitiatoren sind bekannt und finden, z.B. zur Herstellung von Überzügen
oder Photopolymerdruckplatten, in der Praxis Verwendung. In der Patentliteratur sind eine Vielzahl von Photoinitiatoren vorgeschlagen
und zum Teil auch schon praktisch eingesetzt worden, wie Azo-, Diazo- und Diazoniumverbindungen, «-Diketone und deren
Derivate, Acyloine und deren Derivate, aromatische Disulfide oder Halogen oder Schwefel enthaltende aromatische Carbonylverbindungen.
Die praktische Anwendbarkeit der vorgeschlagenen Photoinitiatoren wird jedoch durch eine Reihe von Nachteilen eingeschränkt.
So haben die meisten Initiatoren eine für viele Zwecke unzureichende Reaktivität, besonders dann, wenn die Photopolymerisation
in Gegenwart von Luftsauerstoff ausgeführt werden soll. Andere . nitiatoren sind in den polymerisierenden Verbindungen bei
Raumtemperatur nur äußerst schlecht löslich bzw. führen bei der Aushärtung der photopolymerisierbaren Masse zu deutlichen Vergilbungen,
was z.B. für die Herstellung von Überzügen recht nachteilig ist.
So ermöglicht zwar eine Kombination aus Chlorthioxanthon und
Methyldiäthanolamin nach der US-PS 3 759 807 oder eine Kombination
von Benzophenon und Michlers Keton nach der DT-OS 2 216 eine rasche UV-Härtung von Überzugsmassen, die ungesättigte
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photopolymerisierbare Verbindungen enthalten; die ausgehärteten Überzüge weisen jedoch deutliche Vergilbung auf. Darüber hinaus
ist Chlorthioxanthon in dem zu polymeriserenden Gemisch schlecht
löslich und mit Michlers Keton können dickere Schichten nicht ausreichend durchgehärtet werden. Photopolymerisierbare Massen,
welche eine aromatische Carbonylverbindung, wie Diäthoxyacetophenon (DT-OS 2 261 383) oder 2-Phenylthioacetophenon (US-PS
3 720 635) enthalten, neigen zwar nicht zur Vergilbung, ihre
Reaktivität ist aber verhältnismäßig gering, so daß sie für Anwendungszwecke, bei denen eine hohe Härtungsgeschwindigkeit unbedingt
erforderlich ist, kaum geeignet sind. Bei Verwendung von Benzoylderivaten des Diphenylsulfids nach der DT-OS 2 504 335
lassen sich zwar die genannten Nachteile größtenteils vermeiden, diese Verbindungen sind jedoch in technischem Maßstab nur schwierig
herzustellen.
Der Erfindung lag somit die Aufgabe zugrunde, Photoinitiatoren enthaltende photopolymerisierbare Massen bereitzustellen, die
sehr reaktiv sind und bei der UV-Bestrahlung nur wenig oder überhaupt nicht vergilben. Darüber hinaus sollen die Photoinitiatoren
durch einfache Synthesen leicht zugänglich sein und bei Raumtemperatur in den zu polymerisierenden Verbindungen gut löslich
sein.
Diese Aufgabe wird durch die Erfindung gelöst. Gegenstand der Erfindung ist demzufolge eine photopolymerisierbare Masse, die
olefinisch ungesättigte Verbindungen, 0,2 bis 20 Gewichtsprozent (bezogen auf die ungesättigten Verbindungen) Photoinitiatoren,
sowie gegebenenfalls übliche Zusatzstoffe enthält. Die Photoinitiatoren
sind eine Mischung aus einem Thioäther der allgemeinen Formel
S-A-R5
(D
ΐΓ-<
und einem organischen Amin. In der allgemeinen Formel haben die
-3-
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ο.ζ. 31 8io
Symbole folgende Bedeutung:
h.
R = Phenyl-, Naphthyl-, Thienyl-, Furyl- oder Styryl-Reste, die durch einen oder mehrere gleich- oder verschiedensartige Reste B? substituiert sein können,
R = Phenyl-, Naphthyl-, Thienyl-, Furyl- oder Styryl-Reste, die durch einen oder mehrere gleich- oder verschiedensartige Reste B? substituiert sein können,
R-* = Phenyl, Benzoyl, Halogen, C1-C5 15
C1-C5-S-AIlCyI, C2-C5-Alkoxyalkyl, C„-Ci;!.-Alkaryl oder
-Aralkyl, NO2, CN, COOH, COOR6, wobei RO einen C1-C5-AIlCyI-rest
darstellt,
A = Alkylengruppe C„HO mit η = 1-5, die gegebenenfalls durch
Il du u 5
einen oder mehrere Reste R oder R^ substituiert sein kann,
R , R ,Br = H, R oder Br, wobei R und R^ die oben angegebene
12 3
Bedeutung haben und R ,R und R gleich oder verschieden
sein können.
Als olefinisch ungesättigte Verbindungen kommen alle photopolymerisierbaren
organischen Verbindungen in Frage, die mindestens eine Kohlenstoff-Kohlenstoff-Mehrfachbindung enthalten, und zwar
sowohl niedermolekulare als auch hochmolekulare Verbindungen. Natürlich können auch Gemischeverschiedener ungesättigter Verbindungen
photopolymerisiert werden; zur Steuerung der Viskosität der photopolymerisierbaren Masse ist es zweckmäßig, eine
höher viskose hochmolekulare ungesättigte Verbindung mit einer oder mehreren niedermolekularen Verbindungen zu mischen.
Als niedermolekulare photopolymerisierbare Verbindungen sind z.B. geeignet:
Kohlenwasserstoffverbindungen, wie Olefine, Styrol oder Vinyltoluol;
Acrylverbindungen, wie Acrylsäure oder Methacrylsäure, deren Ester mit C1-C20-Alkanolen, Mono-, Di-, Tri- oder Tetra-Ester
mit C2-C20-Di-, Tri- oder Tetra-Alkanolen, Nitrile, Amide,
N-Methylolamide;
Vinylverbindungen, wie Vinylchlorid, Vinylidenchlorid, Vinylester,
Vinylketone, Vinyläther, Vinylsulfone, N-Vinylpyrrolidon
oder Ν,Ν'-Divinylharnstoffe.
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Als polymerisierbar höhermolekulare Verbindungen sind geeignet:
ungesättigte Polyester mit einem Molekulargewicht zwischen 500 und 5000, hergestellt aus o(-, ß-ungesättigten Dicarbonsäuren,
wie Maleinsäure, Fumarsäure oder Itaconsäure, gegebenenfalls gesättigten Dicarbonsäuren, wie Adipinsäure, Phthalsäure oder
Terephthalsäure, Alkandiolen, wie Äthylenglykol, Propylenglykol, Butandiol, Neopentylglykol oder oxalkyliertes Bisphenol A,
sowie gegebenenfalls höherwertige Alkohole oder Carbonsäuren; Epoxidacrylate mit einem Molekulargewicht zwischen 200 und 1500,
hergestellt durch Umsetzung von Acryl- oder Methacrylsäure mit aromatischen oder aliphatischen Diglycidyläthern, z.B. solchen
auf Basis von Bisphenol A, Butandiol, Pentaerythrit oder Neopentylglykol, oder mit epoxydierten Polybutadienen oder Leinsamenölen;
Urethanacrylate mit einem Molekulargewicht zwischen 200 und 4000, hergestellt durch Umsetzung von Hydroxyalkylacrylaten, wie
Hydroxyäthyl-(meth)-acrylat, Hydroxypropyl-CmetlO-acrylat oder
Butandiolmono-(meth)-aerylat mit Polyisocyanaten, vorzugsweise mit aliphatischen oder cycloaliphatischen Diisocyanaten, wie
Hexamethylendiisocyanat oder Isophorondiisocyanat, und gegebenenfalls
Polyolen, wie hydroxylgruppenhaltigen Polyacrylaten oder Polyestern;
Polyesteracrylate, hergestellt durch Umsetzung von hydroxylgruppenhaltigen
gesättigten Polyestern mit Acryl- oder Methacrylsäure;
ungesättigte Aminoplastharze, hergestellt durch Umsetzung von gegebenenfalls verätherten Aminoplasten, wie Melamin/Formaldehyd-
oder Harnstoff/Formaldehyd-Kondensationsprodukt en, mit Hydroxy ^
alkylacrylaten;
ferner Butadienpolymerisate, Vinylurethane und Diallylphthalat-Präpolymere.
Besonders bevorzugt sind Mischungen aus ungesättigten Polyestern, Epoxidecrylaten oder Urethanacrylaten mit niedermolekularen
Acrylestern.
Die photopolymerisierbare Masse enthält erfindungsgemäß 0,2 bis
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20, vorzugsweise 0,5 bis 10, Gewichtsprozent (bezogen auf die
ungesättigten Verbindungen) Photoinitiatoren. Die Photoinitiatoren sind eine Mischung aus einem Thioäther und einem organischen
Amin.
Die Thioäther haben die oben angegebene Formel. Sie lassen sich im allgemeinen durch Friedel-Crafts-Acylierung aus den entsprechenden
Komponenten herstellen. Diese Reaktionsweise ist z.B. beschrieben in G.A. Olah, "Friedel Crafts and Related Reactions",
Band I und III, Interscience, New York, 1963. Beispiele
für geeignete Thioäther sind: (4-Methylthio)-benzophenon
ß-(p-Methylthiobenzoyl)-naphthalin p<- (p-Methylthiobenzoyl)-naphthalin 2-(p-Methylthiobenzoyl)-thiophen J5-(p-Methylthiobenzoyl)-thiophen 2-(p-Methylthiobenzoyl)-furan 2-(p-Methylthiobenzoyl)-furan 2-Methyl-(4f-methylthio)-benzophenon 2,4-Dimethyl-(4'-methylthio)-benzophenon 2,4,6-Trimethyl-(4'-methylthio)-benzophenon 4-Methoxy-(41-methylthio)-benzophenon 4,4'-Bis-(methylthio)-benzophenon 2,4'-Bis-(methylthio)-benzophenon 2-Phenyl-(4'-methylthio)-benzophenon 2-Chlor-(4f-methylthio)-benzophenon 2-Fluor-(41-methylthio)-benzophenon 2-Brom-(4'-methylthio)-benzophenon 2-Jod-(4'-methylthio)-benzophenon 2,4-Dichlor-(4'-methylthio)-benzophenon 4-Trifluormethyl-(4'-methylthio)-benzophenon 2-Trifluormethyl-(4'-methylthio)-benzophenon 4-Trichlormethyl-(4*-methylthio)-benzophenon 2-Trichlormethyl-(4'-methylthio)-benzophenon 2-Chlor-4-nitro-(4f-methylthio)-benzophenon 3-Nitro-(4'-methylthio)-benzophenon 2—Benzyl-(4'-methylthio)-benzophenon
ß-(p-Methylthiobenzoyl)-naphthalin p<- (p-Methylthiobenzoyl)-naphthalin 2-(p-Methylthiobenzoyl)-thiophen J5-(p-Methylthiobenzoyl)-thiophen 2-(p-Methylthiobenzoyl)-furan 2-(p-Methylthiobenzoyl)-furan 2-Methyl-(4f-methylthio)-benzophenon 2,4-Dimethyl-(4'-methylthio)-benzophenon 2,4,6-Trimethyl-(4'-methylthio)-benzophenon 4-Methoxy-(41-methylthio)-benzophenon 4,4'-Bis-(methylthio)-benzophenon 2,4'-Bis-(methylthio)-benzophenon 2-Phenyl-(4'-methylthio)-benzophenon 2-Chlor-(4f-methylthio)-benzophenon 2-Fluor-(41-methylthio)-benzophenon 2-Brom-(4'-methylthio)-benzophenon 2-Jod-(4'-methylthio)-benzophenon 2,4-Dichlor-(4'-methylthio)-benzophenon 4-Trifluormethyl-(4'-methylthio)-benzophenon 2-Trifluormethyl-(4'-methylthio)-benzophenon 4-Trichlormethyl-(4*-methylthio)-benzophenon 2-Trichlormethyl-(4'-methylthio)-benzophenon 2-Chlor-4-nitro-(4f-methylthio)-benzophenon 3-Nitro-(4'-methylthio)-benzophenon 2—Benzyl-(4'-methylthio)-benzophenon
-6-709830/0951
2-Carboxy-(4'-methylthio)-benzophenon
2-Carbomethoxy-(41-methylthio)-benzophenon
4-Cyano-(4*-methylthio)-benzophenon
3-Methyl-(4-methylthio)-benzophenon
2-Methyl-(4-methylthio)-benzophenon
2-Methyl-(41-äthy1thio)-benzophenon
2-Methyl-(41-benzylthio)-benzophenon
2,4-Dimethyl- (4* -c<-phenäthyl thio)-benzophenon
2-Chlor-(41-ß-phenäthylthio)-benzophenon
4-Methyl-(4'-ß-äthoxyäthylthio)-benzophenon
2,4-Dichlor-2',6'-dimethyl-(41-chlormethylthio)-benzophenon.
Besonders bevorzugt sind: 2-Methyl-(4'-methylthio)—benzophenon,
2,4-Dimethyl-(4'-methylthio)-benzophenon,4,4'-Bis-(methylthio)-benzophenon,
(4-Methylthio)-benzophenon und 2-Fluor-(4'-methylthio)
-benzophenon.
Die organischen Amine wirken als Aktivatoren für die Photoinitiatoren
bei der Polymerisation. Geeignet sind alle primären, sekundären oder tertiären Amine; sie können aliphatisch, aromatisch
oder heterocyclisch sein. Geeignet sind Amine der allgemeinen Formel
T3Il t
η . t
N-C-H ,
in welcher R1, R", R"' und R1"' beliebige organische Reste darstellen.
Eine ausfUhrlicbe Aufzählung geeigneter Amine findet
sich in der US-PS 3 759 807. Bevorzugt sind tertiäre Amine, und zwar insbesondere solche, die Hydroxylgruppen tragen. Besonders
gut geeignet sind z.B. Morpholin, Diäthanolamin, Triäthanolamin,
Methyldiäthanolamin und Dimethyläthanolamin.
Außer den polymerisierbaren Verbindungen und den Photoinitiatoren können die photopolymerisierbaren Massen noch die üblichen Zusatzstoffe
in üblichen Mengen enthalten, wie anorganische oder organische Pigmente oder Farbstoffe, anorganische oder organische
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Füllstoffe, Polymerisationsinhibitoren, wie Hydrochinon oder tert.-Buty!hydrochinon, hautverhindernde Stoffe, wie Paraffin,
Verlaufshilfsmittel, wie Silikonöl, Mattierungs- oder Gleitmittel, wie Wachse, organische Lösungsmittel, wie Alkohole, Kohlenwasserstoffe
oder Ketone.
Zum Auslösen der Photopolymerisation dient Licht einer Wellenlänge
von 23OO bis 45OO R, insbesondere solches mit Emissionsmaxima
zwischen J5000 und 4100 i?. Als Strahlungsquellen sind Quecksilberdampflampen
oder superaktinische Leuchtstoffröhren geeignet.
Die erfindungsgemäßen Massen eignen sich zum Herstellen von Überzügen,
insbesondere solchen mit Schichtdicken von 8 bis 200/um
auf beliebigen Substraten, wie Metall, Holz, Kunststoff, Papier oder Pappe. Die Überzüge können als Schutzschichten oder zu
Dekorationszwecken dienen.
Ferner sind sie für UV-härtende Druckfarben und Druckpasten zum
Bedrucken von Blech, Papier oder Kunststoff-Folien in Schichtdicken von 0,5 bis 5/um geeignet. Schließlich eignen sie sich auch zur
Herstellung von Photopolymerdruckplatten für die Informationsfixierung, insbesondere von Reliefdruokplatten oder für Photoresists.
Die in den Beispielen genannten Teile und Prozente beziehen sich auf das Gewicht.
Eine klare Überzugsmasse wurde hergestellt aus einer Mischung olefinisch ungesättigter Ester. Diese Mischung bestand aus 65 %
eines Reaktionsproduktes von Bisphenol A-Diglycidyläther und
Acrylsäure, sowie 35 % Butandioldiacrylat. Dieser Mischung wurden
jeweils J> % verschiedener Photoinitiatoren, sowie 3 # Methyldiäthanolamin
zugesetzt:
a) Benzophenon
b) 2-MethyltLIuxanthon (wegen schlechter Löslichkeit nur 1 %)
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CZ. Jl SlO
M 2802419
c) 2-Methylthiobenzophenon
d) 2-Methylthio-2f,5'-dimethylbenzophenon
e) 2-Methylthio-2',4'-dimethylbenzophenon
f) 2-Methylthio-2',4',6'-trimethylbenzophenon
g) 2-Methylthio-2'-hydroxy-5'-methylbenzophenon
h) 4-Methylthio-benzophenon
i) 2~Methyl-4'-methylthiobenzophenon
k) 4,4'-Bis-(methylthio)-benzophenon,
1) 4-Methylthio-2', 4', 6'-trlmethyl-benzophenon
m) 2-Chlor-4'-Methylthiobenzophenon
n) 2-Fluor-4'-Methylthiobenzophenon
Die Versuche h bis η sind erfindungsgemäß.
Die Klarlacke wurden in einer Schicht von 50 /um auf entfettete
Glasplatten aufgerakelt und mit einer Quecksilber-Hochdrucklampe (Leistung 80 Watt/cm Bogenlänge) bestrahlt. Der Abstand zwischen
Lampe und Lackfilm betrug jeweils 10 cm. Die Bestrahlungszeit wurde durch ein kontinuierlich regelbares Transportband, auf dem
die lackierten Glasplatten unter der UV-Lampe hindurchgeführt wurden, eingestellt. Zur Charakterisierung der Aushärtung wurde
die Transportbandgeschwindigkeit (in m/min) bestimmt, bei der gerade noch ein kratzfester Überzug erhalten wurde. Kratzfeste
Aushärtung bedeutet, daß durch kräftiges Reiben mit dem Fingernagel keine Unterbrechung der Pilmoberflache zu erreichen ist.
Ergebnisse: Tabelle
Versuch Transportbandgeschwindigkeit Vergilbung (m/min)
a 16
b 53 deutlich
c 11 keine
d ' 11 keine
e 11 keine
f 11 keine
g 11 keine
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O.Z. J)I 810
Versuch Transportbandgeschwindigkeit Vergilbung (m/min)
h 53 geringfügig
i 53 keine
k 38 geringfügig
1 30 geringfügig
m 30
η 38 "
60 Teile eines Umsetzungsproduktes aus 2 Mol Hydroxypropylacrylat
und 1 Mol Isophorondiisocyanat wurde in 40 Teilen Pentandioldiacrylat
gelöst. In dieser Mischung wurden 30 Teile Titandioxid
innerhalb von 4 Stunden dispergiert. In 100 g dieses Weißlackes wurden 3 g Methyldiäthanolamin und 3 g 2-Methyl-(V-methylthio)-benzophenon
gelöst. Der Lack wurde in 15/Um Schichtdicke auf ein entfettetes Weißblech aufgeräkelt und wie in Beispiel 1 ausgehärtet.
Bei einer Transportbandgeschwindigkeit von l6 m/min ergab sich ein kratzfester, nicht vergilbter Überzug.
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Claims (1)
- Patentansprüche1, Photopolymerisierbare Masse, enthaltend olefinisch ungesättigte Verbindungen, 0,2 bis 20 Gewichtsprozent (bezogen auf die ungesättigten Verbindungen) Photoinitiatoren sowie gegebenenfalls übliche Zusatzstoffe, dadurch gekennzeichnet, daß die Photoinitiatoren eine Mischung sind aus:A. einem Thioäther der allgemeinen Formel(D,in der die Symbole folgende Bedeutung haben:κ
R = Phenyl-, Naphthyl-, Thienyl-, Puryl- oder Styryl-Reste,die durch einen oder mehrere gleich- oder verschiedenartige Reste R^ substituiert sein können, r5 = Phenyl, Benzoyl, Halogen, C1-C5-AIlCyI, C1-C5-0~Alkyl C1-C5-S-AIkYl, C2-C5-Alkoxyalkyl, C -C-^-Alkaryl oder -Aralkyl, NO2, CN, COOH, COOR6, wobei R° einen C1-C5-Alkylrest darstellt,A = Alkylengruppe C H0 mit η = 1-5, die gegebenenfalls durch£.n κ ceinen oder mehrere Reste R oder R^ substituiert sein kann,R1, R2 und Ε? ~ H, R oder R^, wobei R und R^ die oben ange-12 "5gebene Bedeutung haben und R , R und B. gleich oder verschieden sein können,
und
B. einem organischen Amin.2. Photopolymerisierbare Masse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die olefinisch ungesättigtenVerbindungen niedermolekulare Styrol-, Acryl- oder Vinylverbindungen sind.-U-709830/09510R/G'NAL Iο. ζ. 31J5. Photopolymerisierbare Masse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die olefinisch ungesättigten Verbindungen ungesättigte Polyester, Epoxidacrylate oder Urethanacrylate sind.4. Photopolymerisierbare Masse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die olefinisch ungesättigten Verbindungen ein Gemisch aus den niedermolekularen Verbindungen nach Anspruch und den höhermolekularen Verbindungen nach Anspruch 3 sind.5. Photopolymerisierbare Masse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als organische Thioäther folgende Verbindungen eingesetzt werden: 2-Methyl-(4!-methylthio)-benzophenon, 2,4-Dimethyl-(4'-methylthio)-benzophenon, 4,4'-Bis-(methylthio) ■ benzophenon, (4-Methylthio)-benzophenon, 2-Fluor-(4'-methylthio) -benzophenon.6. Photopolymerisierbare Masse'8 nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Amine solche der allgemeinen FormelN-C-Hχι. Rl!tteingesetzt werden, wobei Rf, R", R"1 und R"" beliebige organische Reste darstellen.7. Photopolymerisierbare Masse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß als Amine tertiäre Amine, insbesondere Hydroxylgruppen tragende tertiäre Amine eingesetzt werden.8. Photopolymerisierbare Masse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Gewichtsverhältnis der Photoinitiator-Komponente A:B zwischen 90:10 und 10:90 liegt.9. Verwendung der photopolymerisierbaren Masse nach Anspruch 1 zur Herstellung von Überzügen,-12-709830/0951JR= CZ. Ji ".IC10. Verwendung der photopolymerisierbaren Masse nach Anspruch zur Herstellung von Photopolymerdruekplatten.11. Verwendung der photopolymerisierbaren Masse nach Anspruch zur Herstellung von UV-härtenden Druckfarben.BASF Aktiengesellschaft709830/0951
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19762602419 DE2602419A1 (de) | 1976-01-23 | 1976-01-23 | Photopolymerisierbare masse |
IT30903/76A IT1067967B (it) | 1976-01-23 | 1976-12-27 | Composizione fotopolimerizzabile |
US05/757,382 US4054682A (en) | 1976-01-23 | 1977-01-06 | Photopolymerizable composition containing a thioether sensitizer |
BE174191A BE850519A (fr) | 1976-01-23 | 1977-01-19 | Matiere photopolymerisable |
FR7701579A FR2338952A1 (fr) | 1976-01-23 | 1977-01-20 | Matiere photopolymerisable |
NL7700579A NL7700579A (nl) | 1976-01-23 | 1977-01-20 | Fotopolymeriseerbare massa. |
GB2482/77A GB1566953A (en) | 1976-01-23 | 1977-01-21 | Photopolymerizable composition |
JP598077A JPS52104592A (en) | 1976-01-23 | 1977-01-24 | Photopolymerizable material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19762602419 DE2602419A1 (de) | 1976-01-23 | 1976-01-23 | Photopolymerisierbare masse |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2602419A1 true DE2602419A1 (de) | 1977-07-28 |
Family
ID=5968057
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19762602419 Withdrawn DE2602419A1 (de) | 1976-01-23 | 1976-01-23 | Photopolymerisierbare masse |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4054682A (de) |
JP (1) | JPS52104592A (de) |
BE (1) | BE850519A (de) |
DE (1) | DE2602419A1 (de) |
FR (1) | FR2338952A1 (de) |
GB (1) | GB1566953A (de) |
IT (1) | IT1067967B (de) |
NL (1) | NL7700579A (de) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0005530A1 (de) * | 1978-05-23 | 1979-11-28 | Ciba-Geigy Ag | Neue Mercaptophenylketone und deren Verwendung als Initiatoren für die Photopolymerisation äthylenisch ungesättigter Verbindungen |
CN113056529A (zh) * | 2018-11-26 | 2021-06-29 | 爱克发-格法特公司 | 用于制造印刷电路板的可辐射固化的喷墨油墨 |
Families Citing this family (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54130633A (en) * | 1978-04-01 | 1979-10-11 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | Ultraviolet-curing coating composition |
US4199420A (en) * | 1978-04-06 | 1980-04-22 | Stauffer Chemical Company | Alkoxymethylbenzophenones as photoinitiators for photopolymerizable compositions and process based thereon |
DE2923602A1 (de) * | 1978-06-23 | 1980-01-10 | Sandoz Ag | Verwendung von substituierten alkylarylsulfoxiden und phenylarylsulfoxiden als photoinitiatoren |
DE3167493D1 (en) * | 1980-11-05 | 1985-01-10 | Akzo Nv | Photopolymerizable composition, photoinitiator mixture and curing process |
JPS6049038A (ja) * | 1983-08-29 | 1985-03-18 | Toyobo Co Ltd | ナイロンレンズ表面硬化剤 |
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DE3824903A1 (de) * | 1988-07-22 | 1990-02-01 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
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JPH0497152A (ja) * | 1990-08-09 | 1992-03-30 | Kansai Paint Co Ltd | 光重合性組成物からパターンを形成する方法 |
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US7297306B2 (en) * | 2002-04-26 | 2007-11-20 | Albemarle Corporation | Class of amine coinitiators in photoinitiated polymerizations |
US7157535B2 (en) * | 2002-06-19 | 2007-01-02 | National Starch And Chemical Investment Holding Corporation | Polymeric photoinitiators |
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Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL6905795A (de) * | 1968-04-16 | 1969-10-20 | ||
DE2155000A1 (de) * | 1971-11-05 | 1973-05-10 | Bayer Ag | Thiomethylierte benzophenone |
US3827959A (en) * | 1973-01-12 | 1974-08-06 | Scm Corp | Process for photopolymerization with carbonylated phenyl nuclear sulfonyl chloride sensitizer |
-
1976
- 1976-01-23 DE DE19762602419 patent/DE2602419A1/de not_active Withdrawn
- 1976-12-27 IT IT30903/76A patent/IT1067967B/it active
-
1977
- 1977-01-06 US US05/757,382 patent/US4054682A/en not_active Expired - Lifetime
- 1977-01-19 BE BE174191A patent/BE850519A/xx not_active IP Right Cessation
- 1977-01-20 NL NL7700579A patent/NL7700579A/xx not_active Application Discontinuation
- 1977-01-20 FR FR7701579A patent/FR2338952A1/fr active Granted
- 1977-01-21 GB GB2482/77A patent/GB1566953A/en not_active Expired
- 1977-01-24 JP JP598077A patent/JPS52104592A/ja active Pending
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
BE850519A (fr) | 1977-07-19 |
US4054682A (en) | 1977-10-18 |
NL7700579A (nl) | 1977-07-26 |
FR2338952A1 (fr) | 1977-08-19 |
FR2338952B3 (de) | 1979-09-21 |
GB1566953A (en) | 1980-05-08 |
IT1067967B (it) | 1985-03-21 |
JPS52104592A (en) | 1977-09-02 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8141 | Disposal/no request for examination |