TWI512356B - 液晶顯示器等製程中對玻璃基板面做高精度調溫的調溫裝置 - Google Patents

液晶顯示器等製程中對玻璃基板面做高精度調溫的調溫裝置 Download PDF

Info

Publication number
TWI512356B
TWI512356B TW101129071A TW101129071A TWI512356B TW I512356 B TWI512356 B TW I512356B TW 101129071 A TW101129071 A TW 101129071A TW 101129071 A TW101129071 A TW 101129071A TW I512356 B TWI512356 B TW I512356B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
glass substrate
temperature
wind
tempering
regulating device
Prior art date
Application number
TW101129071A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201307946A (zh
Inventor
Keiichi Kamimura
Original Assignee
Kamimura Kougyo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kamimura Kougyo Co Ltd filed Critical Kamimura Kougyo Co Ltd
Publication of TW201307946A publication Critical patent/TW201307946A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI512356B publication Critical patent/TWI512356B/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • G03F7/70866Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece
    • G03F7/70875Temperature, e.g. temperature control of masks or workpieces via control of stage temperature

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Atmospheric Sciences (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Details Of Rigid Or Semi-Rigid Containers (AREA)

Description

液晶顯示器等製程中對玻璃基板面做高精度調溫的調 溫裝置
本發明係關於一種液晶顯示器等製程中,對玻璃基板面做高速且高精度調溫的調溫裝置。
感光膜於玻璃基板面呈現成膜狀態時,若將感光膜乾燥會使得玻璃基板溫度高昇,此時必須再將其冷卻至適合曝光製程的溫度攝氏23度,因而造成不必要的手續浪費。而在過去被提出的專利文獻1日本專利文獻第3701007號公報中,揭露使用多個噴嘴向已成膜之玻璃基板面垂直吹送調溫風來對玻璃基板面進行調溫的技術內容。
然而經由噴嘴垂直吹送調溫風的狀態如圖4中清楚所示,由於調溫風在碰觸玻璃基板面時,會停留在反彈接觸點上,因此不僅花費多餘的調溫時間,同時帶溫度的反彈風與吹送風將相互抵抗,在與調溫風混合的情況下,將導致玻璃基板面的調溫欠缺精準效果,雖然在前述的專利文獻中提到其具有攝氏23度±0.1度的精準度,但是在實際應用上卻存在比這精準度更低的問題。
為達上述目的,本發明之調溫裝置係具有能覆蓋大小尺寸玻璃基板面其全體範圍之大小的一調溫風循環槽,且循環槽下方部分的中間處,橫跨設置有複數個裝設將調溫 風回收送入之回收口的平角筒體。在玻璃基板面被輸送至循環槽的下方附近時,藉由循環槽內部的調溫風從該等平角筒體之間的間隙做的吹送調溫及調溫風流入至回收口周圍前與玻璃基板面接觸的接觸調溫,更進一步將熱交換後的帶熱風經由回收口回收,避免與循環槽內的調溫風混合,從而能防止回流風的亂流現象、消除調溫風的抵抗、節約能源以及達到設定溫度為攝氏23度±0.05度範圍內高精度的調溫,解決習知技術所遇到的問題。
本發明透過簡單的裝置構成,除了能有效率地對玻璃基板面吹送溫度在攝氏23度±0.05度此高精度範圍內的調溫風外,與習知技術相較也具有能在更短的時間內對玻璃基板面進行高精準度調溫的效果。
另外,將平角筒體以狹窄的間隔並列設置,同時在其下方的中間處設置回收口,藉由對玻璃基板面的吹送調溫及接觸調溫,具有能高速調溫的效果。
再者,透過消除吹送之調溫風的反彈現象及防止帶熱的風混入調溫風,能達到高精準度的調溫效果。
更進一步,在高速的調溫下同時能加快輸送帶的間歇運輸速度,提高生產作業的效益。
本發明係為液晶顯示器製程裡,大小玻璃基板面在成膜、曝光及蝕刻之順序過程中,成膜與曝光步驟之間玻璃基板面的調溫裝置,其構成係如下說明具有高速且高精度 調溫的功效組成。
此構成特徵在於,調溫裝置形設有能覆蓋所有大小玻璃基板面之容量的一調溫風循環槽,且循環槽下方部分橫跨設置有複數個彼此相隔狹窄間隙的平角筒體。在成膜後之玻璃基板面被輸送至循環槽的下方附近時,將循環槽內部的調溫風往下壓送,使其由該等平角筒體之間的間隙往玻璃基板面吹送,藉由此玻璃基板面的吹送調溫和調溫風回流至回收口前與玻璃基板面接觸的接觸調溫,對玻璃基板面做高速的調溫,同時將調溫後的帶熱風由回收口回收,避免與循環槽內的調溫風混合,達到設定溫度為攝氏23度±0.05度範圍內高精度的調溫。
實施例一
圖1至圖3係為實施例一的示意圖,在無塵室中間歇運行的輸送帶11依序設置成膜乾燥室12、調溫裝置13以及曝光室14,首先於輸送帶11上放置玻璃基板G,在玻璃基板G被運送至成膜乾燥室12下方,進入成膜乾燥室12後於其表面上滴落感光液,然後對玻璃基板G施以轉動的離心力使感光液能呈現全體均一的厚度,再將其加熱乾燥完成預設的成膜步驟,接著在玻璃基板G被運送至調溫裝置13下方,進入調溫裝置13後再將溫度高昇的玻璃基板G調溫至適合曝光的攝氏23度。
在循環槽15內部的側面設置有供調溫用之調溫風循環的循環風路16,在循環風路16的上方部分裝設有面向循環槽15內部,用以將調溫風調溫並供給的冷卻空調器C /C,在循環槽15內部的上方則設有加熱空調器H/C,同時在加熱空調器H/C的下方設置有將調溫風往下方吹送的風扇17。元件符號18則為控制加熱空調器H/C的溫度感測器。
而在循環槽15內的底面,並列設置有彼此相隔狹窄間隔19的複數個長條狀平角筒體20。各個平角筒體20的下方長軸方向的中間處設置有回收口21,自回收口21回流之調溫後的帶熱風在通過平角筒體20內部後,將由長軸方向的兩端回到循環風路16內進行循環。
接著,成膜後的玻璃基板G被輸送帶11運送至調溫裝置13的下方附近時,透過風扇17將循環槽內部23度的調溫風往下朝平角筒體20之間狹窄的間隙19對玻璃基板G表面做的吹送調溫,以及調溫風回流至回收口21前與玻璃基板G持續面接觸的接觸調溫,對玻璃基板G做高速的調溫。
更進一步,由於習知技術中調溫後之帶熱風將全數被回收口21所回收,因此將不再出現反彈現象,同時帶熱風亦不會與循環槽15內的調溫風混合,因而能達到溫度在攝氏23度±0.05度範圍內的高精度調溫效果。
在此構成下被高速且高精準度調溫後的玻璃基板G隨即被送入曝光室14進行後續的曝光製程。
本發明透過將感光膜成膜後的玻璃基板面高速且高精準度地調溫至適合曝光的溫度,從而能被廣泛地利用。
11‧‧‧輸送帶
12‧‧‧成膜乾燥室
13‧‧‧調溫裝置
14‧‧‧曝光室
15‧‧‧循環槽
16‧‧‧循環風路
17‧‧‧風扇
18‧‧‧溫度感測器
19‧‧‧間隙
20‧‧‧平角圓筒體
21‧‧‧回收口
C/C‧‧‧冷卻空調器
G‧‧‧玻璃基板
H/C‧‧‧加熱空調器
圖1為製造流程的部分示意圖;圖2為調溫裝置其重要部位的部分放大縱向剖面圖;圖3為圖2的橫向剖面圖;以及圖4為習知例中自噴嘴吹送之調溫風於玻璃基板反彈之狀態說明圖。
11‧‧‧輸送帶
13‧‧‧調溫裝置
15‧‧‧循環槽
16‧‧‧循環風路
17‧‧‧風扇
18‧‧‧溫度感測器
19‧‧‧間隙
20‧‧‧平角筒體
21‧‧‧回收口
C/C‧‧‧冷卻空調器
G‧‧‧玻璃基板
H/C‧‧‧加熱空調器

Claims (1)

  1. 一種在液晶顯示器等製程中對玻璃基板面做高精度調溫的調溫裝置,其係為該玻璃基板面在成膜、曝光及蝕刻順序下的製程中,成膜與曝光步驟之間該玻璃基板面的調溫裝置,該調溫裝置包含:一調溫風循環槽,其係具有能覆蓋大小尺寸玻璃基板面其全體範圍的大小;以及複數平角筒體,該等平角筒體之間係相隔一間隙,且該等平角筒體係並列設置於該循環槽內的下方部分以吹送調溫風;其中,各該平角筒體的中間處設有一回收口,在該玻璃基板面輸送至各該平角筒體的下方附近時,對來自該等平角筒體之間的間隙的調溫風進行吹送,並在該調溫風回流至該回收口前對該玻璃基板面進行接觸調溫,藉此避免熱交換後產生的帶熱風抵抗該調溫風並與該調溫風混合,以對該玻璃基板面做攝氏23度±0.05度範圍內高精度的調溫。
TW101129071A 2011-08-12 2012-08-10 液晶顯示器等製程中對玻璃基板面做高精度調溫的調溫裝置 TWI512356B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011177045A JP5465701B2 (ja) 2011-08-12 2011-08-12 液晶ディスプレイ等の製造工程におけるガラス基盤面の急速且つ高精度調温装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201307946A TW201307946A (zh) 2013-02-16
TWI512356B true TWI512356B (zh) 2015-12-11

Family

ID=47764344

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW101129071A TWI512356B (zh) 2011-08-12 2012-08-10 液晶顯示器等製程中對玻璃基板面做高精度調溫的調溫裝置

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP5465701B2 (zh)
KR (1) KR101454964B1 (zh)
CN (1) CN102955374B (zh)
TW (1) TWI512356B (zh)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107885045A (zh) * 2017-11-22 2018-04-06 四川云盾光电科技有限公司 一种负性光刻胶刻蚀装置
CN112882352A (zh) * 2021-01-28 2021-06-01 江苏特纳马智能制造有限公司 一种曝光机玻璃基板表面温度稳定设备

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001085323A (ja) * 1994-10-05 2001-03-30 Tokyo Electron Ltd 熱処理方法及び熱処理装置
JP2002072492A (ja) * 2000-08-31 2002-03-12 Asahi Kogyosha Co Ltd 板状のワークの温度制御方法及びその装置

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0513294A (ja) * 1991-07-04 1993-01-22 Hitachi Ltd 半導体ウエハ冷却方法および装置
CN100521131C (zh) * 2004-03-30 2009-07-29 株式会社田村制作所 加热装置及回流焊装置
JP2008016543A (ja) * 2006-07-04 2008-01-24 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
JP2010223499A (ja) * 2009-03-24 2010-10-07 Ngk Insulators Ltd 基板冷却装置
JP5290063B2 (ja) * 2009-06-17 2013-09-18 株式会社日立ハイテクノロジーズ プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板温度制御方法、及び表示用パネル基板の製造方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001085323A (ja) * 1994-10-05 2001-03-30 Tokyo Electron Ltd 熱処理方法及び熱処理装置
JP2002072492A (ja) * 2000-08-31 2002-03-12 Asahi Kogyosha Co Ltd 板状のワークの温度制御方法及びその装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR20130018396A (ko) 2013-02-21
CN102955374B (zh) 2014-12-03
JP5465701B2 (ja) 2014-04-09
KR101454964B1 (ko) 2014-10-27
CN102955374A (zh) 2013-03-06
JP2013041053A (ja) 2013-02-28
TW201307946A (zh) 2013-02-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10792844B2 (en) Airflow control apparatus and method for manufacturing stretched film
JP7141828B2 (ja) 温度調節されるべき非無端表面の均一な非接触温度調節方法およびその装置
JP5782058B2 (ja) ガラスシートの製造方法、ガラスシート製造装置、及びガラス積層体
US9890998B2 (en) Substrate heating apparatus
WO2015196862A1 (zh) 玻璃退火窑强制对流区的等温降速度冷却方法及其装置
TWI512356B (zh) 液晶顯示器等製程中對玻璃基板面做高精度調溫的調溫裝置
CN112759241B (zh) 一种玻璃应力控制方法
JP2016016526A (ja) フィルム延伸装置、及びフィルム延伸方法
KR20110139663A (ko) 열처리 장치 및 열처리 방법
JP2016028005A (ja) ガラスシートの製造方法、ガラスシート製造装置、及びガラス積層体
US11149991B2 (en) Heating and cooling apparatus having moisture removal function for testing electrical characteristic of semiconductor element using probe system
WO2019116534A1 (ja) フィルム製造装置
JP2011064423A (ja) 熱処理装置
KR20080005833A (ko) 열처리 장치
TW201446469A (zh) 拉幅機烘箱及熱塑性樹脂薄膜之製造方法
JP6295760B2 (ja) テンターオーブンおよび熱可塑性樹脂フィルムの製造方法
CN102386063A (zh) 基板冷却装置
KR102141630B1 (ko) 필름 건조 장치 및 이를 포함하는 필름 제조 시스템
TW201616067A (zh) 基板快速均溫裝置
TWI499015B (zh) 降溫裝置及其操作方法
JP2010223499A (ja) 基板冷却装置
JP6587844B2 (ja) ディスプレイ用ガラス板の製造方法、および、ディスプレイ用ガラス板製造装置
JP5477524B2 (ja) 乾燥方法及び装置
JP2017065982A (ja) ディスプレイ用ガラス基板の製造方法、およびディスプレイ用ガラス板製造装置
JP2005271366A (ja) セラミックグリーンシートの乾燥方法及び乾燥装置