KR20130018396A - 액정 디스플레이 등의 제조공정에 있어서의 유리 기반면의 급속 및 고정밀도 온도조절장치 - Google Patents
액정 디스플레이 등의 제조공정에 있어서의 유리 기반면의 급속 및 고정밀도 온도조절장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20130018396A KR20130018396A KR1020120079551A KR20120079551A KR20130018396A KR 20130018396 A KR20130018396 A KR 20130018396A KR 1020120079551 A KR1020120079551 A KR 1020120079551A KR 20120079551 A KR20120079551 A KR 20120079551A KR 20130018396 A KR20130018396 A KR 20130018396A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- temperature control
- glass base
- temperature
- wind
- base surface
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70866—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece
- G03F7/70875—Temperature, e.g. temperature control of masks or workpieces via control of stage temperature
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Details Of Rigid Or Semi-Rigid Containers (AREA)
Abstract
[과제] 본 발명은, 액정 디스플레이 등의 제조공정에 있어서의 유리 기반면을 급속히 또 고정밀도로 온도조절하는 온도조절장치를 신규로 제공하는 것이다.
[해결수단] 본 발명은 유리 기반면에 성막과 노광과 에칭을 차례로 행하는 흐름 공정에서, 성막과 노광 사이에 설치하는 유리 기반면의 온도조절장치에 있어서, 대소의 유리 기반면 모두를 커버하는 크기로 된 온도조절풍 순환탱크와, 이 탱크의 하부에 평평한 통체 형상이며 그 하면의 중간에 대열된 온도조절풍을 되돌려 넣는 회수구를 형성한 복수 개의 평각통체를 횡단 설치하여, 이 탱크 아래의 근처로 주행해 들어온 유리 기반면에 이 탱크 내의 온도조절풍을 각 평각통체 사이의 좁은 간격으로부터 분사함에 따른 분사 온도조절과 이 회수구에 돌아서 유입할 때까지 유리 기반면에 접면하는 접면 온도조절로 유리 기반면을 급속히 또 고정밀도로 온도조절하도록 한 온도조절장치에 있다.
[해결수단] 본 발명은 유리 기반면에 성막과 노광과 에칭을 차례로 행하는 흐름 공정에서, 성막과 노광 사이에 설치하는 유리 기반면의 온도조절장치에 있어서, 대소의 유리 기반면 모두를 커버하는 크기로 된 온도조절풍 순환탱크와, 이 탱크의 하부에 평평한 통체 형상이며 그 하면의 중간에 대열된 온도조절풍을 되돌려 넣는 회수구를 형성한 복수 개의 평각통체를 횡단 설치하여, 이 탱크 아래의 근처로 주행해 들어온 유리 기반면에 이 탱크 내의 온도조절풍을 각 평각통체 사이의 좁은 간격으로부터 분사함에 따른 분사 온도조절과 이 회수구에 돌아서 유입할 때까지 유리 기반면에 접면하는 접면 온도조절로 유리 기반면을 급속히 또 고정밀도로 온도조절하도록 한 온도조절장치에 있다.
Description
본 발명은 액정 디스플레이 등의 제조공정에 있어서의 유리 기반면(基盤面)의 급속 및 고정밀도 온도조절장치에 관한 것이다.
유리 기반면에 감광막을 성막하여, 이것을 건조하면 유리 기반이 고온이 되어, 노광에 적합한 23℃로 냉각할 필요가 있다. 앞서 제안되어 있는 일본 특허 제3701007호 공보는 다수의 노즐로 성막한 유리 기반면에 온도조절풍을 수직으로 내뿜어 유리 기반면을 온도조절한다는 것을 기재하고 있다.
그러나 노즐에 의한 온도조절풍의 수직 분사는 도 4로부터 알 수 있는 바와 같이 온도조절풍이 유리 기반면에 부딪혀 되돌아오는 점접촉에 그치기 때문에, 온도조절에 시간이 걸리고, 게다가 대열(帶熱)된 반동풍이 분사풍의 저항이 됨과 아울러, 온도조절풍에 섞임으로써, 유리 기반면의 온도조절에 정밀함이 결여되어, 공보에는 23℃±0.1의 정밀도로 온도조절한다고 되어 있지만, 실제는 그보다 정밀도가 낮아진다는 과제가 있다.
본 발명은, 대소(大小) 유리 기반면 모두를 커버하는 크기로 된 온도조절풍 순환탱크와, 이 탱크의 하부에 평평한 통체(平角筒體) 형상이며 그 하면의 중간에 온도조절풍을 되돌려 넣는 회수구(回收口)를 형성한 복수 개의 평각통체를 횡단 설치하여, 이 탱크 아래의 근처로 주행해 들어온 유리 기반면에 이 탱크 내의 온도조절풍을 각(各) 평각통체 사이의 좁은 간격으로부터 분사함에 따른 분사 온도조절과 이 회수구에 돌아서 유입할 때까지 유리 기반면에 접면(接面)하여 온도조절하는 접면 온도조절에 의해 유리 기반면을 급속히 온도조절하고, 게다가 열교환에 의해 대열된 바람을 회수구로부터 회수하여 탱크 내의 온도조절풍에 섞이지 않도록 함으로써, 회수풍(回收風)의 난류화(亂流化)를 막아, 온도조절풍의 저항으로 되지 않고, 에너지 절약 및 고정밀도, 즉, 23℃±0.05 이내라는 고정밀도로 유리 기반면을 온도조절하도록 해서, 이러한 과제를 해결한 것이다.
본 발명은 간단한 장치에 있어서 유리 기반면에 23℃±0.05℃ 이내라는 극히 정밀도가 높은 온도조절풍을 효율적으로 내뿜어, 종래와 비교하여 극히 단시간에 유리 기반의 정밀 온도조절을 행할 수 있다는 효과를 생기게 한다.
평각통체를 좁은 간격을 두고 나란히 설치하는 것과, 그 하면 중간에 회수구를 형성함으로써, 유리 기반면은 분사 온도조절과 접면 온도조절에 의해 급속히 온도조절할 수 있다는 효과를 생기게 한다.
분사 온도조절풍의 되돌아옴이 해소되는 것과, 대열된 바람이 온도조절풍에 혼입되는 것이 방지됨으로써, 극히 정밀도가 높은 온도조절이 행해지는 것이 된다는 효과를 생기게 한다.
급속 조정에 의해 컨베이어의 간헐 주행을 빠르게 하여 작업능률을 향상시킬 수 있다는 효과를 생기게 한다.
도 1은 제조공정의 일부를 나타내는 평면도.
도 2는 온도조절장치의 요부(要部)의 부분 확대 종단면도.
도 3은 동, 횡단 평면도.
도 4는 종래예에 있어서의 노즐로부터 내뿜은 온도조절풍이 유리 기반면에서 되돌아오는 상태를 나타내는 설명도.
도 2는 온도조절장치의 요부(要部)의 부분 확대 종단면도.
도 3은 동, 횡단 평면도.
도 4는 종래예에 있어서의 노즐로부터 내뿜은 온도조절풍이 유리 기반면에서 되돌아오는 상태를 나타내는 설명도.
본 발명은 액정 디스플레이의 제조라인에 있어서, 대소의 유리 기반면에 성막과 노광과 에칭을 차례로 행하는 흐름 공정에서, 성막과 노광 사이에 설치하는 유리 기반면의 온도조절장치를 이하와 같이 구성하여 급속히 또 고정밀도로 온도조절하도록 한 것이다.
그 구성은 대소 모든 유리 기반면을 커버하는 크기로 온도조절풍의 순환탱크를 형성하고, 이 탱크 내의 하부에 평각통체를 좁은 간격을 두고 복수 개 횡단 설치해서, 성막되어 이 탱크 아래의 근처로 들어오는 유리 기반면에 탱크 내의 온도조절풍을 내리누르기 하여 각(各) 평각통체 사이의 좁은 간격으로부터 유리 기반면에 분사함에 따른 유리 기반면의 분사 온도조절과, 이 온도조절풍을 회수구로부터 회수될 때까지 유리 기반면에 접면(接面)함에 따른 접면 온도조절과의 합침에 의해 유리 기반면을 급속히 온도조절하고, 게다가 온도조절 후의 대열풍(帶熱風)을 회수구로부터 회수하여 탱크 내의 온도조절풍에 혼입하지 않게 함으로써, 설정온도인 23℃±0.05℃ 이내라는 높은 정밀도를 갖고서 온도조절하는 것을 가능하게 한 것이다.
실시예 1
도 1 내지 도 3은 실시예를 나타내는 것으로, 클린 룸 내에서 간헐 주행하는 컨베이어(11) 상에 성막 건조실(12), 온도조절장치(13), 노광실(14)을 차례로 설치하여, 이 컨베이어(11) 상에 실려 성막 건조실(12) 아래의 근처로 주행해 들어온 유리 기반(G)의 면(面) 상에 감광액을 떨어뜨려 놓고, 유리 기반(G)을 회전시키는 원심력으로 감광액을 전면(全面)에 균일한 두께로 하고 나서 가열하여 감광액을 건조시키는 요령으로 소정의 성막을 행하며, 온도조절장치(13) 아래의 근처로 들어온 곳에서 온도가 상승한 유리 기반(G)을 노광에 최적인 23℃로 온도조절하는 것이다.
온도조절을 위한 온도조절풍은 순환탱크(15) 내의 측면에 온도조절풍의 순환풍로(16)를 형성하고, 그 상부에 탱크(15) 안을 향해 온도조절하여 공급하는 냉각 공조기(C/C)를 설치하며, 탱크(15) 내의 상부에 가열 공조기(H/C)와 그 아래에 온도조절풍을 하방으로 압압하는 팬(17)을 설치해 있다. 18은 가열 공조기(H/C)를 제어하기 위한 온도센서이다.
그리고 탱크(15) 내의 저면(底面)을 이루는 하부에는 좁은 간격(19)을 두고서 길이가 긴 평각통체(20)를 복수 개 나란히 설치한다. 각 평각통체(20)는 하면의 길이방향 중간에 회수구(21)를 형성하여, 회수구(21)로 돌아 들어온 온도조절 후의 대열풍을 평각통체(20) 안을 통해 길이방향 양단으로부터 순환공로(循環空路)(16) 안으로 돌려 넣어 순환하도록 하고 있다.
그래서 성막된 유리 기반(G)이 컨베이어(11) 주행에 의해 온도조절장치(13) 아래의 근처로 들어오면 팬(17)에 의해 내리누르기 되는 23℃의 온도조절풍이 평각통체(20) 사이의 좁은 간격(19)으로부터 내뿜어져 온도조절되는 유리 기반면(G)의 분사 온도조절과, 뒤이어 분사 온도조절풍이 회수구(21)로 돌아 들어올 때까지 유리 기반(G)에 계속해서 접면하는 접면 온도조절에 의해 유리 기반면(G)은 급속히 온도조절되게 된다.
게다가 종래 발생하고 있던 온도조절 후의 대열풍의 되돌아옴이 없이, 모두 회수구(21)로부터 회수됨으로써 탱크(15) 내의 온도조절풍에 섞이는 일이 없기 때문에, 23℃±0.05℃ 이내라는 훌륭한 고정밀도로 온도조절되게 된다.
이렇게 해서 급속하게 또 정밀도 높게 온도조절된 유리 기반(G)은 노광실(14)에 들어와 노광되게 된다.
산업상 이용 가능성
본 발명은, 감광막을 성막한 유리 기반면을 노광에 적합한 온도로 급속히 또 고정밀도로 온도조절함으로써 넓게 이용되는 것이다.
11 컨베이어
12 성막 건조실
13 온도조절장치
14 노광실
15 순환탱크
16 순환풍로(循環風路)
17 팬
18 온도센서
19 간격
20 평각통체
21 회수구
C/C 냉각 공조기
H/C 가열 공조기
G 유리 기반
12 성막 건조실
13 온도조절장치
14 노광실
15 순환탱크
16 순환풍로(循環風路)
17 팬
18 온도센서
19 간격
20 평각통체
21 회수구
C/C 냉각 공조기
H/C 가열 공조기
G 유리 기반
Claims (1)
- 유리 기반면(基盤面)에 성막과 노광과 에칭을 차례로 행하는 흐름 공정에서, 성막과 노광 사이에 설치하는 유리 기반면의 온도조절장치에 있어서, 대소(大小) 유리 기반면 모두를 커버하는 크기로 된 온도조절풍 순환탱크와, 이 탱크의 하부에 평평한 통체(平角筒體) 형상이며 그 하면의 중간에 온도조절풍을 되돌려 넣는 회수구(回收口)를 형성한 복수 개의 평각통체를 횡단 설치하여, 이 탱크 아래의 근처로 주행해 들어온 유리 기반면에 이 탱크 내의 온도조절풍을 각(各) 평각통체 사이의 좁은 간격으로부터의 분사 온도조절과 이 회수구에 돌아서 유입할 때까지 유리 기반면에 접면(接面)함에 따른 접면 온도조절에 의해 유리 기반면을 급속히 온도조절하고, 또, 온도조절 후의 대열풍(帶熱風)을 이 회수구로부터 회수하여, 탱크 내의 온도조절풍에 혼입시키지 않도록 함으로써 23℃±0.05 이내라는 고정밀도로 온도조절하도록 한 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 등의 제조공정에 있어서의 유리 기반면의 급속 및 고정밀도 온도조절장치.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2011-177045 | 2011-08-12 | ||
JP2011177045A JP5465701B2 (ja) | 2011-08-12 | 2011-08-12 | 液晶ディスプレイ等の製造工程におけるガラス基盤面の急速且つ高精度調温装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20130018396A true KR20130018396A (ko) | 2013-02-21 |
KR101454964B1 KR101454964B1 (ko) | 2014-10-27 |
Family
ID=47764344
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020120079551A KR101454964B1 (ko) | 2011-08-12 | 2012-07-20 | 액정 디스플레이의 제조공정에 있어서의 유리 기반면의 급속 및 고정밀도 온도조절장치 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5465701B2 (ko) |
KR (1) | KR101454964B1 (ko) |
CN (1) | CN102955374B (ko) |
TW (1) | TWI512356B (ko) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107885045A (zh) * | 2017-11-22 | 2018-04-06 | 四川云盾光电科技有限公司 | 一种负性光刻胶刻蚀装置 |
CN111370530A (zh) * | 2018-12-26 | 2020-07-03 | 汉能移动能源控股集团有限公司 | 一种层压装置及方法 |
CN112882352A (zh) * | 2021-01-28 | 2021-06-01 | 江苏特纳马智能制造有限公司 | 一种曝光机玻璃基板表面温度稳定设备 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0513294A (ja) * | 1991-07-04 | 1993-01-22 | Hitachi Ltd | 半導体ウエハ冷却方法および装置 |
JP3259226B2 (ja) * | 1994-10-05 | 2002-02-25 | 東京エレクトロン株式会社 | 熱処理方法及び熱処理装置 |
JP3701007B2 (ja) * | 2000-08-31 | 2005-09-28 | 株式会社朝日工業社 | ガラス基板の温度制御方法及びその装置 |
CN100521131C (zh) * | 2004-03-30 | 2009-07-29 | 株式会社田村制作所 | 加热装置及回流焊装置 |
JP2008016543A (ja) * | 2006-07-04 | 2008-01-24 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2010223499A (ja) * | 2009-03-24 | 2010-10-07 | Ngk Insulators Ltd | 基板冷却装置 |
JP5290063B2 (ja) * | 2009-06-17 | 2013-09-18 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板温度制御方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
-
2011
- 2011-08-12 JP JP2011177045A patent/JP5465701B2/ja active Active
-
2012
- 2012-07-20 KR KR1020120079551A patent/KR101454964B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2012-08-10 TW TW101129071A patent/TWI512356B/zh active
- 2012-08-10 CN CN201210285765.5A patent/CN102955374B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201307946A (zh) | 2013-02-16 |
JP2013041053A (ja) | 2013-02-28 |
KR101454964B1 (ko) | 2014-10-27 |
TWI512356B (zh) | 2015-12-11 |
CN102955374A (zh) | 2013-03-06 |
CN102955374B (zh) | 2014-12-03 |
JP5465701B2 (ja) | 2014-04-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR20130018396A (ko) | 액정 디스플레이 등의 제조공정에 있어서의 유리 기반면의 급속 및 고정밀도 온도조절장치 | |
WO2019128557A1 (zh) | 解决微米级液滴撞击球形表面冷冻涂覆的系统与方法 | |
US20150323249A1 (en) | Pre-curing equipment for alignment layer | |
CN105280518A (zh) | 半导体基板的热处理装置 | |
CN108034946B (zh) | 喷淋蚀刻系统 | |
KR100543711B1 (ko) | 열처리장치 | |
CN103472610A (zh) | 一种基板干燥装置及基板清洗系统 | |
KR20140046527A (ko) | 기판처리장치 및 방법 | |
CN202423235U (zh) | 表面处理设备 | |
US11149991B2 (en) | Heating and cooling apparatus having moisture removal function for testing electrical characteristic of semiconductor element using probe system | |
CN103994637A (zh) | 一种基板干燥装置及基板干燥方法 | |
CN106587041A (zh) | 一种基于喷墨打印技术的薄膜制备装置及制备方法 | |
JP2019071386A5 (ko) | ||
CN109129821A (zh) | 一种电喷射三维打印原位热处理装置 | |
CN104529180A (zh) | 一种电热膜板的生产方法及生产设备 | |
KR101097036B1 (ko) | 기판 코팅장치 | |
CN104516368B (zh) | 一种汽车整车/板材环境测试舱及其控湿方法 | |
US10030309B2 (en) | Machine to chemically engrave a plate of stainless steel | |
CN106091579A (zh) | 配向膜干燥装置及配向膜干燥方法 | |
CN106111492B (zh) | 一种固化设备及固化方法 | |
CN203893594U (zh) | 恒温干燥箱 | |
CN220437034U (zh) | 一种用于pbc/fpc板蚀刻后的烘干装置 | |
KR101307119B1 (ko) | 엘이디 패키지 제조용 인라인 건조 오븐 | |
CN202166432U (zh) | 一种高温试验箱送风结构 | |
KR101400001B1 (ko) | 습도 조절 장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20171012 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |