JP2013041053A - 液晶ディスプレイ等の製造工程におけるガラス基盤面の急速且つ高精度調温装置 - Google Patents

液晶ディスプレイ等の製造工程におけるガラス基盤面の急速且つ高精度調温装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2013041053A
JP2013041053A JP2011177045A JP2011177045A JP2013041053A JP 2013041053 A JP2013041053 A JP 2013041053A JP 2011177045 A JP2011177045 A JP 2011177045A JP 2011177045 A JP2011177045 A JP 2011177045A JP 2013041053 A JP2013041053 A JP 2013041053A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
temperature
tank
temperature control
glass substrate
glass base
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2011177045A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5465701B2 (ja
Inventor
Keiichi Kamimura
佳一 上村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
KAMIMURA KOGYO KK
Original Assignee
KAMIMURA KOGYO KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by KAMIMURA KOGYO KK filed Critical KAMIMURA KOGYO KK
Priority to JP2011177045A priority Critical patent/JP5465701B2/ja
Priority to KR1020120079551A priority patent/KR101454964B1/ko
Priority to TW101129071A priority patent/TWI512356B/zh
Priority to CN201210285765.5A priority patent/CN102955374B/zh
Publication of JP2013041053A publication Critical patent/JP2013041053A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5465701B2 publication Critical patent/JP5465701B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • G03F7/70866Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece
    • G03F7/70875Temperature, e.g. temperature control of masks or workpieces via control of stage temperature

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Atmospheric Sciences (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Details Of Rigid Or Semi-Rigid Containers (AREA)

Abstract

【課題】 本発明は、液晶ディスプレイ等の製造工程におけるガラス基盤面の急速且つ高精度にて調温する調温装置を新規に提供するものである。
【解決手段】 本発明はラス基盤面に成膜と露光とエッチングを順に行う流れ工程において、成膜と露光の間に設けるガラス基盤面の調温装置であって、大小のガラス基盤面のすべてをカバーする大きさの調温風循環タンクと、該タンクの下部に平角筒体形でその下面の中間に帯熱した調温風を戻し入れする回収口を設けた複数本の平角筒体を横断渡設し、該タンク下の至近に走行し入ったガラス基盤面に該タンク内の調温風を各平角筒体間の狭い間隙から吹き付けによる吹き付け調温と該回収口にまわり流入するまでガラス基盤面に接面する接面調温とにてガラス基盤面を急速且つ高精度にて調温するようにした調温装置にある。
【選択図】 図2

Description

この発明は液晶ディスプレイ等の製造工程におけるガラス基盤面の急速且つ高精度調温装置に関するものである。
ガラス基盤面に感光膜を成膜をし、これを乾燥するとガラス基盤が高温になり、露光に適した23℃に冷却する必要がある。先に提案されている特許第3701007号公報は多数のノズルにて成膜したガラス基盤面に調温風を垂直に吹き付けしてガラス基盤面を調温するということを記載している。
特願第3701007号公報
しかしながら、ノズルによる調温風の垂直吹き付けは図4からわかるように調温風がガラス基盤面に当ってはね返る点接触にとどまるため、調温に時間がかかり、しかも帯熱したはね返り風が吹き付け風の抵抗となるとともに、調温風にまざることで、ガラス基盤面の調温に精密さが欠け、公報は23℃±0.1の精度で調温するとしているが、実際はそれより精度が低くなるという課題がある。
本発明は、大小のガラス基盤面のすべてをカバーする大きさの調温風循環タンクと、該タンクの下部に平角筒体形でその下面の中間に調温風を戻し入れする回収口を設けた複数本の平角筒体を横断渡設し、該タンク下の至近に走行し入ったガラス基盤面に該タンク内の調温風を各平角筒体間の狭い間隙から吹き付けによる吹き付け調温と該回収口にまわり流入するまでガラス基盤面に接面して調温する接面調温とによりガラス基盤面を急速に調温し、しかも熱交換により帯熱した風を回収口から回収してタンク内の調温風にまざらないようにすることで、回収風の乱流化を防ぎ、調温風の抵抗にならず、省エネルギー且つ高精度すなわち23℃±0.05以内という高精度にてガラス基盤面を調温するようにして、かかる課題を解決したのである。
本発明は簡単な装置においてガラス基盤面に23℃±0.05℃以内というきわめて精度の高い調温風を効率的に吹き付けて、従来に比較して極めて短時間にガラス基盤の精密温調を行うことができるという効果を生ずる。
平角筒体を狭い間隔を置いて並設することと、その下面中間に回収口を設けたことで、ガラス基盤面は吹き付け調温と接面調温とにより急速に調温することができるという効果を生ずる。
吹き付け調温風のはね返りが解消することと、帯熱した風が調温風に混入することが防止されることで、きわめて精度の高い調温が行われることになるという効果を生ずる。
急速調整によってコンベアの間歇走行を速めて作業能率を向上させることができるという効果を生ずる。
製造工程の一部を示す平面図 調温装置の要部の部分拡大縦断面図 同、横断平面図 従来例におけるノズルから吹き付けした調温風がガラス基盤面にてはね返る状態を示す説明図
11はコンベア
12は成膜乾燥室
13は調温装置
14は露光室
15は循環タンク
16は循環風路
17はファン
18は温度センサ
19は間隙
20は平角筒体
21は回収口
C/Cは冷却空調器
H/Cは加熱空調器
Gはガラス基盤
本発明は液晶ディスプレイの製造ラインにおいて、大小のガラス基盤面に成膜と露光とエッチングを順に行う流れ工程において、成膜と露光間に設けるガラス基盤面の調温装置を以下の通りに構成して急速且つ高精度において調温するようにしたのである。
その構成は大小すべてのガラス基盤面をカバーする大きさにて調温風の循環タンクを形成し、該タンク内の下部に平角筒体を狭い間隔を置いて複数本横断渡設し、成膜して該タンク下の至近に入るガラス基盤面にタンク内の調温風を下降押しして各平角筒体間の狭い間隙からガラス基盤面に吹き付けすることによるガラス基盤面の吹き付け調温と、この調温風を回収口より回収されるまでガラス基盤面に接面することによる接面調温との合わせによりガラス基盤面を急速に調温し、しかも調温後の帯熱風を回収口から回収してタンク内の調温風に混入しないようにしたことで、設定温度である23℃±0.05℃以内という高い精度をもって調温することを可能にしたのである。
図1乃至図3は実施例を示すもので、クリーンルーム内にて間歇走行するコンベア11上に成膜乾燥室12、調温装置13、露光室14を順に設け、該コンベア11上に乗って成膜乾燥室12下の至近に走行し入ったガラス基盤Gの面上に感光液を落載し、ガラス基盤Gを回転させる遠心力にて感光液を全面均一の厚みとしてから加熱して感光液を乾燥させる要領にて所定の成膜を行い、調温装置13下の至近に入ったところで温度の上昇したガラス基盤Gを露光に最適な23℃に調温するのである。
調温のための調温風は循環タンク15内の側面に調温風の循環風路16を設け、その上部にタンク15内に向けて調温して供給する冷却空調器C/Cを設け、タンク15内の上部に加熱空調器H/Cとその下に調温風を下方に押圧するファン17を設けている。18は加熱空調器H/Cを制御するための温度センサである。
しかしてタンク15内の底面をなす下部には狭い間隔19を置いて長尺の平角筒体20を複数本並設する。各平角筒体20は下面の長手方向中間に回収口21を設け、回収口21に戻り入った調温後の帯熱風を平角筒体20内を通って長手方向の両端より循環空路16内に戻り入れて循環するようにしている。
さて、成膜したガラス基盤Gがコンベア11の走行により調温装置13下の至近に入るとファン17により下押しされる23℃の調温風が平角筒体20間の狭い間隙19から吹き付けて調温するガラス基盤面Gの吹き付け調温と、次いで吹付け調温風が回収口21に戻り入るまでガラス基盤Gに接面し続ける接面調温とによりガラス基盤面Gは急速に調温されることとなる。
しかも従来生じていた調温後の帯熱風のはね返りがなく、すべて回収口21より回収されることでタンク15内の調温風に混じることがないから、23℃±0.05℃以内というすばらしい高精度にて調温されることとなる。
このようにして急速且つ精度高く調温されたガラス基盤Gは露光室14に入り露光されることなる。
本発明は、感光膜を成膜したガラス基盤面を露光に適した温度に急速且つ高精度にて調温することで広く利用されるものである。

Claims (1)

  1. ガラス基盤面に成膜と露光とエッチングを順に行う流れ工程において、成膜と露光の間に設けるガラス基盤面の調温装置であって、大小のガラス基盤面のすべてをカバーする大きさの調温風循環タンクと、該タンクの下部に平角筒体形でその下面の中間に調温風を戻し入れする回収口を設けた複数本の平角筒体を横断渡設し、該タンク下の至近に走行し入ったガラス基盤面に該タンク内の調温風を各平角筒体間の狭い間隙からの吹き付け調温と該回収口にまわり流入するまでガラス基盤面に接面することによる接面調温とによりガラス基盤面を急速に調温し、且つ調温後の帯熱風を該回収口から回収し、タンク内の調整風に混入させないようにしたことで23℃±0.05以内という高精度にて調温するようにしたことを特徴とする液晶ディスプレイ等の製造工程におけるガラス基盤面の急速且つ高精度調温装置。
JP2011177045A 2011-08-12 2011-08-12 液晶ディスプレイ等の製造工程におけるガラス基盤面の急速且つ高精度調温装置 Active JP5465701B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011177045A JP5465701B2 (ja) 2011-08-12 2011-08-12 液晶ディスプレイ等の製造工程におけるガラス基盤面の急速且つ高精度調温装置
KR1020120079551A KR101454964B1 (ko) 2011-08-12 2012-07-20 액정 디스플레이의 제조공정에 있어서의 유리 기반면의 급속 및 고정밀도 온도조절장치
TW101129071A TWI512356B (zh) 2011-08-12 2012-08-10 液晶顯示器等製程中對玻璃基板面做高精度調溫的調溫裝置
CN201210285765.5A CN102955374B (zh) 2011-08-12 2012-08-10 玻璃基板面的快速高精度调温装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011177045A JP5465701B2 (ja) 2011-08-12 2011-08-12 液晶ディスプレイ等の製造工程におけるガラス基盤面の急速且つ高精度調温装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2013041053A true JP2013041053A (ja) 2013-02-28
JP5465701B2 JP5465701B2 (ja) 2014-04-09

Family

ID=47764344

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011177045A Active JP5465701B2 (ja) 2011-08-12 2011-08-12 液晶ディスプレイ等の製造工程におけるガラス基盤面の急速且つ高精度調温装置

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP5465701B2 (ja)
KR (1) KR101454964B1 (ja)
CN (1) CN102955374B (ja)
TW (1) TWI512356B (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107885045A (zh) * 2017-11-22 2018-04-06 四川云盾光电科技有限公司 一种负性光刻胶刻蚀装置
CN112882352A (zh) * 2021-01-28 2021-06-01 江苏特纳马智能制造有限公司 一种曝光机玻璃基板表面温度稳定设备

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0513294A (ja) * 1991-07-04 1993-01-22 Hitachi Ltd 半導体ウエハ冷却方法および装置
JP2001085323A (ja) * 1994-10-05 2001-03-30 Tokyo Electron Ltd 熱処理方法及び熱処理装置
JP2002072492A (ja) * 2000-08-31 2002-03-12 Asahi Kogyosha Co Ltd 板状のワークの温度制御方法及びその装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101303989B (zh) * 2004-03-30 2012-03-28 株式会社田村制作所 焊料隆起形成方法及装置
JP2008016543A (ja) * 2006-07-04 2008-01-24 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
JP2010223499A (ja) * 2009-03-24 2010-10-07 Ngk Insulators Ltd 基板冷却装置
JP5290063B2 (ja) * 2009-06-17 2013-09-18 株式会社日立ハイテクノロジーズ プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板温度制御方法、及び表示用パネル基板の製造方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0513294A (ja) * 1991-07-04 1993-01-22 Hitachi Ltd 半導体ウエハ冷却方法および装置
JP2001085323A (ja) * 1994-10-05 2001-03-30 Tokyo Electron Ltd 熱処理方法及び熱処理装置
JP2002072492A (ja) * 2000-08-31 2002-03-12 Asahi Kogyosha Co Ltd 板状のワークの温度制御方法及びその装置

Also Published As

Publication number Publication date
TWI512356B (zh) 2015-12-11
KR20130018396A (ko) 2013-02-21
TW201307946A (zh) 2013-02-16
JP5465701B2 (ja) 2014-04-09
CN102955374A (zh) 2013-03-06
CN102955374B (zh) 2014-12-03
KR101454964B1 (ko) 2014-10-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10792844B2 (en) Airflow control apparatus and method for manufacturing stretched film
CN101028964B (zh) 控制玻璃板厚度均匀性的装置及其控制方法
JP5805602B2 (ja) ガラス基板の製造方法、および、冷却器
CN207124181U (zh) 基板处理装置
CN108136464A (zh) 待控温的非无尽表面的均匀非接触温度控制方法及其装置
RU2011113721A (ru) Воздухоохладительное/закалочное устройство для листового стекла и способ воздушного охлаждения/закалки
US9718719B2 (en) Float bath and glass manufacturing apparatus including the same
CN105280518A (zh) 半导体基板的热处理装置
CN108196430B (zh) 一种光刻胶软烘装置
JP2013041053A (ja) 液晶ディスプレイ等の製造工程におけるガラス基盤面の急速且つ高精度調温装置
CN104949551B (zh) 热交换器
CN104576463A (zh) 一种快速降温热处理系统
JP2007225233A (ja) 板材の加熱方法および加熱装置並びに板材を加熱するための保持装置
CN102399973B (zh) 一种热处理用汽雾冷却装置
KR20150142134A (ko) 기판의 열처리 장치
WO2019041496A1 (zh) 光阻烘烤设备
CN204417327U (zh) 一种玻璃钢化机组的冷却系统
CN204303776U (zh) 快速降温热处理系统
JP2015188897A (ja) 鋼板の冷却方法
US20150053646A1 (en) Machine and method to chemically engrave a plate of stainless steel
JP5969671B2 (ja) ガラス基板の製造方法、および、ガラス基板の製造装置
TWM499580U (zh) 光阻預烤爐加熱器溫度控制裝置
TW201616067A (zh) 基板快速均溫裝置
CN214168112U (zh) 蒸镀设备
KR102049741B1 (ko) 기판 열처리 장치

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20130301

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130705

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130710

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130725

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140120

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140122

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5465701

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250