CN112882352A - 一种曝光机玻璃基板表面温度稳定设备 - Google Patents

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CN112882352A CN202110115295.7A CN202110115295A CN112882352A CN 112882352 A CN112882352 A CN 112882352A CN 202110115295 A CN202110115295 A CN 202110115295A CN 112882352 A CN112882352 A CN 112882352A
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韩永林
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Jiangsu Tenama Intelligent Manufacturing Co ltd
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Jiangsu Tenama Intelligent Manufacturing Co ltd
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    • G—PHYSICS
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Abstract

本发明公开了一种曝光机玻璃基板表面温度稳定设备，包括地板与其上方的高架地板，地板端面一侧分别设有第一电控箱、第一控制单元、第二电控箱与第二控制单元，高架地板上端分别设有第一温度控制装置与第二温度控制装置，两个温度控制装置分别通过多根回风管与第一控制单元、第二控制单元连接。本发明的有益效果：通过九组出风单元对玻璃基板进行温度控制，九组出风单元可分区域调整温度，保养成本低，而且维护的时间短，而且为了维持温度的稳定性，特别设计回风循环方式保证了温度的稳定，通过出风单元吹出后再通过回风管道进行回收再循环。

Description

一种曝光机玻璃基板表面温度稳定设备
技术领域
本发明涉及玻璃基板冷却温控技术领域，具体为一种曝光机玻璃基板表面温度稳定设备。
背景技术
现有技术中，曝光机内的玻璃基板对温控的稳定性要求比较高，需要控制在23℃左右，现有的温控设备成本较高，冷风对玻璃基板进行冷却后，随之排出，能耗较高，而且维护的时间较长，保养的成本较高。
发明内容
本发明的目的在于提供一种曝光机玻璃基板表面温度稳定设备，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种曝光机玻璃基板表面温度稳定设备，包括地板与其上方的高架地板，所述地板端面一侧分别设有第一电控箱、第一控制单元、第二电控箱与第二控制单元，所述高架地板上端分别设有第一温度控制装置与第二温度控制装置，所述第一温度控制装置与所述第二温度控制装置分别通过多根回风管与所述第一控制单元、所述第二控制单元连接。
优选的，所述第一温度控制装置与所述第二温度控制装置其下端均设有气流加热分散装置。
优选的，所述第一温度控制装置与所述第二温度控制装置至少通过三根所述回风管与所述第一控制单元连接。
优选的，所述气流加热分散装置下端设有与所述第一控制单元连接的风管。
优选的，所述第一温度控制装置、所述第二温度控制装置分别设有与所述第一电控箱、所述第二电控箱连接的电缆。
优选的，多根所述回风管接口处均设有温度传感器。
优选的，所述温度控制装置与所述第二温度控制装置内均设有九组出风单元。
优选的，九组所述出风单元下端均放置有玻璃基板，且所述玻璃基板与九组所述出风单元出风口距离为二十至二十五毫米。
优选的，所述玻璃基板厚度为零点四至零点七毫米。
有益效果
本发明所提供的曝光机玻璃基板表面温度稳定设备，通过九组出风单元对玻璃基板进行温度控制，九组出风单元可分区域调整温度，保养成本低，而且维护的时间短，而且为了维持温度的稳定性，特别设计回风循环方式保证了温度的稳定，通过出风单元吹出后再通过回风管道进行回收再循环。
附图说明
图1为本发明的整体结构示意图；
图2为本发明的内部结构示意图。
附图标记
1-第一温度控制装置，2-第二温度控制装置，3-第一控制单元，4-第二控制单元，5-，6-回风管，7-地板，8-高架地板，9-第一电控箱，10-第二电控箱，11-风管，12-气流加热分散装置。
具体实施方式
以下是本发明的具体实施例并结合附图，对本发明的技术方案作进一步的描述，但本发明并不限于这些实施例。
实施例
如图1-2所示，一种曝光机玻璃基板表面温度稳定设备，包括地板7与其上方的高架地板8，地板7端面一侧分别设有第一电控箱9、第一控制单元3、第二电控箱10与第二控制单元4，高架地板8上端分别设有第一温度控制装置1与第二温度控制装置2，第一温度控制装置1与第二温度控制装置2分别通过多根回风管6与第一控制单元3、第二控制单元4连接。
优选的，第一温度控制装置1与第二温度控制装置2其下端均设有气流加热分散装置12。
优选的，第一温度控制装置1与第二温度控制装置2至少通过三根回风管6与第一控制单元3连接。
优选的，气流加热分散装置12下端设有与第一控制单元3连接的风管11。
优选的，第一温度控制装置1、第二温度控制装置2分别设有与第一电控箱9、第二电控箱10连接的电缆。
优选的，多根回风管6接口处均设有温度传感器。
优选的，温度控制装置1与第二温度控制装置2内均设有九组出风单元。
优选的，九组出风单元下端均放置有玻璃基板，且玻璃基板与九组出风单元出风口距离为二十至二十五毫米。
优选的，玻璃基板厚度为零点四至零点七毫米。
温调时间：玻璃基板厚度为零点七毫米时，十八秒控制表面温度；
玻璃基板初始温度：23±2℃；
处理后玻璃基板温度分布：设定温度±0.1℃；
出风洁净度：class10；
对应玻璃基板厚度：零点四毫米至零点七毫米；
通过工厂提供的PCW将25℃空气温度经过冷却盘管一次控温降低至20-21℃空气，将20-21℃空气通过控制单元设备输送至检测设备中，检测设备通过出风口的温度感应器对比较，通过软件进行高速恒温控制，即可达到高速控温的目的。
最后应说明的是：以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明性的保护范围之内的发明内容。

Claims (9)

1.一种曝光机玻璃基板表面温度稳定设备，包括地板(7)与其上方的高架地板(8)，其特征在于：所述地板(7)端面一侧分别设有第一电控箱(9)、第一控制单元(3)、第二电控箱(10)与第二控制单元(4)，所述高架地板(8)上端分别设有第一温度控制装置(1)与第二温度控制装置(2)，所述第一温度控制装置(1)与所述第二温度控制装置(2)分别通过多根回风管(6)与所述第一控制单元(3)、所述第二控制单元(4)连接。
2.根据权利要求1所述的曝光机玻璃基板表面温度稳定设备，其特征在于：所述第一温度控制装置(1)与所述第二温度控制装置(2)其下端均设有气流加热分散装置(12)。
3.根据权利要求2所述的曝光机玻璃基板表面温度稳定设备，其特征在于：所述第一温度控制装置(1)与所述第二温度控制装置(2)至少通过三根所述回风管(6)与所述第一控制单元(3)连接。
4.根据权利要求2所述的曝光机玻璃基板表面温度稳定设备，其特征在于：所述气流加热分散装置(12)下端设有与所述第一控制单元(3)连接的风管(11)。
5.根据权利要求1所述的曝光机玻璃基板表面温度稳定设备，其特征在于：所述第一温度控制装置(1)、所述第二温度控制装置(2)分别设有与所述第一电控箱(9)、所述第二电控箱(10)连接的电缆。
6.根据权利要求1所述的曝光机玻璃基板表面温度稳定设备，其特征在于：多根所述回风管(6)接口处均设有温度传感器。
7.根据权利要求1所述的曝光机玻璃基板表面温度稳定设备，其特征在于：所述温度控制装置(1)与所述第二温度控制装置(2)内均设有九组出风单元。
8.根据权利要求7所述的曝光机玻璃基板表面温度稳定设备，其特征在于：九组所述出风单元下端均放置有玻璃基板，且所述玻璃基板与九组所述出风单元出风口距离为二十至二十五毫米。
9.根据权利要求8所述的曝光机玻璃基板表面温度稳定设备，其特征在于：所述玻璃基板厚度为零点四至零点七毫米。
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102955374A (zh) * 2011-08-12 2013-03-06 株式会社上村工业 玻璃基板面的快速高精度调温装置
CN107665006A (zh) * 2016-07-29 2018-02-06 上海微电子装备（集团）股份有限公司 一种温度控制系统及控制方法

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