TWI508991B - 雙極性聚合性半導體材料及有機電子元件 - Google Patents
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Description
此申請案主張2009年8月28日提申之美國臨時申請案第61/272,182號，以及2010年4月30日提申之PCT國際申請案PCT/SG2010/000174的利益以及優先權，該等二者之內容係藉此併入本文中以作為參考資料。
本發明有關於有機化合物、由此等化合物衍生的雙極性半導體材料以及包含此雙極性半導體材料的元件。
有機化合物作為半導體材料已經大量發展。特別地，近年來已經發展高性能的單極性p-型與n-型聚合物半導體，各別地具有電洞和電子移動率，接近1 cm2
/V.s。於薄膜電晶體內具有高的傳遞移動率之聚合物半導體係於許多應用上為有用的，包括顯示器以及RFIDs。
能夠傳導p-通道和n-通道區域的操作上之電洞和電子二者之雙極性有機薄膜電晶體已經吸引近來的注意力。此等元件能提供用於建構互補性數位積體電路之任擇的方法，其與盛行的互補性氧化金屬半導體(CMOS)技術極相似。此等CMOS類的數位電路，當與比較的互補性電路，具有許多於電晶體的操作特徵之優點，例如：更大的速度、較高的雜訊抗擾性、較低的功率消耗，以及較佳的變異性之容許度和位移。
雙極性電晶體可以藉由使用以下來製造：(i)2堆疊層的離散式p-通道和n-通道半導體材料；(ii)一種二組分式層，其包含單極性p-型與n-型有機半導體的一摻合物；或是(iii)具有對稱或不對稱電極之一層的單一組分材料。
然而，單極性p-型與n-型有機半導體之使用於雙層的(i)或者混合層的(ii)雙極性OTFTs需要複雜的製造程序或者此等元件已經顯示出不良的性能。關於設計(iii)，縱然許多現時的有機半導體材料顯示出雙極性電荷傳遞性質，此等材料需要嚴格的操作條件(如，高真空)、特別的介電材料，或者非常低功函數電極材料。
具有平衡的高電洞和電子移動率之雙極性半導體材料能大大地簡化元件的製造，尤其當使用溶液加工的技術，例如，噴墨列印，於邏輯電路之複雜的製造時。現在，於OTFT內有非常少的單一組分半導體材料展示出安定的雙極性的操作特徵。已知的雙極性的單一組分半導體材料典型地展示出低且不平衡的電洞和電子移動率(10-5
-0.1 cm2
/V.s)。
最近，具有0.003 cm2
/v.s的電洞移動率以及0.04 cm2
/V.s的電子移動率之雙極性聚合物係於Kim等人，Adv. Mater.
2010，22，478-482之中說明。
於是，對於生產有用於生產有效率的電子元件之任擇的雙極性有機材料有一需求。
本發明有關於有機化合物，其等可以於有機電子元件內使用作為電子與電洞傳遞之雙極性半導體材料。
本發明的化合物合併入接受電子基團和供電子基團之交替的嵌段。該等化合物為包含一個重覆單元之聚合物，該重覆單元係以一核心平面的受體部份以及一施體部份為主，該受體部份為缺乏電子的且能提供電子傳遞性質，以及該施體部份為富電子的以提供電洞傳遞性質。一額外的受體部份和核心受體基團一起促成提供低的LUMO能量位準用於有效的電子注入和傳遞。該施體和受體基團提供了平衡的電子和電洞傳遞。
本發明的化合物之可以展現出高的、平衡良好的電子和電洞移動率。因而，該等化合物可以是有用作為單一組分雙極性半導體材料供包括於有機電子元件內的之，包括於有機薄膜電晶體內。
因而，於一態樣中，本發明提供了式I的化合物：
[Da
─A核心
─Db
─Ac
─]n
(I)
其中各個A核心
為一接受電子稠合的雜芳族基團，其具有至少一個氮原子於該雜芳族基團的主鏈中以及至少一個S、O或Se原子於該雜芳族基團的主鏈中或者作為該雜芳族基團上之共軛的取代基；各個D為具有由5至50個主鏈原子之獨立地選擇的共軛供予電子的芳族或雜芳族基團，各個D選擇性地被一或更多個供予電子取代基或拉電子取代基所取代，但有條件是即使當被取代時，各個D的電子特性為供予電子的；各個A為獨立地選擇的具有由5至50個主鏈原子之共軛接受電子的芳族或雜芳族基團或是被一或二個拉電子取代基所取代之伸乙烯基基團，各個A為選擇性地被一或更多個供予電子取代基或拉電子取代基所取代，但有條件是即使當被取代時，各個A的電子特性為接受電子的；n為具有由2至10000之值的整數；以及各個a、各個b和各個c獨立地為由1至4的整數。
於一些具體例中，該化合物具有式Ia：
其中各個Ar為一稠合的芳族或雜芳族二價部分，其具有，包括Ar所稠合的C2
N2
X環之2個原子，由5至40個主鏈原子；各個X獨立地為S、O或Se；各個D獨立地為一供電子基團，其包括至少一個5員共軛雜環部份，其含有為S、O或Se之至少一個雜原子，且其可進一步包括一或更多個額外的雜原子，包括N、S、O或Se，以及其可以選擇性地被取代。
關於式Ia，於一些具體例中，各個Ar可以獨立地為Ar1至Ar8的一者以及各個Ar可以選擇性地被取代：
關於式Ia，於一些具體例中，各個D可以獨立地為D1至D12的一者以及各個D可以選擇性地被取代：
其中各個X獨立地為S、O或Se。
關於式Ia，各個A可以獨立地為A1至A19的一者以及各個A可以選擇性地被取代：
其中各個X獨立地為S、O或Se；以及各個R獨立地為直鏈或支鏈C1
-C40
烷基、於烷基部分具有由1至40個碳之直鏈或支鏈烷氧基、C6
-C40
芳基、C6
-C40
經取代的芳基、具有由5至40個主鏈原子之雜芳基、具有由5至40個主鏈原子之經取代的雜芳基，其之任一者可以選擇性地被F、Cl或CN所取代，當合適時。
於一些具體例中，該化合物可以具有式Ib：
其中各個R獨立地為直鏈或支鏈C1
-C40
烷基、於烷基部分具有由1至40個碳之直鏈或支鏈烷氧基、C6
-C40
芳基、C6
-C40
經取代的芳基、具有由5至40個主鏈原子之雜芳基、具有由5至40個主鏈原子之經取代的雜芳基，其之任一者可以選擇性地被F、Cl或CN所取代，當合適時；以及各個X獨立地為S、O或Se。
於式Ib中，各個D可以獨立地為D13至D35的一者以及各個D可以選擇性地被取代：
於式Ib中，各個A可以獨立地為A20至A35的一者以及各個A可以選擇性地被取代：
其中各個X獨立地為S、O或Se；以及各個R和各個R’獨立地為直鏈或支鏈C1
-C40
烷基、於烷基部分具有由1至40個碳之直鏈或支鏈烷氧基、C6
-C40
芳基、C6
-C40
經取代的芳基、具有由5至40個主鏈原子之雜芳基、具有由5至40個主鏈原子之經取代的雜芳基，其之任一者可以選擇性地被F、Cl或CN所取代，當合適時。
於一些具體例中，包含本發明的化合物可以為化合物1至37的任一者：
其中各個R獨立地為直鏈或支鏈C1
-C40
烷基、於烷基部分具有由1至40個碳之直鏈或支鏈烷氧基、C6
-C40
芳基、C6
-C40
經取代的芳基、具有由5至40個主鏈原子之雜芳基、具有由5至40個主鏈原子之經取代的雜芳基，其之任一者可以選擇性地被F、Cl或CN所取代，當合適時。
於另一態樣中，本發明亦提供了一薄膜，其包含本發明的一化合物。
於另一態樣中，本發明亦提供了一種有機電子元件，其包含本發明的一化合物或本發明的一薄膜。
該有機電子元件可以是一薄膜電晶體，該元件包含一閘極，其係藉由一閘介電質而與一源極與一汲極分隔開，以及一半導體材料，其係與該閘介電質接觸且於該源極和該汲極之間形成一傳導路徑，該半導體材料包含本發明的一薄膜。該薄膜電晶體可以是一雙極性薄膜電晶體。該源極和該汲極可以是由相同的傳導性的材料所製造的。
在檢閱下列本發明的特定具體例之說明、結合附隨的圖示之後，本發明之其他的態樣與特徵對於熟悉此藝者會變得明顯。
於圖示中，其闡釋，僅當作實例，本發明的具體例，第1圖為一有機薄膜電晶體元件結構之概要的圖式；第2圖描繪出DPP-OD-BTZ(1
)之UV-vis-NIR，本發明之一例示性的聚合物；第3圖顯示出DPP-OD-BTZ(1
)為主的雙極性OFET元件之電洞強化模式(A)和電子強化模式(B)的輸出特徵(VDS
vs IDS
)之圖，該元件係於OTS處理的p+
-Si/SiO2
基材上於200 ℃予以退火；以及第4圖顯示出DPP-OD-BTZ(1
)為主的OTFT元件之轉移特徵(VGS
-IDS
)的圖，該元件係於200 ℃予以退火，操作於電洞(左)和電子(右)強化模式，於OTS處理的p+
-Si/SiO2
基材上加工。
於此呈現的是共軛聚合性化合物，其等可以使用作為單一組件雙極性半導體材料，以及合併入此等化合物的電子元件。
該等化合物可以為容易地合成的以及可以為溶液可加工的。於是，合併入此等化合物之電子元件可以為容易製造的，包括使用溶液沈積的技術，例如：噴墨列印、浸塗及/或旋轉塗佈，以及網板印刷，只舉一些例子。
本文中說明的化合物含有沿著化合物主鏈之交替的以下嵌段：芳族、雜芳族或是伸乙烯基受體基團(A基團，亦提及為拉電子基團的或者接受電子基團)嵌段，該等嵌段係提及為受體嵌段，以及芳族或雜芳族施體基團(D基團，亦提及為供電子基團)嵌段，該等嵌段係提及為施體嵌段。受體嵌段促成電子傳遞，同時施體嵌段促成電洞傳遞。
聚合性化合物的重覆單元含有一核心受體基團(A核心
)、伴隨含有於核心受體基團的各側上之一或更多個施體基團之一施體嵌段(D)，以及含有一或更多個受體基團之一額外的受體基團(A)，因而提供了通式I：
[Da
─A核心
─Db
─Ac
─]n
(I)
於式I中，n為由2至10，000的整數，其導致具有由2至10,000個重覆單元之聚合物。
於式I中，各個a、b和c獨立地為由1至4的整數，其導致一聚合物，其具有沿著主鏈之交替的施體嵌段和受體嵌段，其中使該受體嵌段係於一受體嵌段，如以下所定義的一單一核心受體基團，A核心
，以及除了A核心
之一至四個受體基團(如以下所定義的A)的受體嵌段之間交替。
各個施體基團和受體基團係藉由一單鍵而於化合物主鏈內與下一個施體或受體基團分隔開，因而其導致一共軛分子。如使用於本文中，術語“共軛”關於有機分子之主鏈係提及為一分子，其於分子之主鏈內具有二或更多個多重鍵(雙鍵或三鍵)，各個多重鍵係藉由一單鍵而與下一個連續的多重鍵分隔開，以便π軌域不只重疊橫越多重鍵，而且也重疊橫越座落於介於鄰接的多重鍵之間的鄰接的單鍵。此等化合物係由芳族基團、雜芳族基團及伸乙烯基基團組成，其等係由單鍵來互相連接。
一伸乙烯基基團為一個二價-CH=CH-基團，其中二個碳係藉由一雙鍵予以連接。任何的伸乙烯基基團可以具有氫的任何一個或者二者選擇性地被取代。
一芳族基團為具有4n+2π電子之一環狀基團，該處n為等於或大於0的整數。如使用於本文中，“芳族”係與“芳基”可替換地使用以提及一芳族基團，不論該芳族基團的價(valency)。因而，芳基係提及為單價芳族基團、二價芳族基團以及較高的多價芳族基團。任何的芳族基團可以選擇性地被取代。
一雜芳族基團為含有一或更多個雜原子於主鏈中之一芳族基團，例如：N、O、S、Se、Si或P，舉例而言。如使用於本文中，“雜芳族”係與“雜芳基”可替換地使用，以及一雜芳基基團係提及為含有一或更多個雜原子之單價芳族基團、二價芳族基團(亦即，雜伸芳基)以及較高的多價芳族基團。任何的雜芳族基團可以選擇性地被取代。
會明瞭到，未經取代的終端芳族或雜芳族基團(亦提及為端蓋基團；亦即，在一分子的一端，其係由多重的芳族及/或雜芳族基團的連結所形成的)會為單價的，以及一未經取代的內部芳族或雜芳族基團(亦即，於一鏈之內以及不在一分子的一端，由多重的芳族及/或雜芳族基團的連結所形成的)會為至少二價的。
如使用於本文中，當說明一特定的芳族或雜芳族基團之拉電子的(亦即，接受的)或者供電子的特性時，使用此等術語係相對於一未經取代的苯基基團之參考基團，不論單價或者二價，取決於是否該相關的基團為一終端的基團或者屬於主鏈中的。苯為弱供電子的，以及因而當與苯基基團比較時，本文中說明之供予電子的芳族或雜芳族基團具有等價的或更大的供電子的特性。相比之下，本文中說明之拉電子(接受電子)的芳族或雜芳族基團當與苯基基團比較時，具有較小的供電子的特性。因而，當一假定的芳族或雜芳族基團係共軛至一苯基基團時，設若苯基基團的π電子雲移動朝向該假定的芳族或雜芳族基團，該基團被認為是拉電子；否則，該基團被認為是供電子的。能使用慣用的方法與技術來決定是否一苯基基團的π電子雲會移動朝向一假定的芳族或雜芳族基團，包括：親電子取代反應，或者電子密度之理論上的計算。
應該注意到此說明書中所提供之可能的元素或特徵之任何的列表，屬於一假定的列表之內的任一子集亦為意欲的。同樣地，關於所提供的任何範圍、屬於一假定的範圍內之任何的次範圍亦為意欲的。
於式I中之各個A為獨立地選擇的具有由5至50個主鏈原子之共軛拉電子的芳族或雜芳族基團，或者被一或二個拉電子取代基所取代之伸乙烯基基團。因而，A可以為由6至50個主鏈的碳原子之共軛拉電子的芳族基團、具有由5至50個主鏈原子之共軛拉電子的雜芳族基團，或者被一或二個拉電子取代基所取代之伸乙烯基基團。
各個芳族或雜芳族A可以選擇性地被一或更多個取代基所取代，但有條件是當經取代時，各個A的電子特性為接受電子的，如上所說明的。因而，取代基包括拉電子取代基以及供予電子取代基。
一“拉電子取代基”為一取代基，其具有拖拉電子離開被該取代基所取代之芳族或雜芳族基團的主鏈之傾向，朝該取代基，在該取代基處或者接近該取代基處創造富電子的區域。拉電子取代基包括：鹵素、氟烷基(包括全氟烷基)、羧基、氰基、銨基、硝基、亞硫醯基、磺醯基、經由氧連結至主鏈之醯胺基、吡啶鎓、鏻、吡啶基、噻唑基、二唑基以及三唑基基團。
一“供予電子取代基”為一取代基，其為富電子的，以及因而具有推電子接近被該取代基所取代之芳族或雜芳族基團的主鏈，至如式I中提出之A基團和D基團的主鏈所創造之共軛系統內的傾向。供予電子取代基包括：烷氧基、烷基硫、胺基、羥基、經由氮連結至主鏈之醯胺基、經由氧連結至主鏈之羧基、苯基、萘基、噻吩基、呋喃基、吡咯基、咔唑基、烷基、烯基以及炔基。
於式I中之各個D為獨立地選擇的具有5至50個主鏈原子之共軛供予電子的芳族或雜芳族基團。各個D可以選擇性地被一或更多個供予電子取代基或拉電子取代基(substitutents)所取代，但有條件是即使當被取代時，各個D的電子特性為供予電子的，如上所說明的。
於式I中，該A核心
受體基團係經特別選擇作為一接受電子的稠合雜芳族基團，舉例而言：具有由8至40個主鏈原子、具有至少一個氮原子於該雜芳族基團的主鏈中以及至少一個S、O或Se原子於該雜芳族基團的主鏈中或者作為該雜芳族基團上之共軛的取代基。
如同以上的A和D一樣，A核心
可以進一步用拉電子或供予電子取代基予以取代，但有條件是即使當經取代時，各個A核心
的電子特性為拉電子的。
因而，各個A核心
、各個A以及各個D的任一者可以是經取代的。取代基包括：烷基、芳基、雜芳基、鹵素(Cl、Br，或F)、氰基或硝基的一或更多者，或者任何的組合。
包含A核心
基團提供了低的LUMO能量位準給該化合物。額外的A基團亦促成低的LUMO以及A核心
和A基團一起促進電子傳遞，而D基團促進電洞傳遞，因而提供了該等化合物之雙極性本質。特定的A核心
、D和A基團可以為經選擇的來以協調式I的化合物之LUMO和HOMO能量位準，以及來對電子傳遞移動率與電洞傳遞移動率進行權衡，因而提供了具有高的、平衡良好的雙極性電荷移動率之化合物。
該A核心
基團可以是，因而產出了具有通式Ia的化合物：
於式Ia中描繪的該A核心
基團中，X為S、O或Se。Ar為一稠合至C2
N2
X環的芳族或雜芳族二價部分，該芳族或雜芳族部分具有，包括Ar所稠合的C2
N2
X環之2個原子，由5至40個主鏈原子；其可以為例如：C、N、S、O或者Se。
特別地，該Ar部分可以是下列二價部分的任何一者，其中虛線代表介於Ar和Ar所稠合的C2
N2
X環之間的共同鍵：
於以上描繪的Ar基團中，各個Ar基團係用適當數目的π電子予以繪製的，好似其係一獨立的芳族或雜芳族基團，而不是稠合如同A核心
的部分。會明瞭到當稠合如同A核心
的部分時，所描繪的Ar部分會具有適當數目的π電子，以便A核心
整個看來為芳族。
縱然提供了以上各種的Ar部分的列表，希望於某些具體例中，各個Ar可以從上表之任一子集獨立地選擇出。
於一些具體例中，該Ar部分為Ar1。於一些具體例中，該Ar部分為Ar2。於一些具體例中，該Ar部分為Ar3。於一些具體例中，該Ar部分為Ar4。於一些具體例中，該Ar部分為Ar5。於一些具體例中，該Ar部分為Ar6。於一些具體例中，該Ar部分為Ar7。於一些具體例中，該Ar部分為Ar8。
於式Ia中，A核心
可以選擇性地被以下所取代，包括例如：Br、F、Cl、硝基、氰基、一或更多個直鏈或支鏈C1
-C40
烷基、於烷基部分具有由1至40個碳之直鏈或支鏈烷氧基、C6
-C40
芳基、C6
-C40
經取代的芳基、具有由5至40個主鏈原子之雜芳基、具有由5至40個主鏈原子之經取代的雜芳基，其之任一者可以選擇性地被F、Cl或CN所取代，當合適時。
於式Ia中，各個D基團為一供電子基團，其包括至少一個5員共軛雜環部份，其含有為S、O或Se之至少一個雜原子，以及其可進一步包括一或更多個額外的雜原子，包括N、S、O或Se。
以上所說明的D基團與式Ia中列舉的A核心
可以具有降低的空間的交互作用。於各個D嵌段內之各個D基團之供電子的特性促進了電洞注入以及傳遞。在沒有限制至任何特定的理論的情況下，關於緊接地鄰接A核心
的D基團，S、O或Se雜原子可以與A核心
內的主鏈N原子交互作用以於主鏈中形成一共面的區域。主鏈中增加的共面性可以促進π-共軛，因而促進電荷傳遞。
因而，於一些具體例中，各個D可以獨立地為下列二價供電子基團之任一者，其中X為S、O或Se：
縱然提供了以上各種的D基團的列表，希望於某些具體例中，各個D可以從上表之任一子集獨立地選擇出。
於某些具體例中，任何一個D可以為D1。於某些具體例中，任何一個D可以為D2。於某些具體例中，任何一個D可以為D3。於某些具體例中，任何一個D可以為D4。於某些具體例中，任何一個D可以為D5。於某些具體例中，任何一個D可以為D6。於某些具體例中，任何一個D可以為D7。於某些具體例中，任何一個D可以為D8。於某些具體例中，任何一個D可以為D9。於某些具體例中，任何一個D可以為D10。於某些具體例中，任何一個D可以為D11。於某些具體例中，任何一個D可以為D12。
任何的D基團可以選擇性地被以下所取代，包括例如：Br、F、Cl、硝基、氰基、一或更多個直鏈或支鏈C1
-C40
烷基、於烷基部分具有由1至40個碳之直鏈或支鏈烷氧基、C6
-C40
芳基、C6
-C40
經取代的芳基、具有由5至40個主鏈原子之雜芳基、具有由5至40個主鏈原子之經取代的雜芳基，其之任一者可以選擇性地被F、Cl或CN所取代，當合適時。
於式Ia中，各個A為一接受電子的選擇性取代芳族或雜芳族基團或是一接受電子的經取代的伸乙烯基基團。
因而，於一些具體例中，各個A可以獨立地為下列二價接受電子基團的任一者：
於以上的A基團A1至A19中，任何的R可以獨立地為直鏈或支鏈C1
-C40
烷基、於烷基部分具有由1至40個碳之直鏈或支鏈烷氧基、C6
-C40
芳基、C6
-C40
經取代的芳基、具有由5至40個主鏈原子之雜芳基、具有由5至40個主鏈原子之經取代的雜芳基，其之任一者可以選擇性地被F、Cl或CN所取代，當合適時。
縱然提供了以上各種的A基團的列表，希望於某些具體例中，各個A可以從上表之任一子集獨立地選擇出。
於某些具體例中，任何一個A可以為A1。於某些具體例中，任何一個A可以為A2。於某些具體例中，任何一個A可以為A3。於某些具體例中，任何一個A可以為A4。於某些具體例中，任何一個A可以為A5。於某些具體例中，任何一個A可以為A6。於某些具體例中，任何一個A可以為A7。於某些具體例中，任何一個A可以為A8。於某些具體例中，任何一個A可以為A9。於某些具體例中，任何一個A可以為A10。於某些具體例中，任何一個A可以為A11。於某些具體例中，任何一個A可以為A12。於某些具體例中，任何一個A可以為A13。於某些具體例中，任何一個A可以為A14。於某些具體例中，任何一個A可以為A15。於某些具體例中，任何一個A可以為A16。於某些具體例中，任何一個A可以為A17。於某些具體例中，任何一個A可以為A18。於某些具體例中，任何一個A可以為A19。
藉由選擇特定的A基團用於包括於該化合物內，聚合物的LUMO能量位準可以降低，促進電子注入以及傳遞。
於各種的具體例中，式Ia的化合物包括下列的化合物1至22，其中R係如以上所定義的：
因而，式I的化合物可以具有化合物1至22的任一者之式子。於某些具體例中，式I的化合物具有化合物1的式子。於某些具體例中，式I的化合物具有化合物2的式子。於某些具體例中，式I的化合物具有化合物3的式子。於某些具體例中，式I的化合物具有化合物4的式子。於某些具體例中，式I的化合物具有化合物5的式子。於某些具體例中，式I的化合物具有化合物6的式子。於某些具體例中，式I的化合物具有化合物7的式子。於某些具體例中，式I的化合物具有化合物8的式子。於某些具體例中，式I的化合物具有化合物9的式子。於某些具體例中，式I的化合物具有化合物10的式子。於某些具體例中，式I的化合物具有化合物11的式子。於某些具體例中，式I的化合物具有化合物12的式子。於某些具體例中，式I的化合物具有化合物13的式子。於某些具體例中，式I的化合物具有化合物14的式子。於某些具體例中，式I的化合物具有化合物15的式子。於某些具體例中，式I的化合物具有化合物16的式子。於某些具體例中，式I的化合物具有化合物17的式子。於某些具體例中，式I的化合物具有化合物18的式子。於某些具體例中，式I的化合物具有化合物19的式子。於某些具體例中，式I的化合物具有化合物20的式子。於某些具體例中，式I的化合物具有化合物21的式子。於某些具體例中，式I的化合物具有化合物22的式子。
任擇地，該A核心
基團可以是，因而產出了具有通式Ib的化合物：
於式Ib中描繪的A核心
基團中，X為S、O或Se。各個R可以獨立地為直鏈或支鏈C1
-C40
烷基、於烷基部分具有由1至40個碳之直鏈或支鏈烷氧基、C6
-C40
芳基、C6
-C40
經取代的芳基、具有由5至40個主鏈原子之雜芳基、具有由5至40個主鏈原子之經取代的雜芳基，其之任一者可以選擇性地被F、Cl或CN所取代，當合適時。
於式Ib中，各個D基團為獨立地選擇的具有由5至50個主鏈原子之共軛供予電子的芳族或雜芳族基團，各個D選擇性地被一或更多個供予電子取代基或拉電子取代基所取代，但有條件是即使當被取代時，各個D的電子特性為供予電子的。
於一些具體例中，各個D可以獨立地為下列二價供電子基團之任一者：
於以上的D基團D13至D35中，任何的R’可以獨立地為直鏈或支鏈C1
-C40
烷基、於烷基部分具有由1至40個碳之直鏈或支鏈烷氧基、C6
-C40
芳基、C6
-C40
經取代的芳基、具有由5至40個主鏈原子之雜芳基、具有由5至40個主鏈原子之經取代的雜芳基，其之任一者可以選擇性地被F、Cl或CN所取代，當合適時。
縱然提供了以上各種的D基團的列表，希望於某些具體例中，各個D可以從上表之任一子集獨立地選擇出。
於某些具體例中，任何一個D可以為D13。於某些具體例中，任何一個D可以為D14。於某些具體例中，任何一個D可以為D15。於某些具體例中，任何一個D可以為D16。於某些具體例中，任何一個D可以為D17。於某些具體例中，任何一個D可以為D18。於某些具體例中，任何一個D可以為D19。於某些具體例中，任何一個D可以為D20。於某些具體例中，任何一個D可以為D21。於某些具體例中，任何一個D可以為D22。於某些具體例中，任何一個D可以為D23。於某些具體例中，任何一個D可以為D24。於某些
具體例中，任何一個D可以為D25。於某些具體例中，任何一個D可以為D26。於某些具體例中，任何一個D可以為D27。於某些具體例中，任何一個D可以為D28。於某些具體例中，任何一個D可以為D29。於某些具體例中，任何一個D可以為D30。於某些具體例中，任何一個D可以為D31。於某些具體例中，任何一個D可以為D32。於某些具體例中，任何一個D可以為D33。於某些具體例中，任何一個D可以為D34。於某些具體例中，任何一個D可以為D35。
如上所陳述的，任何的D基團可以選擇性地被以下所取代，包括例如：Br、F、Cl、硝基、氰基、一或更多個直鏈或支鏈C1
-C40
烷基、於烷基部分具有由1至40個碳之直鏈或支鏈烷氧基、C6
-C40
芳基、C6
-C40
經取代的芳基、具有由5至40個主鏈原子之雜芳基、具有由5至40個主鏈原子之經取代的雜芳基，其之任一者可以選擇性地被F、Cl或CN所取代，當合適時。
於式Ib中，各個A為一接受電子的選擇性取代之芳族或雜芳族基團或是一接受電子的經取代之伸乙烯基基團。
因而，於一些具體例中，各個A可以獨立地為下列二價接受電子基團之任一者：
於以上的A基團A20至A35中，X為S、O或Se，以及任何的R或R’可以獨立地為直鏈或支鏈C1
-C40
烷基、於烷基部分具有由1至40個碳之直鏈或支鏈烷氧基、C6
-C40
芳基、C6
-C40
經取代的芳基、具有由5至40個主鏈原子之雜芳基、具有由5至40個主鏈原子之經取代的雜芳基，其之任一者可以選擇性地被F、Cl或CN所取代，當合適時。
縱然提供了以上各種的A基團的列表，希望於某些具體例中，各個A可以從上表之任一子集獨立地選擇出。
於某些具體例中，任何一個A可以為A20。於某些具體例中，任何一個A可以為A21。於某些具體例中，任何一個A可以為A22。於某些具體例中，任何一個A可以為A23。於某些具體例中，任何一個A可以為A24。於某些具體例中，任何一個A可以為A25。於某些具體例中，任何一個A可以為A26。於某些具體例中，任何一個A可以為A27。於某些具體例中，任何一個A可以為A28。於某些具體例中，任何一個A可以為A29。於某些具體例中，任何一個A可以為A30。於某些具體例中，任何一個A可以為A31。於某些具體例中，任何一個A可以為A32。於某些具體例中，任何一個A可以為A33。於某些具體例中，任何一個A可以為A34。於某些具體例中，任何一個A可以為A35。
藉由選擇特定的A基團用於包括於該化合物內，聚合物的LUMO能量位準可以降低，促進電子注入以及傳遞。
於各種的具體例中，式Ib的化合物包括下列的化合物1以及化合物23至37，其中R係如以上所定義的：
會明瞭到化合物1屬於式Ia與式1b二者，以及取決於各種D基團、A基團以及A核心
之精確的選擇，其他的化合物可以被設計成屬於式Ia和Ib。
因而，式I的化合物可以具有化合物1及化合物23至37的任一者之式子。於某些具體例中，式I的化合物具有化合物1的式子。於某些具體例中，式I的化合物具有化合物23的式子。於某些具體例中，式I的化合物具有化合物24的式子。於某些具體例中，式I的化合物具有化合物25的式子。於某些具體例中，式I的化合物具有化合物26的式子。於某些具體例中，式I的化合物具有化合物27的式子。於某些具體例中，式I的化合物具有化合物28的式子。於某些具體例中，式I的化合物具有化合物29的式子。於某些具體例中，式I的化合物具有化合物30的式子。於某些具體例中，式I的化合物具有化合物31的式子。於某些具體例中，式I的化合物具有化合物32的式子。於某些具體例中，式I的化合物具有化合物33的式子。於某些具體例中，式I的化合物具有化合物34的式子。於某些具體例中，式I的化合物具有化合物35的式子。於某些具體例中，式I的化合物具有化合物36的式子。於某些具體例中，式I的化合物具有化合物37的式子。
該式I的化合物可以使用商業上可得的試劑，使用例行的化學技術，包括經由適當的反應(例如，舉例而言：鈴木耦合反應(Suzuki coupling reaction)或斯蒂爾耦合反應(Stille coupling reaction))，予以合成。
於以下的實施例中提出特定的反應方案以合成化合物1和2，於方案1和2中，可以使該等反應方案改造供用於式I中之其他的化合物之合成。
該式I的化合物可以於有機溶劑內展現出高的溶解度以及可以使用標準的技術容易地純化，包括沉澱及/或莎列特式萃取(Soxhlet extraction)。
式I的化合物之HOMO(最高的佔用分子軌域)以及LUMO(最低的未佔用分子軌域)的能量位準可以經由選擇被包括於一特定的化合物內之特定的供電子D基團和拉電子A基團，且配合各個受體嵌段和施體嵌段的數目和長度來協調。因而，式I的化合物之能帶隙(介於HOMO和LUMO能量位準之間的差異)可以藉由變化該等化合物內使用的A和D基團來變更。
能量位準的可調性，和容易合成和純化一起，可以使得該式I的化合物有用於一般的應用作為單一組件雙極性半導體材料。舉例而言，該式I的化合物可以使用作為半導體材料於有機薄膜電晶體內。
該式I的化合物係適合用於溶液加工的，因而允許生產含有此一化合物之薄膜，用於包括於一有機電子元件內。因而，現在有提供包含式I的化合物之一薄膜，包括式Ia及/或式Ib的化合物。於各種的具體例中，該薄膜可以包含如上說明的化合物1至42的任一者。
該薄膜為一層，其包含如上所說明的式I的化合物，該薄膜可以被形成為要達到以下數量的：從大約1至大約1000 nm厚，從大約5至大約500 nm厚，從大約10至大約250 nm厚，或者從大約10至大約100 nm厚。
該薄膜可以形成於一適當的基材上，其可以是任何的固體基材，包括：銦錫氧化物(ITO)塗覆的玻璃或塑膠、氟錫氧化物(FTO)塗覆的玻璃或塑膠、石英、玻璃、雲母、塑膠基材(例如，聚對酞酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)，或聚碳酸酯)、紙、金屬，或者矽。該薄膜亦可以沉積於另一層之上，當形成一多層元件時，或者沉積至一電極上。
為了形成該薄膜，式(I)的化合物以及任何額外的膜的組分可以被溶解於一適當的有機溶劑中。適當的溶劑包括：二氯甲烷、氯仿、庚烷、辛烷、甲苯、二甲苯、苯甲酸乙酯、苯甲酸甲酯、1,1,2,2-四氯乙烷、THF、二烷、氯苯、二氯苯、三氯苯、，以及前述的溶劑的混合物。
該薄膜可以使用任何適當的沉積或塗佈的方法(包括溶液塗佈)而形成於適當的表面上。溶液塗佈包括：旋轉塗佈、鑄造、微凹版塗佈、凹版塗佈、棒式塗佈、滾軸塗佈、金屬線棒式塗佈(wire bar coating)、浸塗、噴霧塗佈、網板印刷、柔版印刷、平版印刷以及噴墨列印。
式(I)的化合物以及含有此等化合物的薄膜可以使用來建構有機電子元件。式(I)的化合物以及含有此等化合物的薄膜可以形成半導體材料或者電荷傳遞材料於一種有機電子元件內，其包括一有機薄膜電晶體、一有機光伏打、一有機發光二極體、一化學感測器，或者一生物感測器。此等元件為本技藝已知的。
因而，現在有提供一元件，其包含式(I)的化合物或者包含式(I)的化合物之一薄膜。該元件可以為一薄膜電晶體。
於一具體例中，如第1圖中描繪的，該元件2包含一底柵、頂接觸薄膜電晶體。該元件包含一閘極10、一源極12，以及一汲極14。該閘極10係藉由一閘介電質18而與該源極12與汲極14分隔開。一包含式I的化合物之半導體材料16，舉例而言，以一薄膜的形式，係與該閘介電質18接觸以及於源極12與汲極14之間形成一傳導路徑。
該半導體材料16可以具有從大約5 nm至大約1 μm，包括任何的中間值或範圍，的厚度。
該閘極10可以包含摻雜的矽(舉例而言，p+
或n+
摻雜的矽)、金屬(例如：Al、Cu、Ni、Ag，或Au)、一傳導性聚合物(例如：PEDOT：PSSA)，或者一傳導性的金屬氧化物(例如，銦錫氧化物(ITO))。該閘極10可以具有從大約20 nm至大約5 mm的厚度。
該閘介電質18可以是，舉例而言，二氧化矽，其可以用例如包含辛基三氯矽烷之有機矽烷之自我組合的單層選擇性地予以改質，來改良該介電層18和該半導體材料16之介面的性質及/或促進該半導體材料16之分子的排序。
該源極12和汲14電極可以由任何適當的傳導性材料所製造，如同閘極10所使用的，以及可以為相同的或不同的材料。於一些具體例中，源極12與汲極14係由相同的金屬，舉例而言金所製造的。
該等以上提及的元件可以藉由使相關的層沉積於互相的頂部之上來製備。該等層可以藉由本技藝已知的方法予以製備，包括以上提及的溶液塗佈技術。溶液塗佈的步驟可以於周圍的條件下或者於惰性氛圍內進行，例如，舉例而言，於氮氣下。任擇地，一些層可以藉由熱蒸鍍予以製備。金屬層可以藉由已知的技術予以製備，例如，舉例而言：熱或者電子束蒸鍍、化學氣相沉積或濺鍍，或者藉由列印傳導性的墨水。層可以在從大約30℃至大約300℃的溫度下予以退火。
下列的實施例係僅僅打算作為例示性的以及無論如何不打算限制本發明的範疇。
聚合物(1)係依據以下提出之方案1予以合成，以下列的合成步驟為主：i)丁二酸二異丙酯/t-C5
H11
OK/2-甲基-2-丁醇/120℃；ii) 2-辛基-1-十二烷基溴/K2
CO3
/DMF/130℃；iii)NBS/氯仿；v) Pd(dppf)Cl2/KOAc/1,4-二烷；vi)Pd(PPh3
)4
/Aliquat 336/2M K2
CO3
/甲苯。
(i) 2,5-二氫-1,4-二氧-3,6-二噻吩基吡咯[3,4-c]-吡咯(1-2)的合成：
將鈉金屬(6.90 g，0.30 mol)添加至100 mL的三級戊醇中且添加小量的氯化鐵(III)(100 mg)。在105℃激烈地攪拌混合物歷時2hr直到鈉溶解為止。在85℃冷卻該溶液且添加2-噻吩甲腈(22.0 g，0.2 mol)。將溶解於10 mL的三級戊醇中之丁二酸二異丙酯(16.6 g，0.08 mol)在85℃、在1 hr期間內逐滴地添加至反應混合物內。反應混合物係在此溫度攪拌歷時12 hrs，接而冷卻至50℃，用100 mL的甲醇予以稀釋，以及接而用30 ml的冰醋酸予以緩慢地中和且短暫地予以回流，以及接而予以過濾。殘餘物係用熱的甲醇和水予以清洗數次，以及於一真空烘箱中在50℃乾燥所生成的固體。獲得到暗紅色的粉末，其係在沒有進一步純化的情況下來使用(20 g，83%)。
(ii) N,N’-雙(2-辛基1-十二烷基)-3,6-二噻吩基-1,4-二酮吡咯[3,4-c]吡咯(1-3)的合成：
於一3頸烘箱乾燥的250 ml圓底燒瓶中，將2,5-二氫-1,4-二氧-3,6-二噻吩基吡咯[3,4-c]-吡咯(2)(7.0 g. 23.30 mmol)和無水的K2
CO3
(8.95 g，69.91 mmol)溶解於250 ml的無水的N,N-二甲基甲醯胺(DMF)中，以及於氬中加熱至120℃歷時1h。接而逐滴地添加2-辛基-1-十二烷基溴(25.27 g，69.91 mmol)，以及該反應混合物係予以進一步攪拌且在130℃加熱過夜。使反應混合物冷卻降至室溫，且接而傾注至水內，以及攪拌歷時30分鐘。該產物係用氯仿予以萃取，接而相繼地用水予以清洗，以及於MgSO4
上乾燥。移去溶劑，提供了粗產物，其接而使用利用己烷和氯仿的混合物作為洗提液之純化管柱層析法於矽凝膠上予以純化，供給了紫色固體(11.0g，54%)。1
H NMR(CDCl3)：(0.87(t，12H)，1.13-1.45(m，64 H)，1.89(s，2 H)，4.00(d，4 H)，7.26(d，2 H)，7.52(d，2 H)，8.87(d，2 H)。MS(MALDI-TOF) m/z 860.63(M). C54
H88
N2
O2
S2
的估算值=860.25。
(iii) 3,6-雙-(5-溴-噻吩-2-基)-N,N’-雙((2-辛基-1-十二 烷基)-1,4-二氧-吡咯[3,4-c]吡咯(1-4)的合成：
將化合物N,N’-雙(2-辛基十二烷基)-3,6-二噻吩基-1,4-二酮吡咯[3,4-c]吡咯(3)(7.0 g，8.12 mmol)和50 ml的氯仿添加至裝備有一攪拌棒、一冷凝器，和一額外的漏斗之100 mL的3頸燒瓶。將配於20 mL的氯仿之0.832 ml(16.25 mmol)的溴(Br2
)在室溫下添加至該燒瓶中。該混合物係在室溫下攪拌過夜。隔天令該反應混合物緩慢地傾注至含水的硫代硫酸鈉溶液之內，以及攪拌歷時30分鐘。該產物係用氯仿予以萃取，接而相繼地用水予以清洗，以及於MgSO4
上乾燥。移去溶劑，提供了粗產物，其接而使用純化管柱層析法(矽凝膠，己烷：氯仿作為洗提液)予以純化，供給了暗紫色的固體(6.45g，78%)。1
H NMR(CDCl3)：0.86(t，12 H)，1.10-1.47(m，64 H)，1.88(s，2 H)，3.98(d，4 H)，7.52(d，2 H)，7.22(d，2 H)，8.63(d，2 H)。MS(MALDI-TOF) m/z 1016.45(M). C54
H86
Br2
N2
O2
S2
的估算值=1017.45(M+1)。
(v) 4,7-雙(4,4,5,5-四甲基-1,3,2-二 戊硼烷-2-基)苯并 噻二唑(1-6)
：將4,7-二溴-2,1,3-苯并噻二唑(5)(4 g，13.64 mmol)、聯硼酸品納可酯(bis(pinacolato)diboron)(8 g，31.20 mmol)、PdCl2
(dppf)(2.0 g，2.4 mmol)，和KOAc(8 g，80 mmol)的混合物維持於真空下歷時10分鐘，以及接而脫氣。於氬中添加1,4-二烷(40 mL)。該反應混合物係在80℃予以攪拌歷時過夜。該反應係用水予以淬火，以及生成的混合物係用乙酸乙酯(100 mL)予以清洗。有機層係用鹽水予以清洗，於Na2
SO4
上乾燥，以及於真空中濃縮以出產暗紅色固體。該固體係藉由配於己烷中之3%乙酸乙酯之矽凝膠層析法予以純化來供給所欲的化合物為粉紅色固體(2.4 g，46%)。FD-MS：m/z=388.0(估算值388.1)。1
H NMR(250 MHz，CDCl3)：δ8.13(s，2H)，1.42(s，24H)。
(vi)聚合物(1)的合成：
將3,6-雙-(5-溴-噻吩-2-基)-N,N’-雙((2-辛基-1-十二烷基)-1,4-二氧-吡咯[3,4-c]吡咯(1-4)(0.300 g，0.29 mmol)、4,7-雙(4,4,5,5-四甲基-1,3,2-二戊硼烷-2-基)苯并噻二唑(1-6)(0.114 g，0.29 mmol)、K2
CO3
(3 ml，2 M)以及2滴的Aliquat 336於一希冷克燒瓶(Schlenk flask)中溶解於6 ml甲苯內。該溶液用氬沖洗歷時30分鐘，以及接而添加肆(三苯膦)鈀(Pd(PPh3
)4
)(20 mg，0.017 mmol)。該反應係在80℃攪拌歷時3天。接而添加苯硼酸之甲苯溶液，接著添加溴苯以及攪拌過夜。將生成的混合物傾注至甲醇和水的混合物之內以及攪拌過夜。將沉澱的深色固體再溶解於氯仿內以及逐滴地添加至甲醇(250 ml)。生成的固體係予以過濾去除以及於甲醇、丙酮，和己烷內接受莎列特式萃取歷時2天用於移去寡聚物和其他的雜質。殘餘物最後用氯仿予以萃取且由甲醇再次沉澱，予以過濾，用甲醇予以清洗，以及予以乾燥。(200 mg，69%產量)。
聚合物(2)
係依據以下提出之方案2予以合成，以下列的合成步驟為主：i)2-丁基-1-辛醇，H2
SO4
，98%；ii) AgNO3
/KF/Pd(PhCN)Cl2
/DMSO，62%；iii) 2-三丁基錫烷基噻吩，Pd2
dba3
/P(鄰甲苯基)3
/甲苯，75%；iv) 2 eq.NBS，97%；v) Pd(PPh3
)4
，2M Na2
CO3
，2,1,3-苯并噻二唑-4,7-雙(硼酸品納可酯)，甲苯，回流，24 hr，56%。
(i) 2-丁基-1-辛基2-溴-3- 噻吩 羧基酯(2-butyl-1-ocatyl 2 - bromo - 3 - thiophenecarboxylate)的合成 ：
於裝備有迪安-斯塔克(Dean-Stark)裝置和水冷凝器之500 ml圓底燒瓶中放置4.5g的2-溴-3-噻吩甲酸(21.7 mmol)、9.32 g(50 mmol)的2-丁基-1-辛醇、0.44 g(4.8 mmol)的conc. H2
SO4
，以及100 ml的甲苯。使混合物於回流下加熱歷時24 hr。使混合物冷卻至室溫且接而溶解於乙酸乙酯(100 ml)中，且該溶液係用稀釋的碳酸氫鈉(2次)和水(2次)予以清洗，且接而於MgSO4
上乾燥，以及移去溶劑。殘餘物係使用甲苯於二氧化矽上之純化管柱層析法予以純化。產量：8.0g(98%)。
(ii)雙(2-丁基-1-辛基)5,5'-二溴-2,2'-雙噻吩-4,4'-二羧 基酯的合成 ：
將2-丁基-1-辛基2-溴-3-噻吩羧基酯(7.56 g，20.1 mmol)、PdCl2
(PhCN)2(88 mg，0.23 mmol)、氟化鉀(2.63 g，45.3 mmol)，以及DMSO(100 ml)添加至一裝備有一磁性攪拌棒的100 ml希冷克管(Schlenk tube)。一次性添加AgNO3
(7.70 g，45.3 mmol)以及生成的混合物係在60℃加熱、伴隨攪拌歷時3 h。接而添加額外的AgNO3
(7.70 g，45.3 mmol)和氟化鉀(2.63 mg，45.3 mmol)以及持續攪拌歷時另外的3 h。將反應混合物傾注至一分離用的漏斗之內以及添加甲苯(100 ml)和水(100 ml)。有機層係用水清洗3次，以及於MgSO4
上乾燥。使溶液通經賽力特矽藻土(Celite)襯墊以移去固體殘餘物以及用甲苯重複清洗濾餅。在移去溶劑之後，殘餘物係藉由使用甲苯/己烷=1/1之矽凝膠上之純化管柱層析法予以純化。2.70 g的雙(2-丁基-1-辛基)5,5'-二溴-2,2'-雙噻吩-4,4'-二羧基酯為淡黃色的液體。產量：2.70 g(36%)。
(iii)雙(2-丁基-1-辛基)5,5'-雙(2-噻吩基)-2,2'-雙噻吩 -4,4'-二羧基酯的合成：
將Pd(PPh3
)4
(46 mg，0.04 mmol)，以及無水的DMF(15 ml)添加至雙(2-丁基-1-辛基)5,5'-二溴-2,2'-雙噻吩-4,4'-二羧基酯(1.00 g，1.34 mmol)和2-三丁基錫烷基噻吩(1.50 g，4 mmol)的混合物內。將混合物放置於真空下且用氬沖洗數次，以及放置於一微波反應器上、伴隨160℃的設定歷時60 min。將反應混合物冷卻至室溫以及移去溶劑。殘餘物係用甲醇予以清洗以移去微量的DMF。在乾燥之後，將液體溶解於己烷中，以及係藉由使用己烷/乙酸乙酯(9/1)(Rf=0.5)的混合物之矽凝膠上之純化管柱層析法予以純化2次。獲得到淡黃色的液體。產量：1.01 g(100%)。
(iv)雙(2-丁基-1-辛基)5,5'-雙(5-溴-2-噻吩基)-2,2'-雙 噻吩-4,4'-二羧基酯的合成：
在室溫下將雙(2-丁基-1-辛基)5,5'-雙(2-噻吩基)-2,2'-雙噻吩-4,4'-二羧基酯(1.01 g，1.34 mmol)溶解於DMF(20 ml)中。將N-溴琥珀醯亞胺(NBS)(0.477 g，2.68 mmol)添加至反應混合物，且攪拌歷時5 hr，以及接而予以冷卻降至室溫。形成黃色的沉澱物，其係被過濾以及用甲醇予以清洗。固體接而由DMF(20 ml)予以再結晶3次以供給黃色的結晶。產量：0.80 g(66%)。
(v)聚合物(2)的合成 ：
將雙(2-丁基-1-辛基)5,5'-雙(5-溴-2-噻吩基)-2,2'-雙噻吩-4,4'-二羧基酯(0.365 g，0.4 mmol)、2,1,3-苯并噻二唑-4,7-雙(硼酸品納可酯)(0.155 g，0.4 mmol)、Aliquat 336(0.1 g)，以及2 M Na2
CO3
(1 ml)裝入裝備有一冷凝器之50 ml燒瓶內。在用氬沖洗以及排空3次之後，添加Pd(PPh3
)4
，和10 ml的甲苯一起。使混合物在100℃加熱歷時24 hr，在冷卻降至室溫之前。接而將溶液傾注至甲醇-水混合物(200 ml，9：1)之內。沉澱物係藉由過濾予以收集，用50 ml的甲醇予以清洗，以及予以乾燥。在用丙酮、己烷之莎列特式萃取(Sohxlet extraction)之後，以及接而用氯苯溶解聚合物。在移去溶劑之後，獲得到藍色的聚合物。產量：0.20(56%)。
頂接觸/底柵OTFT元件係製造如下。
(i) 基材的製備：
p+
-Si(或n+
-Si)/SiO2
基材係使用於OTFT製造，該處p+
-Si(或n+
-Si)和SiO2
各別地操作作為閘接觸和閘介電質。基材係接受使用超音波處理之例行的清潔於丙酮中，甲醇和去離子水中。經清潔的晶圓係於氮流下予以乾燥且在100℃加熱歷時5分鐘，以及接而接受UV-臭氧處理歷時20分鐘。
(ii)自我組合的單層(SAM)：
p+
-Si(或n+
-Si)/SiO2
基材係被維持於一乾燥器內伴隨很少滴的辛基三氯矽烷(octyltricholorosilane)(OTS)。施加真空至該乾燥器歷時3分鐘，以及接而將該乾燥器放置於一烘箱中以110℃歷時3小時。p+
-Si(或n+
-Si)/SiO2
基材接而被移離開乾燥器，用異丙醇予以徹底沖洗以及於氮氣流下乾燥。
(iii)有機半導體的薄膜之沉積：
(1
)的一薄膜係藉由將配於氯仿內之(1
)的溶液(8 mg/mL)予以旋轉塗佈而沉積於以上陳述的基材之上，接著於氮下選擇性地各別在80℃、120℃、160℃以及200℃予以熱退火。
(iv)源極/汲極之沉積：
一旦有機的薄膜沉積於基材上，頂接觸底柵OTFTs係藉由使用陰影遮罩而使~100 nm的金沉積作為源極接點和汲極接點來製造。典型的OTFT元件具有50、100或者200 μm的通道長度(L)以及不是1 mm就是3 mm的通道寬度(W)。
(1)的熱性質係藉由示差掃描熱析法(DSC)來調查。在加熱/冷卻掃描的期間、在-20℃至300℃的一範圍內沒有觀察到值得注意的熱轉化。材料(1
)之熱穩定性係藉由熱重量分析(TGA)予以特徵化，其顯示出~375℃之熱分解溫度(Td)於N2
下，指示出其之優良的熱穩定性。
(1)之光物理的性質係藉由UV-vis-NIR光譜學(第2圖)予以特徵化。聚合物在~900 nm顯示出最大的吸收。從吸收的截止值所計算出的光學能帶隙為1.20 eV，指示出(1
)為一低能帶隙的半導體。
使用聚合物薄膜之循環伏安圖(CV)來決定聚合物(1
)的HOMO。1的HOMO為~5.2 eV，由開始氧化電位計算出的。(1
)的LUMO為~4.0 eV，由HOMO以及光學能帶隙所決定。聚合物(1
)之HOMO和LUMO位準對於OTFT元件內之電洞和電子之易做到的注入以及電洞和電子之安定的傳導為令人滿意的。
場效薄膜電晶體的性能之評估係使用吉時利(Keithley)4200參數分析儀於氮下於一手套箱中來完成。載子移動率，μ，係依據方程式(a)由飽和的狀態(閘極電壓，VG
<源極-汲極電壓，VSD
)之數據計算出：
ISD
=Ci
μ(W/2L)(VG
-VT
)2
(a)
ISD
為飽和的狀態之汲極電流，W和L各別地為半導體通道寬度和長度，Ci
為每單元面積的閘介電質層之電容，以及VG
和VT
各別地為閘極電壓和閾電壓。該元件的VT
係由在飽和的狀態之ISD
的平方根以及該元件的VG
之間的關係、經由外插測量的數據至ISD
=0來決定。
OTFT元件顯示出特徵性雙極性場效特徵及電洞和移動率(moblities)，如表1中指出的。
底柵、頂接觸OTFT元件係藉由以下方式製造：使配於氯仿內之聚合物(1
)的8 mg/mL溶液旋轉塗佈於p+
-(或n+
)摻雜的矽晶圓之上，具有200 nm厚的熱生長的矽氧化物層，其係經由一單層的辛基三氯矽烷予以改質的。該等膜的一些係於氮下各別地在80℃、120℃、160℃以及200℃予以退火歷時10 min。在使金源極和汲極沉積於該聚合物層的頂部上之後，該等元件係使用吉時利4200參數分析儀於氮下於一手套箱中予以特徵化。OTFT元件s of聚合物(1
)顯示出如於第3圖和第4圖中顯示之輸出和轉移曲線清楚可見的特徵性雙極性場效的性能。
從電子和電洞強化模式操作之飽和狀態獲得到的電洞和電子移動率係總結於以上的表1內。非退火元件顯示出0.037 cm2
/V.s的電子移動率以及0.063 cm2
/V.s的電洞移動率。退火的半導體薄膜顯示出電子和電洞移動率二者之戲劇性的增加。最高的電洞和電子移動率各別地為0.40 cm2
/V.s和0.35 cm2
/V.s，係從具有在200℃退火的(1)之薄膜的元件所獲得到的。
於此說明書中引述之全部的出版物和專利申請案係被併入本文中以作為參考資料，猶如各個個別的出版物或專利申請案係特別地且分別地被指出要被併入以作為參考資料一般。任何的出版物或者專利申請案之引用係為了在提申日期之前的其之揭示，以及不應被解釋成承認本發明由於先前的發明沒有權力或資格先於此出版物或專利申請案。
如使用於此說明書以及附隨的申請專利範圍中，術語“包含(comprise)”、“包含(comprising)”、“包含(comprises)”以及其他形式的此等術語係意欲非限制性的含括性的認定，亦即，要包括特定列舉的元件或者組分，在沒有排除任何其他的元件或組分的情況下。如使用於此說明書以及附隨的申請專利範圍中，所提供之全部的範圍或者列表係意欲表達包含於其內之任何的中間值或範圍或者任何的子表。除非用其他方式定義，使用於本文中之全部的技術和科學術語具有如同熟悉此發明所屬之技藝者普遍了解之相同的意義。
縱然前述的發明已經較詳細地經由闡釋和實施例予以說明為了了解清楚之目的，但熟悉此藝者按照此發明的教示可以做出某種程度的改變和修飾而不背離附隨的申請專利範圍之精神或範疇為容易明顯的。
2．．．元件
10．．．閘極
12．．．源極
14．．．汲極
16．．．半導體材料
18．．．閘介電質
第1圖為一有機薄膜電晶體元件結構之概要的圖式；
第2圖描繪出DPP-OD-BTZ(1
)之UV-vis-NIR，本發明之一例示性的聚合物；
第3圖顯示出DPP-OD-BTZ(1
)為主的雙極性OFET元件之電洞強化模式(A)和電子強化模式(B)的輸出特徵(VDS
vs IDS
)之圖，該元件係於OTS處理的p+
-Si/SiO2
基材上於200℃予以退火；以及
第4圖顯示出DPP-OD-BTZ(1
)為主的OTFT元件之轉移特徵(VGS
-IDS
)的圖，該元件係於200℃予以退火，操作於電洞(左)和電子(右)強化模式，於OTS處理的p+
-Si/SiO2
基材上加工。
Claims (10)
- 一種式I的化合物：[Da -A核心 -Db -Ac -]n (I)其中各A核心 被選擇使得該化合物具有式Ia或Ib：
- 如申請專利範圍第1項之化合物，其具有式Ia。
- 如申請專利範圍第1項之化合物，其具有式Ib。
- 如申請專利範圍第1項之化合物，其為化合物1至27及31至37的任一者：
- 一種薄膜，其包含如申請專利範圍第1至4項中任一項之化合物。
- 一種有機電子元件，其包含如申請專利範圍第1至4項中任一項之化合物。
- 一種有機電子元件，其包含如申請專利範圍第5項之薄膜。
- 一種有機電子元件，其為一薄膜電晶體，該元件包含一閘極，其藉由一閘介電質而與一源極與一汲極分隔開，以及一半導體材料，其係與該閘介電質接觸且於該源極和該汲極之間形成一傳導路徑，該半導體材料包含如申請專利範圍第5項之薄膜。
- 如申請專利範圍第8項之有機電子元件，其中該薄膜電 晶體為一雙極性薄膜電晶體。
- 如申請專利範圍第8或9項之有機電子元件，其中該源極和該汲極係由相同的傳導性材料所製造的。
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