TWI501839B - 玻璃研磨系統用之下單元及使用其之玻璃研磨方法 - Google Patents

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Description

玻璃研磨系統用之下單元及使用其之玻璃研磨方法
本發明係關於一種玻璃研磨系統用之下單元及使用其之玻璃研磨方法，尤指一種用來研磨液晶顯示器用之玻璃表面的玻璃研磨系統用之下單元，及使用其之玻璃研磨方法。
本案係主張2009年3月6日向韓國提申之韓國專利申請案號10-2009-0019290、10-2009-0019292及10-2009-0019293與2010年1月26日向韓國提申之韓國專利申請案號10-2010-0007100之優先權，其整體內容併於此以做參考。
一般而言，應用於液晶顯示器之玻璃(或玻璃片)維持有特定程度之平坦度係非常重要的，如此才能精確地顯示影像。因此，應移除透過浮室所形成之浮法玻璃表面上之細微波紋。
玻璃研磨製程可被分類為「奧斯卡(Oscar)」型研磨及「同軸(inline)」型研磨，「奧斯卡(Oscar)」型研磨係對玻璃一個接一個地各別進行研磨，而「同軸(inline)」型研磨係連續對一連串的玻璃進行研磨。
當使用習知玻璃研磨裝置時，裝有研磨墊之研磨板(或頂板)會於水平方向移動，而其上置有玻璃之研磨台 (或底板)會旋轉，於此過程中，會藉由隨意散落的方式將研磨漿料供應至研磨板上，以對玻璃進行研磨。
此外，於另一種習知玻璃研磨裝置中，研磨墊係設於下單元，而玻璃係固定於研磨板(或上板)。在此，會供應預定研磨漿料至玻璃，以對玻璃進行研磨。
然而，於此習知玻璃研磨裝置及方法中，當玻璃係裝設於研磨裝置之上板或下板時，可能會因粗心而對玻璃造成不必要地刮損。此外，當完成研磨作業後而將玻璃帶到下一個步驟時，玻璃亦可能容易受損。
本發明係為了解決先前技術問題而設計完成的，因此，本發明之目的係在於提供一種玻璃研磨系統用之下單元，其已獲改善俾可將研磨製程中造成玻璃刮損的可能降至最低，其係藉由運輸裝置來運載支撐玻璃的載板，以取代直接運載待研磨玻璃的方式，並使用上板來進行玻璃研磨，而裝載有玻璃之載板則係固定於下單元，且於完成研磨作業後，將支撐玻璃的載板由下單元分離，而後藉由運輸工具將載板帶到下一個步驟。
本發明目的亦在於提供一種使用上述下單元進行玻璃研磨之方法。
為達上述目的，本發明提供一種玻璃研磨系統用之下單元，其包括：一支撐件，係設於可轉動的轉盤；以 及一載板，係固定且設於該支撐件，並具有支撐待研磨玻璃之支撐部，及形成於支撐部相反表面之放置部。
較佳為，該下單元更包括：一黏著板，係插置於支撐件與載板之間。
較佳為，該下單元更包括：一架裝墊，係設於支撐部上，俾使待研磨玻璃置於其上。
較佳為，該載板之放置部更包括：一突出部，係突出於該載板之邊緣以圍繞該支撐件的側邊。
較佳為，該載板係由選自由不鏽鋼、鋁、聚碳酸酯(polycarbonate,PC)、聚丙烯(polypropylene,PP)及聚乙稀所組群組中任一材料所製成。
較佳為，該載板之厚度範圍為約1.0毫米至約20.0毫米。
較佳為，當載板係由不鏽鋼製成時，該載板之厚度為約1.0毫米至約2.0毫米。
較佳為，當載板係由聚碳酸酯製成時，該載板之厚度為約4.0毫米至約10.0毫米。
較佳為，該支撐件係由選自由不鏽鋼、鋁、碳鋼、錫、花崗石、高分子混凝土及高強度混凝土所組群組中任一材料所製成。
較佳為，該支撐件之厚度為約50毫米至約500毫米。
本發明另一態樣亦提供一種玻璃研磨方法，其包括：(a)將其上具有一待研磨玻璃之載板置於一支撐件上，而該支撐件係設於一轉盤；(b)使設有研磨墊之上單 元與玻璃接觸；(c)將研磨漿料透過上單元而供應至玻璃；以及(d)使上單元及轉盤彼此相對移動。
較佳為，該玻璃研磨方法更包括：於完成玻璃研磨時，將載板由支撐件分離。
較佳為，於步驟(a)中，待研磨玻璃係置於架設墊上，而架設墊係插置於載板上。
較佳為，於步驟(a)中，將一黏著板插置於支撐件上，以使載板置於其上。
較佳為，於步驟(a)中，該支撐件係嵌於突出部間所形成之空間中，以固定該載板，而突出部係形成於載板邊緣且於載板之下表面。
於本發明玻璃研磨系統用之下單元及使用其之玻璃研磨方法中，由於待研磨玻璃係藉由載板而運載至研磨裝置，且研磨玻璃時，載板係固定於下單元，待研磨玻璃則係設於載板上，而完成研磨作業後，其係將載有玻璃的載板運載至下一個步驟，因此可將研磨製程造成的玻璃刮損降至最低。
參考隨附圖式，下述具體實施例將更加闡明本發明之其他目的及態樣。
下文將參考隨附圖式，詳細敘述本發明較佳具體實施例。
在敘述之前，應了解使用於本說明書及隨附之申請專利範圍之用語，不該被解釋為侷限在一般及字典上的意義，而是在發明人可適當定義用語的原則基礎上，基於對應於本發明之技術觀點作出最佳的解釋。因此，此處描述僅是為說明用之較佳實施例，不應限制本發明之範疇，應瞭解的是，可作其他不悖離本發明精神及範疇的相等物及修飾。
圖1係本發明一較佳具體實施例之玻璃研磨系統示意圖。
參考圖1，本發明之玻璃研磨系統100係用來研磨大型玻璃G(長度為1,000mm以上且厚度約為0.3mm至1.1mm)之一表面，使該表面具有液晶顯示器(為一舉例)所需之平坦度。又，該玻璃研磨系統100包括：一下單元110，係具有一轉盤112，該轉盤112可以一預定速度旋轉玻璃G，其中待研磨玻璃G係固定於一特定位置；可水平及垂直移動之上單元120，係設於下單元110之上方且設有研磨墊122，俾使研磨墊122可與置於下單元10之玻璃G上表面(或待研磨表面)接觸；以及研磨漿料供應單元130，係由研磨漿料供應部(圖未示)取得研磨漿料，並穿過上單元120而將研磨漿料供應至玻璃G之一表面，此為一舉例。
於本具體實施例之玻璃研磨系統100中，待研磨之矩形玻璃G尺寸(長度及寬度間較小之一者)係大於上單元120及/或其所設有的研磨墊122尺寸(盤型時為直徑)。此外，下單元110之旋轉軸114不與上單元120之軸124位於 一直線，而較佳是可相互偏移(offset)及相對移動。於本具體實施例之玻璃研磨系統100中，若下單元110旋轉，且上單元120同時沿著預定軌道朝水平方向移動，而研磨墊122與待研磨之玻璃G表面接觸時，旋轉之下單元110會使上單元120被動式地轉動，而藉由研磨漿料供應單元130所供應之研磨漿料，可均勻地研磨玻璃G整個表面。
於另一具體實施例中，本領域中具有通常知識者可知悉，上單元120及研磨漿料供應單元130可使用申請人於2009年3月6日所提申之韓國專利申請案號10-2009-192290、10-2009-192292及10-2009-192293所揭露「玻璃研磨系統」中的上單元及研磨漿料供應單元，及申請人於2009年10月8日所提申之韓國專利申請案號10-2009-0095706所揭露「玻璃研磨系統」中的雙頭式上單元。又，應瞭解的是，依據待研磨玻璃之尺寸或玻璃的研磨程度，可調整或適當控制上單元120之轉動與相對轉動及上單元120水平方向的移動軌跡。
本具體實施例玻璃研磨系統之下單元110包括：一支撐件116，係固定於轉盤112，而轉盤112可藉由連接於驅動源(圖未示)之旋轉軸114轉動；以及一載板118，係具有上表面及下表面，而玻璃G係支撐於該上表面上，且下表面可位於該支撐件116上。
該載板118包括：支撐部111，係位於其上表面處，以支撐待研磨玻璃G；以及放置部113，係位於支撐部111相反面之下表面處。該載板118可藉由運輸裝置(圖未示) 而設於該玻璃研磨系統100，俾以藉由支撐部111來支撐玻璃G。藉由載板118之支撐部111所支撐的玻璃G係藉由獨立的夾具或類似物而與載板118一同置於支撐件116上。該放置部可具有一獨立的工具，以固定載板118於該支撐件116。
圖2係本發明另一具體實施例玻璃研磨系統之下單元組成元件分解圖，而圖3係圖2的組裝圖。相同於圖1之參考符號係指具有相同功能之相同元件。
參考圖2及3，此具體實施例之下單元210包括：一支撐件116，以維持高度平坦度；一黏著板212，係設於該支撐件116之上表面；一載板118，可設置圍繞於該支撐件116之邊緣，以選擇性地與黏著板212上表面接觸；以及一架設墊214，插置於載板118之支撐部111與玻璃G間。
支撐件116實質為矩形板結構，且支撐件116較佳係由長期使用仍不會變形的材料製成。為此目的，支撐件116可由如不鏽鋼、鋁、碳鋼、錫、花崗石、高分子混凝土、高強度混凝土或其混合物製成，但不限於此。支撐件116之厚度為約50毫米至約500毫米。
如上所述，載板118包括支撐部111、放置部113及突出部115。換言之，載板118實質為矩形板結構，而置於支撐件116上之放置部113會提供一空間，使支撐件116可嵌於其中。若將載板118裝置於支撐件116，以使放置部113及/或突出部115圍繞部分支撐件116，則載板118的 位置可固定於支撐件116。
突出部115，形成於載板118之放置部113上，較佳係由放置部113之矩形邊緣向支撐件116突出約為支撐件116高度之1/2。又，可適當選擇突出部115之突出長度，只要突出部115可圍繞支撐件116側邊即可。於研磨作業中，突出部115可避免載板118相對於支撐件116水平移動。
如本領域中具有通常知識者輕易知悉，載板118可由不鏽鋼、鋁、聚碳酸酯(polycarbonate,PC)、聚丙烯(polypropylene,PP)、聚乙稀或其類似物，但不限於此。此外，載板118厚度範圍較佳為約1.0毫米至約20.0毫米。尤其，當載板118係由不鏽鋼製成時，載板118之厚度為約1.0毫米至約2.0毫米。又，當載板118係由聚碳酸酯製成時，載板118之厚度為約4.0毫米至約10.0毫米。
當載板118置於支撐件116上時，黏著板212係用於避免載板118相對於支撐件116移動，並於使用玻璃研磨系統研磨玻璃G時，提供某種程度上之緩衝效果。為此，如本領域中具有通常知識者所輕易知悉，黏著板212可使用本領域已知的任何材料、尺寸及結構。
架設墊214係用於避免玻璃G直接設於載板118之支撐部111上時受損。當玻璃G置於載板118之支撐部111上時，架設墊214係先插置於支撐部111上，而後玻璃G再置於該架設墊214上。又，如本領域中具有通常知識者所輕 易知悉，該架設墊214可使用本領域已知的任何材料及/或結構。
下文將解釋本發明一較佳具體實施例之玻璃研磨方法。
首先，將支撐待研磨玻璃G之載板118置於支撐件116上，其中支撐件116係設於轉盤112。在此，玻璃G較佳係置於插置於載板118支撐部111表面之架設墊214上。此外，載板118置於支撐件116上時，由於黏著板212已插置於支撐件116上，故可透過載板118而減緩玻璃G上之震動。可徒手或藉由獨立的夾具或其類似物，將載板118置於支撐件116上。於此過程中，突出於載板118邊緣之突出部115係圍繞支撐件116的外側。
若將支撐玻璃G之載板118如上所述地穩固置於支撐件116上，則上單元120係朝玻璃G移動，俾使研磨墊122與玻璃G接觸。
接著，將研磨漿料透過上單元120而供應至玻璃G，並移動上單元120且同時轉動下單元210之轉盤112。而後，當玻璃G與上單元120相對移動時，藉由研磨漿料對玻璃G進行研磨。
最後，於完成玻璃G研磨後，上單元120會回到原來位置，而後載板118(研磨的玻璃G置於其上)與支撐件116分離，並藉由運輸裝置，將其帶到下一個步驟。
已詳細敘述本發明。然而，應瞭解的是，藉由此處的詳細敘述，本領域中具有通常知識者可明顯知悉本發 明精神及範疇內之各種變化及修飾，因此，當指明為本發明之較佳具體實施例時，其所述之詳細敘述及特定實例僅為說明用。
100‧‧‧玻璃研磨系統
110‧‧‧下單元
111‧‧‧支撐部
112‧‧‧轉盤
113‧‧‧放置部
114‧‧‧旋轉軸
115‧‧‧突出部
116‧‧‧支撐件
118‧‧‧載板
120‧‧‧上單元
122‧‧‧研磨墊
124‧‧‧軸
130‧‧‧研磨漿料供應單元
210‧‧‧下單元
212‧‧‧黏著板
214‧‧‧架設墊
G‧‧‧玻璃
圖1係本發明一較佳具體實施例之玻璃研磨系統示意圖。
圖2係本發明另一具體實施例玻璃研磨系統之下單元組成元件分解圖。
圖3係圖2的組裝圖。
100‧‧‧玻璃研磨系統
110‧‧‧下單元
111‧‧‧支撐部
112‧‧‧轉盤
113‧‧‧放置部
114‧‧‧旋轉軸
116‧‧‧支撐件
118‧‧‧載板
120‧‧‧上單元
122‧‧‧研磨墊
124‧‧‧軸
130‧‧‧研磨漿料供應單元
G‧‧‧玻璃

Claims (12)

  1. 一種玻璃研磨系統用之下單元，包括：一支撐件，係設於一可轉動的轉盤；一黏著板，係設於該支撐件的上表面；以及一載板，具有支撐一待研磨玻璃之一支撐部，及形成於該支撐部相反表面之一放置部，在研磨該玻璃之前，該載板可分離地設置圍繞於該支撐件之一邊緣，並且在研磨該玻璃之後，該載板在該研磨玻璃被支撐於其上的狀態下，自該黏著板之一上表面分離。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之玻璃研磨系統用之下單元，更包括：一架設墊，係設於該支撐部上，俾使該待研磨玻璃置於其上。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之玻璃研磨系統用之下單元，其中，該載板之該放置部更包括：一突出部，係突出於該載板之邊緣以圍繞該支撐件的側邊。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之玻璃研磨系統用之下單元，其中，該載板係由選自由不鏽鋼、鋁、聚碳酸酯(polycarbonate,PC)、聚丙烯(polypropylene,PP)及聚乙烯(polyethylene,PE)所組群組中任一材料所製成。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之玻璃研磨系統用之下單元，其中，該載板之厚度範圍為1.0毫米至20.0毫米。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之玻璃研磨系統用之下單元，其中，當該載板係由不鏽鋼製成時，該載板之厚度為1.0毫米至2.0毫米。
  7. 如申請專利範圍第5項所述之玻璃研磨系統用之下單元，其中，當該載板係由聚碳酸酯製成時，該載板之厚度為4.0毫米至10.0毫米。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之玻璃研磨系統用之下單元，其中，該支撐件係由選自由不鏽鋼、鋁、碳鋼、錫、花崗石、高分子混凝土及高強度混凝土所組群組中任一材料所製成。
  9. 如申請專利範圍第1項所述之玻璃研磨系統用之下單元，其中，該支撐件之厚度範圍為50毫米至500毫米。
  10. 一種玻璃研磨方法，包括：(a)在研磨玻璃之前，將其上具有一待研磨玻璃之一載板可分離式地置於一黏著板上，該黏著板設置於一支撐件的上表面，而該支撐件係設於一轉盤，其中該載板設置圍繞於該支撐件之一邊緣，以可分離地與該黏著板之一上表面接觸；(b)使設有一研磨墊之一上單元與該玻璃接觸；(c)將一研磨漿料透過該上單元而供應至該待研磨玻璃；(d)使該上單元及該轉盤彼此相對移動；以及 (e)將支撐已研磨玻璃於其上的該載板與該黏著板分離，並且將該載板攜至下一製程。
  11. 如申請專利範圍第10項所述之玻璃研磨方法，其中，於該步驟(a)中，該待研磨玻璃係置於一架設墊上，而該架設墊係插置於該載板上。
  12. 如申請專利範圍第10項所述之玻璃研磨方法，其中，於該步驟(a)中，該支撐件係嵌於突出部間所形成之一空間中，以固定該載板，而該些突出部係形成於該載板邊緣且於該載板之下表面。
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