TWI464822B - 處理裝置及處理方法 - Google Patents

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Description

處理裝置及處理方法
本發明係關於一種從在前方一面之取出口處安裝有蓋體的收納容器內將被處理基板取出以進行特定處理(例如熱處理)的處理裝置及處理方法。
作為半導體製造裝置，已知一種針對多數被處理基板(例如半導體晶圓；以下稱作晶圓)實施例如CVD(Che-mical Vapor Deposition)等熱處理的熱處理裝置。該熱處理裝置係具備：搬入區域，係藉由自動搬送機器人或作業員將收納有複數個晶圓的收納容器搬入；以及裝載區域，係將收納容器內的晶圓移載至基板保持具(晶舟)以進行對熱處理爐之搬出入的移載區域。
較佳地，前述熱處理裝置中，為了使裝載區域形成潔淨度較搬入區域更高之氣氛以防止晶圓產生自然氧化膜等，係藉由分隔壁來區分出大氣側搬入區域與裝載區域，並使得裝載區域內形成了充滿非活性氣體(例如氮氣N2 )的非活性氣體氣氛。又，較佳地，此時為了抑制晶圓之微粒汚染係使用一種在收納容器之前方一面的取出口處安裝有能進行蓋體裝卸之密閉型收納容器(FOUP：front openning unify pod，以下稱作晶圓盒)。
圖9A係顯示該密閉型收納容器抵接至前述分隔壁的狀態。圖中，符號5係用以區分搬入區域S1與裝載區域S2的分隔壁；符號25係形成於該分隔壁5處的開口部；符號27係用以開閉該開口部25的門扉。晶圓盒3係載置於設置在搬入區域S1的載置台7(亦稱作移載台)上。其次，該晶圓盒3以鎖固機構19固定後，藉由讓抵接之驅動部(例如氣壓缸16)朝分隔壁5側推壓以使得該取出口11之周緣部抵接至設置於開口部25之周緣部的氣密材26。然後，開啟晶圓盒3之蓋體12。
門扉27上安裝有能開閉該蓋體12的蓋體開閉機構13。移載台7係透過滑軌52而被支撐於台架51上並可自由地朝前後方向(即圖9A中紙面的左右方向)滑動。在移載台7上凸出設置有用以使晶圓盒3定位的複數個定位用銷8。該鎖固機構19係設置於移載台7，並藉由將卡合組件18卡合至晶圓盒3底部所形成的卡合凹部17處以固定該晶圓盒3。
開啟蓋體12時，較佳地係在關閉該門扉27之情況下藉由蓋體開閉機構13來開啟蓋體12，並藉由氮氣置換機構(圖中未顯示)來使晶圓盒3內的氣氛置換成氮氣後，自開口部25移走門扉27及蓋體12，再將晶圓盒3內的晶圓W搬入至裝載區域S2側，以抑制裝載區域內之氧氣濃度的上昇。前述技術係記載於日本專利特開平11-274267號公報。
然而，在開啟前述晶圓盒3之蓋體12時，晶圓盒3會承受由裝載區域S2側之內壓與搬入區域S1側之大氣壓所產生的壓力差。但是，在前述熱處理裝置中，由於對於前述壓力差的抵抗性很低，故有時會有如圖9B所示因壓力差造成晶圓盒3顫動，或晶圓盒3相對該分隔壁5之開口部25傾斜而導致位置偏移等的情況，並成為下述問題的主因。
亦即，因為晶圓盒3之位置偏移，會發生晶圓W位置檢測錯誤(mapping error)或晶圓W移載錯誤，抑或因氮氣洩漏使得裝載區域S2內的氧氣濃度上昇，故必須再次進行裝載區域內之氮氣置換進而影響到處理時間(TAT：Turn Around Time)等問題。又，亦可能使得水分、有機物成分等流入至裝載區域S2內。
另外，該問題雖然能藉由本發明人的專利申請案(日本專利特開平4-6804號公報)來加以解決，但是在日本專利特開平4-6804號公報的情況，因為是將該收納容器從上方相對載置台推壓，故難以應用在無法於收納容器之上方保留充份空間之類型的處理裝置。
本發明係提供一種能解決前述習知技術的問題，以提高對於移載區域側與搬入區域側之壓力差的抵抗性，於分隔壁之開口部處能抑制收納容器位置偏移的處理裝置及處理方法。
本發明係一種處理裝置，係具備：殼體，係具有搬入區域以及保有不同於該搬入區域之氣氛的移載區域，該搬入區域係使得收納有複數個被處理基板、於上部設有凸緣部且於前方一面之取出口處安裝有能裝卸的蓋體之收納容器搬入；分隔壁，係設置於該殼體內以區分該搬入區域與該移載區域，並形成有開口部；門扉，係設置於該分隔壁以開閉該分隔壁之該開口部；載置部，係設置於該搬入區域內以載置該收納容器；以及推壓機構，係設置於該搬入區域內，將抵接至該開口部周圍之該分隔壁的狀態下之收納容器的凸緣部朝該分隔壁之該開口部一側推壓；其中將該收納容器載置且固定於該載置部後，使得該收納容器抵接至該開口部周圍之該分隔壁，且將抵接至該開口部周圍之該分隔壁的狀態下之收納容器的凸緣部藉由推壓機構推壓至該開口部一側，然後開啟該門扉及該蓋體以將該收納容器內之該被處理體由該搬入區域側搬送至該移載區域側來進行處理。
本發明中，該推壓機構係具有：推壓手臂，係從該搬入區域一側之收納位置朝該凸緣部尾端水平旋轉以推壓該凸緣部；以及驅動部，係連接至該推壓手臂以旋轉驅動該推壓手臂。
本發明中，該推壓機構係具有：推壓手臂，係將其根端部藉由支撐軸支撐於該收納位置處來從該搬入區域一側之收納位置朝該凸緣部尾端水平旋轉以推壓該凸緣部；以及驅動缸，係連接至該推壓手臂以旋轉驅動該推壓手臂繞支撐軸旋轉。
本發明中，該推壓機構係具有：推壓手臂，係藉由支撐軸而能水平旋轉地設置於該搬入區域一側之收納位置處以推壓該凸緣部尾端；驅動缸，係設置於該收納位置之上下方向，且連接至該推壓手臂以驅動該推壓手臂；以及連桿，係橫跨設置於該驅動缸輸出部與該推壓手臂的長邊方向約略中間部之間，以將該輸出部上下方向的力量轉換為該推壓手臂旋轉方向的力量。
本發明中，該搬入區域側氣氛為大氣，該移載區域側氣氛則為非活性氣體抑或潔淨之乾燥空氣。
本發明係一種處理方法，能用於一種處理裝置，該處理裝置係具備：殼體，係具有搬入區域以及保有不同於該搬入區域之氣氛的移載區域，該搬入區域係使得收納有複數個被處理基板、於上部設有凸緣部且於前方一面之取出口處安裝有能裝卸的蓋體之收納容器搬入；分隔壁，係設置於該殼體內以區分該搬入區域與該移載區域，並形成有開口部；門扉，係設置於該分隔壁以開閉該分隔壁之該開口部；以及載置部，係設置於該搬入區域內以載置該收納容器；其特徵在於具備下述步驟：將該收納容器載置且固定於該載置部的步驟；使得該收納容器抵接至該開口部周圍之該分隔壁的步驟；以及開啟該門扉及該蓋體以將該收納容器內之該被處理體由該搬入區域側搬送至該移載區域側來進行處理的步驟；其中係將抵接至該開口部周圍之該分隔壁的狀態下之收納容器的凸緣部藉由推壓機構推壓至該開口部一側後，開啟該門扉及該蓋體。
本發明中，該推壓機構係具有：推壓手臂，係從該搬入區域一側之收納位置朝該凸緣部尾端水平旋轉以推壓該凸緣部；以及驅動部，係連接至該推壓手臂以旋轉驅動該推壓手臂。
本發明中，該推壓機構係具有：推壓手臂，係將其根端部藉由支撐軸支撐於該收納位置處來從該搬入區域一側之收納位置朝該凸緣部尾端水平旋轉以推壓該凸緣部；以及驅動缸，係連接至該推壓手臂以旋轉驅動該推壓手臂繞支撐軸旋轉。
本發明中，該推壓機構係具有：推壓手臂，係藉由支撐軸而能水平旋轉地設置於該搬入區域一側之收納位置處以推壓該凸緣部尾端；驅動缸，係設置於該收納位置之上下方向，且連接至該推壓手臂以驅動該推壓手臂；以及連桿，係橫跨設置於該驅動缸輸出部與該推壓手臂的長邊方向約略中間部之間，以將該輸出部上下方向的力量轉換為該推壓手臂旋轉方向的力量。
本發明中，該搬入區域側氣氛為大氣，該移載區域側氣氛則為非活性氣體抑或潔淨之乾燥空氣。
依本發明能提高對於移載區域側與搬入區域側之壓力差的抵抗性，於分隔壁之開口部處能抑制收納容器位置偏移。
以下，根據添附圖式來說明本發明之實施形態。
圖1係本發明處理裝置的實施形態之直立型熱處理裝置的概略縱剖側視圖。圖2係前述直立型熱處理裝置的概略橫剖俯視圖。
如圖1至圖2所示，直立型熱處理裝置1(以下稱作熱處理裝置)具有形成外圍籬的殼體2。該殼體2內形成有：搬入區域S1，係針對熱處理裝置1來進行收納有被處理體(晶圓W)之晶圓盒3的搬出入；以及裝載區域S2，係用以搬送該晶圓盒3內的晶圓W而使其搬入至後述熱處理爐4內的移載區域。該搬入區域S1與該裝載區域S2係藉由分隔壁5來區分。搬入區域S1為大氣氣氛，而裝載區域S2則為非活性氣體氣氛(例如氮氣(N2 )氣氛)。另外，裝載區域S2亦可為潔淨之乾燥氣體(微粒及有機物成分很少，且露點(dew point)為-60℃以下的空氣)的氣氛。
搬入區域S1中熱處理裝置的正面側設置有能左右載置2個之晶圓盒3的第1載置台6(載入埠)，在搬入區域S1之內部側則安裝有能載置1個晶圓盒3的第2載置台7(移載台)。另外，第1載置台6之載置面及第2載置台7之載置面凸出設置有能嵌合至晶圓盒3底部所設置之凹部(圖中未顯示)並用以保持(3點支撐)晶圓盒位置的銷8(參考圖3)。殼體2的正面部設置有用以對載入埠6進行晶圓盒3之搬出入的開口部9，該開口部9安裝有可進行昇降的門10。
晶圓盒3係能以棚狀地排列收納複數片(例如25片)之例如直徑為300mm的晶圓W，且於前方一面的取出口11處安裝有能自由裝卸的蓋體12。該蓋體12係具有能將其固定於晶圓盒3之取出口11處的閂扣機構(圖中未顯示)。能藉由後述之蓋體開閉機構13來解除該閂扣機構，以從取出口11處將蓋體12取下。另外，蓋體12設置有楔孔，將蓋體開閉機構13側的楔插入楔孔內便可解除該閂扣機構(圖中未顯示)。蓋體開閉機構13係可使用例如日本專利特開2002-353289號公報等所記載的蓋體裝卸裝置。又，晶圓盒3之上方面係設置有可讓自動搬送機器人握持的平面四邊形的凸緣部14，且與該上方面間隔一隙間。
移載台7係在使用後述晶圓盒搬送機構15來載置晶圓盒3的位置處以及使得晶圓盒3抵接至分隔壁5的位置處之間，藉由驅動部16(參考圖3；例如氣壓缸)來進行前後移動的結構。
又，移載台7係設置有用以固定該晶圓盒3的鎖固機構19，該鎖固機構19係具有能卡合至晶圓盒3底部所形成之卡合凹部17的楔型卡合組件18。該鎖固機構19係能藉由驅動部20使卡合組件18繞水平軸旋轉的結構，而能在卡合至卡合凹部17的位置處以及解除卡合狀態的位置處之間進行旋轉。
另一方面，在搬入區域S1內載入埠6的上方與移載台7的上方處，設置有能暫時保管複數個晶圓盒3的複數個保管棚架部21。接著，搬入區域S1則設置有能在載入埠6與移載台7以及該保管棚架部21之間搬送晶圓盒3的晶圓盒搬送機構15。該晶圓盒搬送機構15係具有：導引部22，係朝左右延伸並能自由昇降；移動部23，係能沿該導引部22朝左右移動；以及關節手臂24，係設置於該移動部23，能保持該晶圓盒3的底部並朝水平方向搬送該晶圓盒3。
分隔壁5係形成有將載置於移載台7的晶圓盒3抵接至分隔壁5時，能使得該晶圓盒3內部與裝載區域S2形成連通的開口部25。該開口部25之搬入區域S1側的周緣部係設置有用以讓抵接的晶圓盒3之取出口11的周緣部與開口部25的周緣部之間形成氣密的密封組件26。又，分隔壁5之裝載區域S2側係設置有開閉該開口部25的門扉27。該門扉27係設置有在關閉該門扉27之狀態下開閉該晶圓盒3之蓋體12的蓋體開閉機構13。該門扉27係具有在開啟晶圓盒3之蓋體12後，能藉由圖中未顯示之門扉開閉機構來將蓋體開閉機構13及蓋體12一同移開至例如上方側以不致阻礙晶圓W移載的結構。
為了將晶圓盒3內部的空氣置換為氮氣，在分隔壁5的開口部25之左右相對的周緣部一側設置有氮氣供給孔部，另側則設置有排氣孔部(圖中皆未顯示)。
裝載區域S2的上方設置有以下端作為爐口4a而具有開口的直立型熱處理爐4。該熱處理爐4的下方，係將以棚狀地保持多數片(例如100片)晶圓W的保持具(晶舟28)透過隔熱部29而載置於蓋體30上。蓋體30係被昇降機構31所支撐，並能藉由該昇降機構31來對熱處理爐4進行晶舟28之搬出入，同時以該蓋體30來閉合或開放該熱處理爐4的爐口4a。
又，裝載區域S2內之晶舟28與分隔壁5的開口部25之間，設置有能在抵接於開口部25周圍之分隔壁5的晶圓盒3與晶舟28之間進行晶圓W搬送乃至移載的移載機構32。該移載機構32係具有：導引部33，係朝左右延伸並能自由昇降；立方體狀的台座34，係能沿該導引部33朝左右移動並能繞鉛直軸旋轉；移動體35，係能於該台座34上沿其長邊方向進行往復移動；以及複數個(例如5個)叉架36，係設置於該移動體35。又，各叉架36係支撐有晶圓W。
另外，圖1中，符號37係用以使得設置於晶圓W外周緣之切除部(例如缺口：notch)對齊至一方向的整列裝置(對準器：aligner)。整列裝置37係透過設置於分隔壁5之開口而設置於面向裝載區域S2側，例如晶圓係藉由前述移載機構32而從晶圓盒3處經由整列裝置37再移载至晶舟28。
搬入區域S1係設置有從前述晶圓盒搬送機構15處將晶圓盒3傳遞給移載台7的晶圓盒承接器38(傳遞機構)。該晶圓盒承接器38主要係由昇降手臂38b以及設置在該昇降手臂38b並用以握持該晶圓盒3之凸緣部14的握持機構38c所組成，該昇降手臂38b係藉由設置在搬送區域S1之一側部份(圖式範例中係正面側所見的左側方)的昇降機構38a來進行昇降移動。晶圓盒承接器38係可從例如晶圓盒搬送機構15處抓取晶圓盒3並待機，在晶圓盒搬送機構15將晶圓盒3從移載台7搬送至保管棚架部21或載入埠6之期間，將下一個晶圓盒3載置於移載台7上藉以達成搬送作業的效率化。
然後，熱處理裝置1中，為了提高對於裝載區域S2側與搬入區域S1側之壓力差的抵抗性，並抑制該分隔壁5之開口部25處的晶圓盒3位置偏移，係設置有將抵接至開口部25的晶圓盒3之凸緣部14朝開口部25側(即分隔壁5側)推壓的推壓機構39。此時，較佳地，推壓機構39係設置在搬入區域S1一側(圖式範例中係正面側所見的右側方)，而不會與圖4A所示由晶圓盒搬送機構15或晶圓盒承接器38所搬送而來的晶圓盒3(假想線所示)相互干涉，且亦不會與圖4B所示由晶圓盒搬送機構15所搬送而來的晶圓盒3(假想線所示)相互干涉。
如圖4A~圖4B及圖5A~圖5C所示，推壓機構39主要係由從搬入區域S1一側的收納位置40朝向凸緣部14尾端水平旋轉以推壓凸緣部14的推壓手臂41、以及旋轉驅動該推壓手臂41的驅動部42所組成。本實施形態中，為了在狹窄空間內獲得較大的推壓力量，該推壓機構39係具有：推壓手臂41，係設置於搬入區域一側的收納位置40處，並可藉由支撐軸43水平旋轉以推壓該凸緣部14的尾端；驅動缸42(驅動部)，係沿上下方向設置於該收納位置40處，以用來驅動該推壓手臂41；以及連桿45，係橫越設置於該驅動缸42的輸出部44與推壓手臂41的長邊方向約略中間部份之間，能將輸出部44之上下方向的力量轉換為推壓手臂41的旋轉方向的力量。
推壓機構39係具有一安裝在殼體2內一側壁面上的托架46。該托架46係透過支撐軸43安裝有能自由水平旋轉之推壓手臂41，同時亦安裝有驅動缸42(例如氣壓缸)。驅動缸42係將活塞桿42a朝向下方的狀態而鉛直設置的。此時，較佳地，為了使驅動缸42的力量能有效地經由連桿45而傳遞至推壓手臂41，支撐軸43與驅動缸42應於搬入區域之前後方向上相互偏移設置(offset)。
在驅動缸42之活塞桿42a前端部連結有昇降塊(輸出部)44，該昇降塊44被支撐於沿鉛直設置在托架46上的導桿47處並可自由滑動。該昇降塊44之下部係設置有能繞鉛直軸旋轉的第1支撐組件48，該第1支撐組件48係可繞水平軸旋轉地支撐有連桿45之一端部。
從推壓手臂41之長邊方向約略中間部份處至其前端部側係相對支撐軸43而呈相互偏移設置，且該推壓手臂41之長邊方向約略中間部份處則設置有能繞鉛直軸旋轉的第2支撐組件49。再者，該連桿45的另一端部係被支撐於該第2支撐組件49並可繞水平軸旋轉。
此處，圖4A及圖4B中，假設連桿45相對水平面的傾斜角度為θ2、驅動缸42施加於該連桿45一端的力量為f、作用於第2支撐組件49之水平方向的力量為f1，則f1=f/tanθ2。假設第2支撐組件49之鉛直軸和支撐軸43所連成之直線與連桿45所夾角度為θ1、從第2支撐組件49之鉛直軸到支撐軸43之間的推壓手臂41長度為L1、從支撐軸43到推壓手臂41之前端部的長度為L2、作用於推壓手臂41之前端部的力量(推壓力)為F，則因為f1‧sinθ1‧L1=F‧L2，故F=f(L1‧sinθ1/tanθ2)/L2。實驗中，可獲得幾乎等同於驅動缸42之力量f(195N)的推壓力F(196N)。藉此，對於壓力差的抵抗性可由400Pa提高到1000Pa，且最大壓力差時的晶圓盒3位置偏移從1mm減少至0.5mm。
其次，說明有關前述實施形態的作用。首先，藉由自動搬送機器人或作業員來將晶圓盒3載置於載入埠6。接著，藉由晶圓盒搬送機構15來將前述晶圓盒3搬送至移載台7。將晶圓盒3載置於移載台7後，先如圖3所示旋轉卡合組件18而使其卡合至晶圓盒3底部的卡合凹部17處，其次讓移載台7朝分隔壁5側移動，以使得晶圓盒3之取出口11周緣部抵接至分隔壁5之開口部25周緣部的密封組件26而形成氣密。
其次，藉由推壓機構39的驅動缸42向下推動，並經由昇降塊44來使得連桿45一端從朝斜上方傾斜的狀態變成水平狀態。藉由此時在連桿45另一端所發生的水平方向之力量，使得推壓手臂41以支撐軸43為支點並從收納位置40開始水平地旋轉。藉此，推壓手臂41的前端部會抵接到載置於移載台7上的晶圓盒3之凸緣部14尾端，而將該凸緣部14朝前方(分隔壁5側)推壓。如前述般，不僅是晶圓盒3的下部，亦可將其上部朝分隔壁推壓，故可提高對於裝載區域側與搬入區域側之壓力差的抵抗性，例如從400Pa提高至1000Pa，並可使最大壓力差時的晶圓盒位置偏移從1mm減少至0.5mm。
然後，將蓋體開閉機構13之楔(圖中未顯示)插入該晶圓盒3之蓋體12的楔孔以將蓋體12自晶圓盒3處取下，將門扉27、蓋體開閉機構13及蓋體12以例如上昇而自開口部25移走，使得晶圓盒3內與裝載區域S2形成連通狀態。
然後，藉由移載機構32來將晶圓盒3內的晶圓W依序取出並移載至晶舟28。待清空晶圓盒3內之晶圓W後，藉由與前述相反的動作來關閉晶圓盒3的蓋體12。接著移載台7後退而使得晶圓盒3與分隔壁5分離，並藉由晶圓盒搬送機構15將其搬送至保管棚架部21以暫時保管。
另一方面，待該晶舟28上搭載有特定片數的晶圓W後，便搬入至熱處理爐4內以針對晶圓W進行例如CVD、退火處理、氧化處理等熱處理。待熱處理完成後，藉由與前述相反的動作來使晶圓W回到晶圓盒3內。另外，解除該推壓機構39之推壓的時間點，即此範例中，使得推壓手臂41回到待機位置的時間點，係在例如以蓋體12來使得晶圓盒3之取出口11關閉之後。
依前述實施形態，移載台7上的晶圓盒3不會因為裝載區域S2側與搬入區域S1側之壓力差造成顫動，亦不會相對分隔壁而傾斜，故能提高對壓力差的抵抗性並保持於穩定的姿勢。因此，不會影響晶圓盒3與分隔壁5之間的氣密狀態，可防止大氣從搬入區域S1側(大氣側)流入裝載區域S2側，以抑制裝載區域S2內之氧氣濃度的上昇。又，因為不會造成晶圓W跳起，故亦不會在之後藉由移載機構32來進行晶圓W的取出動作或位置檢測動作時造成問題。
另外，以非活性氣體來進行晶圓盒3內之氣氛置換的情況，即使非活性氣體的流量較大，晶圓盒亦不會產生顫動，因為可增加非活性氣體的流量，故可縮短進行非活性氣體置換所需要的時間，而能提高產能。再者，即使進行晶圓盒3之蓋體12開閉時的衝擊力較大，亦可藉由使晶圓盒3朝分隔壁5推壓以穩定晶圓盒3的姿勢。又，推壓機構39係用以朝向分隔壁5側來推壓移載台7上所載置之晶圓盒3的自動搬送用凸緣部14，且從一側邊的收納位置40處水平地旋轉推壓手臂41以推壓凸緣部14。因此，對於在移載台7上所載置之晶圓盒3的上方處具有障害物(例如晶圓盒承接器38等)而難以確保充份空間類型的處理裝置，亦可應用前述的推壓機構39。
圖6~圖8係推壓機構之其他實施形態的概略立體圖。圖6所示的推壓機構39主要係由推壓手臂41以及驅動該推壓手臂41繞支撐軸旋轉的驅動缸42所組成，其中，該推壓手臂41之根端部係藉由支撐軸43而被支撐於收納位置40處，並可從搬入區域S1一側的收納位置40處朝向凸緣部14尾端水平旋轉來推壓該凸緣部14。另外，與前述實施形態相異，驅動缸42亦可為橫向設置的。
圖7所示的推壓機構39主要係由可從搬入區域S1一側的收納位置40處朝向凸緣部14尾端水平旋轉來推壓該凸緣部14的推壓手臂41、以及驅動該推壓手臂41旋轉的驅動部42(例如設有齒輪的馬達)所組成的。
圖8A及圖8B所示的推壓機構係利用了晶圓盒承接器38的結構。晶圓盒承接器38之昇降手臂38b係設置有推壓塊50，該推壓塊50具有傾斜面50a，並能將從上方抵接至晶圓盒3之凸緣部14尾端而朝向下方的力量轉變為一朝向分隔壁5側之橫向的力量以及一朝向下方的力量(分力)。依本實施形態，因為利用了晶圓盒承接器38，故可達成結構之簡化及成本之降低。
以上，依圖式詳細地說明了本發明之實施形態，但本發明並非限定於前述實施形態，在本發明概念的範圍內可進行各種設計變更等。例如，本發明非限定於直立型熱處理裝置，亦可適用於例如枚葉式熱處理裝置或進行光阻塗布、顯影的裝置、離子植入裝置等針對被處理基板進行特定處理的裝置。又，本發明亦可適用於將進行晶圓盒搬入的區域以及搬出的區域各別設置在不同場所的裝置。
本專利申請案得享受於2008年10月16日所提出之日本專利申請特願2008-267584號之利益。本說明書的一部份係引用前述專利申請所揭露的全部內容。
1．．．熱處理裝置
2．．．殼體
3．．．晶圓盒
4．．．熱處理爐
4a．．．爐口
5．．．分隔壁
6．．．第1載置台
7．．．載置台
8．．．銷
9．．．開口部
10．．．門
11．．．取出口
12．．．蓋體
13．．．蓋體開閉機構
14．．．凸緣部
15．．．晶圓盒搬送機構
16．．．驅動部
17．．．卡合凹部
18．．．卡合組件
19．．．鎖固機構
20．．．驅動部
21．．．保管棚架部
22．．．導引部
23．．．移動部
24．．．關節手臂
25．．．開口部
26．．．密封組件
27．．．門扉
28．．．晶舟
29．．．隔熱部
30．．．蓋體
31．．．昇降機構
32．．．移載機構
33．．．導引部
34．．．台座
35．．．移動體
36．．．叉架
37．．．整列裝置
38．．．晶圓盒承接器
38a．．．昇降機構
38b．．．昇降手臂
38c．．．握持機構
39．．．推壓機構
40．．．收納位置
41．．．推壓手臂
42．．．驅動部
42a．．．活塞桿
43．．．支撐軸
44．．．昇降塊
45．．．連桿
46．．．托架
47．．．導桿
48．．．第1支撐組件
49．．．第2支撐組件
50．．．推壓塊
50a．．．傾斜面
51．．．台架
52．．．滑軌
W．．．晶圓
圖1係本發明處理裝置的實施形態之直立型熱處理裝置的概略縱剖側視圖。
圖2係前述直立型熱處理裝置的概略橫剖俯視圖。
圖3係圖2中B-B線的概略剖面圖。
圖4A及圖4B係顯示圖1中A部份的圖式，其中，圖4A為正視圖，圖4B為圖4A中B-B線的俯視圖。
圖5A-圖5C係推壓機構的圖式，其中，圖5A係作動前的立體圖，圖5B為作動途中的立體圖，圖5C為作動狀態的立體圖。
圖6係推壓機構之其他實施形態的概略立體圖。
圖7係推壓機構之其他實施形態的概略立體圖。
圖8A及圖8B係推壓機構之其他實施形態的概略立體圖。
圖9A及圖9B係用以說明習知技術之問題點的圖式，其中，圖9A為開啟分隔壁之門扉前的側視圖，圖9B為開啟分隔壁之門扉時的側視圖。
1．．．熱處理裝置
2．．．殼體
3．．．晶圓盒
4．．．熱處理爐
5．．．分隔壁
6．．．第1載置台
7．．．載置台
9．．．開口部
10．．．門
13．．．蓋體開閉機構
14．．．凸緣部
15．．．晶圓盒搬送機構
22．．．導引部
23．．．移動部
24．．．關節手臂
27．．．門扉
28．．．晶舟
30．．．蓋體
31．．．昇降機構
32．．．移載機構
33．．．導引部
34．．．台座
35．．．移動體
36．．．叉架
38．．．晶圓盒承接器
38a．．．昇降機構
39．．．推壓機構
40．．．收納位置
41．．．推壓手臂
W．．．晶圓

Claims (4)

  1. 一種處理裝置，係具備：殼體，係具有搬入區域以及保有不同於該搬入區域之氣氛的移載區域，而該搬入區域係使得收納有複數個被處理體、於上部設有凸緣部且於前方一面之取出口處安裝有能裝卸的蓋體之收納容器搬入；分隔壁，係設置於該殼體內以區分該搬入區域與該移載區域，並形成有開口部；門扉，係設置於該分隔壁以開閉該分隔壁之該開口部；載置部，係設置於該搬入區域內以載置該收納容器；以及推壓機構，係設置於該搬入區域內，將處於抵接至該開口部周圍之該分隔壁狀態下之收納容器的凸緣部朝該分隔壁之該開口部一側推壓；該推壓機構係具有：推壓手臂，係藉由支撐軸而能水平旋轉地設置於該搬入區域一側之收納位置處以推壓該凸緣部尾端；驅動缸，係設置於該收納位置之上下方向，且連接至該推壓手臂以驅動該推壓手臂；以及連桿，係橫跨設置於該驅動缸輸出部與該推壓手臂的長邊方向約略中間部之間，以將該輸出部上下方向的力量轉換為該推壓手臂旋轉方向的力量；其中將該收納容器載置且固定於該載置部後，使得 該收納容器抵接至該開口部周圍之該分隔壁，且將處於抵接至該開口部周圍之該分隔壁狀態下之收納容器的凸緣部藉由推壓機構推壓至該開口部一側，然後開啟該門扉及該蓋體以將該收納容器內之該被處理體由該搬入區域側搬送至該移載區域側來進行處理。
  2. 如申請專利範圍第1項之處理裝置，其中該搬入區域側氣氛為大氣，該移載區域側氣氛則為非活性氣體抑或潔淨之乾燥空氣。
  3. 一種處理方法，係用於一種處理裝置，該處理裝置係具備：殼體，係具有搬入區域以及保有不同於該搬入區域之氣氛的移載區域，而該搬入區域係使得收納有複數個被處理體、於上部設有凸緣部且於前方一面之取出口處安裝有能裝卸的蓋體之收納容器搬入；分隔壁，係設置於該殼體內以區分該搬入區域與該移載區域，並形成有開口部；門扉，係設置於該分隔壁以開閉該分隔壁之該開口部；以及載置部，係設置於該搬入區域內以載置該收納容器；該推壓機構係具有：推壓手臂，係藉由支撐軸而能水平旋轉地設置於該搬入區域一側之收納位置處，以推壓該凸緣部尾端；驅動缸，係設置於該收納位置之上下方向，且連接至該推壓手臂以驅動該推壓手臂；以及 連桿，係橫跨設置於該驅動缸輸出部與該推壓手臂的長邊方向約略中間部之間，以將該輸出部上下方向的力量轉換為該推壓手臂旋轉方向的力量；其特徵在於具備下述步驟：將該收納容器載置且固定於該載置部的步驟；使得該收納容器抵接至該開口部周圍之該分隔壁的步驟；以及開啟該門扉及該蓋體，以將該收納容器內之該被處理體由該搬入區域側搬送至該移載區域側來進行處理的步驟；其中係將處於抵接至該開口部周圍之該分隔壁的狀態下之收納容器的凸緣部藉由推壓機構推壓至該開口部一側後，開啟該門扉及該蓋體。
  4. 如申請專利範圍第3項之處理方法，其中該搬入區域側氣氛為大氣，該移載區域側氣氛則為非活性氣體抑或潔淨之乾燥空氣。
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