TWI444610B - 平板玻璃表面的異物檢測裝置 - Google Patents
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Description
本發明是有關於一種平板玻璃(flat glass plate)表面的異物檢測裝置,更具體而言,是涉及一種可對蒸鍍著微電路(micro-circuit)的圖案的面的異物進行準確檢測的平板玻璃表面的異物檢測裝置。
用於平板顯示器(plat display)的平板玻璃,只在一面上蒸鍍著微電路的圖案,玻璃業界將該面稱作“A面”,而另一面上並未蒸鍍著微電路的圖案,且玻璃業界將該另一面稱作“B面”。
在平板玻璃的A面的表面有異物的情況下,如果將微電路的圖案蒸鍍在此異物之上,則容易引起微電路的圖案不良。因此,必須在蒸鍍微電路的圖案之前,準確檢查出玻璃基板(特別是應蒸鍍著電路的A面)上是否有異物。
圖1是現有的平板玻璃表面的異物檢測裝置的示意圖。現有的平板玻璃表面的異物檢測裝置使用雷射束(laser beam)照射部20將具有較小厚度的雷射束從傾斜方向射入至平板玻璃。所射入的雷射束31的一部分在通過平板玻璃後會透過該平板玻璃而形成一種透過雷射束35,而所射入的雷射束31的剩餘部分則被平板玻璃所反射,從而形成反射雷射束33。
如圖1所示,當使雷射束以與平板玻璃的面形成較大角度的方式而從傾斜方向射入時,所射入的雷射束31到達平板玻璃的A面的部位與投射雷射束35到達平板玻璃的B面的部位之間會存在δL程度的水平距離上的差異。
當在A面的上部使用A面攝像裝置11來對異物進行拍攝時,能夠對只存在於平面玻璃的A面上的異物進行拍攝。此時的原理中利用了如下現象,即,當A面攝像裝置11進行拍攝時,僅到達平板玻璃的A面的雷射束因A面的異物81而產生散射並朝向透鏡(lens)射入,而到達平板玻璃的B面的雷射束在偏離了δL程度的位置處到達平板玻璃的B面,因此不會射入至A面攝像裝置11的透鏡中。然而,圖1的現有的平板玻璃表面的異物檢測裝置中存在如下問題:如果所使用的雷射束的厚度不是非常薄,則無法只對平板玻璃的A面的異物進行檢測,而根據現實中能夠使用的雷射束的厚度,存在於平板玻璃的B面上的一部分異物91也會一同被檢測到。
因平板玻璃的A面與平板玻璃的B面上附著有異物不過是普通的現象,所以在如圖1所示的現有的異物檢測裝置中會檢測到位於平板玻璃的B面上的一部分異物,因而如果使用該檢測結果,則無法獲取與平板玻璃的A面上的異物相關的準確信息。此外,目前的現狀為,如果平板玻璃的厚度越薄,則射入雷射束31到達平板玻璃的A面的部位與投射雷射束35到達平板玻璃的B面部位之間的水平距離上的差異即δL減少,從而檢測結果更不準確。
另一問題則為:當平板玻璃的移送裝置上下振動時,準確地區分A面的異物與B面的異物將變得更加困難。因而存在如下問題,即:為了解決如上所述的問題,必須在現有的平板玻璃的異物檢測裝置中使用高價的精密搬送設備。
本發明是為了解決所述問題而完成的,其目的在於提供一種平板玻璃表面的異物檢測裝置,其即便使用上下振動的相對廉價的搬送裝備,也能夠對附著於蒸鍍著微電路的圖案的平板玻璃的表面的A面上的異物進行準確檢測。
本發明的所述目的可通過平板玻璃表面的異物檢測裝置而達成,所述平板玻璃表面的異物檢測裝置對附著於平板玻璃的表面上的異物進行檢測,所述平板玻璃包括由A面與B面構成的兩面,其特徵在於包括:A面雷射束照射裝置,從平板玻璃的A面的上部朝向所述A面,以A面的法線向量(normal vector)為基準且以第一角度照射已向S方向偏光的第1波長的雷射束;A面攝像裝置,對將雷射束照射至平板玻璃的A面上的部位進行拍攝,所述雷射束是從A面雷射束照射裝置而照射;B面雷射束照射裝置,從平板玻璃的A面的上部,以A面的法線向量為基準且以比第一角度更小的第二角度朝向所述A面而照射第2波長的雷射束,所述第2波長的雷射束是被照射的雷射束的大部分在平板玻璃的厚度方向上透過後所得;B面攝像裝置,對將雷射束照射至平板玻璃的B面上的部位進行拍攝,所述雷射束是從B面雷射束照射裝置而照射;以及檢測信號處理部,對從A面攝像裝置及B面攝像裝置所輸入的影像圖像進行分析,通過對哪個攝像裝置更清晰地輸出異物來進行判別,而對附著異物的面進行判別。
【發明的效果】
根據本發明的平板玻璃表面的異物檢測裝置,即便使用發生上下振動的精度低的平板玻璃的移送裝置,也可對存在於平板玻璃基板上的異物附著於A面與B面中的哪一面進行準確檢測,因此使用該異物檢測裝置,能夠使生產液晶顯示器(Liquid Crystal Display,LCD)、有機電致發光(electroluminescence,EL)等的平板顯示器時有可能發生的微圖案的不良現象減少。
上述說明僅是本發明技術方案的概述,為了能夠更清楚瞭解本發明的技術手段,並可依照說明書的內容予以實施,以下以本發明的較佳實施例並配合附圖詳細說明如後。
為讓本發明之上述和其他目的、特徵和優點能更明顯易懂,下文特舉較佳實施例,並配合所附圖式,作詳細說明如下。
以下,參考附圖來對本發明的平板玻璃表面的異物檢測裝置的較佳實施方式進行詳細說明。
圖2是示意地表示本發明的平板玻璃表面的異物檢測裝置的較佳實施方式的結構圖,圖3是圖2的A-A'方向的局部剖面圖。
在進行說明之前,將分別設置著A面雷射束照射裝置51與B面雷射束照射裝置53的一側面定義為如下含義:形成為長方形的平板玻璃基板30的四個角部中的處於與平板玻璃基板30的移送方向平行位置處的角部。
參考圖2及圖3,本發明的平板玻璃表面的異物檢測裝置包括:A面雷射束照射裝置51,從平板玻璃基板30的上部的一側面朝向A面,照射已向S方向偏光的第1波長的雷射束;A面攝像裝置11,接收因存在於A面上的異物而產生散射的雷射束;B面雷射束照射裝置53,從平板玻璃基板30的側面對B面照射第2波長的雷射束;B面攝像裝置13,接收因存在於B面上的異物而產生散射的雷射束;以及檢測信號處理部90,根據從A面攝像裝置11及B面攝像裝置13所輸入的影像信號,而對該異物附著於A面或B面中的哪一面上進行檢測。
玻璃基板30是用於如LCD這樣的顯示器裝置的面板中的薄玻璃材質的基板,一般來說,由0.5mm至0.7mm的厚度構成,A面是指蒸鍍形成著微電路的圖案的面,B面是指未形成著微電路的圖案的面。參考編號“100”表示玻璃基板30的移送方向,符號S表示將由A面的雷射照射部51與B面的雷射照射部53所照射的雷射束照射至平面玻璃30的A面上的區域。
由雷射束照射裝置51、53照射至玻璃基板的A面及B面的雷射束優選具有大致100mm的寬度及0.65mm至0.95mm的厚度。此時,雷射束的寬度尺寸(約100mm)適合於具有大致1m寬的玻璃基板30,而如果玻璃基板大型化,則也必須隨之使用寬度相應變大的雷射束。例如,如果製程中的玻璃基板30是具有大於等於1m的寬度的玻璃基板30,則雷射束優選具有大於等於100mm的寬度,而如果製程中的玻璃基板30具有小於等於1m的寬度,則所述雷射束優選具有小於等於100mm的寬度。
A面雷射束照射裝置51是用於對附著於玻璃基板30的A面上的異物進行檢測的裝置,優選使從A面雷射束照射裝置51輸出的雷射束盡可能不透過平板玻璃基板30以便產生反射。其理由在於:當將從A面雷射束照射裝置51照射的雷射束與平板玻璃30的A面的法線向量G所成的角度定義為“第一角度”(圖3的θ1)時,第一角度θ1較佳為盡可能維持為接近90度。
圖4是表示S偏光波相對於玻璃的射入角的透過率及反射率的圖表。如圖4所示可知:當從A面雷射束照射裝置51照射的雷射束與A面的法線向量形成75度(也就是,θ1=75度)而射入時,射入光的約45%會被反射。在大氣中,從A面雷射束照射裝置51照射至A面的光會在包括如下的邊界面在內的兩個邊界面發生反射,即,所述光到達A面的邊界面及已透過A面的光到達B面的邊界面。因此,理論上可知,如果第一角度θ1達到75度,則射入光的約65%左右的光會被反射,本申請案的發明人發現:當可達成此種程度的反射率時,便可適用於實際的A面的異物檢測。更優選為,若將第一角度θ1維持為大於等於80度且小於等於90度之間,則可將反射率維持為大於等於85%,因此能夠更有效地進行A面的異物檢測。
B面雷射束照射裝置53是用於對附著於玻璃基板30的B面上的異物進行檢測而照射雷射束的裝置。如圖5所示,從B面雷射束照射裝置53照射的雷射束,如果作為射入光53i而以θ2的角度射入,則射入光53i中的一部分會以θ2t的角度而形成透過光53t,其剩餘部分會以θ2r的角度形成反射光53r。更嚴格來說,還存在被玻璃基板30吸收的光,但由於該光量非常少所以可忽視。與圖2相同,當從A面的上部的側面使用B面雷射束照射裝置53進行照射時,優選從B面雷射束照射裝置53輸出的雷射束盡可能在平板玻璃基板30的厚度方向上透過。根據所述理由,在將從B面雷射束照射裝置53照射的雷射束與平板玻璃30的A面的法線向量G所成的角度定義為“第二角度”(圖3的θ2)的情況下,優選將第二角度θ2盡可能維持為接近0度。當並未使用偏光的光來作為B面雷射束時,根據實驗,第二角度θ2盡可能小於等於40度較佳,更優選小於等於10度。當將未偏光的雷射束照射至玻璃時,相對於射入角的透過率及反射率表示在與圖4相同的圖表中,從而可知:當第二角度θ2為40度時,射入光中的85%左右得以透過,而當第二角度θ2為10度時,射入光中的97%左右得以透過。
圖6是表示相對于P偏光波相對於玻璃的射入角的透過率及反射率的圖表。如圖6所示可知:在使用P偏光波來作為從B面雷射束照射裝置53照射的雷射束的情況下,如果與A面的法線向量形成70度(也就是,θ2=70度)而射入,則射入光的約90%得以透過。因此,理論上說,在使用P偏光的雷射束來作為B面雷射的情況下,如果將第二角度θ2維持為小於等於70度,則可使射入光的約大於等於90%的光透過,本申請案的發明人發現:當可達成此種程度的透過率時,便可適用於實際的B面的異物檢測。
更優選為,使從B面雷射束照射裝置53射出的雷射束作為已向P方向偏光的第2波長的雷射束而形成,且優選使該雷射束以布儒斯特角(Brewster angle)射入。如果已向P方向偏光的光在玻璃基板30上形成布儒斯特角而射入,則不會產生反射波,而是能夠100%透過,參考圖6,可知布儒斯特角在約55度附近成立。
此外,優選A面攝像裝置11與B面攝像裝置13分別包括僅使第1波長通過的濾光片(filter)、及僅使第2波長透過的濾光片。
另外,對P偏光方向與S偏光方向進行如下說明。前進的光在與前進方向垂直的方向上形成著具有正弦波形狀的電場及磁場,但一般來說,將形成著電場的方向規定為偏光方向。以下參考圖7來對偏光方向進行說明。具有固定寬度及厚度的雷射束朝向進入地面的方向前進,當將與地面接觸的面設為S面時,如果所述雷射束在y軸方向上形成電場,則將該現象稱作P偏光,而如果在x軸方向上形成電場,則將該現象稱作S偏光。參考圖2進行說明,如果從A面雷射束照射裝置51所照射的雷射束在與照射至平板玻璃30的A面上的區域S平行的面上形成著電場,則將該現象稱作P偏光,而如果在垂直的面上形成電場,則將該現象稱作S偏光。
圖8是用於說明由A面雷射照射裝置所照射的雷射束在因附著於玻璃基板上的異物而產生散射後,由A面攝像裝置進行檢測的過程的說明圖。圖9是表示經由本發明的平板玻璃表面的異物檢測裝置來對附著於玻璃基板上的異物進行檢測,且視覺上顯示出該檢測結果的實施方式。在進行說明之前,假設在玻璃基板30的A面與B面上分別附著有A面異物81與B面異物91,對本發明的平板玻璃表面的異物檢測裝置的作用進行說明。由A面雷射束而照射至玻璃基板30的A面的射入光55在到達A面之後,大部分被反射而形成反射光57,而少量的剩餘部分則形成可透過該玻璃基板30的透過光59。
以下參考圖8及圖9,對存在於玻璃基板上的異物的檢測、及用於掌握所檢測的異物存在於玻璃基板中的哪一面上的具體方法進行說明。當將由A面雷射束的照射裝置所照射的雷射束照射至A面異物81上時,A面雷射束的射入光55或反射光57中的一部分會因A面異物81而以任意的角度產生散射,且被配設於玻璃基板30的上部的A面攝像裝置11所接收。圖9的“11-81”表示異物檢測圖像的畫面,該畫面是在A面攝像裝置11對因所述玻璃基板30的A面異物81而被散射反射的A面雷射束進行感知後所顯示者。如圖8及圖9所示,被散射反射的光越多,則所檢測到的圖像得以更清晰地顯示,從而將玻璃基板30的A面上存在異物81的情況顯示給作業人員看。
即便一部分被透過的A面雷射束到達B面異物91,也會因A面雷射束的大部分已被A面所反射,而到達B面異物91上的A面雷射束的量相對較少,因此其影響(也就是,散射及反射)較少。因此,根據由A面攝像裝置11所檢測到的影像信號生成而提供的圖像的畫面(圖9的“11-91”)整體顯示為較暗的空白狀態,或者被檢測到的異物的影像的分辨率被顯示成非常低且不清晰的圖像形態。實際上,A面攝像裝置11拍攝出一張影像圖像,該影像的圖像中同時顯示出清晰拍攝到的A面異物、及以相對較少的光量進行拍攝而模糊拍攝到的B面異物。
另一方面,對附著於玻璃基板30的B面上的B面異物91進行以下說明。當由B面雷射束照射裝置53所照射的B面雷射束到達A面異物81時,會相對於所射入的所有光產生散射及反射,因此由B面攝像裝置13拍攝到的A面異物的拍攝圖像(圖9的“13-81”)以清晰的圖像形態來顯示。另一方面,當附著於玻璃基板30的B面上的B面異物91被照射了由B面雷射束的照射裝置53所照射的雷射束時,B面雷射束的大部分會因B面異物91而以任意的角度產生散射,且被配設於玻璃基板30的上部的B面攝像裝置13所接收。圖9的“13-91”表示異物檢測圖像的畫面,該畫面是B面檢測裝置13對因附著於玻璃基板30的B面上的異物91而被散射反射的B面雷射束進行感知後所顯示者。實際上,B面攝像裝置13拍攝出一張影像圖像,因而該影像圖像中顯示了清晰拍攝到的A面異物與清晰拍攝到的B面異物。
本發明的檢測信號處理部可利用由A面攝像裝置所拍攝的影像圖像及由B面攝像裝置所拍攝的影像圖像中所表示的各異物的清晰度,而檢測出該異物附著於哪個面上。
以下,假設如下情況,即,利用A面雷射束照射裝置51使S方向偏光的第一頻率雷射束維持為與A面的法線向量成80度而射入,且利用B面雷射束照射裝置53使P方向偏光的第二頻率雷射束維持為與A面的法線向量成布儒斯特角而射入,從而對本發明的A面異物81與B面異物91的檢測方法進行定量說明。此時,假設為如下情況:A面雷射束及B面雷射束具有100程度的射入量,A面雷射束在大氣中被反射的反射率為85%,且B面雷射束可100%透過,而且,照射至異物的光產生100%的散射。
此時,如表1所示,利用由A面雷射束照射裝置所照射的A面雷射束,A面異物產生了100程度的散射,而另一方面,對於B面異物而言只產生了15程度的散射。與其相比,如果假設B面攝像裝置的焦點在A面與B面被同等識別出,則由B面雷射束照射裝置所照射的B面雷射束在照射至A面後會100%透過B面,因此對於A面異物與B面異物雙方均產生了100程度的散射。因此,由A面攝像裝置及B面攝像裝置所檢測到的、相對於A面異物而散射的光量總計為200,與此相對,由A面攝像裝置及B面攝像裝置所檢測到的、相對於B面異物而散射的整體的光量為115。如果檢測信號處理部對由A面攝像裝置所拍攝到的影像圖像、與由B面攝像裝置所拍攝到的影像圖像加以比較,則能夠檢測出各自的異物是存在於A面上的異物、還是存在於B面上的異物。
根據表1的比較,當難以進行異物的檢測時,如果將A面雷射束的強度設定為比B面雷射束的強度大2倍,則能夠更容易地進行檢測。如果假設為如下情況則所述表1的數值變為如表2所示:A面雷射束具有射入量200,B面雷射束具有射入量100,A面雷射束在大氣中被反射的反射率為85%,B面雷射束100%透過,此外,照射至異物的光產生100%的散射。
如以上的表2所示,在使A面雷射束照射裝置與B面雷射束照射裝置的輸出不同的情況下,更可靠地示出由異物的位置所引起的光量的差,因此檢測信號處理部可使用從A面攝像裝置及B面攝像裝置接收到的該異物的合計散射光量,而更容易地檢測出該異物附著於哪個面上。
圖10(a)及圖10(b)是用於說明即便在玻璃基板30的移送裝置垂直移動的情況下,也可通過本發明的平板玻璃表面的異物檢測裝置來準確進行異物的檢測的說明圖。圖10(a)表示移送中的玻璃基板30水平地在正常位置進行移送的過程的圖,圖10(b)所示的玻璃基板32是因移送裝置的垂直偏差而其平坦度(flatness)發生改變的玻璃基板32,且表示了在從正常的位置30向上部側平坦度改變了“Δ”的狀態下進行移送的過程。圖10(a)及圖10(b)中,將A面攝像裝置照射至玻璃基板30的上部的區域表示為參考編號“50”。
以前,玻璃表面的異物檢測裝置如所述般,無法適當應對移送中所產生的玻璃基板30的平坦度改變,從而存在附著於玻璃基板30上的異物的檢測精度降低的問題。然而,本發明的平板玻璃表面的異物檢測裝置即便在玻璃基板30的平坦度發生改變的情況下,也能夠利用從與玻璃基板30的移送方向垂直的方向照射而來的雷射束,而將由基板30的平坦度改變所引起的影響最小化。
如果參考圖10(a)及圖10(b)來對A面異物的檢測過程進行討論,則即便已到達被照射著A面雷射束59的區域的玻璃基板30從完全的平面位置(也就是,玻璃基板“30”的位置)向上部方向移動“Δ”而位於更高的地點(也就是,玻璃基板“32”的位置),玻璃基板32的上表面也可維持成依然包含於上部雷射束59的內部的狀態。因此,能夠產生由附著於玻璃基板30的A面的異物所引起的散射反射,從而能夠可靠進行異物的檢測。
其原因在於:本發明的平板玻璃表面的異物檢測裝置通過以如下方式而構成:從與玻璃基板30的移送方向垂直的方向照射A面雷射束59,同時將上部雷射束59從玻璃基板30的上表面以形成規定的傾斜角而從斜方向射入,從而即便在處於移送中的玻璃基板30上發生平坦度改變了“Δ”的情況下,玻璃基板32的上表面也總是能夠包含在所述雷射束的寬度方向的內表面。
圖11(a)及圖11(b)是用於說明本發明中所使用的雷射束的形狀的圖。圖11(a)是表示從移送中的玻璃基板30的A面的側面照射雷射束59至紙面的近前側的圖,圖11(b)是表示圖11(a)的B-B'剖面的圖。如圖11(b)所示,雷射束59具有如下的橢圓形狀:在玻璃基板30的寬度方向W上具有較小的厚度T,在玻璃基板30的厚度t方向上具有較寬的寬度Φ。通過使用此種雷射形狀,即便在使用了平坦度不固定且相對廉價的移送裝置的情況下也能夠準確檢測出玻璃基板30上的異物。
以上所述,僅是本發明的較佳實施例而已,並非對本發明作任何形式上的限制,雖然本發明已以較佳實施例揭露如上,然而並非用以限定本發明,任何熟悉本專業的技術人員,在不脫離木發明技術方案範圍內,當可利用上述揭示的結構及技術內容作出些許的更動或修飾為等同變化的等效實施例,但是凡是未脫離本發明技術方案的內容,依據本發明的技術實質來對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾,均仍屬於本發明技術方案的範圍內。
雖然本發明已以較佳實施例揭露如上,然其並非用以限定本發明,任何熟習此技藝者,在不脫離本發明之精神和範圍內,當可作些許之更動與潤飾,因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
11...A面攝像裝置
11-81、13-91...異物檢測圖像的畫面
11-91...圖像的畫面
13...B面攝像裝置
13-81...A面異物的拍攝圖像
20...雷射束照射部
30...平板玻璃
31...雷射束
32...玻璃基板
33...反射雷射束
35...透過雷射束
50...A面攝像裝置照射至玻璃基板30的上部的區域
51...A面雷射束照射裝置
53...B面雷射束照射裝置
53i、55...射入光
53r、57...反射光
53t、59...透過光
59...雷射束
81...A面異物
90...檢測信號處理部
91...B面異物
83...散射光
100...平板玻璃移送方向
G...A面的法線向量
S...雷射束照射至平面玻璃30的A面上的區域
T...雷射束59的厚度
t...玻璃基板30的厚度
W...玻璃基板30的寬度方向
x、y、z...軸
φ...雷射束59的寬度
θ1...第一角度
θ2...第二角度
θ2t、θ2r...角度
δL...水平距離上的差異
圖1是現有的平板玻璃表面的異物檢測裝置的示意圖。
圖2是示意地表示本發明的平板玻璃表面的異物檢測裝置的較佳實施方式的結構圖。
圖3是圖2的A-A'方向的局部剖面圖。
圖4是表示相對于S偏光波對玻璃的射入角的透過率(transmittance)及反射率(reflectance)的圖表。
圖5是說明相對於雷射束的射入角的反射角及透過角的波形圖。
圖6是表示相對于P偏光波對玻璃的射入角的透過率及反射率的圖表。
圖7是用於說明P偏光及S偏光的波形圖。
圖8是用於說明由A面雷射照射裝置所照射的雷射束在因附著於玻璃基板上的異物而產生散射後,由A面攝像裝置進行檢測的過程的說明圖。
圖9是表示經由本發明的平板玻璃表面的異物檢測裝置來對附著於玻璃基板上的異物進行檢測,且視覺上顯示出該檢測結果的實施方式。
圖10(a)及圖10(b)是用於說明即便在玻璃基板的移送裝置垂直移動的情況下,也可通過本發明的平板玻璃表面的異物檢測裝置來準確進行異物的檢測的說明圖。
圖11(a)及圖11(b)是用於說明本發明中所使用的雷射束的形狀的說明圖。
11...A面攝像裝置
13...B面攝像裝置
30...平板玻璃
51...A面雷射束照射裝置
53...B面雷射束照射裝置
90...檢測信號處理部
100...平板玻璃移送方向
S...雷射束照射至平面玻璃30的A面上的區域
Claims (10)
- 一種平板玻璃表面的異物檢測裝置,對存在於透明的平板玻璃的A面以及B面上的異物進行檢測,並且檢測所述異物是否存在於所述A面以及所述B面,其中所述平板玻璃被移送以及因附著的所述異物而散射雷射束,其特徵在於包括:A面雷射束照射裝置,以A面的法線向量為基準且以第一角度照射具有第一波長的S偏光雷射束至被移送的所述平板玻璃的所述A面上的區域S;A面攝像裝置,對所述區域S進行拍攝;B面雷射束照射裝置以被移送的所述平板玻璃的所述A面的法線向量為基準且以比所述第一角度更小的第二角度朝向所述A面上的所述區域S而照射第2波長的雷射束,被照射在所述區域S上的的所述雷射束的大部分在所述平板玻璃的厚度方向上透過;B面攝像裝置,對將雷射束照射至被移送的所述平板玻璃的B面上的所述區域S部位進行拍攝,所述雷射束是從所述B面雷射束照射裝置透過所述平板玻璃的B面;以及檢測信號處理部,對從所述A面攝像裝置及所述B面攝像裝置所輸入的影像圖像進行分析,利用所述異物的清晰度而對附著所述異物的面進行判別,其中所述異物的清晰度基於所述A面攝像裝置及所述B面攝像裝置所拍攝已檢測的所述異物的影像的解析度, 其中,所述A面雷射光束照射裝置以及所述B面雷射光束照射裝置皆設置於所述A面的上方,所述A面攝像裝置以及所述B面攝像裝置分別直接接收從所述A面雷射光束照射裝置以及所述B面雷射光束照射裝置的照射,其中,所述A面雷射光束照射裝置位於第一側並從所述第一側照射,其中第一側與所述平板玻璃的移送方向垂直,所述B面雷射光束照射裝置位於第二側並從所述第二側照射,以所述A面的法線向量為基準,所述第二側為所述第一側的相對側,其中,所述A面攝像裝置以及所述B面攝像裝置皆垂直設置於所述區域S的上方。
- 如申請專利範圍第1項所述的平板玻璃表面的異物檢測裝置,其中:在所述A面攝像裝置中設置著可選擇性地透過所述第一波長的濾光片,在所述B面攝像裝置中設置著可選擇性地透過所述第二波長的濾光片。
- 如申請專利範圍第1項所述的平板玻璃表面的異物檢測裝置,其中:所述第一角度大於等於75度。
- 如申請專利範圍第3項所述的平板玻璃表面的異物檢測裝置,其中:所述第一角度大於等於80度。
- 如申請專利範圍第1項所述的平板玻璃表面的異物 檢測裝置,其中:所述B面雷射束照射裝置照射具有第二波長的P偏光的雷射束。
- 如申請專利範圍第5項所述的平板玻璃表面的異物檢測裝置,其中:所述第二角度是布儒斯特角,使所述B面雷射束照射裝置照射的雷射束被平板玻璃的A面所反射的反射波、與在所述平板玻璃的厚度方向上折射的折射波之間的角度維持為90度。
- 如申請專利範圍第5項所述的平板玻璃表面的異物檢測裝置,其中:所述第二角度相對於所述A面的法線向量而小於等於70度。
- 如申請專利範圍第1至7項中任一項所述的平板玻璃表面的異物檢測裝置,其中:從所述A面雷射束照射裝置及B面雷射束照射裝置照射的雷射束具有由所述玻璃基板的厚度方向而定義的寬度φ、及由所述玻璃基板的寬度方向而定義的厚度T,所述雷射束為寬度φ形成得比厚度T更大的橢圓形狀。
- 如申請專利範圍第1至5項中任一項所述的玻璃表面的異物檢測裝置,其中:所述第二角度為大於等於0度且小於等於40度之間的角度。
- 如申請專利範圍第1至5項中任一項所述的玻璃表 面的異物檢測裝置,其中:所述A面攝像裝置以及所述B面攝像裝置是設置於:由所述A面雷射光束照射裝置照射的所述A面的垂直上方位置。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI658263B (zh) * | 2016-09-30 | 2019-05-01 | 大陸商上海微電子裝備(集團)股份有限公司 | 一種平板顆粒度檢測方法 |
Families Citing this family (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101324015B1 (ko) * | 2011-08-18 | 2013-10-31 | 바슬러 비전 테크놀로지스 에이지 | 유리기판 표면 불량 검사 장치 및 검사 방법 |
CN102645437A (zh) * | 2012-04-11 | 2012-08-22 | 法国圣戈班玻璃公司 | 光学测量装置和光学测量方法 |
US9212900B2 (en) | 2012-08-11 | 2015-12-15 | Seagate Technology Llc | Surface features characterization |
EP2703772B1 (de) * | 2012-08-28 | 2015-05-20 | Texmag GmbH Vertriebsgesellschaft | Sensor zum Erfassen einer laufenden Warenbahn |
KR101435621B1 (ko) * | 2012-11-09 | 2014-08-29 | 와이즈플래닛(주) | 복수의 촬상 장치를 이용한 검사대상 위치 판단장치 |
CN103076343B (zh) * | 2012-12-27 | 2016-09-14 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 素玻璃激光检查机及素玻璃检查方法 |
US9140655B2 (en) | 2012-12-27 | 2015-09-22 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Mother glass inspection device and mother glass inspection method |
CN103115928A (zh) * | 2013-02-05 | 2013-05-22 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 玻璃表面异物检查装置、检查机及其检查方法 |
US9513215B2 (en) | 2013-05-30 | 2016-12-06 | Seagate Technology Llc | Surface features by azimuthal angle |
CN104634789A (zh) * | 2014-04-24 | 2015-05-20 | 东旭集团有限公司 | 一种对超薄玻璃基板的上表面进行异物检查的系统及方法 |
KR101636055B1 (ko) * | 2014-04-30 | 2016-07-05 | 주식회사 나노프로텍 | 편광을 이용한 투명기판 상면 이물 검출 방법 |
KR101678169B1 (ko) * | 2015-05-08 | 2016-11-21 | 주식회사 나노프로텍 | 초박판 투명기판 상면 이물 검출 장치 |
CN106841228B (zh) * | 2015-12-03 | 2020-10-30 | 特铨股份有限公司 | 微尘检测机构 |
CN206583816U (zh) * | 2015-12-15 | 2017-10-24 | 住友化学株式会社 | 缺陷检查用拍摄装置、缺陷检查系统以及膜制造装置 |
KR102522899B1 (ko) * | 2016-02-05 | 2023-04-19 | (주)테크윙 | 전자부품 적재상태 점검장치 |
KR20170133113A (ko) * | 2016-05-25 | 2017-12-05 | 코닝정밀소재 주식회사 | 유리 상면 상의 이물질 검출 방법과 장치, 및 입사광 조사 방법 |
CN110849902A (zh) * | 2016-06-08 | 2020-02-28 | 周娇 | 一种新型显示面板表面缺陷检测系统 |
KR102270979B1 (ko) * | 2016-12-28 | 2021-06-30 | 에이에스엠엘 홀딩 엔.브이. | 다중-이미지 입자 검출 시스템 및 방법 |
CN107726977A (zh) * | 2017-09-26 | 2018-02-23 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种位置检测机构及位置检测方法 |
CN108987303A (zh) * | 2018-05-25 | 2018-12-11 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 带异物检测装置的基板吸附设备及异物检测方法 |
CN108982520A (zh) * | 2018-08-03 | 2018-12-11 | 汕头超声显示器(二厂)有限公司 | 一种膜底可视缺陷的检测方法及装置 |
KR102040017B1 (ko) * | 2018-08-08 | 2019-11-05 | 한국과학기술연구원 | 비접촉식 샘플 높이 측정 시스템 |
CN111007077A (zh) * | 2018-10-08 | 2020-04-14 | 纳米普泰股份有限公司 | 超薄板透明基板上表面异物检测装置 |
CN109297991B (zh) * | 2018-11-26 | 2019-12-17 | 深圳市麓邦技术有限公司 | 一种玻璃表面缺陷检测系统及方法 |
CN109596640B (zh) * | 2018-12-05 | 2021-09-03 | 京东方科技集团股份有限公司 | 异物检测方法及装置 |
CN110246449B (zh) * | 2019-06-18 | 2020-11-24 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示面板的调节方法及装置 |
DE102020133397B4 (de) * | 2020-12-14 | 2024-09-05 | Isra Vision Gmbh | Vorrichtung zur Inspektion der Oberfläche eines transparenten Gegenstands sowie entsprechendes Verfahren |
CN113916830B (zh) * | 2021-11-12 | 2024-05-10 | 江苏远恒药业有限公司 | 滴眼液半成品半自动灯检装置及其使用方法 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6273141A (ja) * | 1985-09-27 | 1987-04-03 | Hitachi Ltd | 透明な試料に対する欠陥検出方法及びその装置 |
JP2512878B2 (ja) * | 1987-01-29 | 1996-07-03 | 株式会社ニコン | 異物検査装置 |
JP2671241B2 (ja) * | 1990-12-27 | 1997-10-29 | 日立電子エンジニアリング株式会社 | ガラス板の異物検出装置 |
US5539514A (en) * | 1991-06-26 | 1996-07-23 | Hitachi, Ltd. | Foreign particle inspection apparatus and method with front and back illumination |
JP3259331B2 (ja) * | 1992-05-29 | 2002-02-25 | キヤノン株式会社 | 表面状態検査装置 |
JPH0921759A (ja) * | 1995-07-10 | 1997-01-21 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | 基板の異物検査装置 |
JPH1096700A (ja) * | 1996-09-20 | 1998-04-14 | Nikon Corp | 異物検査装置 |
JP2000162137A (ja) * | 1998-11-26 | 2000-06-16 | Nikon Corp | 面検査装置 |
JP2002139423A (ja) | 2000-11-01 | 2002-05-17 | Fuji Electric Co Ltd | 油膜検知装置 |
JP3523848B2 (ja) * | 2001-05-25 | 2004-04-26 | オリンパス株式会社 | 外観検査用照明装置 |
JP2003004663A (ja) * | 2001-06-27 | 2003-01-08 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | 表面検査装置 |
JP2003247957A (ja) * | 2002-02-26 | 2003-09-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 表面異物検査装置 |
US6710868B2 (en) | 2002-05-22 | 2004-03-23 | Applied Materials, Inc. | Optical inspection system with dual detection heads |
KR100897223B1 (ko) * | 2004-11-24 | 2009-05-14 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 투명 판상체의 결함 검사 방법 및 장치 |
CN1908638A (zh) * | 2006-08-24 | 2007-02-07 | 上海交通大学 | 玻璃缺陷的光学检测装置 |
JP2009139355A (ja) * | 2007-12-04 | 2009-06-25 | Photonic Lattice Inc | 欠陥検査装置 |
-
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI658263B (zh) * | 2016-09-30 | 2019-05-01 | 大陸商上海微電子裝備(集團)股份有限公司 | 一種平板顆粒度檢測方法 |
US10648926B2 (en) | 2016-09-30 | 2020-05-12 | Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd. | Method of detecting particles on panel |
Also Published As
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