TWI433941B - A method of manufacturing a vapor deposition mask, a method of manufacturing a vapor deposition mask, a method of manufacturing a sheet-like member for vapor deposition, - Google Patents

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TWI433941B
TWI433941B TW097131727A TW97131727A TWI433941B TW I433941 B TWI433941 B TW I433941B TW 097131727 A TW097131727 A TW 097131727A TW 97131727 A TW97131727 A TW 97131727A TW I433941 B TWI433941 B TW I433941B
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Description

蒸鍍遮罩、蒸鍍遮罩裝置、蒸鍍遮罩之製造方法、蒸鍍遮罩裝置之製造方法及蒸鍍遮罩用之片狀構件之製造方法
本發明是關於執行所期望之圖案蒸鍍用的遮罩,特別是關於能夠精度佳執行極高精細圖案蒸鍍的蒸鍍遮罩。
此外,本發明是關於具備有執行所期望之圖案蒸鍍用的蒸鍍遮罩之蒸鍍遮罩裝置,特別是關於具備有能夠精度佳執行極高精細圖案之蒸鍍遮罩的蒸鍍遮罩裝置。
再加上,本發明是關於執行所期望之圖案蒸鍍用的蒸鍍遮罩之製造方法,特別是關於能夠精度佳執行極高精細圖案蒸鍍的蒸鍍遮罩之製造方法。
又加上,本發明是關於具備有執行所期望之圖案蒸鍍用的蒸鍍遮罩之蒸鍍遮罩裝置的製造方法,特別是關於具備有能夠精度佳執行極高精細圖案蒸鍍之蒸鍍遮罩的蒸鍍遮罩裝置之製造方法。
另外,本發明是關於被使用在執行所期望之圖案蒸鍍用的蒸鍍遮罩之片狀構件的製造方法,特別是關於能夠精度佳執行極高精細圖案蒸鍍的蒸鍍遮罩用片狀構件之製造方法。
習知,已知有使用具有以所期望圖案排列之孔的蒸鍍用遮罩,以所期望之圖案形成薄膜的方法。接著,最近對於例如有機EL顯示裝置製造時將有機材料蒸鍍在基板上的作業等,強烈希望能夠經由蒸鍍執行極高精細的圖案製作。
另外,上述的蒸鍍用遮罩,一般是對金屬板使用光刻法技術的蝕刻形成孔,藉此製造出蒸鍍用遮罩(例如JP2004-39319A號公報)。此外,利用蝕刻在金屬板形成孔的場合,有從金屬板兩方側的面進行蝕刻的方法,和只從金屬板一方側的面進行蝕刻的方法。
然而,使用經蝕刻製作形成的蒸鍍遮罩時,有時會有無法精度佳執行極高精細圖案蒸鍍的問題。本案發明人針對該問題的原因進行了調查研究的結果,確認有下述事項。
使用光刻法技術的蝕刻是從金屬板當中未覆蓋有抗蝕膜的區域開始浸蝕。然後,浸蝕不僅是朝金屬板厚度方向進行而已,還朝沿著金屬板板面的方向進行。因此,經由蝕刻在金屬板就會逐漸形成有前端細的孔。基於此,從金屬板2兩方側的面進行蝕刻時,如第11圖所示,於金屬板2厚度方向端部以外的部份在孔2a內會形成有剖面積(開孔面積)最小的突出部3。接著,使用該狀態的蒸鍍遮罩1執行蒸鍍後,成膜在基板4當中對應突出部3背側的區域的蒸鍍膜5的膜厚是不穩定。其結果,蒸鍍圖案的緣部會模糊不清(蒸鍍圖案輪廓不明顯)。此外,本來對於形成在孔內的突出部之位置或剖面形狀的控制就屬困難。基於上述原因,得知從兩方側的面進行金屬板蝕刻是無法精度佳進行極高精細圖案蒸鍍。
另一方面,只從上方側的面進行金屬板蝕刻時,經由浸蝕形成的前端細的孔,會殘留有經浸蝕使用後浸蝕能力變低的蝕刻液。然後,當金屬板的孔逐漸形成至下方側的面時,至此為止殘留在孔內的蝕刻液會從下方的面流出,接著流入由浸蝕能力高的新鮮蝕刻液形成的孔內。此時,剖面積(開孔面積)形成較小的孔內下方側的區域其液壓會變高,使孔內下方側的區域受到新鮮蝕刻液激烈浸蝕。其結果,和從金屬板兩側進行蝕刻的狀況相同,孔內還是會形成有突出部。
此外,隔著抗蝕膜7只從金屬板6的下方側的面進行蝕刻時,如第12圖所示,當經由浸蝕形成的前端細的孔6a貫通金屬板6時,在上側面的孔周圍,有時會殘留有蝕刻液8。其結果,殘留的蝕刻液也會從上方側的面開始浸蝕金屬板,導致和從金屬板兩側進行蝕刻時的狀況相同,孔內還是會形成有突出部。
基於上述的狀況,即使是只從金屬板一方側的面進行蝕刻還是會造成蒸鍍圖案模糊不清(蒸鍍圖案輪廓不明顯)。此外,本來,從金屬板一方側的面進行蝕刻時,孔貫通後蝕刻液開始流入時所產生的壓力有時就會導致孔剖面形狀不齊。於是,在該狀況下,要精度佳形成有所期望形狀的孔本來就屬困難。對於執行上述高精細圖案製作用的蒸鍍遮罩,上述現象更為明顯。基於上述,可得知即使是只從金屬板一方側的面進行蝕刻還是無法精度佳執行極高精細圖案蒸鍍。
於是,本發明是有鑑於上述問題所研創的發明,目的是提供一種能夠執行極高精細圖案製作的蒸鍍遮罩。
此外,本發明是以提供一種具備有能夠執行極高精細圖案製作之蒸鍍遮罩的蒸鍍遮罩裝置為目的。
再加上,本發明是以提供一種製造能夠執行極高精細圖案製作之蒸鍍遮罩的製造方法為目的。
又加上,本發明是以提供一種製造備有能夠執行執行極高精細圖案製作之蒸鍍遮罩的蒸鍍遮罩裝置之製造方法為目的。
另外,本發明是以提供一種被使用在能夠執行極高精細圖案製作之蒸鍍遮罩之片狀構件的製造方法為目的。
本發明的蒸鍍遮罩之製造方法,其特徵為,具備:可供應具有樹脂製薄片和層疊在上述樹脂製薄片上之金屬製薄片的層疊體的層疊體供應步驟;對所供應的層疊體進行蝕刻,使金屬製薄片形成有多數孔的層疊體蝕刻步驟;及蝕刻步驟後,從上述層疊體去除上述樹脂製薄片的樹脂製薄片去除步驟。
本發明的蒸鍍遮罩之製造方法中,也可構成於上述層疊體蝕刻步驟,使沿著一方向排列配置的多數孔形成為各個沿著正交於上述一方向的另一方向延伸的多數孔。如上述蒸鍍遮罩之製造方法的上述樹脂製薄片去除步驟,也可構成為將上述金屬製薄片和上述樹脂製薄片沿著上述另一方向逐漸分離。此外,如上述蒸鍍遮罩之製造方法,也可構成為將上述層疊體沿著上述另一方向供應。
另外,於本發明的蒸鍍遮罩之製造方法的上述層疊體蝕刻步驟中,也可構成為將以指定圖案配置有複數孔的有孔區域複數形成在金屬製薄片,藉此製造出可具多面的蒸鍍遮罩。
再加上,於本發明的蒸鍍遮罩之製造方法的上述層疊體供應步驟中,也可構成為所供應的層疊體具有經UV光照射就會降低其對上述金屬製薄片之黏合力的樹脂製薄片,於上述樹脂製薄片去除步驟中,對上述樹脂製薄片照射UV光,使上述金屬製薄片和樹脂製薄片分離。
又加上,於本發明的蒸鍍遮罩之製造方法的上述層疊體供應步驟中,也可構成為對捲繞有上述層疊體的卷體進行開卷藉此供應帶狀延伸的層疊體。
本發明的蒸鍍遮罩,其是上述任一製造方法所製造的蒸鍍遮罩,其特徵為,形成在上述蒸鍍遮罩的孔的剖面積是從上述蒸鍍遮罩一方的面朝另一方的面逐漸變小。
本發明的蒸鍍遮罩中,針對正交於蒸鍍遮罩薄片面的剖面,將上述孔的上述一方的面側的端部和上述另一方的面側的端部連接形成的直線與上述另一方的面所形成的角度為60°以下。
本發明的蒸鍍遮罩裝置,其特徵為,具備:上述任一製造方法所製造的蒸鍍遮罩;及與上述蒸鍍遮罩安裝成固定的框架,形成在上述蒸鍍遮罩的孔的剖面積是從上述蒸鍍遮罩一方的面朝另一方的面逐漸變小。
本發明的蒸鍍遮罩裝置中,針對正交於蒸鍍遮罩薄片面的剖面,也可形成上述孔的上述一方的面側的端部和上述另一方的面側的端部連接形成的直線與上述另一方的面所形成的角度為60°以下。
本發明的蒸鍍遮罩裝置之製造方法,是一種具備有蒸鍍遮罩及與蒸鍍遮罩安裝成固定的框架之蒸鍍遮罩裝置的製造方法,其特徵為,具備:可供應具有樹脂製薄片和層疊在上述樹脂製薄片上之金屬製薄片的層疊體的層疊體供應步驟;對所供應的層疊體進行蝕刻,使金屬製薄片形成有多數孔的層疊體蝕刻步驟;蝕刻步驟後,從上述層疊體去除上述樹脂製薄片的樹脂製薄片去除步驟;及蝕刻步驟後,將上述框架安裝在上述金屬製薄片的框架安裝步驟。
本發明的蒸鍍遮罩裝置之製造方法,也可構成為在上述樹脂製薄片去除後,實施上述框架安裝在上述上述金屬製薄片的框架安裝步驟。或者,本發明的蒸鍍遮罩之製造方法,也可構成為在上述框架安裝步驟後,實施上述樹脂製薄片去除步驟。
本發明蒸鍍遮罩裝置之製造方法的上述層疊體蝕刻步驟中,也可構成為將沿著一方向排列配置的多數孔形成為各個沿著正交於上述一方向的另一方向延伸的多數孔。於上述蒸鍍遮罩之製造方法的上述樹脂製薄片去除步驟中,也可構成為沿著上述另一方向使上述金屬製薄片和上述樹脂製薄片逐漸分離。此外,於上述蒸鍍遮罩之製造方法中,也可構成為將上述層疊體沿著上述另一方向供應。
此外,於本發明的蒸鍍遮罩裝置之製造方法的上述層疊體蝕刻步驟中,也可構成為以指定圖案配置有複數孔的有孔區域是複數形成在金屬製薄片,藉此製造出可具多面的蒸鍍遮罩配置。
再加上,於本發明的蒸鍍遮罩裝置之製造方法的上述層疊體供應步驟中,也可構成為所供應的層疊體具有經UV光照射就會降低其對上述金屬製薄片之黏合力的樹脂製薄片,於上述樹脂製薄片去除步驟中,對黏合層照射UV光,就可使上述金屬製薄片和樹脂製薄片分離。
又加上,於本發明的蒸鍍遮罩裝置之製造方法的上述層疊體供應步驟中,也可構成為對捲繞有上述層疊體的卷體進行開卷供應帶狀延伸的層疊體。
本發明的蒸鍍遮罩用片狀構件之製造方法,是一種製造被使用在形成有多數孔之蒸鍍遮罩的片狀構件之蒸鍍遮罩用片狀構件的製造方法,其特徵為,具備:可供應具有樹脂製薄片和層疊在上述樹脂製薄片上之金屬製薄片的層疊體的層疊體供應步驟;對所供應的層疊體進行蝕刻,使金屬製薄片形成有多數孔的層疊體蝕刻步驟;及蝕刻步驟後,從上述層疊體去除上述樹脂製薄片的樹脂製薄片去除步驟。
本發明的蒸鍍遮罩用片狀構件之製造方法的上述層疊體蝕刻步驟,也可構成為將沿著一方向排列配置的多數孔形成為各個沿著正交於上述一方向的另一方向延伸的多數孔。如上述蒸鍍遮罩用片狀構件之製造方法的上述樹脂製薄片去除步驟,也可構成為沿著上述另一方向使上述金屬製薄片和上述樹脂製薄片逐漸分離。此外,如上述蒸鍍遮罩用片狀構件之製造方法,也可構成為將上述層疊體沿著上述另一方向供應。
此外,本發明的蒸鍍遮罩用片狀構件之製造方法的上述層疊體蝕刻步驟,也可構成為以指定圖案配置有複數孔的有孔區域是複數形成在金屬製薄片,藉此製造出可具多面的蒸鍍遮罩的薄片狀構件。
再加上,於本發明的蒸鍍遮罩用片狀構件之製造方法的上述層疊體供應步驟中,也可構成為所供應的層疊體具有經UV光照射就會降低其對上述金屬製薄片之黏合力的樹脂製薄片,於上述樹脂製薄片去除步驟中,對黏合層照射UV光,就可使上述金屬製薄片和樹脂製薄片分離。
又加上,於本發明的蒸鍍遮罩用片狀構件之製造方法的上述層疊體供應步驟中,也可構成為對捲繞有上述層疊體的卷體進行開卷供應帶狀延伸的層疊體。
根據本發明時,所獲得的蒸鍍遮罩其剖面積從一方的面朝另一方的面逐漸變小的同時高精度形成有另一方的面的形狀。因此,採用該蒸鍍遮罩時,能夠精度佳執行極高精細圖案蒸鍍。
[發明之最佳實施形態]
以下,參照第1圖至第10圖對本發明的蒸鍍遮罩、蒸鍍遮罩裝置、蒸鍍遮罩之製造方法、蒸鍍遮罩裝置之製造方法,及蒸鍍遮罩用片狀構件之製造方法的一實施形態進行說明。於此,第1圖至第10圖為本發明的一實施形態說明圖。另,以下的實施形態,是以有機EL顯示裝置製造時將有機發光材料佈置形成所期望的圖樣在玻璃基板上所使用的蒸鍍遮罩(蒸鍍用的金屬遮罩)、蒸鍍遮罩裝置、蒸鍍遮罩之製造方法、蒸鍍遮罩裝置之製造方法,及蒸鍍遮罩用片狀構件為例子進行說明。不過,本發明並不限定於上述應用,還可應用在各種用途所使用的蒸鍍遮罩(蒸鍍用的金屬遮罩)、蒸鍍遮罩裝置、蒸鍍遮罩之製造方法、蒸鍍遮罩裝置之製造方法,及蒸鍍遮罩用片狀構件。
首先,主要先參照第1圖至第5圖對利用本發明蒸鍍遮罩之製造方法及蒸鍍遮罩裝置之製造方法所製造獲得的蒸鍍遮罩及蒸鍍遮罩裝置的一例進行說明。於此,第1圖為表示蒸鍍遮罩及蒸鍍遮罩裝置的一例透視圖,第2圖為蒸鍍遮罩及蒸鍍遮罩裝置的使用方法說明圖。
如第1圖至第4圖所示,本實施形態的蒸鍍遮罩裝置10,具備:矩形狀金屬製薄片形成的蒸鍍遮罩20;及安裝在蒸鍍遮罩20周緣部的框架15。蒸鍍遮罩20是由形成有多數孔25(參照第4圖)的金屬製片狀構件形成。該蒸鍍遮罩裝置10,如第2圖所示,其蒸鍍遮罩20是和玻璃基板42成對面支撐在蒸鍍裝置40內。蒸鍍裝置40內,在隔著該蒸鍍遮罩裝置10位於玻璃基板42的下方,配置有蒸鍍材料(其一例為有機發光材料)48收容用的熔爐44和熔爐44加熱用的加熱器46。熔爐44內的蒸鍍材料48是經由加熱器46的加熱形成為氣化或昇華附著在玻璃基板42的表面。如上述,蒸鍍遮罩20形成有多數的孔25,蒸鍍材料48是透過該孔25附著在玻璃基板42。其結果,就能夠以蒸鍍遮罩20的孔25位置所對應的期望圖案使蒸鍍材料48成膜在玻璃基板42的表面。
如第1圖所示,本實施形態中,蒸鍍遮罩20,其平面方向為大致四角形的形狀,再加上,正確地說其具有平面方向為大致矩形的輪廓。蒸鍍遮罩20,具有:形成有孔25的有孔區域22;及沒有孔25形成,其區域位於包圍著有孔區域22的無孔區域23。如第1圖所示,各有孔區域22,其平面方向為大致四角形的形狀,再加上,正確地說其具有平面方向為大致矩形的輪廓。
本實施形態中,複數的有孔區域22是沿著和蒸鍍遮罩20一邊平行的一方向隔著指定間隔形成配置的同時,沿著和上述一方向正交的另一方向隔著指定間隔形成配置。本實施形態中,形成為一個有孔區域22對應一個有機EL顯示裝置。即,根據第1圖所示的蒸鍍遮罩裝置10(蒸鍍遮罩20)時,可執行具多面蒸鍍。
此外,如第1圖及第3圖所示,設置在各多孔區域22的複數孔25,於該有孔區域22是沿著一方向隔著等間隔排列配置。另外,各孔25是形成和正交於上述一方向的另一方向平行,從有孔區域22的一端成細長延伸至另一端。此外,如第4圖所示,沿著金屬製薄片34的薄片面形成剖面的各孔25的剖面積是從片狀所形成的蒸鍍遮罩20的一方的面20a朝另一方的面20b逐漸變小。於此,第3圖是蒸鍍遮罩20從一方的面20a側看的局部平面圖,第4圖是沿著第3圖IV-IV剖線的面圖。
然而,如第5圖所示,當蒸鍍遮罩裝置10收容在蒸鍍裝置40時,其蒸鍍遮罩20的一方的面20a是和保持著蒸鍍材料48的熔爐44成對面,蒸鍍遮罩20的另一方的面20b是和玻璃基板42成對面。即,如第5圖所示,蒸鍍材料48是通過剖面積逐漸變小的孔25附著在玻璃基板42。如第5圖所示,有時蒸鍍材料48從熔爐44往玻璃基板42的移動並非直線移動,而是對玻璃基板42的板面成斜向移動。此時,孔25的剖面形狀若形成為如第5圖虛線所示具有輪廓的形狀時,斜向移動的蒸鍍材料48就會附著在蒸鍍遮罩20而不會到達玻璃基板42。
即,若要提昇蒸鍍材料的利用效率(成膜效率:附著在玻璃基板42的比率)節省高價的蒸鍍材料,則於蒸鍍遮罩20薄片面正交的剖面(第5圖的剖面)中,一方的面20a側的孔25的端部及另一方的面20b側的孔25的端部連接形成的直線L與另一方的面20b所形成的角度θ最好是形成較小為佳。但是,針對玻璃基板42的垂線成大角度朝玻璃基板42移動的蒸鍍材料的比率是較少。接著,當上述的直線L對另一方的面20b形成的角度θ為60。以下時,就可獲得蒸鍍材料利用效率充份的值。
另,當角度θ逐漸變小時,如第5圖二點虛線所示,彼此相鄰的孔25的壁面彼此會接觸。如此一來,若是考慮到蒸鍍遮罩20的強度時,則相鄰的孔25的壁面彼此不接觸會比較好,若針對一方的面20a使相鄰的孔25之間形成有5μm以上的平坦面時則更佳。
即,直線L對另一方的面20b形成的角度θ,最好是成為能夠針對一方的面20a使相鄰的孔25之間形成有5μm以上平坦面的角度以上,且為60°以下。
如以上所述,本實施形態中,各孔25是於各有孔區域22成等間隔配置。其一例,當蒸鍍遮罩20(蒸鍍遮罩裝置10)是使用在製作行動電話或數位相機等的顯示器(2~3英吋左右)時,孔25的排列節距P(參照第4圖),就能夠為84μm(300ppi)以上且254μm(100ppi)以下程度。另,若欲執行彩色顯示時,也可將蒸鍍遮罩20(蒸鍍遮罩裝置10)和玻璃基板42沿著孔25的排列方向(上述的一方向)進行少量相對移動,依順序蒸鍍紅色用有機發光材料、綠色用有機發光材料及藍色用有機發光材料。此外,當蒸鍍遮罩20(蒸鍍遮罩裝置10)是使用在製作行動電話的顯示器時,各孔25其沿著排列方向(上述的一方向)的寬度(窄縫寬)W,可形成為28μm以上且84μm以下程度。
另一方面,蒸鍍遮罩裝置10的框架15是安裝在矩形狀蒸鍍遮罩20的周緣部。框架15是將蒸鍍遮罩20保持成張貼狀態避免蒸鍍遮罩20撓曲變形。蒸鍍遮罩20和框架15,例如是利用點焊焊接成彼此固定著。
蒸鍍遮罩裝置10是保持在成為高溫環境氣體的蒸鍍裝置40內部。因此,為了防止蒸鍍框架的撓曲或熱應力的產生,蒸鍍遮罩20及框架15,最好是由熱膨脹係數低的同一材料製成為佳。該材料,例如可使用36%Ni鋼材。
其次,主要是使用第6圖至第9圖對上述蒸鍍遮罩20及蒸鍍遮罩裝置10的製造方法進行說明。其中第6圖是蒸鍍遮罩之製造方法說明圖。
如第6圖所示,本實施形態的蒸鍍遮罩之製造方法,包括:可供應具有樹脂製薄片32和層疊在樹脂製薄片32上之金屬製薄片34的層疊體30之層疊體供應步驟;使用光刻法技術對層疊體30的金屬製薄片34進行蝕刻,使金屬製薄片34形成有多數孔25的層疊體蝕刻步驟;及蝕刻步驟後,從層疊體30去除樹脂製薄片32的樹脂製薄片去除步驟。
如第6圖所示,本實施形態中,準備有將層疊體30捲繞在供應芯筒31的層疊體卷體29。接著,旋轉該供應芯筒31對卷體29進行開卷,如第6圖所示藉此供應帶狀延伸的層疊體30。於此,層疊體30是以金屬製薄片34位於下方位置的同時樹脂製薄片32位於上方位置形成供應。
另,層疊體30的金屬製薄片34,如以下說明是成為形成有孔25的蒸鍍遮罩20。因此,如以上所述,金屬製薄片34,例如是由36%Ni鋼材形成。不過,並不限於此,金屬製薄片34也可使用由不鏽鋼、銅、鐵、鋁形成的薄片。
另一方面,樹脂製薄片32,例如是可使用具有50μm~150μm程度厚度的聚對苯二甲酸乙二醇酯或聚丙烯形成的薄片。本實施形態中,是使用經UV光照射就會降低其對金屬製薄片34之黏合力的樹脂製薄片32。具體而言,樹脂製薄片32,可形成為具有:由聚對苯二甲酸乙二醇酯形成的基材薄片32a;及層疊在基材薄片32a上的同時和金屬製薄片32成對面的UV剝離層32b(參照第7圖及第8圖)。
於此,所謂UV剝離層32b是指當初具有黏合力,可黏合著基材薄片32a和金屬製薄片34,當照射UV光時所照射的部份其黏合力會降低的層。例如:當照射UV光時,所照射的部份會凝固以致其對金屬製薄片34的接合力降低。該UV剝離層32b,例如是可由丙烯酸系UV再剝離型黏合劑形成。
所供應的層疊體30是由蝕刻裝置(蝕刻手段)50施以蝕刻處理。具體而言,首先,在層疊體30的金屬製薄片34的面上(第7圖紙面下側的面上)塗抹感光性抗蝕劑材料,使金屬製薄片34上形成有抗蝕膜36。其次,準備可使光不透過除去抗蝕膜36之區域的玻璃乾板37,將玻璃乾板37配置在抗蝕膜36上。
然後,如第7圖所示,越過玻璃乾板37對抗蝕膜36進行曝光,再加上又對抗蝕膜36進行顯像。經由以上所述,就可使抗蝕圖案36a形成在層疊體30的金屬製薄片34上。
另,也可事先將玻璃乾板37當中應去除的抗蝕膜36對面的區域形成為黑色,使用可視光做為曝光的光。於該狀況時,藉由黑色部份吸收可視光使光不入射在抗蝕膜36的應去除區域,因此抗蝕膜36不會固定在金屬製薄片34上。另一方面,光會入射在抗蝕膜36的不應去除區域,使該區域的抗蝕膜36固定在金屬製薄片34上。不固定的抗蝕膜36,例如是利用熱水清洗去除。
接著,如第8圖所示,對形成在金屬製薄片34上的抗蝕圖案36a進行遮罩,用蝕刻液(例如氯化鐵溶液)38對層疊體36進行蝕刻。本實施形態中,蝕刻液38,是從配置在所搬運過來的層疊體30下方的蝕刻裝置50的噴嘴51越過抗蝕圖案36a朝金屬製薄片34一方的面34a噴射。此時,如第8圖的虛線所示,蝕刻液就會開始浸蝕金屬製薄片34當中未覆蓋有抗蝕圖案36a的區域。然後,浸蝕,不僅朝金屬製薄片34的厚度方向進行,還會沿著金屬製薄片34的薄片面持續進行。如此一來,蝕刻液的浸蝕就會從金屬製薄片34一方的面34a前進至另一方的面34b,形成貫通金屬製薄片34的孔25。
然後,除去層疊體30上的抗蝕圖案36a,再加上又對層疊體30進行清洗。如此一來,在樹脂製薄片32上,就可獲得由形成有多數孔25的金屬製薄片34形成的蒸鍍遮罩用片狀構件18。
此外,若沒有設置樹脂製薄片32時,如以上所述,在金屬製薄片34經貫通形成有孔25之後,金屬製薄片34另一方的面34b側會滯留有蝕刻液,以致會獲得形狀及尺寸都不穩定具有瑕疵的孔25。但是,根據本實施形態時,即使形成有貫通金屬製薄片34的孔25,該孔25其上方側是由樹脂製薄片32覆蓋著。因此,能夠確實避免習知方法所產生的瑕疵。其結果,使浸蝕只從金屬製薄片34一方的面34a側前進,形成在金屬製薄片34的孔25的剖面積,是從一方的面34a、20a朝另一方的面34b、20b逐漸變小。此外,還可精度佳形成具有所期望開孔面積(平面方向的孔25面積)的孔25。
然後,經上述蝕刻的層疊體30,是以夾持該層疊體30的狀態進行旋轉的一對搬運輥57、57搬運至去除裝置(去除手段)54內。另,該搬運輥57、57的旋轉會對層疊體30作用應力(拉力)使上述供應芯筒31旋轉,形成從卷體29供應層疊體30。
另外,本實施形態中,金屬製薄片34是由樹脂製薄片32支撐及補強著。因此,在層疊體30搬運時,作用在孔25和孔25之間的應力能夠格外抑制金屬製薄片34的孔25和孔25之間被切斷,或抑制孔25和孔25之間延伸成線狀的部份纏繞等問題。其結果,能夠避免蝕刻步驟中形成在金屬製薄片34的微細孔25的形狀於後續步驟受損的問題。
另,如上述當沿著排列方向的正交方向形成細長延伸的孔25時,以孔25延伸方向(上述另一方向)和層疊體30供應方向(層疊體搬運方向)大致平行為佳。於該狀況時,能夠有效防止金屬製薄片34的孔25和孔25之間被切斷,或抑制孔25和孔25之間延伸成線狀的部份纏繞。
如第9圖所示,本實施形態的去除裝置54,具有設置在搬運輥57下游側的UV光照射手段55。UV光照射手段55,具有沿著層疊體30的移動路徑設置,從樹脂製薄片32側覆蓋層疊體30的遮蔽罩55a;及配置在遮蔽罩55a內的UV光源55b。接著,搬運過來的層疊體30是從樹脂製薄片32側受到UV光照射,由透過樹脂製薄片32的基材薄片32a的UV光使基材薄片32a和蒸鍍遮罩20(金屬製薄片34)黏合的UV剝離層32b的黏合力大幅降低。其結果,使成為層疊體30的樹脂製薄片32和金屬製薄片34(蒸鍍遮罩20)能夠分離,如第9圖所示,樹脂製薄片32是從金屬製薄片34剝離捲取在捲取芯筒58。
另,樹脂製薄片32從金屬製薄片34拉開剝離的方向,是以平行於形成在金屬製薄片34的孔25的延伸方向(上述另一方向)為佳。沿著該方向將樹脂製薄片32從金屬製薄片34分離時,能夠有效防止金屬製薄片34的孔25和孔25之間被切斷,或抑制孔25和孔25之間延伸成線狀的部份纏繞。
如此一來,就可獲得形成有多數孔25的金屬製薄片34,利用切斷裝置(切斷手段)59將金屬製薄片34切斷成指定長度,就可獲得薄片狀的蒸鍍遮罩20。接著,對各蒸鍍遮罩20安裝框架15就可獲得蒸鍍裝置10。另,框架15可以是安裝在蒸鍍遮罩20一方的面20a,也可以是安裝在蒸鍍遮罩20另一方的面20b。
根據以上所述的本實施形態時,可不斷處理層疊在樹脂製薄片32上的金屬製薄片34。因此,對金屬製薄片34只要從一方的面34a側進行蝕刻就能夠形成貫通金屬製薄片34的孔25。於該狀況時,孔25是貫通金屬製薄片34,但位於金屬製薄片34另一方的面34b側的孔25的端部是由樹脂製薄片32覆蓋著。即,孔25並沒有貫通層疊體30,因此能夠避免上述的習知問題點,如此一來,就可獲得從一方的面20a朝另一方的面20b形成有剖面積逐漸變小之孔25的蒸鍍遮罩20。此外,還能夠精度佳製成以高精細圖案形成開孔的蒸鍍遮罩20。根據該蒸鍍遮罩20時,能夠精度佳執行高精細圖案蒸鍍。
因此,經由上述作業所獲得的蒸鍍遮罩20,非常適用在有機EL顯示裝置製造時例如將有機發光材料以所期望的圖案佈置在玻璃基板42上所使用的蒸鍍遮罩(蒸鍍用的金屬製遮罩)。
此外,根據本實施形態時,能夠明顯降低形成孔25之後的搬運時作用在層疊體30當中的金屬製薄片34的應力(拉力),能夠明顯降低金屬製薄片34的孔25和孔25之間的切斷作用應力產生,及明顯降低金屬製薄片34的孔25和孔25之間延伸成線狀部份的纏繞作用應力的產生。因此,能夠防止已精度良好形成在蒸鍍遮罩20上的孔於後續步驟受損。
再加上,根據本實施形態時,於層疊體30供應步驟中,對捲繞有層疊體30的卷體29進行開卷供應帶狀延伸的層疊體30。該卷體29是可廉價購入,再加上使用處理方面非常理想。
另,關於上述的實施形態,在本發明主旨範圍內是可進行各種變更。以下,針對變形例的一例進行說明。
上述的實施形態中,揭示著以UV光照射在樹脂製薄片32使樹脂製薄片32從層疊體30去除的例子,但樹脂製薄片32的去除方法並不限於此。例如也可將層疊體30送入加熱爐(去除手段),燃燒層疊體30的樹脂製薄片32使樹脂製薄片32從層疊體30去除。燃燒去除樹脂製薄片32時,因是使用簡易裝置的簡易方法,所以能夠在不影響形成在金屬製薄片34(蒸鍍遮罩20)的孔25之狀況下使樹脂製薄片32從金屬製薄片34分離。另,燃燒去除樹脂製薄片32時,不需使用經UV光照射就會降低其黏合於金屬製薄片34之黏合力的樹脂製薄片32。
此外,上述的實施形態中,揭示著準備有樹脂製薄片32和金屬製薄片34事先層疊形成的層疊體30進行供應的例子,但並不限於此。例如也可在供應帶狀延伸的金屬製薄片34之同時供應帶狀延伸的樹脂製薄片32,將供應的金屬製薄片34和樹脂製薄片32進行黏合製作層疊體30,對依順序製成的層疊體30施以上述的處理。或者,也可在供應帶狀延伸的金屬製薄片34之同時將薄片狀的樹脂製薄片32不斷層疊在所供應的金屬製薄片34上,對金屬製薄片34當中層疊有薄片狀樹脂製薄片32的部份(層疊體30)依順序施以上述的處理。或者是,也可在供應帶狀延伸的樹脂製薄片32之同時將薄片狀金屬製薄片34不斷層疊在所供應的樹脂製薄片32上,對層疊在樹脂製薄片32上的薄片狀金屬製薄片34層疊部份(層疊體30)依順序施以上述的處理。
再加上,上述實施形態中,揭示著將孔25形成在金屬製薄片34,又加上在樹脂製薄片32從金屬製薄片34分離後,利用切斷裝置59將金屬製薄片34切斷成指定長度的例子,但並不限於此。例如:金屬製薄片34的切斷步驟,也可在金屬製薄片34形成孔25之前進行,再加上,也可在金屬製薄片34形成孔25之後且在樹脂製薄片32從金屬製薄片34分離之前進行。在樹脂製薄片32從金屬製薄片34分離之前就將金屬製薄片34切斷成指定長度時,也可使樹脂製薄片32成為不切斷程度地對層疊體30進行半切斷只切斷金屬製薄片34,或者是,也可將包括金屬製薄片34的層疊體30全體切斷成指定長度。再加上,也可於利用蝕刻形成孔25的步驟中,將金屬製薄片34以蝕刻進行邊緣切割成指定長度。即,也可在利用蝕刻形成孔25時,利用蝕刻使金屬製薄片34分離成指定長度。於該狀況時,可節省需另外將金屬製薄片34切斷成指定長度的作業工時,能夠以高生產效率便宜製造蒸鍍遮罩20。
又加上,上述的實施形態中,揭示著蒸鍍遮罩20切斷成指定長度的例子,但並不限於此。例如也可將形成有多數孔25的金屬製薄片34以不切斷的狀態做為蒸鍍遮罩用片狀構件18使用處理。此例如第10圖所示,由形成有多數孔25的金屬製薄片34形成的蒸鍍遮罩用片狀構件18,也能以不切斷的狀態捲取在捲取芯筒19,作為蒸鍍遮罩用片狀構件18的卷體18a使用處理(出貨等)。另,蒸鍍遮罩用片狀構件18也是本案的保護對象。
再加上,上述的實施形態中,揭示著切斷成指定長度的蒸鍍遮罩20安裝在框架15的例子,但並不限於此。例如:也可將樹脂製薄片32去除之後且切斷成指定長度之前的金屬製薄片34安裝在框架15。或者,形成有孔25之後且樹脂製薄片32去除之前的金屬製薄片34安裝在框架15。
1...蒸鍍遮罩
2...金屬板
2a...孔
3...突出部
4...基板
5...蒸鍍膜
6...金屬板
6a...前端細的孔
7...抗蝕膜
8...蝕刻液
10...蒸鍍遮罩裝置
15...框架
18...鍍鍍遮罩用片狀構件
18a...卷體
19...捲取芯筒
20...蒸鍍遮罩
20a...蒸鍍遮罩一方的面
20b...蒸鍍遮罩另一方的面
22...有孔區域
23...無孔區域
25...孔
29...層疊體卷體
30...層疊體
31...供應芯筒
32...樹脂製薄片
32a...基材薄片
32b...UV剝離層
34...金屬製薄片
34a...金屬製薄片一方的面
34b...金屬製薄片另一方的面
36...抗蝕膜
36a...抗蝕圖案
37...玻璃乾板
38...蝕刻液
40...蒸鍍裝置
42...玻璃基板
44...熔爐
46...加熱器
48...蒸鍍材料
50...蝕刻裝置(蝕刻手段)
51...噴嘴
54...去除裝置(去除手段)
55...UV光照射手段
55a...遮蔽罩
55b...UV光源
57...搬運輥
58...捲取芯筒
59...切斷裝置(切斷手段)
W...各孔25其沿著排列方向的寬度(窄縫寬度)
P...排列節距
L...於蒸鍍遮罩薄片面正交的剖面中,一方的面側的孔的端部及另一方的面側的孔的端部連接形成的直線
θ...直線L對另一方的面形成的角度
第1圖為表示本發明的蒸鍍遮罩及蒸鍍遮罩裝置的一實施形態圖。
第2圖為使用第1圖所示蒸鍍遮罩及蒸鍍遮罩裝置之蒸鍍方法的說明圖。
第3圖為表示第1圖所示蒸鍍遮罩的局部平面圖。
第4圖為沿著第3圖的IV-IV線的剖面圖。
第5圖為蒸鍍遮罩作用的說明圖。
第6圖為本發明的蒸鍍遮罩之製造方法及蒸鍍遮罩裝置之製造方法的一實施形態說明圖。
第7圖為層疊體(金屬製薄片)抗蝕刻性圖案形成方法說明圖。
第8圖為層疊體(金屬製薄片)蝕刻方法說明圖。
第9圖為層疊體去除樹脂製薄片時的樹脂製薄片去除方法說明圖。
第10圖為第6圖的對應圖,其是蒸鍍遮罩用片狀構件製造方法說明圖。
第11圖為第5圖的對應圖,其是使用從兩側蝕刻之金屬板所形成的蒸鍍遮罩進行蒸鍍時的蒸鍍方法說明圖。
第12圖為第8圖的對應圖,其是從下方側的面蝕刻金屬板製造出蒸鍍遮罩的蒸鍍遮罩製造方法說明圖。
18...蒸鍍遮罩用片狀構件
25...孔
30...層疊體
32...樹脂製薄片
32a...基材薄片
32b...UV剝離層
34...金屬製薄片
34a...金屬製薄片一方的面
34b...金屬製薄片另一方的面
36...抗蝕膜
36a...抗蝕圖案
38...蝕刻液
50...蝕刻裝置(蝕刻手段)
51...噴嘴

Claims (26)

  1. 一種蒸鍍遮罩之製造方法,其特徵為,具備:可供應具有樹脂製薄片和層疊在上述樹脂製薄片上之金屬製薄片的層疊體的層疊體供應步驟;對所供應的層疊體進行蝕刻,使金屬製薄片形成有多數孔的層疊體蝕刻步驟;及蝕刻步驟後,從上述層疊體去除上述樹脂製薄片的樹脂製薄片去除步驟。
  2. 如申請專利範圍第1項所記載的蒸鍍遮罩之製造方法,其中,於上述層疊體蝕刻步驟,使沿著一方向排列配置的多數孔形成為分別沿著正交於上述一方向的另一方向延伸的多數孔。
  3. 如申請專利範圍第2項所記載的蒸鍍遮罩之製造方法,其中,於上述樹脂製薄片去除步驟,使上述金屬製薄片和上述樹脂製薄片沿著上述另一方向逐漸分離。
  4. 如申請專利範圍第2項所記載的蒸鍍遮罩之製造方法,其中,上述層疊體是沿著上述另一方向供應。
  5. 如申請專利範圍第1項所記載的蒸鍍遮罩之製造方法,其中,於上述層疊體蝕刻步驟,使以指定圖案配置有複數孔的有孔區域複數形成在金屬製薄片,藉此製造出可具多面的蒸鍍遮罩。
  6. 如申請專利範圍第1項所記載的蒸鍍遮罩之製造 方法,其中,於上述層疊體供應步驟,供應具有經UV光照射就會降低對上述金屬製薄片之黏合力的樹脂製薄片之層疊體,於上述樹脂製薄片去除步驟,對上述樹脂製薄片照射UV光,使上述金屬製薄片和樹脂製薄片分離。
  7. 如申請專利範圍第1項所記載的蒸鍍遮罩之製造方法,其中,於上述層疊體供應步驟,對捲繞有上述層疊體的卷體進行開卷供應帶狀延伸的層疊體。
  8. 一種蒸鍍遮罩,係經由申請專利範圍第1項至第7項任一項所記載的製造方法製成的蒸鍍遮罩,其特徵為:形成在上述蒸鍍遮罩的孔的剖面積是從上述蒸鍍遮罩一方的面朝另一方的面逐漸變小。
  9. 一種蒸鍍遮罩裝置,其特徵為,具備有:經由申請專利範圍第1項至第7項任一項所記載的製造方法所製造的蒸鍍遮罩;及與上述蒸鍍遮罩安裝成固定的框架,形成在上述蒸鍍遮罩的孔的剖面積是從上述蒸鍍遮罩一方的面朝另一方的面逐漸變小。
  10. 如申請專利範圍第9項所記載的蒸鍍遮罩裝置,其中,針對正交於蒸鍍遮罩薄片面的剖面,將上述孔的上述一方的面側的端部和上述另一方的面側的端部連接形成的直線與上述另一方的面所形成的角度為60°以下。
  11. 一種蒸鍍遮罩裝置之製造方法,係具備有蒸鍍遮罩及與蒸鍍遮罩安裝成固定的框架之蒸鍍遮罩裝置的製造方法,其特徵為, 具備:可供應具有樹脂製薄片和層疊在上述樹脂製薄片上之金屬製薄片的層疊體的層疊體供應步驟;對所供應的層疊體進行蝕刻,使金屬製薄片形成有多數孔的層疊體蝕刻步驟;蝕刻步驟後,從上述層疊體去除上述樹脂製薄片的樹脂製薄片去除步驟;及蝕刻步驟後,將上述框架安裝在上述金屬製薄片的框架安裝步驟。
  12. 如申請專利範圍第11項所記載的蒸鍍遮罩裝置之製造方法,其中,在上述樹脂製薄片去除後,實施上述框架安裝在上述金屬製薄片的框架安裝步驟。
  13. 如申請專利範圍第11項所記載的蒸鍍遮罩裝置之製造方法,其中,在上述框架安裝步驟後,實施上述樹脂製薄片去除步驟。
  14. 如申請專利範圍第11項所記載的蒸鍍遮罩裝置之製造方法,其中,於上述層疊體蝕刻步驟,沿著一方向排列配置的多數孔,形成分別沿著正交於上述一方向的另一方向延伸的多數孔。
  15. 如申請專利範圍第14項所記載的蒸鍍遮罩裝置之製造方法,其中,於上述樹脂製薄片去除步驟,使上述金屬製薄片和上述樹脂製薄片沿著上述另一方向逐漸分離。
  16. 如申請專利範圍第14項所記載的蒸鍍遮罩裝置 之製造方法,其中,上述層疊體是沿著上述另一方向供應。
  17. 如申請專利範圍第11項所記載的蒸鍍遮罩裝置之製造方法,其中,於上述層疊體蝕刻步驟,使以指定圖案配置有複數孔的有孔區域複數形成在金屬製薄片,藉此製造出可具多面的蒸鍍遮罩配置。
  18. 如申請專利範圍第11項所記載的蒸鍍遮罩裝置之製造方法,其中,於上述層疊體供應步驟,供應具有經UV光照射就會降低對上述金屬製薄片之黏合力的樹脂製薄片之層疊體,於上述樹脂製薄片去除步驟,對黏合層照射UV光,使上述金屬製薄片和樹脂製薄片分離。
  19. 如申請專利範圍第11項所記載的蒸鍍遮罩裝置之製造方法,其中,於上述層疊體供應步驟,對捲繞有上述層疊體的卷體進行開卷供應帶狀延伸的層疊體。
  20. 一種蒸鍍遮罩用片狀構件之製造方法,係製造被使用在形成有多數孔之蒸鍍遮罩的片狀構件之蒸鍍遮罩用片狀構件的製造方法,其特徵為,具備:供應具有樹脂製薄片和層疊在上述樹脂製薄片上之金屬製薄片的層疊體的層疊體供應步驟;對所供應的層疊體進行蝕刻,使金屬製薄片形成有多數孔的層疊體蝕刻步驟;及蝕刻步驟後,從上述層疊體去除上述樹脂製薄片的樹 脂製薄片去除步驟。
  21. 如申請專利範圍第20項所記載的蒸鍍遮罩用片狀構件之製造方法,其中,於上述層疊體蝕刻步驟,使沿著一方向排列配置的多數孔形成為分別沿著正交於上述一方向的另一方向延伸的多數孔。
  22. 如申請專利範圍第21項所記載的蒸鍍遮罩用片狀構件之製造方法,其中,於上述樹脂製薄片去除步驟,使上述金屬製薄片和上述樹脂製薄片沿著上述另一方向逐漸分離。
  23. 如申請專利範圍第21項所記載的蒸鍍遮罩用片狀構件之製造方法,其中,上述層疊體是沿著上述另一方向供應。
  24. 如申請專利範圍第20項所記載的蒸鍍遮罩用片狀構件之製造方法,其中,於上述層疊體蝕刻步驟,使得以指定圖案配置有複數孔的有孔區域複數形成在金屬製薄片,藉此製造出可具多面的蒸鍍遮罩的薄片狀構件。
  25. 如申請專利範圍第20項所記載的蒸鍍遮罩用片狀構件之製造方法,其中,於上述層疊體供應步驟,供應具有經UV光照射就會降低對上述金屬製薄片之黏合力的樹脂製薄片之層疊體,於上述樹脂製薄片去除步驟,對黏合層照射UV光,使上述金屬製薄片和樹脂製薄片分離。
  26. 如申請專利範圍第20項所記載的蒸鍍遮罩用片狀構件之製造方法,其中,於上述層疊體供應步驟,對捲 繞有上述層疊體的卷體進行開卷供應帶狀延伸的層疊體。
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