JP6548085B2 - 蒸着マスクの製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 59
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title description 180
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 206
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 206
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 122
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 72
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 24
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 12
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 123
- 239000000463 material Substances 0.000 description 76
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 63
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 39
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 39
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 15
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 11
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 11
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 11
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 9
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 8
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 8
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 3
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 3
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- QXZUUHYBWMWJHK-UHFFFAOYSA-N [Co].[Ni] Chemical compound [Co].[Ni] QXZUUHYBWMWJHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 2
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
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Description
複数の貫通孔を有する蒸着マスクの製造方法であって、
互いに対向する第1面及び第2面を有し複数の貫通孔が形成された金属板を前記第1面側からエッチングすることにより、前記金属板の厚みを減少させる工程を有する。
前記金属板の前記第1面上に配置された第1レジストパターンをマスクとして前記第1面の側から金属板をエッチングし、当該第1面側に前記貫通孔を画成する第1凹部を形成する工程と、
前記金属板の前記第2面上に配置された第2レジストパターンをマスクとして前記第2面の側から金属板をエッチングし、当該第2面側に前記第1凹部に連通して前記貫通孔を画成する第2凹部を形成する工程と、をさらに有してもよい。
前記金属板の前記第2面上に配置された第2レジストパターンをマスクとして前記第2面の側から金属板をエッチングし、当該第2面側に前記貫通孔を画成する第2凹部を形成する工程と、
前記金属板の前記第1面上に配置された第1レジストパターンをマスクとして前記第1面の側から金属板をエッチングし、当該第1面側に前記第2凹部に連通して前記貫通孔を画成する第1凹部を形成する工程と、をさらに有してもよい。
前記第1凹部を形成する工程及び前記第2凹部を形成する工程の後に、前記第1レジストパターンを除去する工程をさらに有し、
前記金属板の厚みを減少させる工程は、前記金属板を前記第1レジストパターンが除去された前記第1面側からエッチングすることにより行われてもよい。
前記第1凹部を形成する工程及び前記第2凹部を形成する工程の後に、前記第2凹部を封止する工程をさらに有してもよい。
15 フレーム
20 蒸着マスク
21 金属板
22 有効領域
23 周囲領域
25 貫通孔
30 第1凹部
31 壁面
35 第2凹部
36 壁面
41 接続部
42 貫通部
64 金属板
64a 第1面
64b 第2面
65a 第1レジストパターン
65b 第2レジストパターン
68 樹脂
69 保護フィルム
80 樹脂
81 樹脂
82 保護フィルム
70 処理装置
90 蒸着装置
92 有機EL基板
Claims (2)
- 互いに対向する第1面及び第2面を有する金属板の前記第1面上に配置された第1レジストパターンをマスクとして前記第1面の側から前記金属板をエッチングし、当該第1面側に第1凹部を形成する工程と、
前記金属板の前記第2面上に配置された第2レジストパターンをマスクとして前記第2面の側から前記金属板をエッチングし、当該第2面側に前記第1凹部に連通する第2凹部を形成する工程と、
前記第1凹部を形成する工程及び前記第2凹部を形成する工程の後に、前記第2凹部を封止する工程と、
前記金属板を前記第1面側からエッチングすることにより、前記金属板の厚みを減少させる工程と、を有する、蒸着マスクの製造方法。 - 前記第1凹部を形成する工程及び前記第2凹部を形成する工程の後に、前記第1レジストパターンを除去する工程をさらに有し、
前記金属板の厚みを減少させる工程は、金属板を前記第1レジストパターンが除去された前記第1面側からエッチングすることにより行われる、請求項1に記載の蒸着マスクの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016088236A JP6548085B2 (ja) | 2016-04-26 | 2016-04-26 | 蒸着マスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016088236A JP6548085B2 (ja) | 2016-04-26 | 2016-04-26 | 蒸着マスクの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017197797A JP2017197797A (ja) | 2017-11-02 |
JP6548085B2 true JP6548085B2 (ja) | 2019-07-24 |
Family
ID=60237476
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016088236A Active JP6548085B2 (ja) | 2016-04-26 | 2016-04-26 | 蒸着マスクの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6548085B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020012862A1 (ja) * | 2018-07-09 | 2020-01-16 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスクの良否判定方法、蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク装置の製造方法、蒸着マスクの選定方法および蒸着マスク |
JP7432133B2 (ja) * | 2019-03-25 | 2024-02-16 | 大日本印刷株式会社 | マスク |
JP7449485B2 (ja) | 2019-03-28 | 2024-03-14 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法 |
CN110098239B (zh) * | 2019-05-17 | 2021-11-02 | 京东方科技集团股份有限公司 | 像素结构、显示基板、掩模板及蒸镀方法 |
CN111254386A (zh) * | 2020-03-26 | 2020-06-09 | 昆山国显光电有限公司 | 掩膜条及掩膜板 |
-
2016
- 2016-04-26 JP JP2016088236A patent/JP6548085B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017197797A (ja) | 2017-11-02 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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