TWI428527B - 氣密密封裝置及具有該密封裝置之顯示裝置製造系統 - Google Patents
氣密密封裝置及具有該密封裝置之顯示裝置製造系統 Download PDFInfo
- Publication number
- TWI428527B TWI428527B TW99111402A TW99111402A TWI428527B TW I428527 B TWI428527 B TW I428527B TW 99111402 A TW99111402 A TW 99111402A TW 99111402 A TW99111402 A TW 99111402A TW I428527 B TWI428527 B TW I428527B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- space
- passage
- inlet
- air
- sealing device
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Actuator (AREA)
- Sliding Valves (AREA)
- Fluid-Pressure Circuits (AREA)
Description
本發明係有關於一種氣密密封裝置及一種具有該密封裝置之顯示裝置製造系統。
通常,一個顯示裝置包括一個供影像顥示用的液晶面板和一個用於把驅動訊號施加到該液晶面板的驅動器。該液晶面板包括一個上基板、一個下基板、和一個置於互相連接之該上基板與該下基板之間的液晶層。
近期,由於顯示裝置之孔徑與基板的尺寸增加,顯示裝置製造系統在尺寸方面變大。
為了製造顯示裝置,必須有一個專屬的顯示裝置製造系統和一個能夠在從低真空到超高真空之大真空範圍中運作之像是氣密密封溝閥般的氣密密封裝置。
然而,如果供顯示裝置用的基板被供應到一製造系統而一閥是受控制關上的話,一個閥片是難以均稱地變成與一殼體入口的邊緣接觸。為此,一個普通的氣密密封裝置是被構築來對一運作部份施加過度的壓力俾可變成緊密接觸。在這情況中,在一閥片與一殼體入口之間的過度緊密接觸會使那些組件受損及變形,導致故障的結果。
本發明之目的是為提供一種能夠藉由氣壓或液壓的使用以改進氣密密封性能來驅動一閥片的氣密密封裝置。
本發明之另一目的是為提供一種能夠獨立地驅動一個用於隔離一第一真空室之閥片與一個用於隔離一第二真空室之閥片的氣密密封裝置。
根據本發明之特徵,一種氣密密封裝置包括一個在一側具有一第一入口和在另一側具有一第二入口的殼體、置於該殼體內部且分別開放與封閉該第一入口和該第二入口的一第一閥片和一第二閥片、一個置於該殼體內部的支承面板、一個設於該支承面板之一側且水平地移動該第一閥片的第一汽缸單元、一個置於該支承面板之另一側且水平地移動該第二閥片的第二汽缸單元、及至少一個連接到該支承面板且上下移動該第一閥片和第二閥片的驅動單元。
該至少一個驅動單元可以包括一個供應第一汽缸單元氣壓或者液壓的第一驅動單元、及一個供應第二汽缸單元氣壓或者液壓的第二驅動單元。
該殼體可以具有該第一閥片和第二閥片在裡面可上下移動的內部儲存空間,該第一入口可以是一第一真空室的入口,而該第二入口可以是一第二真空室的入口。
要與該第一入口和第二入口成緊密接觸的密封元件可以被安裝到該第一閥片和第二閥片。
該第一汽缸單元可以包括一個固定到該支承面板之一側的第一汽缸本體,和一個置於該第一汽缸本體內部俾可線性地移動、把該第一汽缸單元之內部分割成一第一空間與一第二空間、及連接到該第一閥片的第一可移動元件。
一條把空氣供應到第一空間及把空氣從第一空間排出的第一管線及一條把空氣供應到第二空間及把空氣從第二空間排出的第二管線是可以形成在該第一汽缸本體內。
該第二汽缸單元可以包括一個固定到該支承面板之另一側的第二汽缸本體,和一個置於該第二汽缸本體內部俾可線性移動、把該第二汽缸單元的內部分割成一第三空間與一第四空間、並連接到該第二閥片的第二可移動元件。
一條把空氣供應到第三空間及把空氣從第一空間排出的第三管線與一條把空氣供應到第四空間及把空氣從第四空間排出的第四管線是可以形成在該第二汽缸本體內。
該至少一個驅動單元中之每一者可以包括:一個具有被供應有氣壓之內部空間的本體;一個置於該本體110內俾可移動並把該內部空間分割成一第一腔室與一第二腔室的活塞;一個連接到該活塞120、從該本體伸出、固定到該支承面板、並且在內部具有一第一通道與一第二通道的活塞桿130,該第一通道是連接到該第一空間而該第二通道是連接到該第二空間;及一個置於該活塞桿內部且在內部具有一第三通道與一第四通道的導管,該第三通道被置放俾可線性地移動且是連接到該第一通道而該第四通道是連接到該第二通道。
一個上蓋可以形成在該本體的一側,一個下蓋可以形成在該本體的另一側,一個用於把空氣供應到該第二腔室及將空氣從該第二腔室排放的第一入氣口是可以形成在該上蓋,而一個用於把空氣供應到該第二腔室並將空氣自該第二腔室排放的第二入氣口是可以形成在該下蓋。
該活塞桿可以包括一個形成該第一通道的第一桿,和一個與該第一桿之外周緣表面分隔一預定間隙且形成該第二通道的第二桿。
該導管可以包括一個形成該在該導管內部之第三通道的第一管子,和一個與該第一管子之外周緣表面分隔一預定間隙並形成該第二通道的第二管子。
一個第二孔洞可以形成在該第一桿的下端部份,而一個第三孔洞可以形成在該第二管子的上端部份。如果該活塞桿被拉出該本體之外的話,該第二孔洞和該第三孔洞可以彼此連接。
一個第一壓力感測器可以設置在該第一閥片與該殼體之內表面中之任一者上俾可測量第一閥片20施加到它那裡的壓力,而一個第二壓力感測器可以設置在該第一閥片與該殼體之內表面中之任一者上俾可測量第二閥片施加到它那裡的壓力。
該氣密密封裝置可以更包括一條沿著該支承面板之縱長方向置放的流體管線。在這結構中,該第一測缸單元與該第二汽缸單元可以連接到該液體管線而該第一閥片與該第二閥片可以由從該流體管線所供應之流體的壓力驅動。
根據本發明的另一特徵,一個顯示裝置製造系統可以包括以上所述的氣密密封裝置。
根據本發明的實施例,一個汽缸單元是被設置而氣壓或者流體壓是用來驅動一閥片。因此,要改進氣密密封性能是有可能的。
此外,氣壓或者流體壓可以經由不同管線被供應到該第一汽缸單元以供驅動該第一閥片和供應到該第二汽缸單元以供驅動該第二閥片,藉此分開該第一閥片和該第二閥片。
第1圖是為一個描繪本發明之一實施例之顯示裝置製造系統之結構的圖示。
第2圖是為一個描繪本發明之一實施例之氣密密封裝置的圖示。
第3圖是為一個描繪本發明之實施例之氣密密封裝置之一側的橫截面圖。
第4圖是為一個描繪本發明之實施例之氣密密封裝置之另一側的橫截面圖。
第5圖是為一個描繪本發明之一實施例之閥片的圖示。
第6圖是為一個描繪本發明之一實施例之運作單元的圖示。
第7圖是為一個描繪第6圖之區域A的放大圖。
第8和9圖是為描繪本發明之一實施例之一氣密密封裝置之運作之狀態的橫截面圖。
本發明於此後將會配合該等顯示本發明之範例實施例的附圖來作更徹底的描述。然而,本發明能夠以很多不同的形式實施而不應被受限為於此中所陳述的範例實施例。更確切地說,被揭露的實施例是被提供因此這揭露將會是徹底且完整,而且會完全把本發明的範圍表達給熟知此項技術的人仕。在該等圖式中,層與區域的尺寸及相對尺寸為了清楚起見會是誇大的。此外,於此中所描述與描繪的每個實施例也包括其之互補傳導型實施例。從頭到尾相同的標號是用來標示相同的元件。
第1圖是為一個描繪本發明之一實施例之顯示裝置製造系統之結構的圖示。
請參閱第1圖所示,本發明之一實施例的顯示裝置製造系統包括一個負載鎖定腔室200、傳輸腔室300、數個處理腔室400、及設置於該傳輸腔室300與該等個別之處理腔室400之間的氣密密封裝置100。
該負載鎖定腔室200是為一個有像是玻璃基板般之材料被載入或者卸載的場所,並且具有用於關閉與開啟該負載鎖定腔室200的一個門閥210和一個閘閥220。該門閥是設置在該負載鎖定腔室的一側而該閘閥是設置在該負載鎖定腔室的另一側。
該傳輸腔室300是為一個維持10-6
Torr之高真空的第一真空腔室,在內部包括一個主機械臂軸、一個感應器等等,而且是負責,例如,藉著連接到該主機械臂軸之機械臂的使用來在該負載鎖定腔室與該等執行像是沉積與蝕刻般之各種處理之處理腔室400之間的基板傳輸。
該數個處理腔室400是為維持內部處於真空狀態且在真空狀態下處理材料的第二真空腔室。
該氣密密封裝置100是設置在該傳輸腔室300與該等個別的處理腔室400之間而且執行在該傳輸腔室300與該等個別之處理腔室400之間的氣密密封運作。
第2圖是為一個描繪本發明之一實施例之氣密密封裝置的前視圖。第3圖是為一個描繪本發明之實施例之氣密密封裝置之一側的橫截面圖。第4圖是為一個描繪本發明之實施例之氣密密封裝置之另一側的橫截面圖。
本發明之實施例的氣密密封裝置100包括一個殼體10、一個第一閥片20、一個第二閥片30、汽缸單元70和80、及驅動單元40和50。該殼體10是設置在該傳輸腔室300與一處理腔室400之間並且具有一個第一入口12和一個第二入口14。該第一閥片20和該第二閥片30是設置在該殼體內部,該第一閥片20開啟與關閉該第一入口12,而該第二閥片30開啟與關閉該第二入口14。該等汽缸單元70和80水平地移動該第一閥片20和該第二閥片30俾可使他們分別與第一和第二入口12和14緊密接觸。該等驅動單元40和50使該第一閥片20和該第二閥片30上下移動。
該殼體10具有儲存空間16,該第一閥片20和該第二閥片30是儲存於該儲存空間16內並且可垂直地移動。該第一入口12是形成在該殼體之要連接到該傳輸腔室300的一側,而該第二入口14是形成在該殼體之要連接到該處理腔室400的另一側。
該第一入口12和該第二入口14是彼此面對面設置,而且材料是透過該第一入口12和該第二入口14來被插入與取出。
在該殼體10的一側,一個密封元件22是被安裝俾可使該第一入口與該傳輸腔室300緊密接觸。在該殼體10的另一側,一個密封元件24是被安裝俾可使該第二入口與該處理腔室400緊密接觸。
一個支承面板60是設在該殼體10的儲存空間16內。該第一閥片20是連接到該支承面板60的一側而該第二閥片30是連接到該支承面板60的另一側。
該第一閥片20是平的而且具有一個比第一入口12大的面積俾可覆蓋該第一入口12。一個密封元件26是設於該第一閥片20之一側的邊緣上俾可密封該第一入口12。
該第二閥片30是平的而且具有一個比第二入口14大的面積俾可覆蓋該第二入口14。一個密封元件28是設於該第二閥片30之一側的邊緣上俾可密封該第二入口14。
該等汽缸單元70和80是由一第一汽缸單元70與一第二汽缸單元80構成。該第一汽缸單元70是固定到該支承面板60的一側並且水平地移動該第一閥片20,而該第二汽缸單元80是固定到該支承面板60的另一側且水平地移動該第二閥片30。
如在第3圖中所示,該第一汽缸單元70包括一個第一汽缸本體72和一個第一可移動元件75。該第一汽缸本體72是固定到該支承面板60的一側並且具有供應有氣壓的內部空間(74和76)。該第一可移動元件75被設置俾可線性地移動、把該內部空間分割成一第一空間74和一第二空間76、並且是固定到該第一閥片20。
在該第一汽缸本體72中,是形成有一個供第一可移動元件75之突出部份通過的貫孔73、一條連接到該第一空間74的第一管線92、和一條連接到該第二空間76的第二管線94。此外,一條第三管線96是形成於該支承面板60俾可連接到該第一管線92。然而,第一空間74是連接到第二管線94而第二空間76是連接到第一管線92和該第三管線96的一種結構是有可能的。
一個密封元件77是安裝在該第一可移動元件75的外周緣表面上俾可與內部空間(74,76)的內部表面緊密接觸,藉此維持氣密狀態。一個密封元件78是安裝在該貫孔73的內表面上俾可與該第一可移動元件75的外周緣表面緊密接觸,藉此維持該內部空間在氣密狀態。
如在第5圖中所示,具有與第一汽缸單元70相同之結構的一個或者多個汽缸單元是可以沿著該支承面板60的縱長方向設置。在設置有數個第一汽缸單元的情況中,數個第一可移動元件75是以預定的間隔固定到該第一閥片20。
此外,至少第一壓力感應器210會設置在該第一閥片20或者該殼體10的內表面上俾可感測第一閥片20施加到殼體之內表面的壓力。
該第一汽缸單元70的運作現在將會作描述。當該第一驅動單元40供應氣壓到該第一空間74時,該第一可移動元件75朝該第一入口移動而據此該第一閥片20朝該第一入口移動。然後,該第一閥片20變成與該殼體的內表面緊密接觸,藉此關閉該第一入口12。如果該第一驅動單元40供應氣壓到該第二空間76的話,該第一可移動元件75朝該支承面板移動。然後,該第一閥片20是自該第一入口12分離,藉此開啟該第一入口12。
當該第一閥片20變成與該第一入口12緊密接觸時,該第一壓力感應器210測量施加的壓力並且把一個壓力訊號施加到一控制器。然後,該控制器把來自該第一壓力感應器210的壓力訊號與一個參考值作比較並且控制要供應到第一汽缸單元70的氣壓。
如在第4圖中所示,該第二汽缸單元80包括一個第二汽缸本體82和一個第二可移動元件85。該第二汽缸本體82是固定到該支承面板60的另一側且具有供應有氣壓的內部空間(84和86)。該第二可移動元件85是被置放俾可線性地移動、把該內部空間分割成一第三空間84和一第四空間86、且是固定到該第二閥片30。
在該第二汽缸本體82中,是形成有一個供第二可移動元件85之突出部份通過的貫孔83、一條連接到該第一空間84的第四管線32、和一條連接到該第二空間86的第五管線34。此外,一條第六管線36是形成於該支承面板60俾可連接到該第四管線32。然而,第三空間84是連接到第五管線34而第四空間86是連接到第四管線32和該第六管線36的一種結構是有可能的。
具有與第二汽缸單元80相同之結構的一個或者多個汽缸單元是可以設置在該支承面板60上。在設置有數個第二汽缸單元的情況中,數個第二可移動元件85是以預定間隔固定到該第二閥片30。
此外,至少一個第二壓力感應器220是可以設置在該第一閥片20或該殼體10之內表面中之任一者上俾可感測第二閥片30施加到它那裡的壓力。
該第二汽缸單元80是由該第二驅動單元50驅動。然而,該第二驅動單元50是可以被省略。在這情況中,該第二汽缸單元80可以由該第一驅動單元40驅動。該第二汽缸單元80的其他運作是實質上與以上所述的第一汽缸單元70相同而因此其之描述將會被省略。
該等驅動單元40和50包括第一驅動單元40和第二驅動單元50。該第一驅動單元40是連接到該支承面板60的一側、上下移動該支承面板60、並供應氣壓到該第一汽缸單元70。該第二驅動單元50連接到該支承面板60的另一側、上下移動該支承面板60、並且供應氣壓到該第二汽缸單元80。
如在第6圖中所示,該第一驅動單元40包括一個本體110、一個活塞120、一個活塞桿130、和一個導管140。該本體110具有一個被供應有氣壓的內部。該活塞120是置於該本體110內部以致於是可移動並且把該本體的內部分割成一第一腔室112和一第二腔室114。該活塞桿130是連接到該活塞120、從該本體110延伸出來、固定到該支承面板60、並且在內部具有一第一通道132和一第二通道134。該第一通道132是連接到該第一管線92而該第二通道134是連接到該第二管線94。該導管140具有一個第三通道142和一個第四通道144。該第三通道142是連接到該第一通道132而該第四通道144是連接到該第二通道134。
一個上蓋112是形成在該本體110的一側而一個下蓋114是形成在該本體110的另一側。一個貫孔116是形成於該上蓋112而該活塞桿130經由該貫孔116是可線性地移動。此外,一個用於把空氣供應到該第二腔室114並把空氣自該第二腔室114排放的第一空氣入口150是形成於該上蓋112的一側。
該導管140是固定到該下蓋114俾可延伸到外部。一個用於把空氣供應到該第一腔室112並把空氣自該第一腔室112排放的第二空氣入口152是形成於該下蓋114。
該第一空氣入口150和該第二空氣入口152是連接到,例如,空氣壓力機,及分別連接到一第一軟管154和一第二軟管156。
如在第7圖中所示,該活塞120是置於該本體110內部俾可線性地移動而一密封元件122是安裝在該活塞的外周緣表面上俾可與該本體110的內表面緊密接觸。一個貫孔124是形成在該活塞120的中央而該導管140通過該貫孔。一個密封元件126是安裝於該貫孔124的內表面上俾可與該導管140的外周緣表面緊密接觸。
該活塞桿130是由一個第一桿136和一個第二桿138構成。該第一桿136形成該第一通道132而該第二桿138是在與該第一桿136的外表面相隔一預定間隙之下被置放並且形成該第二通道134。在該第一桿136與該第二桿138之間的間隙是為該第二通道134而該第一桿136的內部是為該第一通道132。
一個密封元件160是設置在該第一桿136與該第二桿之間俾可密封該第二通道134。一個第一孔洞162是形成在該第二桿138的上側俾可連接該第二管線94和該第二通道134,而該第一通道132的上側是連接到該第三管線96。
該導管140是由一個第一管子146和一個第二管子148構成。該第一管子146形成在該導管內部的第三通道142,而該第二管子148是在與該第一管子146之外周緣表面相隔一預定間隙之下被置放並形成該第四通道144。
該第三通道142是連接到該第一通道132。此外,一個第三孔洞166是形成於該第二管子148的上側而一第二孔洞164是形成在該第一桿136的下側。該第二孔洞164和該第三孔洞166是選擇地彼此連接。即,如果該活塞桿130是最大限度地被拉出的話,該第二孔洞164和該第三孔洞166是彼此連接。
外部空氣是經由一連接到該第一管子的第三軟管170來被供應到該第一管子146以及是經由一連接到該第二管子的第四軟管來被供應到該第二管子148。
除了空氣是經由連接到第一通道的第四管線32來供應到該第一通道132或者從該第一通道132排放以及是經由連接到第二通道的第五管線34來供應到該第二通道134或者從該第二通道134排放之外,該第二驅動單元50的結構是與以上所述的第一驅動單元40相同。
如上所述構築而成之實施例之氣密密封裝置的運作現在將會作描述。
首先,如在第3和4圖中所示,如果該第一閥片20和該第二閥片30是位在該儲存空間16的下側的話,該第一入口12和該第二入口14被開啟。
在這狀態中,為了關閉該第一入口12和該第二入口14,該第一驅動單元40和該第二驅動單元50被驅動俾可把該第一閥片20和該第二閥片30移動向上以致於該第一閥片20面對該第一入口12而該第二閥片30面對該第二入口14。
特別地,如果空氣是供應到該第一驅動單元40的第一腔室112的話,該活塞120是由於空氣的壓力而移動向上而因此該活塞桿130被拉出該本體110。然後,設於該活塞桿130之末端部份的支承面板60線性地移動而因此固定到該支承面板60之兩側的該第一閥片20與該第二閥片30向上移動俾可分別面對該第一入口12和該第二入口14。
在這狀態中,該第一入口12和該第二入口14會被關閉。即,如果空氣是供應到該第一驅動單元40的話,該第一汽缸單元70被驅動而該第一閥片20關閉該第一入口12。如果空氣是供應到該第二驅動單元50的話,該第二汽缸單元80被驅動而該第二閥片30關閉該第二入口14。
第一閥片20關閉第一入口12的過程現在將會詳細地作描述。如在第9圖中所示,外部空氣是供應到該第一管子146的第三通道142。然後,空氣流到第一桿136之連接至第三通道12之的第一通道132而且是經由第一汽缸本體72之連接至第一通道132的第一管線92來供應到該第一空間74。然後,該第一可移動元件75朝該第一入口移動而據此固定到該第一可移動元件75的第一閥片20朝該第一入口移動。然後,該第一閥片20變成與該第一入口12緊密接觸。
這時,在該第二空間76內部的空氣是經由該第一汽缸單元70的第二管線94、該第二桿138的第二通道134、和該第二管子148的第四通道144來排放到外部。
當該第一閥片20變成與該第一入口12緊密接觸時,該第一壓力感應器210測量第一閥片20施加到該第一入口12的壓力並且把壓力訊號供應到該控制器。然後,該控制器把來自第一壓力感應器210的壓力與一設定值作比較並且控制供應到第二汽缸單元80之空氣的壓力。
因此,該第一閥片20藉一適當壓力與該第一入口12成緊密接觸。結果,要把第一閥片20的故障與損壊減至最小程度是有可能的。
如果氣壓是供應到該第二汽缸單元80的話,該第二閥片30關閉該第二入口14。在這裡,該第二汽缸單元80的運作與該把氣壓供應到第二汽缸單元80之第二驅動單元50的運作是與有關於以上所述之第一閥片20之驅動的那些相同而因此其之描述將會被省略。
在該等圖式與說明書中,本發明的實施例業已作描述而且,雖然特定的名詞被使用,他們僅是通稱與描述用途而已,並非作為限制,本發明的範圍是在後面的申請專利範圍中作陳述。例如,在沒有離開本發明的意旨之下,該控制電路的結構或者該內部連接結構是可以作變化的。
10...殼體
12...第一入口
14...第二入口
16...儲存空間
20...第一閥片
22...密封元件
24...密封元件
26...密封元件
28...密封元件
30...第二閥片
32...第四管線
34...第五管線
36...第六管線
40...驅動單元
50...驅動單元
60...支承面板
70...汽缸單元
72...第一汽缸本體
73...貫孔
74...內部空間
75...第一可移動元件
76...內部空間
77...密封元件
78...密封元件
80...汽缸單元
82...第二汽缸本體
84...內部空間
85...第二可移動元件
86...內部空間
92...第一管線
94...第二管線
96...第三管線
100...氣密密封裝置
110...本體
112...第一腔室
114...第二腔室
116...貫孔
120...活塞
122...密封元件
124...貫孔
126...密封元件
130...活塞桿
132...第一通道
134...第二通道
136...第一桿
138...第二桿
140...導管
142...第三通道
144...第四通道
146...第一管子
148...第二管子
150...第一空氣入口
152...第二空氣入口
154...第一軟管
156...第二軟管
160...密封元件
162...第一孔洞
164...第二孔洞
166...第三孔洞
170...第三軟管
172...第四軟管
200...負載鎖定腔室
210...門閥
220...閘閥
300...傳輸腔室
400...處理腔室
第1圖是為一個描繪本發明之一實施例之顯示裝置製造系統之結構的圖示。
第2圖是為一個描繪本發明之一實施例之氣密密封裝置的圖示。
第3圖是為一個描繪本發明之實施例之氣密密封裝置之一側的橫截面圖。
第4圖是為一個描繪本發明之實施例之氣密密封裝置之另一側的橫截面圖。
第5圖是為一個描繪本發明之一實施例之閥片的圖示。
第6圖是為一個描繪本發明之一實施例之運作單元的圖示。
第7圖是為一個描繪第6圖之區域A的放大圖。
第8和9圖是為描繪本發明之一實施例之一氣密密封裝置之運作之狀態的橫截面圖。
100...氣密密封裝置
92...第一管線
22...密封元件
72...第一汽缸本體
12...第一入口
94...第二管線
70...汽缸單元
138...第二桿
210...門閥
136...第一桿
26...密封元件
24...密封元件
20...第一閥片
14...第二入口
77...密封元件
80...汽缸單元
76...內部空間
220...閘閥
78...密封元件
28...密封元件
75...第一可移動元件
60...支承面板
73...貫孔
30...第二閥片
74...內部空間
96...第三管線
132...第一通道
134...第二通道
130...活塞桿
Claims (15)
- 一種氣密密封裝置,包含:一個殼體,該殼體在一側具有一個第一入口而在另一側具有一個第二入口;置於該殼體內部且分別開啟與關閉該第一入口和該第二入口的一第一閥片和一第二閥片;一個置於該殼體內部的支承面板;一個設於該支承面板之一側且水平地移動該第一閥片的第一汽缸單元;一個設於該支承面板之另一側且水平地移動該第二閥片的第二汽缸單元;及至少一個連接到該支承面板且垂直地移動該第一閥片和該第二閥片的驅動單元其中,該第一汽缸單元包含:一個固定到該支承面板之一側的第一汽缸本體;及一個第一可移動元件,該第一可移動元件是置於該第一汽缸本體內部俾可線性地移動、把該第一汽缸單元的內部分割成一第一空間和一第二空間、且是連接到該第一閥片。
- 如申請專利範圍第1項所述之氣密密封裝置,其中,該至少一個驅動單元包含:一個供應氣壓或者流體壓力到該第一汽缸單元的第一驅動單元;及 一個供應氣壓或者流體壓力到該第二汽缸單元的第二驅動單元。
- 如申請專利範圍第1項所述之氣密密封裝置,其中:該殼體具有內部儲存空間,該第一閥片與該第二閥片在該儲存空間是可垂直地移動,該第一入口是為進入一個連結在該殼體之一側之第一真空腔室的入口,及該第二入口是為進入一個連結在該殼體之另一側之第二真空腔室的入口。
- 如申請專利範圍第1項所述之氣密密封裝置,其中,與該第一入口和該第二入口成緊密接觸的密封元件是安裝到該第一閥片和該第二閥片。
- 如申請專利範圍第4項所述之氣密密封裝置,其中,一條把空氣供應到該第一空間及從該第一空間排放空氣的第一管線以及一條把空氣供應到該第二空間及從該第二空間排放空氣的第二管線是形成在該第一汽缸本體中。
- 如申請專利範圍第5項所述之氣密密封裝置,其中,該第二汽缸單元包含:一個固定到該支承面板之另一側的第二汽缸本體;及一個第二可移動元件,該第二可移動元件是置於該第二汽缸本體內部俾可線性地移動、把該第二汽缸單元的內部分割成一第三空間和一第四空間、且是連接到該第二閥片。
- 如申請專利範圍第6項所述之氣密密封裝置,其中,一條 把空氣供應到該第三空間及從該第三空間排放空氣的第三管線以及一條把空氣供應到該第四空間及從該第四空間排放空氣的第四管線是形成在該第二汽缸本體中。
- 如申請專利範圍第4項所述之氣密密封裝置,其中,該至少一個驅動單元中之每一者包含:一個具有內部空間的本體,氣壓是供應到該內部空間;一個活塞,該活塞是置於該本體內部以致於是可移動並且把該內部空間分割成一第一腔室和一第二腔室;一個活塞桿,該活塞桿是連接到該活塞、被拉出該本體、固定到該支承面板、並且在內部具有一個第一通道和一個第二通道,該第一通道是連接到該第一空間而該第二通道是連接到該第二空間;及一個置於該活塞桿內部且在內部具有一個第三通道和一個第四通道的管子,該第三通道是連接到該第一通道而該第四通道是連接到該第二通道。
- 如申請專利範圍第8項所述之氣密密封裝置,其中,一上蓋是形成在該本體之一側,一下蓋是形成在該本體之另一側,一個把空氣供應到該第二腔室並把空氣從該第二腔室排放的第一空氣入口是形成在該上蓋中,而一個把空氣供應到該第一腔室並把空氣從該第一腔室排放的第二空氣入口是形成在該下蓋中。
- 如申請專利範圍第8項所述之氣密密封裝置,其中,該活塞桿包含: 一個形成該第一通道的第一桿;及一個與該第一桿之外周緣表面以一預定間隙置放且形成該第二通道的第二桿。
- 如申請專利範圍第8項所述之氣密密封裝置,其中,該管子包含:一個形成在該管子內部之第三通道的第一管子;及一個與該第一管子之外周緣表面以一預定間隙置放且形成該第四通道的第二管子。
- 如申請專利範圍第11項所述之氣密密封裝置,其中:一個第二孔洞是形成在該第一桿的下端部份中,一個第三孔洞是形成在該第二管子的上端部份中,及如果該活塞桿被拉出該本體之外的話,該第二孔洞和該第三孔洞是彼此連接。
- 如申請專利範圍第1項所述之氣密密封裝置,其中,一個第一壓力感應器是設置在該第一閥片與該殼體之內表面中之任一者上俾可測量該第一閥片施加到其之壓力,而一個第二壓力感應器是設置在該第一閥片與該殼體之內表面中之任一者上俾可測量該第二閥片施加到其之壓力。
- 如申請專利範圍第1項所述之氣密密封裝置,更包含一個沿著該支承面板之縱長方向置放的流體管線,其中,該第一汽缸單元與該第二汽缸單元是連接到該液體管線且該第一閥片和該第二閥片是由從該流體 管線供應之流體的壓力驅動。
- 一種包括申請專利範圍第1至14項中之任何一項所述之氣密密封裝置的顯示裝置製造系統。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020100010469A KR101123299B1 (ko) | 2010-02-04 | 2010-02-04 | 진공 차단장치 및 이를 포함하는 영상표시장치 제조설비 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201128100A TW201128100A (en) | 2011-08-16 |
TWI428527B true TWI428527B (zh) | 2014-03-01 |
Family
ID=44355601
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW99111402A TWI428527B (zh) | 2010-02-04 | 2010-04-13 | 氣密密封裝置及具有該密封裝置之顯示裝置製造系統 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101123299B1 (zh) |
CN (1) | CN102754017B (zh) |
TW (1) | TWI428527B (zh) |
WO (1) | WO2011096613A1 (zh) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9086173B2 (en) | 2012-07-19 | 2015-07-21 | Vat Holding Ag | Vacuum valve |
US9086172B2 (en) * | 2012-07-19 | 2015-07-21 | Vat Holding Ag | Vacuum valve |
JP6173818B2 (ja) * | 2012-08-17 | 2017-08-02 | バット ホールディング アーゲー | バルブ |
CN107407428B (zh) | 2015-03-05 | 2019-04-12 | Vat控股公司 | 真空阀 |
KR101573789B1 (ko) * | 2015-07-31 | 2015-12-02 | 우리마이크론(주) | 도어밸브 |
KR102207154B1 (ko) | 2019-05-16 | 2021-01-25 | 인베니아큐 주식회사 | 게이트 밸브 |
TWI730808B (zh) * | 2020-06-11 | 2021-06-11 | 新萊應材科技有限公司 | 二向移動之閥件驅動裝置 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3138645B2 (ja) * | 1996-10-02 | 2001-02-26 | 入江工研株式会社 | 無摺動真空ゲートバルブ及び弁板 |
JPH11182699A (ja) * | 1997-12-22 | 1999-07-06 | Toshiba Corp | ゲートバルブ |
JP4166902B2 (ja) * | 1999-04-27 | 2008-10-15 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 真空処理装置 |
KR100445631B1 (ko) * | 2001-07-12 | 2004-08-25 | 삼성전자주식회사 | 반도체 제조 설비의 슬롯 밸브 개폐장치 |
JP2006038121A (ja) * | 2004-07-28 | 2006-02-09 | Ono Beroo Kogyo Kk | ゲート弁及び真空ゲート弁 |
JP4437743B2 (ja) * | 2004-12-21 | 2010-03-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 真空処理装置用開閉機構及び真空処理装置 |
JP4079157B2 (ja) * | 2005-04-12 | 2008-04-23 | 東京エレクトロン株式会社 | ゲートバルブ装置及び処理システム |
KR200413024Y1 (ko) * | 2006-01-11 | 2006-04-05 | 박웅기 | 진공 게이트 밸브 |
KR20070079102A (ko) * | 2006-02-01 | 2007-08-06 | 삼성전자주식회사 | 반도체 소자 제조 장치 |
US8047231B2 (en) * | 2006-06-19 | 2011-11-01 | Nippon Val-Qua Industries, Ltd. | Valve element unit and gate valve apparatus |
KR100863706B1 (ko) * | 2007-03-05 | 2008-10-15 | 주식회사 아이피에스 | 진공처리장치의 게이트밸브 및 그를 가지는 진공처리장치 |
KR101088898B1 (ko) * | 2008-11-28 | 2011-12-07 | (주)엘티엘 | 진공차단 슬롯밸브 및 이를 구비한 진공차단 도어 |
KR101270652B1 (ko) * | 2010-04-16 | 2013-06-03 | 주식회사 아바코 | 밸브, 밸브 구동 방법 및 진공 처리장치 |
-
2010
- 2010-02-04 KR KR1020100010469A patent/KR101123299B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2010-02-22 WO PCT/KR2010/001092 patent/WO2011096613A1/ko active Application Filing
- 2010-02-22 CN CN201080063676.5A patent/CN102754017B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2010-04-13 TW TW99111402A patent/TWI428527B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101123299B1 (ko) | 2012-03-20 |
TW201128100A (en) | 2011-08-16 |
CN102754017B (zh) | 2015-05-20 |
KR20110090594A (ko) | 2011-08-10 |
WO2011096613A1 (ko) | 2011-08-11 |
CN102754017A (zh) | 2012-10-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI428527B (zh) | 氣密密封裝置及具有該密封裝置之顯示裝置製造系統 | |
US9543179B2 (en) | Load port module | |
JP5592166B2 (ja) | 処理チャンバの開口を封止するための方法および装置 | |
KR101088898B1 (ko) | 진공차단 슬롯밸브 및 이를 구비한 진공차단 도어 | |
US7052576B2 (en) | Pressure control apparatus and method of establishing a desired level of pressure within at least one processing chamber | |
JP2006170373A (ja) | ゲートバルブ装置、処理システム及びシール部材の交換方法 | |
KR20010025070A (ko) | 차단밸브 | |
WO2000058654A1 (en) | Dual-sided slot valve and method for implementing the same | |
US9587749B2 (en) | Slit valve with a pressurized gas bearing | |
CN109643629B (zh) | 用于真空腔室的门密封件 | |
WO2016021351A1 (ja) | ベローズポンプ装置 | |
US20140230930A1 (en) | Vacuum processing apparatus having a means for preventing counter-pressure between chambers | |
JP2016011719A (ja) | ゲートバルブ | |
JP4768244B2 (ja) | 薬液供給システム及び薬液供給用ポンプ | |
KR101164051B1 (ko) | 게이트밸브의 개폐장치 | |
KR102133007B1 (ko) | 공간 절약형 게이트 밸브 시스템 | |
KR101357104B1 (ko) | 챔버용 게이트밸브 구동장치 | |
KR20060085716A (ko) | 반도체 설비의 이중 실링을 위한 슬롯 밸브 장치 | |
KR101466743B1 (ko) | 박판 합착장치 | |
KR102207154B1 (ko) | 게이트 밸브 | |
KR102133006B1 (ko) | 가이드 타입 게이트 밸브 시스템 및 실린더 장치 | |
JP2006286978A (ja) | 真空装置及び真空装置の制御方法 | |
JP2003065448A (ja) | ゲートバルブ | |
JP7068197B2 (ja) | 連続トウ処理用のゲートバルブ | |
JP2019526751A5 (zh) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |