JP4079157B2 - ゲートバルブ装置及び処理システム - Google Patents
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Description
この種のゲートバルブ装置は、例えば特許文献1等において開示されている。例えば真空引き可能になされた処理チャンバの側壁にウエハが通過し得る程度の大きさの僅かな幅の搬入開口を形成し、この搬入開口にゲートバルブ装置を取り付ける。そして、プロセス時にはこのゲートバルブ装置のOリング等の付いた弁体で上記搬入開口を気密に閉じた状態でプロセス処理を行うことになる。
本発明は、以上のような問題点に着目し、これを有効に解決すべく創案されたものである。本発明の目的は、構造自体を簡単化して小型化及び低コスト化を実現でき、しかも、動作の信頼性を高く維持することが可能なゲートバルブ装置及び処理システムを提供することにある。
また例えば請求項4に規定するように、前記カム部は、前記シリンダ部内に導入される加圧ガスによって駆動される。
また例えば請求項5に規定するように、前記スプライン軸には、その長手方向に沿って前記加圧ガスを導入するガス通路が形成されている。
また例えば請求項7に規定するように、前記カム孔は、前記弁体支持ロッドを前進後退させるために前記シリンダ部の軸方向に対して斜めに交差する方向に沿って形成された第1の斜め孔部を有する。
また例えば請求項8に規定するように、前記カム孔は、前記第1の斜め孔部に連通して、前記シリンダ部の長手方向に沿って形成された直線孔部を有する。
また例えば請求項9に規定するように、前記カム孔は、前記直線孔部に連通して、前記軸方向に対して前記第1の斜め孔部とは反対方向へ斜めに交差する方向に沿って形成された第2の斜め孔部を有する。
また例えば請求項11に規定するように、前記先端部の更に先端は、その傾斜角度が逆方向に僅かに向けられている。
また例えば請求項12に規定するように、前記カム部案内溝は、前記スプライン軸の軸方向に沿って形成された第1の直線溝部を有する。
また例えば請求項13に規定するように、前記カム部案内溝は、前記第1の直線溝部に連通し、前記スプライン軸の円周方向に対して螺旋状に旋回させて形成した旋回溝部を有する。
また例えば請求項15に規定するように、前記カム部案内溝は、前記スプライン軸の周囲に等間隔で複数本形成されている。
また例えば請求項16に規定するように、前記2つのシリンダ部は、互いに補強部材で連結されている。
請求項17に係る発明は、真空引き可能になされた搬送室と、被処理体に対して所定の処理を施すために前記搬送室の周囲に設けた複数の処理チャンバと、前記搬送室と前記各処理チャンバとの間に介設された請求項1乃至16のいずれか一項に記載のされたゲートバルブ装置と、前記搬送室内に設けられて前記各処理チャンバに向けて前記被処理体を搬出入させるために屈伸及び旋回可能になされた搬送機構と、を備えたことを特徴とする被処理体の処理システムである。
本発明の一例によれば、一方向への駆動力を、弁体の押圧方向への推進力と弁体を回転する回転方向への回転力とへ時系列的に変換するカム機構を設けるようにして弁体の搬出入口への押圧と回転を行うようにしたので、装置自体を簡単化して小型化でき、装置自体の低コスト化及び動作の信頼性を向上させることができる。
本発明の他の一例によれば、一方向への駆動力を、弁体の押圧方向への堆積力に変換するためのカム機構を設け、この弁体の回転は回転駆動機構で行うようにしたので、装置自体を簡単化して小型化でき、装置自体の低コスト化及び動作の信頼性を向上させることができる。
図1は本発明に係るゲートバルブ装置を用いた処理システムの一例を示す平面図、図2は本発明に係るゲートバルブ装置の取り付け状態を示す拡大断面図、図3はゲートバルブ装置の上面図、図4は本発明のゲートバルブ装置を示す斜視図、図5は本発明のゲートバルブ装置の一部であるカム機構を中心として示す断面図、図6は弁体と弁体支持ロッドとの取り付け状態を示す部分斜視図、図7はカム部を示す斜視図、図8はシリング部を示す側面図、図9はスプライン軸を示す図、図10はスプライン軸が回転する状態を示す斜視図、図11はカム部と弁体支持ロッドとの取り付け状態を示す斜視図、図12はカム機構の全体を示す斜視図、図13は本発明のゲートバルブ装置の開閉及び回転動作を説明する概略斜視図、図14は本発明のゲートバルブ装置の開閉及び回転動作を行う時の模式図である。
そして、この案内筒98の基端部の取り付け部材60には、上記案内筒98内に対して加圧ガスの供給、或いは排気を行う第1給排ポート114が設けられており、この第1給排ポート114を介して上記空気室94A内に対して加圧ガスの給排を行うようになっている。また、この取り付け部材60及び蓋部材88には、他方の空気室94B内へ加圧ガスを給排するための第2給排ポート118が形成されている(図5参照)。
まず、ウエハWの搬出入を行わない時、例えばプロセス処理中には、弁体52で処理チャンバ側の搬出入口37を密閉状態で閉じておく(図2中の実線で示される)。これに対して、この処理チャンバに対してウエハWの搬出入を行う時には、ウエハWを搬出入口37から引き離した状態で、このゲートバルブ本体の全体を上方へ、或いは下方へ90度回転させた状態で、弁体52と補強部材72との間の間隙を介してウエハWの搬出入を行う。この時の状態は図2中の一点鎖線で示され、ここではゲートバルブ本体を上方へ90度回転させた状態を示す。そして、弁体52に対するメンテナンスを行う場合には、図2中の一点鎖線で示す状態から弁体52を上方へ押し上げてこれを上方に位置するメンテナンス用開口44に気密に密着させ、そして、メンテナンス用開閉蓋46(図3参照)を取り外して弁体52に対するメンテナンスを行うことになる。
まず、本発明のゲートバルブ装置では、上述した一連の動作は、図5中に示すように、カム機構56のシリンダ部74内のカム部76をシリンダ部74内で往復移動させることによって行うことができる。尚、弁体52の両端に設けられているカム機構56は、この際、同期して動作されるのは勿論である。
そして、カムピン82が第1の斜め孔部106Aと直線孔部106Bとの接合点までくると、弁体52の後退は停止し、カム部76を右側に移動させると、このカムピン82は上記直線孔部106B(図8(B)参照)に沿って移動することになり、この直線孔部106Bの左端まで行くことになる。
そして、このように弁体52等が90度回転して上方を向いた状態で(図2中の一点鎖線で示す弁体52の状態)、前述したように弁体52と補強部材72との間の間隙を通ってウエハWの搬出入が行われることになる。
この場合には、図5に示す取り付け部材60に設けたネジストッパ120を緩めてその先端が案内筒98内に突き出ていないような状態とし、スプライン軸78がより奥まで(図5中においてより右側)侵入できるような状態に設定する。この状態でカム部76を加圧ガスにより更に右側へ移動させると、カムピン82は図8(B)中の第2の斜め孔部106Cに沿って移動し、これによって、弁体52は図13(C)及び図14(C)に示すように上方向を向いた状態から更に上方向へ前進することになり、これによって弁体52はメンテナンス用開口44に押圧されてこれを気密にシールすることになる(図2及び図14(D)参照)。その後は、前述したように、メンテナンス用開閉蓋46を取り外して弁体52に対するメンテナンス作業が行われることになる。
従って、構造自体を簡単化して小型化及び低コスト化を実現でき、しかも、動作の信頼性を高く維持することができる。
また上記実施例において、弁体52に対するメンテナンス作業時の弁体52の前進後退を行わない場合には、この動作を行うに要するカム部76の第2の斜め孔部106C(図8(B)参照)及びスプライン軸78の第2の直線溝部116Cは設ける必要がない。
また、ここでは被処理体として半導体ウエハを例にとって説明したが、これに限定されず、ガラス基板、LCD基板、セラミックス基板等にも本発明を適用できるのは勿論である。
4,4A〜4D 処理チャンバ
6 搬送室
12,12A〜12D ゲートバルブ装置
14 搬送機構
36 筐体
37 搬出入口
52 弁体
54 弁体支持ロッド
56 カム機構
72 補強部材
74 シリンダ部
76 カム部
78 スプライン軸
80 接触子
82 カムピン
94A,94B 空気室
104 遊嵌長孔
106 カム孔
106A 第1の斜め孔部
106B 直線孔部
106C 第2の斜め孔部
116 カム部案内溝
116A 第1の直線溝部
116B 旋回溝部
116C 第2の直線溝部
W 半導体ウエハ(被処理体)
Claims (17)
- 被処理体に対して所定の処理を施すための処理チャンバの搬出入口に取り付けられて、真空状態の搬送室側から前記被処理体を通過させると共に前記搬出入口を開閉するゲートバルブ装置において、
前記搬出入口を開閉するように着座可能になされた弁体と、
前記弁体の両端部に、前記搬出入口に対する前記弁体の押圧方向に沿って設けられる所定の長さの弁体支持ロッドと、
前記弁体支持ロッドに連結されて前記弁体支持ロッドに対して直交する方向への駆動力を前記弁体支持ロッドの前記弁体の押圧方向への推進力と前記弁体を回転する方向への回転力とに時系列的に変換するためのカム機構と、を備え、
前記カム機構は、
前記弁体支持ロッドを気密に貫通させて摺動自在に支持して内部が気密状態になされた円筒体状のシリンダ部と、
前記シリンダ部内に摺動可能に設けられると共に前記弁体支持ロッドを遊嵌状態で挿通させて前記摺動方向に沿って形成された遊嵌長孔を有し、且つ前記弁体支持ロッドに形成した突起状のカムピンを嵌合させて前記弁体支持ロッドを前記弁体方向に向けて移動させるカム孔を有するピストン状のカム部と、
前記弁体支持ロッドに形成された長孔に挿通されると共に前記カム部に連結されて、その長さ方向に沿ってカム部案内溝が形成されたスプライン軸と、
前記スプライン軸を回転させるために前記カム部案内溝に嵌め込まれて回転可能に支持された接触子と、よりなることを特徴とするゲートバルブ装置。 - 被処理体に対して所定の処理を施すための処理チャンバの搬出入口に取り付けられて、真空状態の搬送室側から前記被処理体を通過させると共に前記搬出入口を開閉するゲートバルブ装置において、
前記搬出入口を開閉するように着座可能になされた弁体と、
前記弁体の両端部に、前記搬出入口に対する前記弁体の押圧方向に沿って設けられる所定の長さの弁体支持ロッドと、
前記弁体支持ロッドに連結されて前記弁体支持ロッドに対して直交する方向への駆動力を前記弁体支持ロッドの前記弁体の押圧方向への推進力に変換するためのカム機構と、
前記カム機構の全体を所定の角度だけ回転させることができる回転駆動機構と、を備え、
前記カム機構は、
前記弁体支持ロッドを気密に貫通させて摺動自在に支持して内部が気密状態になされた円筒体状のシリンダ部と、
前記シリンダ部内に摺動可能に設けられると共に前記弁体支持ロッドを遊嵌状態で挿通させて前記摺動方向に沿って形成された遊嵌長孔を有し、且つ前記弁体支持ロッドに形成した突起状のカムピンを嵌合させて前記弁体支持ロッドを前記弁体方向に向けて移動させるカム孔を有するピストン状のカム部と、
前記弁体支持ロッドに形成された長孔に挿通されると共に前記カム部に連結されて、その長さ方向に沿ってカム部案内溝が形成されたスプライン軸と、
前記スプライン軸を回転させるために前記カム部案内溝に嵌め込まれて回転可能に支持された接触子と、よりなることを特徴とするゲートバルブ装置。 - 前記カム部の両端部は、前記カムピンの先端位置よりもその直径が大きくなされていることを特徴とする請求項1又は2記載のゲートバルブ装置。
- 前記カム部は、前記シリンダ部内に導入される加圧ガスによって駆動されることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載のゲートバルブ装置。
- 前記スプライン軸には、その長手方向に沿って前記加圧ガスを導入するガス通路が形成されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載のゲートバルブ装置。
- 前記スプライン軸は、案内筒に摺動可能に収容されると共に、前記接触子は前記案内筒内の先端部に設けられることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載のゲートバルブ装置。
- 前記カム孔は、前記弁体支持ロッドを前進後退させるために前記シリンダ部の軸方向に対して斜めに交差する方向に沿って形成された第1の斜め孔部を有することを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載のゲートバルブ装置。
- 前記カム孔は、前記第1の斜め孔部に連通して、前記シリンダ部の長手方向に沿って形成された直線孔部を有することを特徴とする請求項7記載のゲートバルブ装置。
- 前記カム孔は、前記直線孔部に連通して、前記軸方向に対して前記第1の斜め孔部とは反対方向へ斜めに交差する方向に沿って形成された第2の斜め孔部を有することを特徴とする請求項8記載のゲートバルブ装置。
- 前記第1及び第2の斜め孔部の先端部は、その傾斜角度が僅かに小さくなされていることを特徴とする請求項9記載のゲートバルブ装置。
- 前記先端部の更に先端は、その傾斜角度が逆方向に僅かに向けられていることを特徴とする請求項10記載のゲートバルブ装置。
- 前記カム部案内溝は、前記スプライン軸の軸方向に沿って形成された第1の直線溝部を有することを特徴とする請求項1乃至11のいずれか一項に記載のゲートバルブ装置。
- 前記カム部案内溝は、前記第1の直線溝部に連通し、前記スプライン軸の円周方向に対して螺旋状に旋回させて形成した旋回溝部を有することを特徴とする請求項12記載のゲートバルブ装置。
- 前記カム部案内溝は、前記旋回溝部に連通して前記スプライン軸の軸方向に沿って形成された第2の直線溝部を有することを特徴とする請求項13記載のゲートバルブ装置。
- 前記カム部案内溝は、前記スプライン軸の周囲に等間隔で複数本形成されていることを特徴とする請求項12乃至14のいずれか一項に記載のゲートバルブ装置。
- 前記2つのシリンダ部は、互いに補強部材で連結されていることを特徴とする請求項1乃至15のいずれか一項に記載のゲートバルブ装置。
- 真空引き可能になされた搬送室と、
被処理体に対して所定の処理を施すために前記搬送室の周囲に設けた複数の処理チャンバと、
前記搬送室と前記各処理チャンバとの間に介設された請求項1乃至16のいずれか一項に記載のされたゲートバルブ装置と、
前記搬送室内に設けられて前記各処理チャンバに向けて前記被処理体を搬出入させるために屈伸及び旋回可能になされた搬送機構と、
を備えたことを特徴とする被処理体の処理システム。
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