JPH01225330A - 搬送装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、真空処理室と真空前室とをもつ減圧処理装置
〔例えば、ＣＶ　Ｄ　（Ｃｈｅ＋＊１ｃａｌ　Ｖａｐｏ
ｒＤｅｐｏｓｉｔｉｏｎ　）装置、ドライエツチング装
置、スパッタリング装置、ランプアニール装置等〕に使
用され、半導体ウェハ、セラミックス基板等の被処理物
を室外と真空前室との間および真空前室と真空処理室と
の間で搬送する。搬送装置に関する。

〈従来の技術〉 第５図は従来の減圧処理装置の一例を示す。

真空処理室りに連設された真空前室Ｃの前壁７１には、
真空前室Ｃの内部と室外との間で被処理物ｍを出し入れ
する第１開ロ部７２が形成されているとともに、上下動
によってこの第１開ロ部７２を開閉する第１閉止仮７３
が設けられている。一方、真空前室Ｃと真空処理室りと
の隔壁７４には、第２開ロ部７５が形成されているとと
もに、回動によってこの第２開ロ部７５を開閉する第２
閉止板７６が設けられている。

真空前室Ｃおよび真空処理室りの各々において底部に形
成された排気口？７ａ、？７ｂがそれぞれパルプ７８ａ
、７８ｂを介して真空ポンプ７９ａ、７９ｂに接続され
ている。８０ａ、８０ｂは排気パイプである。

真空処理室り内の上部に配置されたガス導入へノダ８１
は、ガス導入管８２を介してガス供給系８３に接続され
ている。真空処理室りの周囲には電熱ヒータ８４がコイ
ル状に巻回され、さらにその外周が断熱材８５で覆われ
ている。８６は真空処理室りの底部から立ち上げられて
被処理物ｍを支持する支持ピンである。

この従来例の場合、被処理物ｍの搬送装置Ｔ２は真空前
室Ｃの内部に配備されている。この搬送装置Ｔ２は、駆
動源９１によって回転および昇降する基軸９２と、基軸
９２の上端に固定の基部揺動アーム９３と、基部揺動ア
ーム９３の先端に取り付けられ、基部ｔＳＳファーム３
に連動して揺動する被処理物支持アーム９４とからなる
。この搬送装置ｆＴ２は、そのアーム９３．９４が一体
となって昇降することや連係して）駆動することにより
、被処理物ｍを室外と真空前室Ｃとの間および真空前室
Ｃと真空処理室りとの間で搬送するものである。

このような搬送装置Ｔ２の一例として、実開昭６０−１
７６５４８号公報（考案）名称ｒ！ｊａ送装置」）ニ記
載のものが知られている。

上記減圧処理装置の動作を説明すると、まず、第２開ロ
部７５の方は第２閉止板７６によって閉しておく０両バ
ルブ７８ａ、７８ｂを閉じた状態で真空ポンプ７９ａ、
７９ｂを駆動してからパルプ７８ｂを開けて真空処理室
りを減圧する。

次に、真空前室Ｃを常圧にした状態で第１閉止板７３を
開動して第１開ロ部７２を開ける。

駆動源９１の作動によって両アーム９３．９４を揺動さ
せて支持アーム９４を第１開ロ部７２から室外に延出さ
せ、支持アーム９４に被処理物ｍを支持させる。

再び、駆動源９１の作動によって両アーム９３．９４を
揺動することにより支持アーム９４上の被処理物ｍを真
空前室Ｃ内に収納する０次いで、第１閉止板７３によっ
て第１開ロ部７２を閉じ、パルプ７８ａを開けて真空前
室Ｃを真空処理室りと同圧まで減圧する（第５図参照）
。

これが完了すると、両パルプ７８ａ、７８ｂを閉じてか
ら第２閉止板７６を開動して第２開ロ部７５を開け、駆
動ｉｔ！９１の作動によって両アーム９３．９４を揺動
して支持アーム９４を第２開ロ部７５から真空処理室り
内に進入させた後、両アーム９３．９４を下降させて支
持アーム９４上の被処理物ｍを支持ピン８６上に移載す
る（第６図は移載する直前を示す）、この移載が完了す
ると、再び、駆動源９１の作動により両アーム９３．９
４を揺動して支持アーム９４を真空前室Ｃ内に戻す。

次いで、第２閉止板７６によって第２開ロ部７５を閉じ
、パルプ７８ｂを開いてからヒータ８４に通電し被処理
物ｍを加熱するとともに、ガス導入ヘッダ８１を介して
所要のガスを真空処理室り内に導入し、被処理物ｍに対
する処理を行う、この処理が完了すると、パルプ７８ｂ
を閉じ、第２閉止仮７６を開動した後、再び、駆動源９
１の作動によって両アーム９３、９４を揺動させて支持
アーム９４を真空前室Ｃから真空処理室り内に進入させ
、両アーム９３．９４を上昇させて支持ピン８６上の被
処理物ｍを支持アーム９４上に移載し、再度、両アーム
９３．９４を揺動させて被処理物ｍを真空処理室りから
第２開ロ部７５を通して真空前室Ｃ内に戻す。

次いで第２閉止板７６を閉じ、真空前室Ｃにパージガス
を供給して真空前室Ｃだけを大気圧に戻す。

そして、第１閉止板７３を開動し、再び、駆動１１９１
・の作動によって両アーム９３．９４を揺動して第１開
ロ部７２を通して室外に処理の済んだ被処理物ｍを搬出
する。

〈発明が解決し、ようとする課題〉 以上の搬送装置Ｔ２を動作させるには、それに連係して
第１．第２の閉止板７３．７６の各開閉動作を制御する
必要があり、そのため非常に繁雑なシーケンス動作とな
っている。

このため、シーケンス制御部の構成が複雑なものになっ
ているとともに、作業効率が非常に低いものとなってい
る。

また、搬送装置Ｔ２が真空前室Ｃ内に配備され、しかも
、この搬送装置Ｔ２が揺動アーム式であって両アーム９
３．９４の揺動のための大きなスペースを確保しなけれ
ばならない関係上、被処理物ｍの大きさに比べて真空前
室Ｃが極端に大きくなり、減圧処理装置全体の大型化を
招いているとともに、この真空前室Ｃの減圧に長時間を
要し、この点でも作業効率を悪化させている。

加えて、真空前室Ｃ内に配備された搬送装置Ｔ２には、
その駆動源９１の内部のモータやエアシリンダ等におけ
る摺動部分、基軸９２とその軸受部との摺動部分、基部
揺動アーム９３と支持アーム９４との連結軸における摺
動部分等のように、摺動部分が数多くあるので、これら
の各摺動部分において微細金属等のパーティクルが真空
前室Ｃや真空処理室り自体の内部で発生し、これが被処
理物ｍに付着するために品質低下や歩留りの悪化をもた
らしている。

さらに、通常、真空前室Ｃ内は、短時間に超高真空を得
る必要がある。例えば、ターボ分子ポンプ等を使用して
、真空引きを行うことがあるが、その場合、駆動源９１
の内部も真空引きされる。しかるに、駆動ｔＡ９１の内
部は、モータ、コイル、ギヤ、プーリー等の複雑な機構
で、しかも多種類の材質で構成されており、表面への吸
着ガスが多く、上記の高性能ポンプをもってしても、短
時間に高真空を得なければならないことから、吸着ガス
の排出が不充分となり悪影響を与えている。

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであっ
て、シーケンス制御部の簡素化、作業効率の改善、減圧
処理装置の小型化、パーティクル等の汚染物の発生低減
を達成する上で有効な搬送装置を提供することを目的と
する。

く課題を解決するための手段〉 本発明は、このような目的を達成するために、次のよう
な構成をとる。

すなわち、本発明の搬送装置は、 被処理物を室外と真空前室との間および真空前室とこれ
に連設の真空処理室との間で搬送する搬送装置であって
、 室外に配置され、真空前室に対する当接・離間により真
空前室における搬入搬出用の第１開口部を開閉する第１
閉止部材と、　− 先端に被処理物保持部を有し、前記第１閉止部材に気密
状態で摺動自在に貫通保持されたロッドと、 室外に配置され、前記第１閉止部材が第１開口部を閉止
した状態で前記保持部を真空前室と真空処理室との間で
変位させるように前記ロッドをその長さ方向に沿って往
復ストローク運動させるロッド駆動機構と、 真空前室における第１開口部を通過する大きさに形成さ
れて前記保持部と前記第１閉止部材との間に位置する状
態で前記ロッドに気密的に取り付けられ、真空処理室に
対する当接・離間により真空処理室における搬入搬出用
の第２開口部を開閉する第２閉止部材 とを備えたことを特徴とするものである。

く作用〉 本発明の構成による作用は、次のとおりである。

（ａ）　　先端に被処理物保持部を有し途中部分に真空
前室における第１開口部よりも小さい第２閉止部材を取
り付けたロッドが第１閉止部材に保持されているから、
第１閉止部材を前進させて真空前室に近づけることによ
り、第１開口部を通して被処理物保持部および第２閉止
部材が真空前室内に進入し、第１閉止部材をさらに前進
させて真空前室に当接させると第１開口部が第１閉止部
材によって閉塞される。すなわち、被処理物保持部の真
空前室内進入と第１開口部の閉塞とが第１閉止部材の前
進のみで一括的に行われる。また、それとは逆に、第１
開口部の開放と被処理物保持部の室外退出とが第１閉止
部材の後退のみで一括的に行われる。

第１閉止部材が第１開口部を閉塞した状態でロッド駆動
機構を作動してロッドを前進させると、被処理物保持部
が真空処理室における第２開口部を通して真空処理室内
に進入し、ロッドをさらに前進させるとロッドに取り付
けられた第２閉止部材が真空処理室に当接して第２開口
部を閉塞する。

すなわち、被処理物保持部の真空処理室内進入と第２開
口部の閉塞とがロッド駆動機構によるロッドの前進のみ
で一括的に行われる。また、それとは逆に、第２開口部
の開放と被処理物保持部の真空処理室から真空前室への
退出とがロッドの後退のみで一括的に行われる。

（ｂ）　　ロッドが直線的なストローク運動を行うもの
であるから、従来の揺動アーム式の場合のように真空前
室の大きさを被処理物の大きさに比べて極端に太き（す
る必要がない。

（Ｃ）　　被処理物保持部や第２閉止部材を保持させた
ロッドは、室外に配備されているロッド駆動機構によっ
て、往復ストローク運動するだけであるから、室内にお
けるパーティクル等の発生を著しく低減できる。

〈実施例〉 以下、本発明に係る搬送装置を減圧処理装置の一例であ
るＣＶＤプロセス装置に使用した場合の実施例を図面に
基づいて詳細に説明する。

第」Ｊ０１汎 第１図は搬送装置およびＣＶＤプロセス装置の断面図で
ある。

真空前室Ａは真空処理室（ＣＶＤ反応炉）Ｂに連設され
ている。真空前室Ａの底部に形成された排気口１ａは、
パルプ２ａを介してターボ分子ポンプ等の真空ポンプ３
ａに接続されている。４ａは排気パイプである。真空前
室Ａの前壁５には、被処理物の一例である半導体ウェハ
、セラミックス基板等の被処理物ｍの搬入搬出用の第１
開口部６が形成されている。この第１開口部６に対する
閉止板は真空前室Ａ自体には設けられていない。

真空処理室Ｂ内の上部に配置されたガス導入へラダ７は
、ガス導入管８を介してガス供給系９に接続されている
。真空処理室Ｂの底部に排気口ｌｂが形成され、パルプ
２ｂを介してターボ分子ポンプ等の真空ポンプ３ｂに接
続されている。４ｂは排気パイプである。真空処理室Ｂ
の周囲には電熱ヒータ１０がコイル状に巻回され、さら
にその外周が断熱材１１で覆われている。なお、前記電
熱ヒータｌＯは、ＣＶＤ反応に供するものである。

真空処理室Ｂにおいて真空前室Ａとの隔壁１２には被処
理物ｍの搬入搬出用の第２開口部１３が形成され、この
第２開口部１３を介して真空処理室Ｂと真空前室Ａとが
連通されている。この第２開口部１３を閉塞するための
閉塞板１４が真空前室Ａ側に設けられ、回転軸１５の回
転によって第２開口部１３を開閉するように構成されて
いる。

次に、本発明の実施例に係る搬送装置ＴＩの構造につい
て説明する。

固定ベース２１上に支柱２２を介して水平なレール２３
が取り付けられ、可動ベース２４に設けた車輪２５がレ
ール２３に転勤自在に係合されている。固定ベース２１
には、正逆転切換え式のモータ２６とプーリーブラケッ
ト２７とがレール２３の長さ方向で所定間隔を隔てて設
けられており、モータ２６の出力軸に取り付けた駆動プ
ーリー２８とブラケット２７に回転自在に軸支した従動
プーリー２９との間にベルト３０が掛張され、可動ベー
ス２４から下方に突設した連結部材３１がベルト３０に
固定連結されている。

可動ベース２４の前端に、真空前室Ａにおける第１開口
部６を開閉するための第１閉止部材３２が立設されてい
る。前記のモータ２６．ヘルド３０．可動ベース２４等
が第１閉止部材３２を前後進させる変位機構ａを構成し
ている。第１閉止部材３２は、真空前室Ａの前壁５との
当接によって第１開口部６を閉止するもので、その前面
には第１間口部６の周囲において前壁５に圧接される気
密用のＯリング３３が嵌着されている。

被処理物保持部（サセプタ）４１は、半導体ウェハ、セ
ラミックス基板等の被処理物ｍを載置支持するもので、
リング４１ａとこのリング４１ａの複数箇所から立ち上
げられた保持ピン４１ｂとから構成されている。この被
処理物保持部４１を先端に連設し前記のレール２３と平
行な水平姿勢のロッド４２が、前記の第１閉止部材３２
に摺動自在に挿通されている。このロッド４２の中間部
の近傍には、被処理物保持部４Ｉと第１閉止部材３２と
の間に位置する状態でフランジ部４３がロッド４２に対
して気密的に固定され、フランジ部４３の前面に弾性体
である金属ベローズ４４を介してロッド４２に遊挿した
状態で第２閉止部材４５が取り付けられている。金属ベ
ローズ４４は、フランジ部４３および第２閉止部材４５
の双方に対し気密的に取り付けられている。

第２閉止部材４５は、真空処理室Ｂにおける第２開口部
１３を閉塞するもので、その面積は第２開口部１３より
大きいが真空前室Ａにおける第１開口部６の面積よりも
わずかに小さく、その第１開口部６を通過できるように
構成されている。なお、第１開口部６の面積よりも小さ
いことに関しては、金属ベローズ４４．フランジ部４３
についても同様である。第２閉止部材４５の前面には第
２開口部１３の周囲において隔壁１２に圧接される気密
用のＯリング４６が嵌着されている。

第１閉止部材３２の背面には、第１閉止部材３２におけ
るロッド４２を挿通している箇所から真空が漏れないよ
うに、ロッド４２を摺動自在に内嵌する有底の筒状体４
７のフランジ部４７ａが当接され、第１閉止部材３２と
７ラング部４７ａとの間に気密用の０リング４８を介在
した状態で両者を固定しである。

なお、第１閉止部材３２に対してロッド４２を摺動自在
に貫通させるには、第１閉止部材３２とロッド４２とが
気密状態であることを要するが、ただし、必ずしも第１
閉止部材３２におけるロッド４２を貫通している孔の内
周面と、口７ド４２の外周面とが気密に摺接しているこ
とを要さず、第１実施例では、第１閉止部材３２に気密
に固定した有底の筒状体４７にてロッド４２を囲うこと
によって第１閉止部材３２とロッド４２とを気密状態と
した。

筒状体４７の外周にマグネットリング４９が摺動自在に
外嵌されている。ロッド４２の後端部は、ロッド４２の
軸方向においてマグネットリング４９の磁極とは反対の
磁極をもつ磁石４２ａに構成されている。

可動ベース２４には、正逆転切換え式のモータ５０とプ
ーリーブラケット５１とが前記のレール２３の長さ方向
で所定間隔を隔てて設けられており、モータ５０の出力
軸に取り付けた駆動プーリー５２とブラケット５１に回
転自在に軸支した従動プーリー５３との間にベルト５４
が掛張され、マグネットリング４９から下方に突設した
連結部材５５がベルト５４に固定連結されている。前記
のモータ５０．ベルト５４．マグネットリング４９．ロ
ッド４２の後端の磁石４２ａ等がロット′４２をその長
さ方向に沿って往復ストローク運動させるロッド駆動機
構すを構成している。

以上の変位機構ａとロッド駆動機構すとからなる搬送装
置ＴＩは、真空前室Ａの外部に設けられている。

次に、この第１実施例のＣＶＤプロセス装置の動作を第
１図〜第３図に基づいて説明する。

まず、前準備として、第１図に示すように、マグネット
リング４９は筒状体４７の後端に位置しており、ロッド
４２は、その後端の磁石４２ａがマグネットリング４９
に吸引されているため、筒状体４７に深く進入した位置
にあり、このときの被処理物保持部４１の位置が原点位
置である。真空前室Ａにおける第１開口部６は開けられ
ており、真空前室Ａは常圧の状態にある。また、真空処
理室Ｂにおける第２開口部１３は閉塞板１４によって閉
ざされている。

バルブ２ａ、２ｂを閉じた状態で真空ポンプ３ａ、３ｂ
を駆動してからパルプ２ｂを開いて真空処理室Ｂを減圧
する。上記前準備が完了した状態を、以下、初期状態と
称する。

次に、変位機構ａを駆動して可動ベース２４とともに第
１閉止部材３２およびロッド駆動機構すの全体を前進さ
せる。すなわち、変位機構ａにおけるモータ２６を正転
駆動してベルト３０を回動し、可動ベース２４をレール
２３に沿ってＸ１方向に前進移動させる。これに伴って
、被処理物ｍ、被被処理像保持部４１．′ロツド２．第
１閉止部材３２．第２閉止部材４５．筒状体４７．マグ
ネットリング４９．モーフ５０等が一体となって前進移
動する。

この前進移動によって被処理物保持部４１とともに被処
理物ｍが真空前室Ａの第１開口部６を通って真空前室Ａ
内に搬入されるとともに、第２閉止部材４５．金属ベロ
ーズ４４．フランジ部４３等も第１開口部６を通って真
空前室Ａ内に入る。そして、第１閉止部材３２が真空前
室Ａの前壁５に当接し、その前面の０リング３３によっ
て第１開口部６を閉塞する。この閉塞の段階でモータ２
６が停止される。

これが第２図に示す状態である。

このように、被処理物保持部４１の真空前室Ａ内への進
入と第１閉止部材３２による第１開口部６の閉塞とが、
第１閉止部材３２の前進移動のみで一括的に行われる。

第２回の状態において、パルプ２ａを開けて真空前室Ａ
を減圧し、所要の真空度に達すると、バルブ２ａ、２ｂ
を閉じる。ロッド４２が直線的に移動することから真空
前室Ａの大きさとしては被処理物ｍよりも少し大きめで
よく、真空前室Ａの減圧に要する時間が少なくてすむ。

次に、回転軸１５を回転することにより閉塞板１４を真
空前室Ａ内において９０度回転し、真空処理室Ｂにおけ
る第２開口部１３を開く０次いで、口・ンド駆動機構す
におけるモータ５０を正転駆動しベルト５４を回動する
ことによりマグネットリング４９をＸ。

方向に移動させる。すると、マグネットリング４９とロ
ッド４２の後端の磁石４２ａとの磁気結合によってロッ
ド４２がマグネットリング４９と同方向に同量だけ移動
する。したがって、被処理物ｍとともに被処理物保持部
４１．　　ロッド４２．第２閉止部材４５等が一体とな
ってＸ、方向に前進移動する。

この前進移動によって被処理物ｍとともに被処理物保持
部４１が真空処理室Ｂにおける第２開口部１３を通って
真空処理室Ｂ内に搬入されるとともに、第２閉止部材４
５が隔壁１２に当接し、その前面のＯリング４６によっ
て第２開口部１３を閉塞する。この閉塞の段階でモータ
５０が停止され、パルプ２ｂを開く。これが第３図に示
す状態である。

このように、被処理物保持部４１の真空処理室Ｂ内への
進入と第２閉止部材４５による第２開口部１３の閉塞と
が、ロッド４２の前進移動のみで一括的に行われる。

第３図の状態において、ヒータ１０に通電するとともに
、ガス供給系９からガス導入管８．ガス導入ヘッダ７を
介してＣＶＤ反応のためのガス（例えば、有機オキシシ
ラン、モノシラン等のガス）を真空処理室Ｂ内に導入す
る。

導入されたガスのＣＶＤ反応により被処理物ｍの表面に
例えばシリコン酸化膜（ＳｉＯ□）等の被膜を形成する
。ＣＶＤ反応によって生成された排ガスは真空ポンプ３
ｂにより排気バイブ４ｂを通って排出される。

シリコン酸化膜の形成が完了すると、バルブ２ｂを閉じ
、ロッド駆動機構すにおけるモータ５０を逆転駆動しベ
ルト５４を介してマグネットリング４９をＸオ方向に移
動させ、磁気結合によってロッド４２を同方向に後退移
動させる。すると、まず第２閉止部材４５が隔壁１２か
ら離れ第２開口部１３を開き、続いてＣＶＤ処理済みの
被処理物ｍが被処理物保持部４１とともに第２開口部１
３を通して真空前室Ａ内に収容される（第２図参照）。

このように、第２開口部１３の開放と被処理物保持部４
１の真空処理室Ｂから真空前室Ａへの退出とがロッド４
２の後退のみで一括的に行われる。

次いで、閉塞板１４を閉じ、真空前室Ａにパージガスを
供給して真空前室Ａだけを大気圧に戻す。

しかる後、変位機構ａにおけるモータ２６を逆転駆動し
ベルト３０．可動ベース２４を介してロッド駆動機構す
とともに７Ｊ４１閉止部材３２をＸ２方向に移動させる
。すると、まず第１閉止部材３２が前壁５から離れ第１
開口部６を開き、続いて被処理物ｍとともに被処理物保
持部４１が外部に搬出される。

このように、第１開口部６の開放と被処理物保持部４１
の室外退出とが第１閉止部材３２の後退のみで一括的に
行われる。

以上によって第１図に示す初期状態に復帰する。

搬送装置Ｔ１が真空前室Ａ内ではなく室外に配備され、
かつ、一連のシーケンス動作において真空前室Ａの内部
に進入するのは被処理物保持部４１゜第２閉止部材４５
．金属ベローズ４４．フランジ部４３゜ロッド４２゛の
みであり、また、真空処理室Ｂの内部に進入するのは被
処理物保持４４１．　ロッド４２のみであり、また、被
処理物ｍの近傍に摺動部分が存在しないことから、被処
理物ｍ、真空前室Ａ、真空処理室Ｂがパーティクルによ
って汚染されることから免れる。

なお、第１閉止部材３２．ロッド４２の所定距離の移動
後のモータ２６．５０の停止の制御は、モータ２６゜５
０にパルスエンコーダを付設して、カウントしたパルス
数が所定値に達したことの検出をもって行うとか、可動
ベース２４．マグネットリング４９のストロークの始端
および終端にリミットスイッチを設けてそれが作動した
ことの検出をもって行うとか、あるいはモータ２６．５
０の駆動回路に過負荷検出回路を接続し、過負荷を検出
したことをもって行うようにすればよい。

１叢尖施貫 次に、第２実施例を第４図に基づいて説明する。

これは、ロッド駆動機構についての別の実施例である。

・　このロッド駆動機構ｂ′においては、第１閉止部材
３２の背面には、ロッド４２を摺動自在に内嵌する有底
の筒状体６１のフランジ部６１ａが当接され、第１閉止
部材３２とフランジ部６１ａとの間に気密用のＯリング
６２を介在した状態で両者を固定しである０図示はして
いないが、ロッド４２には第１実施例における被処理物
保持部４１．フランジ部４３．金属ベローズ４４．第２
閉止部材４５と同様のものが取り付けられている。

筒状体６１の端板には磁性流体を利用したシールブロッ
ク６３を介して正逆転切換え式のモータ６４が取り付け
られ、このモータ６４とロッド４２とがボールネジ機構
６５によって結合されている。すなわち、モータ６４の
出力軸に連結された回転螺軸６６が、ロッド４２にその
長さ方向に沿って形成された軸孔４２ｂ内に挿通されて
いるとともに、ロッド４２の後端に固定したナツト部材
６７に対して、このナツト部材６７内に循環転勤自在に
内蔵された複数のボール（図示せず）を介して係合され
ている。一方、ロッド４２の外周面にはその長さ方向に
沿ってキー溝４２ｃが形成され、このキー溝４２ｃに係
合してロッド４２を回り止めするキー６８が筒状体６１
の内周面から突設されている。また、ロッド４２のスト
ローク運動が正確かつ円滑な直線運動となるように、筒
状体６１の内周面とロッド４２の外周面との間にリニア
ベアリング６９が介在されている。

なお、７０はモータ６４の発停のタイミングを制御する
パルスエンコーダでアル。

その他の構成は第１実施例と同様であるので、説明を省
略する。

動作については、第１閉止部材３２が真空前室Ａにおけ
る第１開口部６を閉塞した状態で、ロッド駆動機構ｂ′
のモータ６４を正転駆動する。ロッド４２はキー６８に
よって回転が規制されているから、モータ６４の回転に
伴ってボールネジ機構６５における螺軸６６が回転する
とロッド４２はＸ１方向に沿って前進移動する。また、
モータ６４を逆転駆動すると、ロッド４２がＸ！力方向
沿って後退移動する。

その他の動作は第１実施例と同様であるので、説明を省
略する。

なお、上記各実施例は、減圧処理装置としてＣＶＤプロ
セス装置を例にとったものであったが、本発明に係る搬
送装置はＣＶＤプロセス装置以外の各種の減圧処理装置
に使用してもよいことはいうまでもない。

〈発明の効果〉 本発明によれば、次の効果が発揮される。

被処理物保持部の真空前室内進入と第１開口部の閉塞と
が第１閉止部材の前進のみで、第１開口部の開放と被処
理物保持部の室外退出とが第１閉止部材の後退のみで、
被処理物保持部の真空処理室内進入と第２開口部の閉塞
とがロッド駆動機構によるロッドの前進のみで、および
、第２開口部の開放と被処理物保持部の真空処理室から
真空前室への退出とがロッドの後退のみでそれぞれ一括
的に行われるから、被処理物を室外→真空前室→真空処
理室→真空前室→室外と一連に搬送するためのシーケン
ス制御部の構成を簡略化できるとともに、作業効率を大
幅に向上することができる。

また、ロッドは直線的なストローク運動を行い、従来の
揺動アーム式のように１工動するのではないから、真空
前室の大きさを被処理物の大きさに比べて極端に大きく
する必要がなく、真空前室ひいては減圧処理装置全体の
小型化に寄与することができる。その結果、減圧時間を
短縮でき、生産性の向上が期待できる。

加えて、真空前室や真空処理室内において、摺動部分か
らのパーティクル等の汚染物の発生を著しく低減できる
ので被処理物の品質低下や歩留りの悪化の問題を解消す
ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図ないし第３図はＣＶＤプロセス装置に使用した搬
送装置の実施例に係り、第１図はＣＶＤプロセス装置の
全体構成および被処理物が室外に位置する初期状態を示
す断面図、第２図は被処理物が真空前室内に位置する状
態を示す断面図、第３図は被処理物が真空処理室内に位
置する状態を示す断面図である。第４図は第２実株例に
係る搬送装置の要部の断面図である。 第５図および第６図は従来例を示す断面図である。 Ｔ１・・・搬送装置 Ａ・・・真空前室 Ｂ・・・真空処理室 ａ・・・第１閉止部材の変位機構 す、ｂ’・・・ロッド駆動機構 ｍ・・・被処理物 ６・・・第１開口部 １３・・・第２開口部 ２３・・・レール ２４・・・可動ベース ２６、５０・・・正逆転式モータ ３０、５４・・・ベルト ３２・・・第１閉止部材 ４１・・・被処理物保持部 ４２・・・ロッド ４２ａ・・・磁石 ４２ｂ・・・キー溝 ４５・・・第２閉止部材 ４７・・・筒状体 ４９・・・マグネットリング ６１・・・筒状体 ６４・・・正逆転式モータ ６５・・・ボールネジ機構 ６６・・・回転螺軸 ６７・・・ナツト部材 ６８・・・キー 出願人　大日本スクリーン製造株式会社代理人　弁理士
　　　杉　谷　　　勉 第５図 第６図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）被処理物を室外と真空前室との間および真空前室
   とこれに連設の真空処理室との間で搬送する搬送装置で
   あって、 室外に配置され、真空前室に対する当接・離間により真
   空前室における搬入搬出用の第１開口部を開閉する第１
   閉止部材と、 先端に被処理物保持部を有し、前記第１閉止部材に気密
   状態で摺動自在に貫通保持されたロッドと、室外に配置
   され、前記第１閉止部材が第１開口部を閉止した状態で
   前記保持部を真空前室と真空処理室との間で変位させる
   ように前記ロッドをその長さ方向に沿って往復ストロー
   ク運動させるロッド駆動機構と、 真空前室における第１開口部を通過する大きさに形成さ
   れて前記保持部と前記第１閉止部材との間に位置する状
   態で前記ロッドに気密的に取り付けられ、真空処理室に
   対する当接・離間により真空処理室における搬入搬出用
   の第２開口部を開閉する第２閉止部材 とを備えた搬送装置。