CN114008242A - 双向转位装置 - Google Patents

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Abstract

在一示例性实施方案中，双向转位装置包括多个双向转位头，多个双向转位头可以彼此独立地操作或协同操作以调节衬底处理室中的衬底和基座之间的间隙。在一些实施方案中，一种双向转位头包括：基部；能相对于所述基部旋转的可旋转板，所述可旋转板包括多个异形凹部，每个异形凹部限定在其中的凸轮表面；和多个凸轮销，每个凸轮销被设置成在被致动时作用在相应的异形凹部的所述凸轮表面上，以沿第一或第二可旋转方向移动所述可旋转板。

Description

双向转位装置
优先权主张
本申请要求授予Vintila等人的于2019年6月21日提交的名称为“BidirectionalIndexing Apparatus”的美国专利申请No.62/864,994的优先权，其全部公开内容都通过引用合并于此。
技术领域
本公开总体上涉及一种用于衬底处理室的双向转位装置。在一示例性实施方案中，双向转位装置包括多个双向转位头，它们可以彼此独立地操作或协同操作以调节衬底处理室中的衬底和基座之间的间隙。
背景技术
在一些衬底处理操作期间，衬底被支撑在处理室内的基座上。通常，衬底和基座之间的高度或间隙是不可调节的。然而，在现代半导体工艺中，无法进行间隙调整可能是一个重大缺陷，尤其是例如在寻求优化室条件以在等离子体增强化学气相沉积(PECVD)工艺中创建纳米尺寸结构时。
这里提供的背景描述是为了总体呈现本公开的背景的目的。当前指定的发明人的工作在其在此背景技术部分以及在提交申请时不能确定为现有技术的说明书的各方面中描述的范围内既不明确也不暗示地承认是针对本公开的现有技术。
发明内容
本公开总体上涉及一种用于衬底处理室中的基座的双向转位装置。在一些示例中，转位装置包括多个双向转位头，所述多个双向转位头单独或协同操作以调节基座与由基座支撑的衬底之间的间隔间隙的高度。
在一些示例中，双向转位装置包括具有旋转轴的可旋转板，以及形成在板中的多个异形凹部(profiled pocket)。在一些示例中，异形凹部被布置为围绕板的圆周等距间隔开。在一些示例中，在使用定位中，在板的下侧中提供或形成凹部。每个异形凹部可以包括用作凸轮表面或凸轮的异形表面。凸轮可以在凹部的中间具有对称平面。
在一些示例中，转位装置可以包括三个凸轮销(或从动件)，其可以在与板正交的轴向方向上被推动以作用在凸轮上，从而围绕旋转轴线(例如，以沿双向(正向或反向)方向旋转增加的方式)使板转位。在一些示例中，三个凸轮销可以一个接一个地或以有序的模式顺序地作用，以沿向前或向后方向给板施加一系列连续或不连续的转位运动。凸轮销致动的序列或模式可以产生一个方向或另一个方向的板旋转或其组合。
在一些示例中，板的旋转轴线提供转位装置的升降方向或与转位装置的升降方向对齐。转位装置中的每个转位头的旋转板可作用于螺纹螺钉或其他设备以将运动传递给被支撑在基座上的衬底。该运动可以包括衬底相对于基座的降低、升高、倾斜或其他运动，如下面更充分地描述的。多个转位头的凸轮销致动的序列或模式可以赋予板的不同方位(例如，在衬底处理期间的水平或倾斜方位)或赋予基座和由基座支撑的衬底之间的间隔间隙的高度的竖直调整。在一些示例中，凸轮销由流体压力差致动(例如，由一个或多个通过控制器控制的液压线性活塞致动)。
在一些示例中，一种双向转位头包括：基部；能相对于所述基部旋转的可旋转板，所述可旋转板包括多个异形凹部，每个异形凹部限定在其中的凸轮表面；和多个凸轮销，每个凸轮销被设置成在被致动时作用在相应的异形凹部的所述凸轮表面上，以沿第一或第二可旋转方向移动所述可旋转板。
在一些示例中，所述多个异形凹部和凸轮销的各自位置是相关的以使得能连续增加转位。
在一些示例中，每个异形凹部限定具有对称平面的凸轮表面；并且所述多个凸轮销中的每一个被布置成以顺序方式作用在异形凹部的相应凸轮表面上。
在一些示例中，每个异形凹部的对称平面被配置为当相应的凸轮销作用于相应的凸轮表面上时赋予所述可旋转板双向旋转运动。
在一些示例中，所述双向转位头还包括连接到所述可旋转板的螺纹轴。
在一些示例中，双向转位装置包括至少一个如上文概述的或如此处所述的转位头。
在双向转位头和双向转位装置的一些示例中，所述异形凹部的凸轮表面的一部分在轮廓上是线性的。在双向转位头和双向转位装置的一些示例中，凸轮销的凸轮表面的一部分在轮廓上是弓形的。
附图说明
在附图的视图中通过示例而非限制的方式示出了一些实施方案：
图1是根据一些示例的处理室的示意图，在该处理室中可以采用本公开的方法的一些示例。
图2是根据一示例性实施方案的转位装置的示意图。
图3是根据一示例性实施方案沿图4的线A-A截取的转位头的一部分的示意性截面图。
图4是根据一示例性实施方案的转位头的下侧示意性截面图。
图5根据示例性实施方案示出了转位头的致动状态的方面。
图6-7根据示例性实施方案示出了转位头的双向移动的方面。
图8是示出机器的示例的框图，一个或多个示例性实施方案可以在其上实现，或者一个或多个示例性实施方案可以由其控制。
具体实施方式
后续说明包含实行本公开的说明性实施方案的系统、方法、技术、指令序列以及计算机器程序产品。在后续描述中，为了说明的目的，说明了许多特定细节以提供对示例性实施方案的完整了解。然而，对于本领域技术人员而言将显而易见的是，本公开可在不具有这些特定细节的情况下实践。
本专利文件的公开内容的部分会含有受到版权保护的材料。版权所有者不反对任何人对专利文件或专利公开内容进行传真复制，因为其出现于专利和商标局的专利档案或纪录中，但除此之外保留所有的版权。以下声明适用于下文所描述和构成本文件的一部分的附图中的任何数据：Copyright Lam Research Corporation,2019-2020,All RightsReserved。
现在参考图1，示出了基于等离子体的处理室的示例性布置100。本主题可用于各种半导体制造和衬底处理操作，但在所示示例中，在等离子体增强或自由基增强化学气相沉积(CVD)或原子层沉积(ALD)操作的背景中描述了基于等离子体的处理室。本领域技术人员还应认识到，其他类型的ALD处理技术是已知的(例如，基于热的ALD操作)并且可以结合非基于等离子体的处理室。ALD工具是一种特殊类型的CVD处理系统，其中在两种或多种化学物质之间发生ALD反应。两种或更多种化学物质被称为前体气体并且用于在衬底(例如半导体工业中使用的硅衬底)上形成薄的材料膜沉积。前体气体被依序引入原子层沉积处理室并与衬底表面反应以形成沉积层。通常，衬底反复与前体相互作用以在衬底上缓慢地沉积越来越厚的一或多个材料膜层。在某些应用中，多种前体气体可用于在衬底制造处理中形成各种类型的一层或多层薄膜。
图1示出了包括基于等离子体的处理室101，其中布置有喷头103(其可以是喷头电极)和衬底支撑组件或基座107。衬底支撑组件或基座107可包括转位头，例如以下更详细描述的。通常，衬底支撑组件107寻求提供基本等温的表面并且可以用作衬底105的加热元件和散热器。衬底支撑组件107可以包括静电卡盘(ESC)，其中包括加热元件以帮助处理如上所述的衬底105。衬底105可包括包含元素半导体(例如，硅或锗)的衬底、包含复合元素(例如，砷化镓(GaAs)或氮化镓(GaN))的衬底，或多种其他衬底类型(包括导电、半导电和非导电衬底)。
在操作中，衬底105通过装载端口109装载到衬底支撑组件107上。气体管线113可以向喷头103供应一种或多种处理气体(例如前体气体)。喷头103进而将一种或多种处理气体输送到基于等离子体的处理室101中。供应一种或多种处理气体的气源111(例如，一个或多个前体气体安瓿)耦合到气体管线113。在一些在示例中，RF(射频)电源115耦合到喷头103。在其他示例中，电源耦合到衬底支撑组件107或ESC。
在进入喷头103和气体管线113的下游之前，使用点(POU)和歧管组合(未示出)控制一种或多种处理气体进入基于等离子体的处理室101。在用于在等离子体增强的ALD操作中沉积薄膜的基于等离子体的处理室101的情况下，前体气体可以在喷头103中混合。
在操作中，基于等离子体的处理室101由真空泵117抽空。RF功率在喷头103和包含在衬底支撑组件107内或上的下电极(未明确示出)之间电容耦合。衬底支撑组件107通常被提供有两个或更多个RF频率。例如，在多种实施方案中，RF频率可以从约1MHz、2MHz、13.56MHz、27MHz、60MHz和其他期望的频率中的至少一个频率中选择。可以根据需要设计用于阻止或部分阻止特定射频频率的线圈。因此，提供这里讨论的特定频率仅仅是为了便于理解。RF功率用于将一种或多种处理气体激励成在衬底105和喷头103之间的空间中的等离子体。等离子体可以帮助在衬底105上沉积各种层(未示出)。在其他应用中，等离子体可用于将器件特征蚀刻到衬底105上的各个层中。RF功率至少通过衬底-支撑组件107耦合。衬底-支撑组件107可具有并入其中的加热器(图1中未示出)。基于等离子体的处理室101的详细设计可以变化。
图2是示例性转位装置200的示意图。转位装置200包括总体上以202示出的多个转位头(或机构)。图示的示例性实施方式包括以圆形布置提供的三个转位头202，如图所示。每个转位头202的位置靠近衬底(例如衬底204)的边缘。转位头202被设置成与基座206(例如图1的基座107)相关联，转位头202在处理室(例如图1的处理室101)中支撑衬底204。转位头202可以在控制器(未图示)的引导下彼此独立或一起(协同)操作，以调整衬底204与基座206之间的间隙208的竖直高度。沿由编号箭头指示的升降方向210进行竖直调整。如下文更详细地描述，每个转位头可包括由双向转位机构驱动的螺纹销。在一些示例中，在需要更精确的间隙调整的情况下，螺纹销包括差动螺钉。
示例性的转位头300在图3中的示意性截面轮廓中示出。转位头300包括基部302和旋转板304。旋转板304相对于基部302在竖直方向上固定但可相对于基部302旋转。相反的旋转布置是可能的。如图所示，异形凹部(或凸轮)306形成在板304的下侧中。异形凹部306包括用作凸轮表面308的异形表面308。凸轮表面308可在异形凹部306的中间310处具有对称平面。在所示示例中，异形凹部306的中间310位于凹部306的顶点处。凹部内的其他位置也是可能的。凸轮表面308在视图中是平面的或线性的。其他轮廓也是可能的。参考图4，在转位头300的可旋转板304中提供了一系列等距间隔的异形凹部306，在这种情况下为八个凹部306。
返回图3，转位头300的基部302包括孔312。凸轮销314可通过孔312沿与图2中的升降方向210对齐的轴向方向移动。凸轮销314具有成形的头部316，成形的头部316在使用中作用在异形凹部306的凸轮表面308上。应当理解，凸轮销314的轴向移动(在视图中向上或向下)将导致或允许可旋转板304的双向(左或右)旋转运动。在图示的视图中，凸轮销显示为处于“锁定”向上位置，凸轮销314的头部316固定在凹部306的顶点中。当销314锁定在该向上位置时，可旋转板304的双向旋转运动是不可能的。在其他解锁位置，作用在凸轮表面308上的凸轮销314的向上轴向运动赋予可旋转板304绕旋转轴线404向左或向右的双向旋转运动，具体取决于凸轮销314作用在对称平面的哪一侧。再次参考图4，在所示示例中提供了三个凸轮销314。凸轮销314的其他数量和布置也是可能的。
进一步参考图4，在一些示例中，可旋转板304固定到转位头300的螺纹升降销或轴402上或与转位头300的螺纹升降销或轴402相关联。在凸轮销314的作用下，螺纹轴402被可旋转板304驱动以沿正向或反向(双向)方向旋转。返回参考图2，如其中所指出的，螺纹轴的这种转动运动导致转位头300在转位头(202或300)的每个位置处升高或降低衬底204以调整衬底204和基座206之间的间隙208。
参照图5，转位头202或300可具有致动节距502。这表示对于凸轮销314的单个行程赋予可旋转板304的旋转运动的程度。三个视图的上部系列500指示了凸轮销314处于准备致动状态的三个相对位置。在一些示例中，一次仅致动一个凸轮销314。该系列视图中的箭头指示向上推动凸轮销时的旋转方向。因此，在左视图中，凸轮销314作用在凹部306的凸轮表面308上的轴向向上运动将可旋转板304向左带动。中间视图显示了凸轮销配置，其赋予相反的旋转方向，从而对称凸轮(对称平面)为转位头提供双向运动。系列500中的右视图描绘了凸轮销314和可旋转板304的锁定构造。三个视图的下部系列504描绘了在致动状态之间的凸轮销的构造。在一些示例中，两个凸轮销314同时处于该状态，即，在例如图6-7所示的凹部306的末端。
因此，在一些示例中，转位装置200包括多个双向转位头202(或300)，其单独地或协同地操作以调节基座206和由基座206支撑的衬底204之间的间隔间隙208的高度。在一些示例中，双向转位装置200包括具有旋转轴(404，图4)的可旋转板304和形成在可旋转板304中的一个或多个异形凹部306。在一些示例中，异形凹部306被布置为围绕板304的圆周等距间隔开，例如如图所示。在一些示例中，凹部306被提供或形成在板304的下侧中。每个异形凹部306可以包括用作凸轮表面308或凸轮的异形表面。凸轮表面308可在凹部306的中间具有对称平面。
在一些示例中，转位装置200可以包括一个或多个凸轮销(或从动件)314，该凸轮销(或从动件)314可以在与可旋转板304正交的轴向方向上被推动以作用在异形凹部306的凸轮表面308上，从而使可旋转板304围绕旋转轴404(例如，以沿双向(向前或向后)方向的旋转增量)转位。在一些示例中，板的旋转轴线提供转位装置的升降方向或与转位装置的升降方向对齐。转位装置中每个转位头的旋转板可作用于螺纹螺钉或其他装置以使基座降低或升高，如下文更充分地描述的。
因此，在一些示例中，多个凸轮销314可以一个接一个地或以有序的模式顺序地作用，以沿向前或向后的方向(向上或向下、向左或向右，在转位头202或300的每个位置处)向可旋转板304施加一系列连续或不连续的转位运动。凸轮销致动的序列或模式可产生板304的一个或另一个方向旋转或运动的组合。
在多个转位头202或300内的凸轮销314致动的顺序或模式，在三个转位头位置中的每一个位置，允许实现衬底204的不同平面方位(例如，衬底204在衬底处理期间相对于等离子体气体的水平方位或倾斜方位)。转位装置200的其他实施方案可以不调整衬底204的平面方位而仅调整基座206和由基座206支撑的衬底204之间的间隔间隙208的高度。在其他示例中，衬底204的平面方位和间隙208高度调整的各种组合是可能的。
在这点上，现在参考图5-6。在图6中，示出了凸轮销314的逆时针致动序列600，其用于沿视图中的逆时针方向旋转可旋转板304。可旋转板304附接到转位装置200的螺纹轴402。螺纹轴402由可旋转板304驱动并与转位头202或300的其他部件接合以例如如上所述调整间隔间隙或衬底平面方位。
图示的凸轮销314可以各自向上移动(进入页面)以作用在相应异形凹部306的倾斜凸轮表面308上。因此，当标记为C的凸轮销314被向上推动(进入页面中)时，使可旋转板304沿相关箭头602的方向移动。通过以有序的致动序列或模式C-A-B致动标记为A和B的凸轮销，可将随后的或顺序的旋转运动赋予可旋转台304。在左视图中，凸轮销B被解锁并从上面讨论的锁定位置撤回。允许可旋转板304的旋转运动。应看到，在C-A-B致动序列的过程中，凸轮销C已从相关凹部306的右侧重新定位到同一凹部306的左侧。凸轮销A已相对于可旋转板304移动到新的凹部306。图7示出了类似的布置，但这次是顺时针致动顺序700。在所示的示例中，凸轮销314的致动顺序700是A-C-B。
尽管示例性的转位头在本文中已经在八个异形凹部和三个凸轮销的背景下进行了描述，但是应当理解，其他数量和布置也是可能的。三个凸轮销被认为是方便的，因为一个销可以准备好将可旋转板向左移动，另一个销准备好将可旋转板向右移动，如果需要，第三个销准备好采用锁定位置。如果需要更简单的往复运动或布置，则可以使用两个凸轮销。例如，另外的凸轮销可以使负载跨更多数量的销分散，或者提供与一系列凹部的更大接合。例如，凹部间间距可以被配置为为凸轮销的每个行程提供更精细的转位增量。在一些示例中，凹部和凸轮销的位置相关以允许连续(平滑)或不连续(增量)转位。在上述示例性转位头中，凸轮销可以在旋转板被转位时从凹部“移动”到凹部。在其他布置中，可以不提供这种重新安置。
在一些示例中，为了运动的精确性和易于控制，凸轮销314由一个或多个由控制器控制的液压线性活塞致动。基于来自处理室101中的传感器的反馈、基于来自操作者的手动输入、基于算法指令或以上的组合，控制器可以控制双向转位头以赋予衬底平面方位和间隙调整的组合。
图8是示出机器或控制器800的示例的框图，通过该机器或控制器800可以控制在此描述的一个或多个示例性实施方案。在替代的实施方案中，控制器800可作为独立设备操作，或可连接(例如网络连接)至其他机器。在网络式部署中，控制器800可在服务器-客户端网络环境中以服务器机器、客户端机器、或以上两者的容量操作。在一示例中，控制器800可用作点对点(P2P)网络(或其他的分布式网络)环境中的对等机器。此外，虽然仅显示单一的控制器800，然而术语“机器”(控制器)也应视为包含机器(控制器)的任何集合，这些机器(控制器)单独或联合执行一组(或多组)指令以执行本文所述的方法的任一或多者，例如经由云端运算、软件即服务(SaaS)或其他的计算机集群配置执行。在一些示例中，并参考图8，非暂时性机器可读介质包括指令824，指令824当被控制器800读取时使控制器控制至少包括本文所述的非限制性示例操作的方法中的操作。
本文所述的示例可包含逻辑、多个组件或机构，或可通过逻辑、多个组件或机构而操作。电路系统是在包含硬件(例如简单电路、栅极、逻辑等)的有形实体中实施的电路集合。电路系统构件可随时间推移及基本硬件可变性而具有灵活性。电路系统包含在进行操作时可以单独或组合的方式执行指定操作的构件。在一示例中，可以固定不可变的方式设计电路系统的硬件以执行特定操作(例如硬连线)。在一示例中，电路系统的硬件可包含可变连接实体组件(例如执行单元、晶体管、简单电路等)，其包括经物理方式(例如经磁性方式、经电气方式、通过不变质量粒子的可移动设置等)修改以将特定操作的指令进行编码的计算机可读介质。在连接实体组件时，使硬件组件的基本电气性能改变(例如，从绝缘体变成导体，反之亦然)。指令使嵌入式硬件(例如执行单元或加载机构)能经由可变连接而在硬件中产生电路系统的构件，以在进行操作时执行特定操作的部分。因此，当设备进行操作时，计算机可读介质被通信地耦合至电路系统的其他组件。在一示例中，实体组件中的任一者可用在多于一个的电路系统中的多于一个的构件中。例如，在操作中，执行单元可在一时间点时用于第一电路系统的第一电路中，而在不同时间时由第一电路系统的第二电路、或由第二电路系统的第三电路再使用。
机器(例如计算机系统)800可以包含硬件处理器802(例如中央处理单元(CPU)、硬件处理器核、或其任何组合)、图形处理单元(GPU)832、主存储器804以及静态存储器806，以上各者中的一些或全部可经由互连(例如总线)808彼此通信。控制器800还可包含显示设备810、字母数字输入设备812(例如键盘)以及用户接口(UI)导航设备814(例如鼠标)。在一示例中，显示设备810、字母数字输入设备812以及UI导航设备814可为触摸屏显示器。控制器800可另外包含海量存储设备(例如驱动单元)816、信号产生设备818(例如扬声器)、网络接口设备820以及一或更多传感器830，例如全球定位系统(GPS)传感器、罗盘、加速度计、或另一传感器。控制器800可包含输出控制器828(例如串行的(例如通用串行总线(USB))、平行的、或其他有线或无线的(例如红外线(IR)、近场通信(NFC)等)连接)，以与一或更多外围设备(例如打印机、卡阅读机等)进行通信、或控制该一或更多外围设备。
海量存储设备816可包含机器可读介质822，一或多组数据结构或指令824(例如软件)可存储于机器可读介质822上，这些数据结构或指令824实现本文所述技术或功能中的任一或多者、或被本文所述技术或功能中的任一或多者使用。指令824在其由控制器800执行的期间，也可如图所示完全或至少部分地存在于主存储器804内、静态存储器806内、硬件处理器802内、或GPU832内。在一示例中，硬件处理器802、GPU832、主存储器804、静态存储器806、或海量存储设备816中的一者或任何组合可构成机器可读介质822。
虽然机器可读介质822被显示为单一的介质，然而术语“机器可读介质”可包含被配置以存储一或更多指令824的单一介质、或多个介质(例如集中式或分布式数据库和/或相关高速缓存及服务器)。
术语“机器可读介质”可包含：能够存储、编码、或运载用于由控制器800执行以及使控制器800执行本公开内容的技术中的任一或多者的指令824的任何介质；或能够存储、编码、或运载由这样的指令824所使用或与其相关的数据结构的任何介质。非限制性机器可读介质示例可包含固态存储器以及光学与磁性介质。在一示例中，海量机器可读介质包含具有多个粒子的机器可读介质822，该多个粒子具有不变质量(例如静质量)。因此，海量机器可读介质并非瞬时传播信号。海量机器可读介质的特定示例可包含非挥发性存储器，例如半导体存储器设备(例如电子可编程只读存储器(EPROM)、电子抹除式可编程只读存储器(EEPROM)以及快闪存储器设备；磁盘，例如内部硬磁盘及可移动磁盘；磁光盘；以及CD-ROM与DVD-ROM磁盘。指令824可经由网络接口设备820使用传输介质以通过通信网络826来进一步发送或接收。
虽然已参照特定的示例性实施方案或方法描述了示例，但显然，可在不偏离所述实施方案的更广泛范围的情况下对这些实施方案进行各种修改及改变。因此，说明书和附图被视为说明性的而非限制性的。构成本文中的一部分的附图以说明(而非限制)的方式显示特定实施方案，可在这些特定实施方案中实践主题。所示实施方案以足够细节进行描述，以使本领域技术人员能够实行本文所公开的教导。可使用其他实施方案及从中产生其他实施方案，使得可在不偏离本公开内容的范围的情况下进行结构与逻辑的替换及变化。因此该具体实施方式不被视为限制性的，且各种实施方案的范围仅由所附的权利要求、连同这些权利要求所赋予的等效方案的全部范围所限定。
本发明主题的这些实施方案在此可单个地和/或共同地由术语“发明”所提及，其仅是为了方便，而不旨在将本申请的范围自愿性地限制于任何单一的发明或发明构思(如果事实上公开多于一个的发明或发明构思的话)。因此，虽然本文显示并描述了特定实施方案，但应理解，为实现相同目的而计算的任何配置可替代所示的特定实施方案。本公开内容旨在涵盖各种实施方案的任何和所有的调整或变化。在阅读以上说明后，上述实施方案的组合以及本文未具体描述的其他实施方案对于本领域技术人员而言是显而易见的。

Claims (16)

1.一种双向转位头，其包括：
基部；
能相对于所述基部旋转的可旋转板，所述可旋转板包括多个异形凹部，每个异形凹部限定在其中的凸轮表面；和
多个凸轮销，每个凸轮销被设置成在被致动时作用在相应的异形凹部的所述凸轮表面上，以沿第一或第二可旋转方向移动所述可旋转板。
2.根据权利要求1所述的双向转位头，其中所述多个异形凹部和凸轮销的各自位置是相关的以使得能连续增加转位。
3.根据权利要求2所述的双向转位头，其中每个异形凹部限定具有对称平面的凸轮表面。
4.根据权利要求2所述的双向转位头，其中所述多个凸轮销中的每一个被布置成以顺序方式作用在异形凹部的相应凸轮表面上。
5.根据权利要求4所述的双向转位头，其中每个异形凹部的对称平面被配置为当相应的凸轮销作用于相应的凸轮表面上时赋予所述可旋转板双向旋转运动。
6.根据权利要求1所述的双向转位头，其还包括连接到所述可旋转板的螺纹轴。
7.根据权利要求1所述的双向转位头，其中所述异形凹部的凸轮表面的一部分在轮廓上是线性的。
8.根据权利要求1所述的双向转位头，其中凸轮销的凸轮表面的一部分在轮廓上是弓形的。
9.一种双向转位装置，其包括至少一个转位头，所述转位头包括：
基部；
能相对于所述基部旋转的可旋转板，所述可旋转板包括多个异形凹部，每个异形凹部限定在其中的凸轮表面；和
多个凸轮销，每个凸轮销被设置成在被致动时作用在相应的异形凹部的所述凸轮表面上，以沿第一或第二可旋转方向移动所述可旋转板。
10.根据权利要求9所述的双向转位装置，其中所述多个异形凹部和凸轮销的各自位置是相关的以使得能连续增加转位。
11.根据权利要求10所述的双向转位装置，其中每个异形凹部限定具有对称平面的凸轮表面。
12.根据权利要求10所述的双向转位装置，其中所述多个凸轮销中的每一个被布置成以顺序方式作用在异形凹部的相应凸轮表面上。
13.根据权利要求12所述的双向转位装置，其中每个异形凹部的对称平面被配置为当相应的凸轮销作用于相应的凸轮表面上时赋予所述可旋转板双向旋转运动。
14.根据权利要求9所述的双向转位装置，其中所述双向转位头还包括连接到所述可旋转板的螺纹轴。
15.根据权利要求9所述的双向转位装置，其中所述异形凹部的凸轮表面的一部分在轮廓上是线性的。
16.根据权利要求9所述的双向转位装置，其中凸轮销的凸轮表面的一部分在轮廓上是弓形的。
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