TWI427441B - 曝光裝置及基板之矯正裝置 - Google Patents

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Description

曝光裝置及基板之矯正裝置
本發明係有關曝光裝置及基板之矯正裝置。
在製造印刷基板的曝光裝置中，一般所採用的構成係將從基板搬送裝置搬送的基板載置至定位用的曝光台，進行吸引固定再進行曝光。
專利文獻1：日本特開2005-370037號公報
然而，印刷配線用的基板相較於半導體晶圓等，較容易產生翹曲與形變等基板變形且變形量不小，在與曝光台之間會產生間隙，結果即產生吸引洩露而有吸著不完全或吸著變得困難之問題。
本發明的目的乃解決上述習知技術的問題。
為了達成前述目的，本發明的曝光裝置係具備：曝光台，用以載置印刷配線用的基板；搬送裝置，用以搬送基板至該曝光台；可升降的盤(plate)，係設置於該搬送裝置，將前述基板推壓於前述曝光台而矯正變形基板；密封裝置，係將前述台與盤之間加以密閉而形成密閉空間；以及吸引裝置，係對藉由前述密閉裝置而形成的密閉空間進行吸引使之變為負壓；其中，前述盤係由於前述密閉空間的負壓而下降而將前述基板推壓於前述曝光台而矯正基板。
此外，本發明的基板之矯正裝置係具備：台，用以載置基板；搬送裝置，用以搬送基板至該台；可升降的盤，係設置於該搬送裝置，將前述基板推壓於前述台而矯正變形基板；密封裝置，用以將前述台與盤之間加以密閉而形成密閉空間；以及吸引裝置，係對藉由前述密閉裝置而形成的密閉空間進行吸引使之變為負壓；其中，前述盤係由於前述密閉空間的負壓而下降而將前述基板推壓於前述曝光台而矯正基板。
依據本發明的曝光裝置及矯正裝置，製造密閉空間而藉由真空密著而隔介盤將基板推壓於台，因此能夠施加強力的負載，連基板為厚板而具有強力的反作用力之變形也能矯正。因此，曝光裝置係防止基板吸著時的洩漏而能夠進行有效率的曝光。
而且無須為了施加強大的負載而採用大型的裝置，能夠實現裝置的小型化。
此外，只要使盤的大小配合所適用之最大的基板尺寸，則有能夠與基板尺寸無關地確實地將基板夾入至邊緣部，而對整面基板施加均等的負載等之效果。
以下，根據圖式說明本發明的印刷配線基板用的曝光裝置的實施形態。
在第1圖中，曝光台1係載置要進行曝光的被曝光對象之印刷配線用的基板99，藉由光源50、遮罩(mask)51、投影透鏡52來對該基板99進行曝光。曝光台1係藉由驅動裝置(未圖示)而能夠朝XYZ方向移動，且能夠朝θ方向旋轉。
於曝光台1係設有吸引孔10，且構成為藉由吸引泵11吸引基板99並予以固定。於吸引泵11係設有壓力感測器12，以檢測吸引壓力，而能夠檢測是否有正常地進行吸引。
於曝光台1的搬入側係設有搬送裝置2，且構成為將藉由搬入輸送機(conveyer)53而從前段製程搬送而來的基板99載置至曝光台1上。
搬送裝置2係具有盤(plate)20，該盤20係以藉由升降導引部25而在上下方向自由升降之方式被保持。於盤20係設有保持吸引孔21，且構成為藉由保持吸引泵22吸引基板99而將基板99吊起並予以保持。
於盤20周圍係設有墊(packing)3，當接觸於曝光台1時能夠在曝光台1與吸引孔10之間形成密閉空間90。
墊3係藉由墊泵31而能夠伸縮，且在將空氣填充至墊3時膨脹而發揮作為墊的功能。
於搬送裝置2的盤20，復於墊3之內側設有真空吸引孔40，且連通至真空泵4。且構成為能夠藉由該真空泵4的吸引來吸引前述的密閉空間90以使密閉空間90的內壓降低至接近大致真空之狀態。
另外，2’為搬出用的搬送裝置。54為搬出輸送機。
控制裝置5係進行曝光裝置整體的控制，前述曝光台1、保持吸引泵22、墊泵31、真空泵4、吸引泵11皆受控制裝置5控制。
以第2圖說明動作。
搬送裝置2係從搬入輸出機53接收基板99，藉由保持吸引孔21與保持吸引泵22對基板99進行吸引保持，並將該基板搬送至曝光台1(第2圖(a))。
接著，曝光台1係上升以接收基板99，一旦上升至推頂盤20之位置，便藉由吸引孔10與吸引泵11來吸引基板99而進行基板吸著。同時，從保持吸引泵22送氣以解除搬送裝置2所做之保持(第2圖(b))。
當基板99有變形時，基板99與曝光台1之間會產生間隙，造成吸引泵11所做之吸引的基板吸著力提升不起來。控制裝置5係藉由來自壓力感測器12的檢測信號而檢測出該情形，對墊3施加正壓使之膨脹，而與曝光台1接觸而產生密閉空間90(第2圖(c))。
接著，停止保持吸引泵22的送氣，藉由真空吸引孔40與真空泵4對密閉空間90進行吸引，使密閉空間90內成為接近真空之狀態。由於盤20係藉由升降導引部25而在上下方向自由升降，因而藉由大氣壓來推壓盤20，並藉由盤20與曝光台1施加負載於基板99，以矯正基板99(第2圖(d))。
基板99由於真空壓力而被施加強大的負載，因此其變形被有效地矯正。
當基板99的變形被矯正而解決洩露的問題時，吸引泵11所做之基板吸著便正常進行。一旦來自壓力感測器12的吸著壓力達到預定的設定值，即停止真空泵4，使墊3收縮而將密閉空間90開放，且使曝光台1下降。接著，使搬送裝置2退避至搬入輸送機53上。之後，進行對位等而執行曝光(第2圖(e))。
接著，以第3圖說明控制裝置5的動作。
在搬送裝置2將基板99搬送至曝光台1並予以載置(步驟S1)時，使吸引泵11運轉而吸引基板99以進行基板吸著(步驟S2)。檢查來自壓力感測器12的檢測壓力，若為預定值以上則判斷為吸著係正常進行，並跳至步驟S7進行曝光動作(步驟S3)。當檢測壓力未達到預定值則判斷為吸著未正常進行，使墊泵31運轉對墊3施加正壓使之膨脹，而使密閉空間90產生(步驟S4)。藉由盤20施加負載於基板99而矯正基板99(步驟S5)。基板99被矯正而進行正常的吸著，而一旦來自壓力感測器12的檢測壓力達到預定的設定值(步驟S6)，便停止真空泵4，使搬送裝置2退避，執行曝光處理(步驟S7)。
另外，雖然在上述中係針對將本發明提供予曝光裝置的情形進行說明，但亦能夠作為對基板99矯正變形的矯正裝置而實現。
1．．．曝光台
2、2’．．．搬送裝置
3．．．墊
4．．．真空泵
5．．．控制裝置
10．．．吸引孔
11．．．吸引泵
12．．．壓力感測器
20．．．盤
21．．．保持吸引孔
22．．．保持吸引泵
25．．．升降導引部
30．．．真空泵
31．．．墊泵
40．．．真空吸引孔
50．．．光源
51．．．遮罩
52．．．投影透鏡
53．．．搬入輸送機
54．．．搬出輸送機
90．．．密閉空間
99．．．基板
第1圖係顯示本發明一實施形態之概要圖。
第2圖(a)至(e)係顯示本發明一實施形態的動作之說明圖。
第3圖係顯示本發明一實施形態的動作之流程圖。
1．．．曝光台
2．．．搬送裝置
3．．．墊
4．．．真空泵
10．．．吸引孔
11．．．吸引泵
20．．．盤
21．．．保持吸引孔
22．．．保持吸引泵
25．．．升降導引部
31．．．墊泵
40．．．真空吸引孔
99．．．基板

Claims (3)

  1. 一種曝光裝置，係具備：曝光台，用以載置印刷配線用的基板；搬送裝置，用以搬送基板至該曝光台；可升降的盤，係設置於該搬送裝置，將前述基板推壓於前述曝光台而矯正變形基板；密封裝置，係將前述台與盤之間加以密閉而形成密閉空間；以及吸引裝置，係對藉由前述密封裝置而形成的密閉空間進行吸引使之變為負壓；其中，前述盤係由於前述密閉空間的負壓而下降而將前述基板推壓於前述曝光台而矯正基板。
  2. 如申請專利範圍第1項之曝光裝置，其中，於前述盤設有用以保持基板的吸引裝置；且前述搬送裝置係於該吸引裝置保持基板而進行基板之搬送。
  3. 一種基板之矯正裝置，係具備：台，用以載置基板；搬送裝置，用以搬送基板至該台；可升降的盤，係設置於該搬送裝置，將前述基板推壓於前述台而矯正變形基板；密封裝置，係將前述台與盤之間加以密閉而形成密閉空間；以及吸引裝置，係對藉由前述密封裝置而形成的密閉空 間進行吸引使之變為負壓；其中，前述盤係由於前述密閉空間的負壓而下降而將前述基板推壓於前述台而矯正基板。
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