CN114265287A - 一种单面数字光刻系统 - Google Patents

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陈志特
王�华
甘泉
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Abstract

本发明提供一种单面数字光刻系统,包括第一平台、第二平台、位于所述第一平台及所述第二平台之间的光刻主体、设置于所述光刻主体两侧的靶点相机及承载所述第一平台及所述第二平台的传动组件;所述第一平台及所述第二平台均用于承载待光刻线路板,所述待光刻线路板包括一待光刻表面,所述传动组件用于带动所述第一平台或所述第二平台向靠近所述光刻主体的方向移动,所述靶点相机用于获取所述待光刻线路板的待光刻表面的图像信息,以实现所述光刻主体根据所述图像信息对所述第一平台及所述第二平台上的待光刻线路板的待光刻表面交替进行数字光刻处理。本发明提供的单面数字光刻系统,提高了光刻效率,提高了光刻精度。

Description

一种单面数字光刻系统
【技术领域】
本发明涉及PCB板数字光刻技术领域,尤其涉及一种PCB板的单面数字光刻系统。
【背景技术】
光刻技术是指在光照作用下,借助光致抗蚀剂(又名光刻胶)将掩膜版上的图形转移到基片上的技术。其主要过程通常为:首先紫外光通过掩膜版照射到附有一层光刻胶薄膜的基片表面,引起曝光区域的光刻胶发生化学反应,再通过显影技术溶解去除曝光区域或未曝光区域的光刻胶(前者称正性光刻胶,后者称负性光刻胶),使掩膜版上的图形被复制到光刻胶薄膜上,最后利用刻蚀技术将图形转移到基片上。集成电路制造中,会使用光刻技术将电路图形传递到单晶表面或介质层上,以形成有效图形窗口或功能图形的线路板。
光刻装置在对线路板进行光刻时,通常在光刻装置的一侧进行上料,前一块线路板光刻完成后,需要等待下一块线路板上料,以实现下一块线路板进行光刻。现有的光刻装置的结构单一,进行线路板上料、光刻及线路板下料的时间不能重叠利用,光刻效率低下。
鉴于此,实有必要提供一种新型的PCB板单面数字光刻系统以克服上述缺陷。
【发明内容】
本发明的目的是提供一种单面数字光刻系统,光刻主体能够对两个平台上的待光刻线路板交替进行数字光刻处理,提高了光刻效率,提高了光刻精度。
为了实现上述目的,本发明提供一种单面数字光刻系统,包括第一平台、第二平台、位于所述第一平台及所述第二平台之间的光刻主体、设置于所述光刻主体两侧的靶点相机及承载所述第一平台及所述第二平台的传动组件;所述第一平台及所述第二平台均用于承载待光刻线路板,所述待光刻线路板包括一待光刻表面,所述传动组件用于带动所述第一平台或所述第二平台向靠近所述光刻主体的方向移动,所述靶点相机用于获取所述待光刻线路板的待光刻表面的图像信息,以实现所述光刻主体根据所述图像信息对所述第一平台及所述第二平台上的待光刻线路板的待光刻表面交替进行数字光刻处理。
在一个优选实施方式中,所述靶点相机位于所述第一平台及所述第二平台的上方,所述靶点相机的数量为多个。
在一个优选实施方式中,所述光刻主体的两侧设置有相机平移组件,所述靶点相机固定于所述相机平移组件上,所述相机平移组件用于驱动所述靶点相机进行平移。
在一个优选实施方式中,所述传动组件还用于带动所述第一平台或所述第二平台向远离所述光刻主体的方向移动,以实现进行数字光刻处理后的光刻线路板出料。
在一个优选实施方式中,所述第一平台及所述第二平台的表面设置有吸附件,所述吸附件用于吸附所述待光刻线路板的与待光刻表面的相对的表面。
在一个优选实施方式中,所述第一平台及所述第二平台上设置有压板组件,所述压板组件用于将所述待光刻线路板的边缘压平。
在一个优选实施方式中,所述压板组件包括边缘压板件,所述边缘压板件设置于所述第一平台及所述第二平台的边缘位置。
在一个优选实施方式中,所述压板组件还包括中间压板件,所述中间压板件设置于所述第一平台及所述第二平台的中部位置。
在一个优选实施方式中,所述光刻主体包括曝光镜筒及曝光光源,所述曝光镜筒连接所述曝光光源,所述曝光光源用于为数字光刻处理提供曝光光线;所述曝光光源还连接有液冷管道组件。
在一个优选实施方式中,所述光刻主体还包括曝光头控制单元,所述曝光头控制单元用于控制所述曝光光源进行曝光。
相比于现有技术,本发明提供的单面数字光刻系统,所述第一平台及所述第二平台分别位于光刻主体的两侧,所述第一平台及所述第二平台均用于承载待光刻线路板,所述传动组件能够带动所述第一平台或所述第二平台向靠近所述光刻主体的方向移动,靶点相机设置于所述光刻主体两侧,靶点相机能够获取所述待光刻线路板的待光刻表面的图像信息,以实现所述光刻主体根据图像信息对所述第一平台及所述第二平台上的待光刻线路板的待光刻表面交替进行数字光刻处理,实现了在其中一个平台进行数字光刻处理的期间内,另一个平台同时进行上料,总体上节省了时间,光刻主体对两个平台上的待光刻线路板交替进行数字光刻处理,提高了光刻效率。靶点相机能够在第一平台或第二平台上的待光刻线路板进行数字光刻处理之前,对待光刻线路板进行拍照,以获取待光刻线路板的图像信息,以实现待光刻线路板的靶点定位,提高PCB板光刻的精度。
为使发明的上述目的、特征和优点能更明显易懂,下文特举本发明较佳实施例,并配合所附附图,作详细说明如下。
【附图说明】
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本发明的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
图1为本发明提供的单面数字光刻系统的正视结构图;
图2为本发明提供的单面数字光刻系统的俯视结构图;
图3为本发明提供的单面数字光刻系统的侧视结构图。
【具体实施方式】
下面将结合本发明实施例中附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本发明实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此,以下对在附图中提供的本发明的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本发明的范围,而是仅仅表示本发明的选定实施例。基于本发明的实施例,本领域技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
请一并参阅图1至图3,本发明提供一种单面数字光刻系统100,应用于PCB板的图案光刻;其包括第一平台10、第二平台20、光刻主体30、靶点相机40及传动组件50。
光刻主体30位于所述第一平台10及所述第二平台20之间,所述靶点相机40设置于所述光刻主体30两侧,传动组件50承载所述第一平台10及所述第二平台20。具体的,所述第一平台10及所述第二平台20均用于承载待光刻线路板(图未示),所述待光刻线路板包括一待光刻表面,所述传动组件50用于带动所述第一平台10或所述第二平台20向靠近所述光刻主体30的方向移动,具体使所述待光刻线路板的待光刻表面朝向所述光刻主体30内的曝光镜筒31,所述靶点相机40用于获取所述待光刻线路板的待光刻表面的图像信息,以实现所述光刻主体30对所述第一平台10及所述第二平台20上的待光刻线路板的待光刻表面交替进行数字光刻处理。
可以理解地,所述第一平台10及所述第二平台20分别位于光刻主体30的两侧,且所述第一平台10及所述第二平台20均用于承载待光刻线路板,实际应用时,所述传动组件50能够带动所述第一平台10及其上的待光刻线路板向靠近所述光刻主体30的方向移动,靶点相机40设置于所述光刻主体30两侧,靶点相机40能够获取所述待光刻线路板的待光刻表面的图像信息,以实现所述光刻主体30根据图像信息对所述第一平台10上的待光刻线路板的待光刻表面进行数字光刻处理,而在第一平台10上的待光刻线路板进行数字光刻的过程中,传动组件50能够带动所述第二平台20及其上的待光刻线路板向靠近所述光刻主体30的方向移动,当第一平台10上的待光刻线路板数字光刻完成后,第一平台10上进行数字光刻处理后的光刻线路板出料,而第二平台20及其上的待光刻线路板移动至光刻主体30的下方,以实现所述光刻主体30对所述第二平台20上的待光刻线路板的待光刻表面进行数字光刻处理,如此,实现对所述第一平台10及所述第二平台20上的待光刻线路板的待光刻表面交替进行数字光刻处理,完成两个平台上的待光刻线路板的单面光刻。也即,对第一平台10上的待光刻线路板进行数字光刻处理的同时,第二平台20上的待光刻线路板进行上料,而对第二平台20上的待光刻线路板进行数字光刻处理的同时,第一平台20上的待光刻线路板进行上料,实现了在其中一个平台进行数字光刻处理的期间内,另一个平台同时进行上料,总体上节省了时间,光刻主体30对两个平台上的待光刻线路板交替进行数字光刻处理,提高了光刻效率。并且,靶点相机40能够在第一平台10或第二平台20上的待光刻线路板进行数字光刻处理之前,对待光刻线路板进行拍照,以获取待光刻线路板的图像信息,以实现待光刻线路板的靶点定位,提高光刻的精度。
因此,本发明提供的单面数字光刻系统100,所述第一平台10及所述第二平台20分别位于光刻主体30的两侧,所述第一平台10及所述第二平台20均用于承载待光刻线路板,所述传动组件50能够带动所述第一平台10或所述第二平台20向靠近所述光刻主体30的方向移动,靶点相机40设置于所述光刻主体30两侧,靶点相机40能够获取所述待光刻线路板的待光刻表面的图像信息,以实现所述光刻主体30根据图像信息对所述第一平台10及所述第二平台20上的待光刻线路板的待光刻表面交替进行数字光刻处理,实现了在其中一个平台进行数字光刻处理的期间内,另一个平台同时进行上料,总体上节省了时间,光刻主体30对两个平台上的待光刻线路板交替进行数字光刻处理,提高了光刻效率。靶点相机40能够在第一平台10或第二平台20上的待光刻线路板进行数字光刻处理之前,对待光刻线路板进行拍照,以获取待光刻线路板的图像信息,以实现待光刻线路板的靶点定位,提高光刻的精度。
进一步地,所述靶点相机40位于所述第一平台10及所述第二平台20的上方,所述靶点相机40的数量为多个。本实施方式中,所述光刻主体30的两侧设置有相机平移组件41,所述靶点相机40固定于所述相机平移组件41上,所述相机平移组件41用于驱动所述靶点相机40进行平移,以获取待光刻线路板的不同位置的图像信息。通过设置靶点相机40及相机平移组件41,能够在待光刻线路板进行数字光刻处理之前,对待光刻线路板的不同位置进行拍照,以获取待光刻线路板的图像信息,以实现待光刻线路板的靶点定位,进而提高光刻的精度。
进一步地,所述传动组件50还用于带动所述第一平台10或所述第二平台20向远离所述光刻主体30的方向移动,以实现进行数字光刻处理后的光刻线路板出料。具体的,传动组件50例如可以为传送带,能够带动第一平台10及第二平台20运动。可以理解地,光刻主体30对所述第一平台10或所述第二平台20上的待光刻线路板进行数字光刻处理后,传动组件50带动所述第一平台10或所述第二平台20向远离所述光刻主体30的方向移动,以实现进行数字光刻处理后的光刻线路板的出料,例如,所述第一平台10上的进行数字光刻处理后的光刻线路板移动至第一汇流台上,所述第二平台10上的进行数字光刻处理后的光刻线路板移动至第二汇流台上,第一汇流台及第二汇流台上的光刻线路板可以通过输送件进行输送出料。
本实施方式中,所述第一平台10及所述第二平台20的表面设置有吸附件120,所述吸附件120用于吸附所述待光刻线路板的与待光刻表面的相对的表面。可以理解地,待光刻线路板传送至第一平台10或第二平台20上时,待光刻线路板的与待光刻表面的相对的表面(即此次不进行光刻的表面)通过吸附件120固定于第一平台10或第二平台20上,吸附件120能够将待光刻线路板稳定地固定于第一平台10或第二平台20上,防止待光刻线路板在第一平台10或第二平台20上的位置发生偏移,避免影响光刻的精度。
进一步地,所述第一平台10及所述第二平台20上设置有压板组件60,所述压板组件60用于将所述待光刻线路板的边缘压平,压板组件60能够防止所述待光刻线路板的边缘翘起,提高待光刻线路板的位置精度,进而能够提高光刻精度。
本实施方式中,所述第一平台10及所述第二平台20均能够同时承载两块线路板,则对应的,所述压板组件60包括边缘压板件61及中间压板件62,所述边缘压板件61设置于所述第一平台10及所述第二平台20的边缘位置,边缘压板件61能够将两个线路板的与平台边缘相对的位置压平,所述中间压板件62设置于所述第一平台10及所述第二平台20的中部位置,中间压板件62能够将两个线路板拼接处的与平台中部相对的位置压平。
光刻主体30包括曝光镜筒31,所述曝光镜筒31连接有曝光光源32,所述曝光光源32用于为数字光刻处理提供曝光光线。可以理解地,曝光光源32的光线经过曝光镜筒31后,能够实现对待光刻线路板的曝光处理。具体的,所述光刻主体30还包括曝光头控制单元33,所述曝光头控制单元33用于控制所述曝光光源32进行曝光,曝光光源32具体可以为LED光源或激光光源。
进一步地,所述曝光光源32连接有液冷管道组件34,液冷管道组件可以包括多个并排分布的液冷管,液冷管内填充有冷却液,冷却液在液冷管内流动,能够带走所述曝光光源32、所述曝光头控制单元33工作产生的热量,防止温度过高。
本发明提供的单面数字光刻系统100还包括支撑台70,所述支撑台70用于承载所述第一平台10、第二平台20、光刻主体30及传动组件50。支撑台70可以为大理石平台,以保证装置的结构稳定性。
综上,本发明提供的单面数字光刻系统100,所述第一平台10及所述第二平台20分别位于光刻主体30的两侧,所述第一平台10及所述第二平台20均用于承载待光刻线路板,所述传动组件50能够带动所述第一平台10或所述第二平台20向靠近所述光刻主体30的方向移动,靶点相机40设置于所述光刻主体30两侧,靶点相机40能够获取所述待光刻线路板的待光刻表面的图像信息,以实现所述光刻主体30根据图像信息对所述第一平台10及所述第二平台20上的待光刻线路板的待光刻表面交替进行数字光刻处理,实现了在其中一个平台进行数字光刻处理的期间内,另一个平台同时进行上料,总体上节省了时间,光刻主体30对两个平台上的待光刻线路板交替进行数字光刻处理,提高了光刻效率。靶点相机40能够在第一平台10或第二平台20上的待光刻线路板进行数字光刻处理之前,对待光刻线路板进行拍照,以获取待光刻线路板的图像信息,以实现待光刻线路板的靶点定位,提高PCB板的光刻的精度。
以上所述仅为本发明的实施方式,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种单面数字光刻系统,其特征在于,包括第一平台、第二平台、位于所述第一平台及所述第二平台之间的光刻主体、设置于所述光刻主体两侧的靶点相机及承载所述第一平台及所述第二平台的传动组件;所述第一平台及所述第二平台均用于承载待光刻线路板,所述待光刻线路板包括一待光刻表面,所述传动组件用于带动所述第一平台或所述第二平台向靠近所述光刻主体的方向移动,所述靶点相机用于获取所述待光刻线路板的待光刻表面的图像信息,以实现所述光刻主体根据所述图像信息对所述第一平台及所述第二平台上的待光刻线路板的待光刻表面交替进行数字光刻处理。
2.如权利要求1所述的单面数字光刻机,其特征在于,所述靶点相机位于所述第一平台及所述第二平台的上方,所述靶点相机的数量为多个。
3.如权利要求2所述的单面数字光刻机,其特征在于,所述光刻主体的两侧设置有相机平移组件,所述靶点相机固定于所述相机平移组件上,所述相机平移组件用于驱动所述靶点相机进行平移。
4.如权利要求1所述的单面数字光刻系统,其特征在于,所述传动组件还用于带动所述第一平台或所述第二平台向远离所述光刻主体的方向移动,以实现进行数字光刻处理后的光刻线路板出料。
5.如权利要求1所述的单面数字光刻系统,其特征在于,所述第一平台及所述第二平台的表面设置有吸附件,所述吸附件用于吸附所述待光刻线路板的与待光刻表面的相对的表面。
6.如权利要求1所述的单面数字光刻系统,其特征在于,所述第一平台及所述第二平台上设置有压板组件,所述压板组件用于将所述待光刻线路板的边缘压平。
7.如权利要求6所述的单面数字光刻系统,其特征在于,所述压板组件包括边缘压板件,所述边缘压板件设置于所述第一平台及所述第二平台的边缘位置。
8.如权利要求7所述的单面数字光刻系统,其特征在于,所述压板组件还包括中间压板件,所述中间压板件设置于所述第一平台及所述第二平台的中部位置。
9.如权利要求1所述的单面数字光刻系统,其特征在于,所述光刻主体包括曝光镜筒及曝光光源,所述曝光镜筒连接所述曝光光源,所述曝光光源用于为数字光刻处理提供曝光光线;所述曝光光源还连接有液冷管道组件。
10.如权利要求9所述的单面数字光刻系统,其特征在于,所述光刻主体还包括曝光头控制单元,所述曝光头控制单元用于控制所述曝光光源进行曝光。
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101025575A (zh) * 2006-02-21 2007-08-29 株式会社Orc制作所 基板曝光装置及基板曝光方法
CN101419409A (zh) * 2007-10-26 2009-04-29 株式会社阿迪泰克工程 曝光装置和基板的矫正装置
CN105093844A (zh) * 2014-05-08 2015-11-25 恩斯克科技有限公司 曝光方法和曝光装置
CN212433581U (zh) * 2020-08-12 2021-01-29 苏州源卓光电科技有限公司 一种光刻系统及其基片交接系统
CN112368646A (zh) * 2018-07-10 2021-02-12 应用材料公司 动态成像系统

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN205809535U (zh) * 2016-05-31 2016-12-14 东莞市威力固电路板设备有限公司 双工位曝光装置
CN108762009A (zh) * 2018-07-18 2018-11-06 苏州源卓光电科技有限公司 一种双工位直投式光刻机及其曝光方法
CN112612179A (zh) * 2019-10-04 2021-04-06 苏州源卓光电科技有限公司 一种双工位的曝光机以及工作方法
CN113848683A (zh) * 2021-09-18 2021-12-28 江苏影速集成电路装备股份有限公司 一种基于垂直双台面结构的多工位数字光刻装置和方法
CN115373231B (zh) * 2022-09-30 2023-03-14 广东科视光学技术股份有限公司 一种龙门双面光刻系统

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101025575A (zh) * 2006-02-21 2007-08-29 株式会社Orc制作所 基板曝光装置及基板曝光方法
CN101419409A (zh) * 2007-10-26 2009-04-29 株式会社阿迪泰克工程 曝光装置和基板的矫正装置
CN105093844A (zh) * 2014-05-08 2015-11-25 恩斯克科技有限公司 曝光方法和曝光装置
CN112368646A (zh) * 2018-07-10 2021-02-12 应用材料公司 动态成像系统
CN212433581U (zh) * 2020-08-12 2021-01-29 苏州源卓光电科技有限公司 一种光刻系统及其基片交接系统

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