TWI415805B - Manufacture of glass sheet - Google Patents

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TWI415805B
TWI415805B TW096144767A TW96144767A TWI415805B TW I415805 B TWI415805 B TW I415805B TW 096144767 A TW096144767 A TW 096144767A TW 96144767 A TW96144767 A TW 96144767A TW I415805 B TWI415805 B TW I415805B
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Masanori Nakano
Toru Kamihori
Nobuyuki Ban
Eiji Ichikura
Shirou Tanii
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Asahi Glass Co Ltd
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B18/00Shaping glass in contact with the surface of a liquid
    • C03B18/02Forming sheets
    • C03B18/14Changing the surface of the glass ribbon, e.g. roughening
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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Description

玻璃薄板之製造方法
本發明,是關於利用浮式法之玻璃薄板之製造方法,更詳細而言,是將附著於玻璃帶之熔融錫等之異物予以去除之製造玻璃薄板的方法、去除該熔融錫等之異物的方法、以用以去除該熔融錫等之異物的裝置。
對於建築用板玻璃、車用板玻璃、以及顯示器用板玻璃等之玻璃薄板,正追求有更高品質化及低成本化。阻礙高品質化與低成本化的成因有許多,其中有不少是因為熔融錫浴(浮式浴)之熔融錫附著於玻璃薄板產生錫或錫氧化物等而造成問題。
利用浮式法之玻璃薄板在製造上,是使熔融玻璃在熔融錫浴的熔融錫表面上成形為連續的薄板狀,成為預定寬幅之呈連續的玻璃薄板(以下,稱之為玻璃帶)而從熔融錫表面拉出,然後再切斷成預定的大小而成為玻璃薄板。此時,玻璃帶之拉出,一般是藉由被稱為提升輥(lift out roller)的輥子將玻璃帶上提來進行。以下將存在有該提升輥的區域稱之為提升區域。所拉出的玻璃帶其次在被稱之為徐冷窯(lehr)的徐冷製程下進行徐冷。以下將該徐冷區域稱之為窯區域;將在該窯區域用以支撐搬運玻璃帶的輥子稱之為窯輥子。浮式浴中的熔融錫,由於易於氧化,故浮式浴中的環境氣體被保持在還元性環境氣體中。提升區域一般亦被保持在還元性環境氣體中。
於上述玻璃薄板之製造過程中,熔融錫容易附著於從熔融錫表面所拉出的玻璃帶的下表面。提升輥,雖然並不是用來去除附著在玻璃帶下表面的熔融錫等為其目的,但藉由輥子表面接觸於玻璃帶下表面,使得附著在玻璃帶下表面的熔融錫朝輥子表面移動,因此具有去除附著在玻璃帶下表面的熔融錫之作用(請參照專利文獻1)。但是,由提升輥進行熔融錫之去除並不充分,玻璃帶下表面仍易於殘留熔融錫。又,提升輥,其材料為鐵或陶瓷所成,未必會接觸到玻璃帶之全面。再者,附著於提升輥之熔融錫雖從輥子表面被去除,但仍殘留在輥子表面亦不少,殘留的熔融錫亦有造成再附著於玻璃帶下表面之情形。亦會有殘留在玻璃帶之熔融錫更進一步污染窯輥子之情形。
殘留在玻璃帶表面的熔融錫易於氧化,由於產生的氧化錫的融點極高,故一旦凝固接著於玻璃帶表面時就難以將之去除。此外,除了氧化錫以外,起因於浮式浴內之環境氣體中的不純物、熔融錫、或是玻璃中的不純物等也會產生硫化物等的錫化合物。在提升區域所去除的熔融錫或是錫化合物的混合物被稱之為浮渣(dross)。當此類異物一直附著於玻璃帶而被冷卻時,要將此異物從玻璃薄板去除就會變得十分困難。
如此地附著於玻璃帶下表面的錫或是氧化錫等之異物,會成為缺點而成為玻璃薄板之品質降低及生產成品率降低之原因。依情形而定,由於有時候對於徐冷後的玻璃帶或是玻璃薄板必須加以去除該異物,因此亦有另新增設置去除該異物之製程,而造成更進一步的成本增加。又,殘留在玻璃帶表面或是輥子表面的錫或是氧化錫,亦會傷及玻璃帶表面,再者起因於該損傷而在徐冷以及之後的製程中破裂,亦會造成更進一步生產的成品率降低之原因。
專利文獻1:日本特開平11-335127號公報。
本發明,為有鑑於上述而發明,其目的在於:在玻璃帶處於高溫狀態之階段(亦即,為主要異物之錫,處於熔融狀態下之階段),將附著於玻璃帶表面之異物直接從該表面去除。又,在此階段,由於玻璃帶表面比較軟,擦取接觸於玻璃帶表面之異物的擦取(去除)構件,必須是具有耐熱性,並且是與玻璃帶表面沒有縫隙地能夠柔軟接觸者。
本發明,是藉由抵接於玻璃帶表面的去除構件,從玻璃帶表面直接將附著於玻璃帶表面之熔融錫等異物予以去除,來作為其特徵,而且是關於利用浮式法之玻璃薄板之製造方法、從玻璃帶表面將上述異物去除之方法、以及適於此等方法之上述異物的去除裝置之如下的發明。
(1)針對於藉由浮式法製造玻璃薄板的方法,將由耐熱纖維薄板所形成的去除構件抵接於由熔融錫浴所拉出且處於該錫的熔融溫度範圍之玻璃帶的表面,將附著在玻璃帶表面的熔融錫等之異物擦掃並去除,作為其特徵之玻璃薄板之製造方法。
(2)如上述(1)之製造方法,其中上述去除構件是處於非氧化性環境氣體中。
(3)如上述(1)或是(2)之製造方法,其中上述耐熱纖維薄板,是選自於碳纖維與氧化矽纖維之至少一種所形成的毛氈狀的薄板、或是織布乃至不織布狀的薄板。
(4)如上述(1)、(2)或(3)之製造方法,其中,以彈性力或氣體壓力將上述去除構件推壓於玻璃帶的表面。
(5)如上述(1)、(2)、(3)或(4)所記載之玻璃薄板之製造方法,其中,使上述去除構件抵接於玻璃帶的下表面。
(6)針對於藉由浮式法製造玻璃薄板的過程中,從由熔融錫浴所拉出且處於該錫的熔融溫度範圍之玻璃帶的表面,將附著在該表面的熔融錫等之異物去除的方法,將由耐熱纖維薄板所形成的去除構件抵接於上述玻璃帶的表面來將上述熔融錫等之異物從玻璃帶的表面擦掃並去除,作為其特徵之熔融錫等之異物的去除方法。
(7)如上述(6)之去除方法,其中上述去除構件是處於非氧化性環境氣體中。
(8)針對於藉由浮式法製造玻璃薄板的過程中,從由熔融錫浴所拉出且處於該錫的熔融溫度範圍之玻璃帶的表面,將附著在該表面的熔融錫等之異物去除的去除裝置,
上述去除裝置,係具備有:抵接於玻璃帶的表面將上述熔融錫等之異物從玻璃帶表面擦掃並去除的去除構件;以及支撐該去除構件的固定構件,並成為朝向玻璃帶的寬度方向延伸的長條體,且該去除構件是由耐熱纖維薄板所形成,作為其特徵之熔融錫等之異物去除的去除裝置。
(9)如上述(8)之去除裝置,其中上述固定構件,具有將上述去除構件推壓於玻璃帶的表面的彈性體。
(10)如上述(8)之去除裝置,其中上述固定構件,具有氣體通路,其用於以氣體壓力將上述去除構件推壓到玻璃帶的表面。
(11)如上述(8)、(9)或(10)所記載之去除裝置,其中上述去除構件,在被固定構件所支撐的狀態下成為山型,且山型的頂部抵接於玻璃帶的表面。
(12)如上述(8)、(9)、(10)或(11)所記載之去除裝置,其中耐熱纖維薄板,是選自於碳纖維與氧化矽纖維之至少一種所形成的毛氈狀的薄板、或是織布乃至不織布狀的薄板。
依據本發明之玻璃薄板之製造方法,藉由去除構件可以將附著於玻璃帶表面之熔融錫等之異物直接從玻璃帶表面去除。其結果,由去除構件至下游,由於也能夠減少附著於接觸玻璃帶之輥子上的異物,所以可以防止異物從該等輥子再次附著於玻璃帶表面。又,不僅可以去除附著在玻璃帶之下表面的異物,藉由將去除構件設置於玻璃帶上表面,也可以去除掉附著在玻璃帶上表面之異物(從浮式浴的上部掉落下的磚屑或其他之異物)。
藉由以上的效果,可以減少由附著於玻璃帶表面之錫或氧化錫等之異物所起因之玻璃薄板的缺點,且由附著於輥子之異物所起因之玻璃帶表面的損傷亦變少,故能夠使玻璃薄板高品質化並降低製造經費。
以下,依圖面(第1~6圖),說明本發明之實施形態。第1圖,是顯示於本發明之實施形態下之去除裝置的斷面圖;第2圖,是顯示包含本發明之實施形態下之去除裝置之玻璃薄板製造設備的斷面圖;第3~5圖,是分別顯示於另一實施形態下之去除裝置的斷面圖;第6圖,是顯示讓去除裝置進行水平移動時之一例。又,於以下之說明,所謂下游,是以玻璃帶的移動方向為基準,相反於熔融錫浴之方向側(在第1圖中以C所示之箭頭的方向側),並將其相反方向側稱為上游。
於第1圖顯示其斷面之去除裝置7,為用來去除附著於玻璃帶3下表面之異物的裝置。在熔融錫浴上所成形的玻璃帶3,是從熔融錫浴被拉出,往以C所示之方向移動。去除裝置7,是由抵接於玻璃帶3下表面的去除構件4以及支撐該去除構件的固定構件5所構成,去除構件4、固定構件5皆為朝向玻璃帶3的寬度方向(與紙面垂直之方向)延伸的長條體。去除構件4是由耐熱纖維薄板所形成,去除構件4之寬度方向(與長條體的長邊方向垂直正交的方向)兩端部是被安裝於固定構件5,兩端部間呈山型(凸狀)隆起,其頂部抵接於玻璃帶3的下表面。固定構件5是方管狀的長條體,其中空部D與去除構件4之呈山型隆起部分的內部空間A是由貫通孔(或是切縫)B所連通。藉由將加壓氣體導入於固定構件5的中空部D使去除構件4呈山型隆起,利用該膨脹壓可以調整對去除構件4之玻璃帶3的接觸壓或是接觸面積。因此,去除構件4及固定構件5的端部以閉塞著為佳。去除構件4對固定構件5之固定,可以以螺絲鎖固、黏貼、以擋板夾入等方式實施。附著於玻璃帶3下表面之熔融錫等之異物,藉由去除構件4從玻璃帶3下表面去除,被去除的異物,通常,掉落到去除構件4的上游側(玻璃帶之進行方向C的相反側)。
第2圖,是顯示將上述般之去除裝置7設置於提升區域之玻璃薄板製造設備的斷面圖。在利用浮式法之玻璃薄板之製造方法中,主要由以下製程所構成:在沒有圖示出的熔解窯中熔解原料製成熔融玻璃之製程、在熔融錫浴1之熔融錫2上將熔融玻璃成形為平板之製程、藉由提升輥8、9、10從熔融錫浴1拉出玻璃帶3之製程、利用窯區域12內之窯輥子11一面移動玻璃帶一面使玻璃帶3不會造成殘留應變地進行徐冷之製程。此等之製程,以通常之設備即可進行操作作業,並不會因去除裝置7之設置而有所影響。於第2圖中,是將去除裝置7設置在提升區域最下游之提升輥10的下游側。
去除裝置7,是可以設置在上述製程之提升區域的任意位置或是窯區域12內的上游部。在此,所謂窯區域12內的上游部,是指在窯區域12內具有錫之融點以上之溫度的區域(錫的熔融溫度區域)。提升區域通常是處於錫的熔融溫度區域。因此,只要處於此溫度區域,去除裝置7,也可以設置在:例如,提升輥8的上游側、提升輥8與9之間、提升輥9與10之間、窯區域12內之最上游側之窯輥子11的上游側、該窯輥子11與下一個窯輥子11之間等等。又,去除裝置7也可以設在此等位置中之2處以上。
第3圖是第2圖之去除裝置7的放大斷面圖,除了另具有板狀體6之外,是與第1圖所顯示者具有相同構成的去除裝置。板狀體6,是被安裝在固定構件5上部的上游側,存在於去除構件4之呈山型隆起的內部空間A中,且從內面支撐著去除構件4。板狀體6,係彈性地支撐去除構件4,為能夠調節去除構件4與玻璃帶3下表面在抵接時之壓力者,只要能夠支撐去除構件4,可以設置成連續於玻璃帶之寬度方向的長條者,也可以斷續地設置。藉由改變板狀體6的厚度可以調整抵接壓力。於第3圖之板狀體6,其J字型之具有大致J字型之底邊部之曲率的部分為抵接於去除構件4之山型部的內側。
板狀體6係用以使去除構件4呈山型隆起,並可調整其形狀而可以調整去除構件4對玻璃帶3的接觸面積。又,藉由調整去除構件4之厚度方向的位置,利用去除構件4之厚度方向的彈性可以調整去除構件4對玻璃帶3的接觸壓。又,由彈性體來構成板狀體6,利用板狀體6的彈性也可以調整接觸面積或是接觸壓。第3圖是使用具有彈性之板狀體6的例示。板狀體6也可以為不具備有彈性者。板狀體6的斷面形狀並不限於第3圖的形狀,具有矩形或是其他的形狀亦可。第4圖是使用斷面為大致矩形之板狀體6的例示。又,板狀體6也可以更進一步地安裝在固定構件5上部的下游側,第5圖是在固定構件5上部的上游側以及下游側之兩方安裝板狀體6之例示。在具備有此等板狀體6之去除裝置7,並非必要以氣體壓力將去除構件4隆起成山型。但是,對於具備有此等板狀體6之去除裝置7亦是以氣體壓力將去除構件4隆起成山型為理想。此乃由於藉由氣體壓力可以更易於調整接觸面積或是接觸壓力之故。
去除構件4,由於易於將熔融錫等彈撥開,以及對於玻璃帶表面亦較易於將熔融錫等彈撥開,故藉由具備與玻璃帶之相對速度,來擦掃(拭取)並去除玻璃帶表面的異物。為了有效地去除異物,去除構件與玻璃帶以具有相對速度來抵接為佳。玻璃帶以預定的行進速度(以下以Gv表示)朝向第2圖之以C所示的行進方向移動,藉此,即便去除構件4是被固定著,兩者為具備有相對速度Gv而抵接著。並且可以依所期望來改變該相對速度。要使相對速度慢於Gv時,則讓去除構件4以更慢於Gv的速度朝向與玻璃帶移動方向相同方向移動為佳。要使相對速度快於Gv時,則讓去除構件4朝向與玻璃帶之移動方向為相反方向進行移動為佳。又,也可以讓去除構件4往復移動於玻璃帶之移動方向及相反方向。第6圖是顯示讓去除裝置進行水平移動時之一例示。第6圖之去除裝置7,是被安裝在驅動裝置15的驅動輸送帶13,並藉由固定在地面E上的驅動馬達14,以相異於玻璃帶行進速度的速度,與玻璃帶3之行進方向平行地進行往復者。
於本發明中,去除裝置並非僅限於圖示者。例如,可以使用與提升輥同樣地以與玻璃帶之寬度方向平行的軸進行旋轉的輥子狀的去除裝置,或是連續輸送帶狀的去除裝置。作為輥子狀的去除裝置,例如,可以使用具有:圓管狀的固定構件以及設於該表面的耐熱纖維薄板的薄板層(去除構件)之輥子狀去除裝置。也可以於圓管狀的固定構件設置貫通孔或是切縫,從固定構件供給氣體並對耐熱纖維薄板之層施加氣體壓力。作為連續輸送帶狀的去除裝置者,例如,可以使用:以耐熱纖維薄板來構成由第6圖所示之驅動裝置15所驅動的輸送帶13的表面,以此輸送帶作為去除構件,使之以抵接於玻璃帶表面之方式之去除裝置。使此等去除裝置之輥子或是輸送帶以與玻璃帶具有相對速度之方式進行驅動,來去除玻璃帶表面的異物為理想。
去除構件,係以:及於玻璃帶寬度方向之大致全長,連續地抵接於玻璃帶為佳。不過,並非僅限於此,若於玻璃帶有容易附著異物之處所之情形時,也可以僅使之抵接於該部分來使用。例如,在玻璃帶之寬度方向兩端部容易附著異物之情形時,可使用僅抵接於該部分之去除構件。又,去除構件係以抵接於玻璃帶之及於寬度方向之大致全長且與玻璃帶行進方向垂直相交之方向為理想。但是,並不限於此,亦可相對於玻璃帶的行進方向,以呈直角以外的角度使之抵接。
也可以將去除構件抵接於玻璃帶的上表面,來去除附著於玻璃帶上表面的異物。例如,將去除構件朝向玻璃帶的寬度方向進行驅動,可以使異物朝向玻璃帶之寬度方向端部移動,並從玻璃帶上予以去除。又,異物附著於去除構件之情形時,可以藉由以適當的間隔更換去除構件來去除玻璃帶上表面的異物。
於本發明,去除構件是由耐熱纖維薄板所構成。作為耐熱纖維者,以可以耐750℃的溫度(熔融玻璃之溫度),特別是可以耐約1000℃之溫度之材料的纖維為理想。具體上,例如碳纖維、氧化矽纖維、氧化鋁纖維、碳化素纖維、金屬纖維等之無機纖維,其中以碳纖維、氧化矽纖維為理想,特別是其硬度較低不易損傷玻璃帶,又可將熔融錫彈除開的碳纖維為理想。作為纖維薄板者,以毛氈狀之薄片或織布乃至於不織布狀的薄板為理想。具體上,例如可使用碳纖維的毛氈狀薄片(碳毛氈)或是碳纖維的織布(碳布)等。耐熱纖維薄片以由不同材料之2種以上的無機纖維所構成的纖維薄片亦可。又,碳纖維即使殘留在玻璃帶下表面,在比較高溫的氧化環境氣體中,例如藉由在窯區域的後半部等會燃燒殆盡而消失,而不會成為髒污等之缺失,由此點而言亦為理想。
去除構件的厚度並沒有特別限定,為了使之具有柔軟性以在5mm以上為理想。厚度的上限雖無特別限定,但在後述之氣體供給之情形時,從對於氣體之壓力損失的觀點而言以30mm、特別是15mm為理想。針對於去除構件之形成,可以僅以毛氈狀薄板、或是重疊複數的織布或是不織布亦可,再者也可以是毛氈狀薄片或織布或不織布之組合。
去除構件,係抵接於從熔融錫浴拉出後之玻璃帶的表面,且是抵接在位於錫之熔融溫度區域的玻璃帶表面。錫的熔融溫度約為230℃。錫的熔融溫度區域,較典型是在230℃至230+10℃之範圍。因此,去除構件抵接於玻璃帶的位置,為比該錫的融點還高的溫度區域。在該溫度區域主要異物之錫為處於液狀之溫度區域,所以藉由去除構件可以容易地拭取異物。氧化錫等之高融點的異物通常由熔融錫所支撐承載,因此可以容易地和熔融錫一起拭取。即使沒有被熔融錫所支撐承載之高融點的異物,由於玻璃帶的溫度高,所以藉由其不會強固地附著於玻璃帶表面,故同樣地能夠將之拭取。如上述般地,提升區域通常是處於錫之熔融溫度以上的溫度區域,而窯區域之上游區域通常亦是處於錫之熔融溫度以上的溫度區域。因此,去除構件是抵接於位在提升區域、或是窯區域之上游區域的玻璃帶表面,其中特別是以抵接於位在提升區域之玻璃帶表面為理想。
去除構件的抵接位置即使是位於錫之熔融溫度區域,當高融點的異物(特別是氧化錫)較多時,則恐有難以將異物予以拭取除去之虞。由於熔融錫容易被氧化,故在抵接到去除構件之前,若再使異物之熔融錫的氧化持續進行並非理想。因此,存在有玻璃帶的處,至少在去除構件的抵接位置以及其上游的環境氣體,以處於還元性氣體環境或是非活性氣體環境中為理想(以下將此兩種環境氣體皆亦稱之為非氧化性環境氣體)。提升區域通常保持於與浮式浴相同之還元性氣體環境中。又,窯區域上游部之流入提升區域之氣體的部分通常是處於還元性氣體環境或是非活性氣體環境。因此,去除構件的抵接位置只要是位於此等區域,便可以認為熔融錫的氧化是難以進行的。又,特別是在窯區域上游,由於也恐成為暫時性之氧化性環境氣體之虞,因此藉由將還元性氣體對存在有玻璃帶之去除構件的抵接位置以及其上游進行供給等,亦可以使其環境被保持在非氧化性環境氣體中。
另一方面,如圖所示地,作為去除裝置是以氣體壓力使去除構件呈山型隆起之構造的去除裝置為理想。此時,使用從固定構件5導入於去除構件之內側A的加壓氣體。此加壓氣體恐有與異物之熔融錫接觸之虞,因此該加壓氣體是由非氧化性氣體(亦即,還元性氣體或是非活性氣體)所構成為理想。再者,若去除構件是由碳纖維等易於氧化的材料所構成之情形時,該去除構件若處於氧化性環境並不理想。從此觀點而言,亦可見上述加壓氣體要由非氧化性氣體所構成大致是必須的。又,即使去除構件是處於還元性環境氣體中,由於也會有暫時性之氧氣濃度上昇,所以以使用還元性氣體作為加壓氣體來防止去除構件之壽命縮短為理想。此等氣體供給壓力以考慮壓力損失來設定為理想。當氣體壓過低時,去除構件相對於玻璃帶表面之抵接壓力變低,會有降低異物去除效果之虞。相反地,當過高時,則附著於去除構件之異物恐會產生再附著於玻璃帶表面之虞。作為氣體供給量,雖可以依去除裝置之構造等而有所變動,不過通常之情形,以每寬度方向長度1m為10~100公升/分鐘為適當。又,供給該供給量之氣體,亦有冷卻去除構件或固定構件之效果。
非氧化性氣體或是非氧化性環境氣體中之氧氣濃度為1%以下,特別是1000ppm以下為理想。作為還元性氣體者,以氫、乙炔、或是具有此等之非活性氣體為理想。作為非活性氣體者,以氮氣或是氬氣為理想。還元性環境氣體,是以與浮式浴之環境氣體相同之含有氫的氮氣環境氣體為理想。
在去除裝置中之固定構件的材料,並非僅限定於具有耐熱性者。可由一般金屬、碳、陶瓷等材料所形成。較佳是以不銹鋼等之金屬為理想。安裝於固定構件上之板狀體的材料,同樣地由耐熱性材料所形成,以金屬、碳、陶瓷等為理想。具有彈性的板狀體以不銹鋼等之金屬為理想。作為不具有彈性的板狀體,也可以使用碳材等。
實施例
為了確認本發明之有效性,故製作了去除裝置,並將該去除裝置配置在利用浮式法之玻璃薄板的製造設備內,進行了確認錫及氧化錫之去除效果的實驗。於實驗所利用的去除裝置,是設置於:複數個提升輥當中之最靠近下游之提升輥的徐冷窯側。去除構件,在玻璃薄板之製造期間中的20日間,接觸於玻璃帶下表面之離一方端部20cm處(於玻璃帶之寬度方向的長度)。在此期間中,對經過去除構件上之玻璃帶表面,在一般之品質檢查所利用的高輝度光源下,以每2小時1次之頻率(合計檢查次數240次)進行了目視檢查。
在此實驗所使用的去除構件,為纖維狀碳,是使用商標名KRECA G FELT之F-210G(製造廠商:株式會社KUREHA)之厚度10mm、密度0.10g/cm3 之毛氈狀者。將之以成為接觸於玻璃帶之部分的長度為200mm、寬度為100mm之方式予以加工來使用。固定構件,是使用20mm方形,厚度1.2mm之不銹鋼製的方管。板狀體,是將橫斷面形狀為矩形之高度50mm、厚度0.3mm,橫斷玻璃帶之寬度方向的長度為200mm之不銹鋼板,如第4圖所示地,使之突出於固定構件之上部的熔融錫浴側來設置。在玻璃帶與去除構件之擋接部,以氮氣(N2 )作為非活性氣體,利用上述方管內部的空間以5公升/分鐘進行供給。用以供給非活性氣體之固定構件的貫通孔,是以直徑3mm於玻璃帶之寬幅方向為10mm之等間隔來設置。去除構件對固定構件之固定,是將不銹鋼板抵靠於去除構件之左右端部來進行。
實驗結果,並無見到玻璃帶下表面的錫及氧化錫之缺點和損傷,而沒有利用去除裝置時之區域的錫及氧化錫缺點則每平方公尺可發現到0.1個左右。由此,可以實際驗證由於本發明之去除裝置藉由去除玻璃帶下表面的錫及氧化錫之極高效果。又,不會有去除構件之摩耗、損傷,在耐久性上亦無問題。
產業上之可利用性
本發明,由於可以去除附著在玻璃帶之熔融錫等異物來製造高品質的玻璃薄板,故可以使用在藉由浮式法之玻璃薄板的製造。
又,在此引用2006年12月8日申請日本專利之日本專利申請案第2006-331918號的專利說明書、申請專利範圍、圖面及摘要的全部內容,擷取以作為本發明之專利說明書之揭示。
1...熔融錫浴
2...熔融錫
3...玻璃帶
4...去除構件
5...固定構件
6...板狀體
7...去除裝置
8...提升輥
9...提升輥
10...提升輥
11...窯輥子
12...窯(區域)
13...驅動輸送帶
14...驅動馬達
15...驅動裝置
A...在去除構件與固定構件之間並且及於玻璃帶之寬度方向的空間
B...貫通孔
C...帶狀玻璃的行進方向
D...空間
E...地面
第1圖,是於本發明之實施形態下之去除裝置的斷面圖。
第2圖,是包含本發明之實施形態下之去除裝置之玻璃薄板製造設備的斷面圖。
第3圖,是於另一實施形態下之去除裝置的斷面圖。
第4圖,是於另一實施形態下之去除裝置的斷面圖。
第5圖,是於另一實施形態下之去除裝置之斷面圖。
第6圖,是於另一實施形態下讓去除裝置進行水平移動時之一例的斷面說明圖。
1...熔融錫浴
2...熔融錫
3...玻璃帶
4...去除構件
5...固定構件
6...板狀體
7...去除裝置
8...提升輥
9...提升輥
10...提升輥
11...窯輥子
12...窯(區域)

Claims (12)

  1. 一種玻璃薄板之製造方法,為藉由浮式法製造玻璃薄板的方法,其特徵為:將由耐熱纖維薄板所形成的去除構件抵接於由熔融錫浴所拉出且處於該錫的熔融溫度範圍之玻璃帶的表面,將附著在玻璃帶表面的熔融錫等之異物擦掃並去除。
  2. 如申請專利範圍第1項之玻璃薄板之製造方法,其中上述去除構件是處於非氧化性環境氣體中。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之玻璃薄板之製造方法,其中上述耐熱纖維薄板,是選自於碳纖維與氧化矽纖維之至少一種所形成的毛氈狀的薄板、或是織布乃至不織布狀的薄板。
  4. 如申請專利範圍第1或2項之玻璃薄板之製造方法,其中,以彈性力或氣體壓力將上述去除構件推壓於玻璃帶的表面。
  5. 如申請專利範圍第1或2項之玻璃薄板之製造方法,其中,使上述去除構件抵接於玻璃帶的下表面。
  6. 一種熔融錫等之異物的去除方法,是在藉由浮式法製造玻璃薄板的過程中,從由熔融錫浴所拉出且處於該錫的熔融溫度範圍之玻璃帶的表面,將附著在該表面的熔融錫等之異物去除的方法,其特徵為:將由耐熱纖維薄板所形成的去除構件抵接於上述玻璃帶的表面來將上述熔融錫等之異物從玻璃帶的表面擦掃並去除。
  7. 如申請專利範圍第6項之熔融錫等之異物的去除方法,其中上述去除構件是處於非氧化性環境氣體中。
  8. 一種熔融錫等之異物的去除裝置,是在藉由浮式法製造玻璃薄板的過程中,從由熔融錫浴所拉出且處於該錫的熔融溫度範圍之玻璃帶的表面,將附著在該表面的熔融錫等之異物去除的去除裝置,其特徵為:上述去除裝置,係具備有:抵接於玻璃帶的表面將上述熔融錫等之異物從玻璃帶表面擦掃並去除的去除構件;以及支撐該去除構件的固定構件,並成為朝向玻璃帶的寬度方向延伸的長條體,且該去除構件是由耐熱纖維薄板所形成。
  9. 如申請專利範圍第8項之熔融錫等之異物的去除裝置,其中上述固定構件,具有將上述去除構件推壓於玻璃帶的表面的彈性體。
  10. 如申請專利範圍第8項之熔融錫等之異物的去除裝置,其中上述固定構件,具有氣體通路,其用於以氣體壓力將上述去除構件推壓到玻璃帶的表面。
  11. 如申請專利範圍第8、9或10項之熔融錫等之異物的去除裝置,其中上述去除構件,在被固定構件所支撐的狀態下該截面係呈山型,且山型的頂部抵接於玻璃帶的表面。
  12. 如申請專利範圍第8、9或10項之熔融錫等之異物的去除裝置,其中耐熱纖維薄板,是選自於碳纖維與氧化矽纖維之至少一種所形成的毛氈狀的薄板、或是織布乃 至不織布狀的薄板。
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