TWI391336B - Production method of plate glass and manufacturing method of plate glass - Google Patents

Description

板玻璃之製造裝置及板玻璃之製造方法 發明領域

本發明係有關一種依據浮法的板玻璃之製造裝置及其製造方法，特別是有關一種設有保護層形成部的板玻璃之製造裝置及板玻璃之製造方法，該保護層形成部係用以於從浮浴槽拉出之高溫的玻璃帶下面形成由硫酸鹽構成之瑕疵防止用保護層。

發明背景

於建築用板玻璃、汽車用板玻璃、及顯示器用板玻璃等之玻璃板中，依據使用浮浴槽之浮法所得的板玻璃之製造裝置及製造方法以往以來已被知悉。

依據浮法所得的板玻璃之製造方法係將熔融玻璃供給至浮浴槽的熔融錫表面上，且在熔融錫上將熔融玻璃成形成連續的板狀者，並且係將在浮浴槽成為預定寬度之連續玻璃板的高溫玻璃帶從熔融錫表面拉出，將其徐冷且切斷成預定大小的玻璃板之製法。

從熔融錫表面將玻璃帶拉出係藉由以被稱為「提升輥(liftout roll)」之輥在浮浴槽的出口舉起玻璃帶並搬運而進行。以下將該提升輥存在的地方稱為「錫槽箱(dross box)」。已拉出之玻璃帶在錫槽箱下游側之徐冷爐徐冷。該徐冷的區域以下稱為徐冷部，在該徐冷部支撐搬運玻璃帶之輥以下稱為徐冷輥。由於浮浴槽之熔融錫易於氧化，因此浮浴槽之氣體環境係藉由氮氣與氫氣之混合氣體在還原氣體環境保持於正壓。又，與浮浴槽連通之錫槽箱也保持於正壓之還原氣體環境。該等浮浴槽與錫槽箱存在的區域以下稱為「成形部」。

然而於專利文獻1，揭示有於徐冷爐內部導入二氧化硫氣體(SO₂ )，且使其與為玻璃帶之構成成分的鹼金屬鈉反應，而於玻璃帶之表面形成硫酸鈉等之瑕疵防止用保護層的板玻璃之製造裝置。

專利文獻1之板玻璃之製造裝置係藉由分隔壁而分隔徐冷部之預定區域，並於該區域中流動之玻璃帶吹附二氧化硫氣體，以於玻璃帶之表面形成前述瑕疵防止用保護層之裝置。

先前技術文獻

專利文獻1：國際公開WO 02/051767號公報

發明概要

但是，專利文獻1之板玻璃的製造裝置係於導入二氧化硫氣體的區域中設有分隔壁，可是該分隔壁係遠離玻璃帶設置。是故，在專利文獻1之技術中，如果前述區域位於徐冷爐之最上游側，則區域內之氣流會因鄰接於上游側之錫槽箱的氣流滲入而擾亂，難以使二氧化硫氣體滯留於玻璃帶的表面，而有無法將瑕疵防止用保護層有效率且均勻地形成於玻璃帶的缺點。又，有著所謂該區域內之氧氣滲入到錫槽箱及浮浴槽內之非氧化性氣體環境的問題。特別是，液晶顯示器用之無鹼玻璃的情況，由於實質上不含鹼成分，因此難以將瑕疵防止用保護層有效率地形成於玻璃帶。

有鑑於此，本發明之目的在於提供一種可將硫酸鹽之瑕疵防止用保護層有效率且均勻地形成於玻璃帶的板玻璃之製造裝置及板玻璃之製造方法。

為了達成前述目的，本發明的板玻璃之製造裝置的發明包含有將熔融玻璃連續地供給至收容有熔融金屬之浮浴槽的水平浴面而形成玻璃帶之成形部、及將該成形部所形成之前述玻璃帶搬運至徐冷爐並徐冷之徐冷部，其特徵在於：在前述徐冷部之玻璃帶搬運方向的上游位置，且玻璃帶之溫度為500℃~750℃的區域中，設有保護層形成部，該保護層形成部係用以於前述玻璃帶之下面形成由硫酸鹽構成之瑕疵防止用保護層者，前述保護層形成部係藉由上游側遮蔽構件及下游側遮蔽構件而分隔，且保持成大略密閉狀態，前述上游側遮蔽構件係於玻璃帶搬運方向之上游側與玻璃帶之下面接觸，而前述下游側遮蔽構件則於玻璃帶搬運方向之下游側與玻璃帶之下面接觸，或是自玻璃帶之下面離開50mm以內，配置有可對前述保護層形成部供給二氧化硫氣體之噴嘴，藉由該噴嘴所供給之二氧化硫氣體，而於前述玻璃帶之下面形成前述瑕疵防止用保護層，且該保護層形成部不存在與前述玻璃帶接觸之輥，前述上游側遮蔽構件與玻璃帶接觸的部分係由耐熱纖維板構成，且由非氧化性氣體供給部對該耐熱纖維板供給非氧化性氣體。

在含有鈉等鹼成分之玻璃帶的情況，玻璃帶的溫度在500℃以上與二氧化硫氣體反應，而形成瑕疵防止用保護層。另一方面，自成形部拉出之玻璃帶的溫度為750℃以下。由於玻璃帶之溫度越高，二氧化硫氣體與玻璃中之鹼土族金屬的反應速度越快，因此較佳之玻璃帶的溫度為650℃以上。

存在於保護層形成部之輥於通常之玻璃帶形成時，係自玻璃帶退避而不與玻璃帶接觸。該輥於玻璃帶成形之開始時及問題發生時抵接於不連續流動而來的玻璃帶，而有效率地搬出玻璃帶。故，於玻璃帶連續地流動之瑕疵防止用保護層形成時，由於不存在與玻璃帶接觸之輥，因此於保護層形成部中玻璃帶之下面全體暴露於二氧化硫氣體，而均勻地形成瑕疵防止用保護層。

又，前述保護層形成部係藉由上游側遮蔽構件及下游側遮蔽構件而分隔，且保持成大略密閉狀態，前述上游側遮蔽構件係於玻璃帶搬運方向之上游側與玻璃帶之下面接觸，而前述下游側遮蔽構件則於玻璃帶搬運方向之下游側與玻璃帶之下面接觸，或是自玻璃帶之下面離開50mm以內。藉此，保護層形成部成為充滿二氧化硫氣體的氣體環境，且可均勻地形成瑕疵防止用保護層。又，可防止保護層形成部之氧化環境氣體漏出至位於保護層形成部之上游側的浮浴槽及錫槽箱之非氧化氣體環境。再者，可防止保護層形成部上游側之非氧化環境氣體滲入到保護層形成部所產生之保護層形成部之內亂。藉此，可有效率地將瑕疵防止用保護層形成於玻璃帶。有關下游側遮蔽構件，即使保護層形成部之氧化環境氣體漏出至徐冷爐，由於徐冷爐係氧化氣體環境，所以沒問題。

再者，在本發明中，配置有可對保護層形成部供給二氧化硫氣體之噴嘴，藉由自該噴嘴供給之二氧化硫氣體，而於玻璃帶之下面形成瑕疵防止用保護層。而且，上游側遮蔽構件係由耐熱纖維板構成，可密閉保護層形成部，且可除去附著於玻璃帶之下面的熔融金屬。藉此，防止熔融金屬附著所產生之保護層形成不均勻，並更可使保護層均勻形成。又，對該上游側遮蔽構件自非氧化性氣體供給部供給非氧化性氣體，藉由非氧化氣體而防止耐熱纖維板之氧化損失。再者，藉由將非氧化氣體自上游側遮蔽構件噴射，由於成形部與保護層形成部利用非氧化性氣體而被庇護，所以可完全隔絕自保護層形成部滲入到浮浴槽及錫槽箱之非氧化氣體環境的氧化環境氣體。

本發明中於前述下游側遮蔽構件在與前述玻璃帶之下面接觸時，與前述下游側遮蔽構件與玻璃帶接觸的部分係由耐熱纖維板構成，且對該耐熱纖維板係自非氧化性氣體供給部供給非氧化性氣體者為佳。藉此，可密閉保護層形成部且可進一步除去附著於玻璃帶下面之熔融金屬等，並防止熔融金屬附著所造成之保護層形成不均勻，保護層可更均勻地形成。又，藉由非氧化性氣體而可防止耐熱纖維板的氧化損失。

本發明中前述耐熱纖維板係由碳纖維構成之毛氈狀的纖維板者為佳。藉此，碳纖維即使接觸於玻璃帶之下面，也可防止對玻璃帶之下面造成損傷。

本發明於前述保護層形成部，配置有用以在玻璃帶之正下方位置使自前述噴嘴供給之二氧化硫氣體滯留的氣體滯留構件者為佳。由於二氧化硫氣體較空氣為重，因此自噴嘴僅吹出至玻璃帶，二氧化硫氣體無法與玻璃帶中之鹼土族金屬良好地反應。因此，藉由以氣體滯留構件在玻璃帶之正下方位置使二氧化硫氣體滯留，可促進二氧化硫氣體與鹼土族金屬的反應。又，也可節約二氧化硫氣體之供給量。

本發明於前述保護層形成部，配置有玻璃帶搬運用輥，該輥於前述瑕疵防止用保護層形成時，相對玻璃帶係位於相對退避的位置，且該輥作為前述氣體滯留構件而兼用者為佳。又，輥之上面相對於噴嘴之二氧化硫氣體的噴射位置係在相同位準或是在些許下方，在使二氧化硫氣體適當地滯留於輥上之觀點上是較理想的。

本發明中前述玻璃帶與前述噴嘴的距離係以設定成10mm~150mm者為佳。相對玻璃帶使噴嘴過度接近時，由於只對玻璃帶之一部分噴上二氧化硫氣體，因此無法均勻地形成瑕疵防止用保護層。

相對玻璃帶使噴嘴過度遠離時，由於二氧化硫氣體較空氣為重，因此自噴嘴噴射之二氧化硫氣體與玻璃帶之鹼土族金屬無法良好地反應。玻璃帶與噴嘴的距離以20mm~100mm較為佳，而40~75mm則更為佳。

本發明係適用於無鹼玻璃之製造，此時，前述保護層形成部之玻璃帶的溫度以650℃~750℃為佳。又，前述玻璃帶以不含鹼成分之無鹼玻璃為佳。

本發明的板玻璃之製造方法的發明，其特徵在於使用本發明的板玻璃之製造裝置來製造板玻璃。藉此，可有效率地將硫酸鹽之瑕疵防止用保護層形成於玻璃帶上。

依據有關本發明的板玻璃之製造裝置及板玻璃之製造方法，因為對以上游側遮蔽構件與下游側遮蔽構件而保持成大略密閉狀態的保護層形成部供給二氧化硫氣體，所以可將硫酸鹽之瑕疵防止用保護層有效率且均勻地形成於玻璃帶，且亦可節約二氧化硫氣體的供給量。其結果，可得到瑕疵少之高品質玻璃。又，本發明對難以形成瑕疵防止用保護層之液晶顯示器用等的無鹼玻璃很有效。

圖式簡單說明

第1圖係顯示實施態樣之玻璃板製造設備之構成的剖面圖。

第2圖係顯示設置接受盤時之保護層形成部之二氧化硫濃度分佈的說明圖。

第3圖係顯示將輥兼作為氣體滯留構件時之保護層形成部之二氧化硫氣體濃度分佈的說明圖。

較佳實施例之詳細說明

以下，依附加圖式而就有關本發明之板玻璃之製造裝置及板玻璃之製造方法的較佳實施態樣予以說明。

第1圖係依據有關本發明之板玻璃的製造裝置所適用之浮法的玻璃板製造設備10之剖面圖。而且，於以下之說明中，所謂下游側係以第1圖之玻璃帶12的移動方向為基準而稱與其同方向側(第1圖之箭頭A方向)，且將其相反方向側稱為上游側。

顯示於第1圖之玻璃板製造設備10從上游側朝下游側依序設置有浮浴槽14、錫槽箱16、及徐冷爐18，且於該徐冷爐18之上游位置設有實施態樣之保護層形成部20。

於浮浴槽14收容有高溫的熔融錫22，且藉由對該融融錫22之水平浴面連續地供給熔融玻璃，而朝浮浴槽14之出口15形成玻璃帶12。玻璃帶12係於浮浴槽14之出口15，藉由錫槽箱16之提升輥24而自熔融錫22拉出，且在錫槽箱16內搬運。然後，該玻璃帶12於通過後述之保護層形成部20中，藉由被供給之二氧化硫氣體(SO₂ )等而於其下面形成由硫酸鹽構成之瑕疵防止用保護層。然後，形成有瑕疵防止用保護層之玻璃帶12在徐冷爐18中搬運，且於利用該徐冷爐18之徐冷輥30的搬運中，被慢慢冷卻而製造成板玻璃。

為錫之熔融溫度以上的氣體環境之浮浴槽14及錫槽箱16如所周知的，由於必須保持於非氧化性氣體環境，因此不斷地被供給氮氣(N₂ )或是氮氣(N₂ )與氫氣(H₂ )的混合氣體，以防止熔融錫22的氧化。

其次，就有關保護層形成部20予以說明。

該保護層形成部20係位於徐冷爐18之上游位置，且玻璃帶12之溫度為500℃~750℃之區域。於含鈉之玻璃帶12的情況，可在玻璃帶12之溫度為500℃以上與二氧化硫氣體反應，而形成硫酸鹽之瑕疵防止用保護層。自浮浴槽14拉出之玻璃帶12的溫度係在750℃以下。二氧化硫氣體與玻璃中之鹼土族金屬的反應速度具有玻璃帶12之溫度越高則越快的傾向，其較佳的溫度為650℃以上。

設置於保護層形成部20之輥32於通常之玻璃帶形成時，亦即於玻璃帶12被連續搬運時，係自玻璃帶退避而不與玻璃帶12接觸之輥。該輥32於玻璃帶成形之開始時或是問題發生時玻璃帶以不連續的方式流動而來時，便抵接於玻璃帶12而有效率地將玻璃帶12搬出到徐冷爐18。所以，輥32由於在瑕疵防止用保護層形成時不與玻璃帶12接觸，因此於保護層形成部20中，玻璃帶全體暴露於二氧化硫氣體，而均勻地形成瑕疵防止用保護層。而且，保護層形成部20之長度(玻璃帶12之搬運方向的長度)係於連續的玻璃帶12之不影響搬運的距離，為300~600mm，較佳者為400~500mm。

又，保護形成部20係藉由於玻璃帶搬運方向之上游側接觸於玻璃帶12下面之上游側遮蔽構件34、及於玻璃帶搬運方向之下游側接觸於玻璃帶12下面或是自該下面離開50mm以內之下游側遮蔽構件36隔開而保持成大略密閉狀態。藉此，保護層形成部20成為充滿二氧化硫氣體(SO₂ )的氣體環境，而可均勻且有效率地形成瑕疵防止用保護層。而且，保護層形成部20之側部也可以徐冷爐之側壁兼用，也可設置遮蔽壁。

又，上游側遮蔽構件34由於是與玻璃帶12接觸，因此保護層形成部20之氧化環境氣體不會漏出到位於保護層形成部20之上游側的浮浴槽14及錫槽箱16之非氧化氣體環境。再者，由於可防止錫槽箱16之環境氣體滲入到保護層形成部20所造成之保護層形成部20之環境氣體的紊亂，所以二氧化硫氣體與玻璃中之鹼土族金屬可良好地反應。因此，可將瑕疵防止用保護層有效率地形成於玻璃帶12。而且，有關下游側遮蔽構件36，於玻璃帶12與下游側遮蔽構件36之間設有預定間隙(50mm以內)的情況，即使保護層形成部之氧化環境氣體漏出至徐冷爐18，由於徐冷爐18是氧化氣體環境，所以沒有問題。

於保護層形成部20配置有可供給二氧化硫氣體之噴嘴38，利用自該噴嘴38所供給之二氧化硫氣體而於玻璃帶12之下面均勻地形成瑕疵防止用保護層。

然後，上游側遮蔽構件34係由耐熱纖維板構成，可耐750℃的溫度，且可拭除附著於玻璃帶12之下面的異物。

又，於該上游側遮蔽構件34自非氧化性氣體供給部(不圖示)供給非氧化性氣體(例如氮氣)，藉由該非氧化性氣體而防止耐熱纖維板的氧化損失。再者，藉由自上游側遮蔽構件34噴射非氧化性氣體，由於錫槽箱16與保護層形成部20係因非氧化性氣體而被屏蔽，所以可完全地隔絕自保護層形成部20而欲滲入到浮浴槽14及錫槽箱16的非氧化性環境氣體之氧化環境氣體。

而，於下游側遮蔽構件36接觸於玻璃帶12之下面的態樣時，下游側遮蔽構件36與上游側遮蔽構件34同樣也是以耐熱纖維板構成者為佳。於此情況，即使玻璃帶12之下面殘留異物也可進一步拭除。又，於下游側遮蔽構件36也是自非氧化性氣體供給部(不圖示)供給非氧化性氣體(例如氮氣)，藉由該非氧化性氣體而防止耐熱纖維板的氧化損失。

耐熱纖維板以可耐750℃以上，特別是1000℃以上溫度的材質之纖維為佳。具體而言，有碳纖維、二氧化矽纖維、氧化鋁纖維、碳化矽纖維、金屬纖維等之無機纖維，特別是以硬度低而不易弄傷玻璃帶，且更不沾熔融錫的碳纖維為佳。纖維板以毛氈狀的板及織布或是非纖維狀的板為佳。具體而言，可使用例如碳纖維的毛氈狀板(carbon felt)或是碳纖維的織布(carbon cloth)等。耐熱纖維板也可為由不同材質之無機纖維2種以上構成之纖維板。而，碳纖維假設即使殘存於玻璃帶下面，藉由於比較高溫的氧化環境氣體中，例如在徐冷爐18部的後半部等燃燒殆盡，而不會成為汙染等缺點。

耐熱纖維板的厚度雖未特別限定，但是為了使其具柔軟性，因此以5mm以上者為佳。雖未特定有厚度的上限，但是自前述之非氧化性氣體供給部將非氧氧化性氣體供給至耐熱纖維板時，從相對於非氧化性氣體之壓力損失的觀點，以30mm以下亦即10~20mm，特別是15mm者為佳。於耐熱纖維板形成時，可只有毛氈狀板或是將複數織布及不織布重疊，更可將毛氈狀板與織布或不織布組合。

對實質未含鈉等鹼成分之液晶顯示器用之無鹼玻璃的玻璃帶12噴上二氧化硫氣體時，並非是將硫酸鈉之瑕疵防止用保護層，而是將硫酸鈣、硫酸鍶、硫酸鎂等硫酸鹽的瑕疵防止用保護層形成於玻璃帶12的下面。

但是，硫酸鈣、硫酸鍶、硫酸鎂等之保護層並無法像硫酸鈉之保護層般可有效率地形成。

因此，本發明中保護層形成部20之玻璃帶12的溫度係以650℃~750℃者為佳。於無鹼玻璃之玻璃帶12的情況，玻璃帶12的溫度在650℃以上玻璃中的鹼土族金屬成分與二氧化硫氣體變得易於反應，且形成硫酸鹽之瑕疵防止用保護層。

再者，玻璃帶12與噴嘴38的距離係以設定成10mm~150mm者為佳。相對玻璃帶12過度靠近噴嘴38時，由於只在玻璃帶12的一部分噴上二氧化硫氣體，而無法均勻地形成瑕疵防止用保護層。與其相反地，相對玻璃帶12使噴嘴38過度遠離時，由於二氧化硫氣體較空氣為重，因此自噴嘴38噴射之二氧化硫氣體無法與玻璃帶12之鹼土族金屬良好反應。因此，玻璃帶12與噴嘴38之距離為20mm~150mm者較佳，且為40~75mm者更佳。

再者，於保護層形成部20，配置有用以在玻璃帶12之正下方位置使自噴嘴38所供給之二氧化硫氣體滯留的接受盤(氣體滯留構件)50者為佳。由於二氧化硫氣體較空氣為重，因此自噴嘴38僅吹出到玻璃帶12，二氧化硫氣體無法與鹼土族金屬良好反應。因此，藉由以接受盤50在玻璃帶12之正下方位置使二氧化硫氣體滯留，而可促進二氧化硫氣體與鹼土族金屬之反應。又，二氧化硫氣體之供給量也可更節約。

第2圖係以a領域(濃度：高)、b領域(濃度：中)、c領域(濃度：低)來表示設置接受盤50時之保護層形成部20的二氧化硫氣體濃度之說明圖。如第2圖般，二氧化硫氣氣體藉由接受盤50而滯留於輥32之周邊，又，可了解該濃度在玻璃帶12正下方的輥32與玻璃帶12下面之間的區域成為最大值。藉此，可促進二氧化硫氣體與玻璃帶12之鹼土族金屬的反應。

另一方面，第3圖係將以輥32作為氣體滯留構件而兼用時的保護層形成部20之二氧化硫氣體的濃度分布，以a領域(濃度：高)、b領域(濃度：中)、c領域(濃度：低)來表示之說明圖。如第3圖般，二氧化硫氣體藉由輥32而滯留於輥32之上方，又，雖無法獲得接受盤50般之滯留效果，但是該濃度在玻璃帶12正下方之輥32與玻璃帶12下面之間的區域成為最大。藉此，可促進二氧化硫氣體與玻璃帶12之鹼土族金屬的反應。而且，輥32之上面相對於噴嘴38之二氧化硫氣體的噴射位置，係位在相同位準或是下方，在使二氧化硫氣體適當地滯留於輥32上之觀點上係較理想的。

如上述般，依據實施態樣之玻璃板製造設備10之玻璃板製造方法，可使硫酸鹽之瑕疵防止用保護層更有效率且均勻地形成於玻璃帶12上。

實施例係於自浮浴槽連續拉出之無鹼玻璃的玻璃帶下面，在本發明之瑕疵防止用保護層形成部中，使二氧化硫氣體所造成之保護層連續地形成。可於玻璃帶之下面均勻地形成保護層，且二氧化硫氣體之使用量相較於習知較為降低。

產業上之利用可能性

本發明係可利用於使用浮浴槽之浮法所產生的板玻璃之製造，且適用於以浮法製造建築用板玻璃、汽車用板玻璃、及顯示器用板玻璃等之玻璃板者。

而，此處引用2008年6月6日申請之日本專利申請第2008-149615號之說明書、申請專利範圍、圖式及摘要的全部內容，作為本發明之說明書的揭示而採用者。

10．．．玻璃板製造設備

12．．．玻璃帶

14．．．浮浴槽

15．．．出口

16．．．錫槽箱

18．．．徐冷爐

20．．．保護層形成部

22．．．熔融錫

24．．．提升輥

30．．．徐冷輥

32．．．輥

34．．．上游側遮蔽構件

36．．．下游側遮蔽構件

38．．．噴嘴

50．．．接受盤

a~c．．．領域

第1圖係顯示實施態樣之玻璃板製造設備之構成的剖面圖。

第2圖係顯示設置接受盤時之保護層形成部之二氧化硫濃度分佈的說明圖。

第3圖係顯示將輥作為氣體滯留構件而兼用時之保護層形成部之二氧化硫氣體濃度分佈的說明圖。

10．．．玻璃板製造設備

12．．．玻璃帶

14．．．浮浴槽

15．．．出口

16．．．錫槽箱

18．．．徐冷爐

20．．．保護層形成部

22．．．熔融錫

24．．．提升輥

30．．．徐冷輥

32．．．輥

34．．．上游側遮蔽構件

36．．．下游側遮蔽構件

38．．．噴嘴

50．．．接受盤

Claims (10)

1. 一種板玻璃之製造裝置，包含有將熔融玻璃連續地供給至收容有熔融金屬之浮浴槽的水平浴面而形成玻璃帶之成形部、及將該成形部所形成之前述玻璃帶搬運至徐冷爐並徐冷之徐冷部，其特徵在於：在前述徐冷部之玻璃帶搬運方向的上游位置，且玻璃帶之溫度為500℃~750℃的區域中，設有保護層形成部，該保護層形成部係用以於前述玻璃帶之下面形成由硫酸鹽構成之瑕疵防止用保護層者，前述保護層形成部係藉由上游側遮蔽構件及下游側遮蔽構件而分隔，且保持成大略密閉狀態，前述上游側遮蔽構件係於玻璃帶搬運方向之上游側與玻璃帶之下面接觸，而下游側遮蔽構件則於玻璃帶搬運方向之下游側與玻璃帶之下面接觸，或是自玻璃帶之下面離開50mm以內，配置有可對前述保護層形成部供給二氧化硫氣體之噴嘴，藉由該噴嘴所供給之二氧化硫氣體，而於前述玻璃帶之下面形成前述瑕疵防止用保護層，且該保護層形成部不存在與前述玻璃帶接觸之輥，又，前述上游側遮蔽構件與玻璃帶接觸的部分係由耐熱纖維板構成，且由非氧化性氣體供給部對該耐熱纖維板供給非氧化性氣體。
2. 如申請專利範圍第1項之板玻璃之製造裝置，其中前述下游側遮蔽構件在與前述玻璃帶之下面接觸時，前述下 游側遮蔽構件與玻璃帶接觸的部分係由耐熱纖維板構成，且由非氧化性氣體供給部對該耐熱纖維板供給非氧化性氣體。
3. 如申請專利範圍第1項之板玻璃之製造裝置，其中前述耐熱纖維板係由碳纖維構成之毛氈狀的纖維板。
4. 如申請專利範圍第2項之板玻璃之製造裝置，其中前述耐熱纖維板係由碳纖維構成之毛氈狀的纖維板。
5. 如申請專利範圍第1至4項中任一項之板玻璃之製造裝置，其中前述保護層形成部配置有氣體滯留構件，該氣體滯留構件係用以使前述噴嘴所供給之二氧化硫氣體在玻璃帶之正下方位置滯留者。
6. 如申請專利範圍第5項之板玻璃之製造裝置，其中前述氣體滯留構件為配置於前述保護層形成部之玻璃帶搬運用輥，該輥於前述瑕疵防止用保護層形成時，係位於相對玻璃帶而相對地退避的位置。
7. 如申請專利範圍第1至4項中任一項之板玻璃之製造裝置，其中前述玻璃帶與前述噴嘴的距離係設定成10mm~150mm。
8. 如申請專利範圍第1至4項中任一項之板玻璃之製造裝置，其中於前述玻璃帶之溫度為650℃~750℃的區域設有前述保護層形成部。
9. 如申請專利範圍第8項之板玻璃之製造裝置，其中前述玻璃帶係無鹼玻璃。
10. 一種板玻璃之製造方法，係使用如申請專利範圍第1至9 項中任一項之板玻璃之製造裝置，以製造板玻璃者。