TWI412894B - 光學式異物檢測裝置及搭載該檢測裝置之處理液塗佈裝置 - Google Patents

光學式異物檢測裝置及搭載該檢測裝置之處理液塗佈裝置 Download PDF

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TWI412894B
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Yoshitaka Otsuka
Takao Takaki
Takashi Nakamitsu
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Description

光學式異物檢測裝置及搭載該檢測裝置之處理液塗佈裝置
本發明係關於以光學式檢測塵埃等異物附著在被處理基板上之狀態之檢測裝置，與搭載此檢測裝置並對該被處理基板塗佈處理液之例如狹縫塗佈式之處理液塗佈裝置。
例如於LCD之製造技術領域中，會實行選擇性地將形成在LCD基板上之半導體層、絕緣體層、電極層等蝕刻為既定圖案之步驟。此時，可應用所謂光微影技術，在該LCD基板上塗佈光阻液以形成光阻膜，對應電路圖案使光阻膜曝光，並對其進行顯影處理。
當在該LCD基板上塗佈光阻液時，已知的一種方法係採用以帶狀之方式噴吐使感光性樹脂溶解於溶劑中而構成之光阻液之光阻供給噴嘴，沿與藉由該噴嘴噴吐光阻液之噴吐方向正交之方向相對地使方形之LCD基板平行移動以塗佈之。此時，該光阻供給噴嘴中包含狹縫狀之噴吐開口，其包含沿LCD基板之寬度方向延伸之微小間隔，朝基板表面整體供給自此狹縫狀之噴吐開口以帶狀之方式噴吐之光阻液以形成光阻層。
依此方法，可自該基板之一邊橫跨另一邊以帶狀之方式噴吐(供給)光阻液，故可橫跨基板全面均勻並高效率地形成光阻層。關於如此之狹縫塗佈式處理液塗佈裝置揭示於本案申請人過去申請之例如揭示如下之專利文獻1中。
【專利文獻1】日本特開平10-156255號公報
又，於該構成之處理液塗佈裝置中，為藉由一次塗佈動作獲得均一之膜厚，自狹縫狀之噴吐開口噴吐該光阻液時，伴隨著拉伸該膜厚並同時形成為均一之層狀之動作。為此，設定噴吐該光阻液之噴嘴與該基板之間之間隙(空氣間隙)極小，俾對應膜厚，並使兩者隔著例如約100μm之間隙相對移動。
針對基板塗佈由該光阻液所代表之處理液時，噴嘴與基板隔著該微小間隔相對移動，故例如在基板上附著有塵埃等異物時，會發生於該塗佈動作中該異物接觸該噴嘴之前端部之問題。且異物介在於該基板與載置並固持該基板之平台之間時，基板之一部分會變形為山形，故伴隨著噴嘴與基板之相對移動，會發生基板強力抵緊噴嘴前端部之問題。
特別是如後者，異物介在於該基板與平台之間時，基板當然會破損，同時噴嘴前端部會損壞，經塗佈之處理液會發生所謂條狀刮痕的情形。為此需更換該噴嘴並伴隨此需進行調整作業等，甚至發展為基板之製造線長時間不得不運轉停止之問題。
在此，本案申請人提議製作一種關於狹縫塗佈式之塗佈裝置，由專利文獻2揭示之，其中採用光學式檢測機構，可朝該處理液噴吐噴嘴之相對的進行方向之前方沿水平方向投射光束，以檢測被處理基板上之異物或是該基板因該異物而自平台被舉起之異常狀態。
【專利文獻2】日本特開2007-85960號公報
又，由該專利文獻2所揭示之光學式異物檢測裝置中，採用有光透射型感測器單元，包含：光投射部，沿載置於平台上之被處理基板上表面投射例如雷射光等光束；及光接收部(相機)，接收該光束；且使用一種檢測機構，以判斷該光束之光線接收輸出，與該光線接收輸出在單位時間內之變化量(微分值)是否在既定值以上。
依如該特別利用光線接收輸出之微分值檢測異物之構成，可提高異物之檢測精度，故藉由將其採用於專利文獻2中所揭示之狹縫塗佈式塗佈裝置，可對提升塗佈裝置之運轉率有所助益。
然而如上述，即使利用雷射光等光束，朝空間投射光線時，亦無法完全消除空氣密度變化導致光線折射之影響，且受到載置基板之平台與處理液供給噴嘴等相對移動導致微振動之影響，發生檢測判定異物時提高其精度有其極限之情形等，異物之檢測判定機構中尚留有改良之余地。
在此，本發明之課題在於提供一種光學式異物檢測裝置及搭載此之處理液塗佈裝置，沿異物之相對移動方向，換言之，沿光透射型感測器單元之相對移動方向分為複數之區域進行光學式異物檢測，跟隨履歷總計資料，以提升對異物之反應感度，就有無異物之判定而言可確保更高之精度。
為解決該課題，依本發明之光學式異物檢測裝置宜包含：光透射型感測器單元，具有：光投射部，沿載置於平台上之被處理基板上表面投射光束；及光接收部，接收該光束；及相對移動機構，使該感測器單元相對於被處理基板而移動，藉此使該光束之光軸沿被處理基板之上表面平行掃描；該光學式異物檢測裝置之特徵在於包含：第1機構，沿藉由該相對移動機構該感測器單元相對移動之方向設定複數之檢查區域，於每一預定之取樣時點針對於每一該各檢查區域該光束之光線接收量進行測定，以獲得於各檢查區域該光線接收量之資訊；第2機構，分別運算藉由該第1機構獲得之於每一該各檢查區域光線接收量之資訊，與該取樣時點單位過去同一檢查區域光線接收量之資訊之差分，以獲得於各檢查區域之該差分值；第3機構，自藉由該第2機構獲得之於各檢查區域之該差分值，依對應該感測器單元相對移動履歷之檢查區域之順序，分別導出依序錯開1取樣時點之該差分值，並乘以該各差分值；及第4機構，對應藉由該第3機構獲得之乘算輸出之絕對值，判定異物存在與否。
且為解決該課題，依本發明之光學式異物檢測裝置宜包含：光透射型感測器單元，包含：光投射部，沿載置於平台上之被處理基板上表面投射光束；及光接收部，接收該光束；及相對移動機構，使該感測器單元相對於被處理基板而移動，藉此使該光束之光軸沿被處理基板之上表面平行掃描；該光學式異物檢測裝置之特徵在於包含：第1機構，沿藉由該相對移動機構該感測器單元相對移動之方向設定複數之檢查區域，於每一預定之取樣時點針對於每一該各檢查區域該光束之光線接收量進行測定，以獲得於各檢查區域該光線接收量之資訊；第2機構，分別運算藉由該第1機構獲得之於每一該各檢查區域光線接收量之資訊，與該取樣時點單位過去同一檢查區域光線接收量之資訊之差分，以獲得於各檢查區域之該差分值；第3機構，自藉由該第2機構獲得之於各檢查區域之該差分值，依對應該感測器單元相對移動履歷之檢查區域之順序，分別導出依序錯開1取樣時點之該差分值，並加上該各差分值；及第4機構，對應藉由該第3機構獲得之加算輸出之絕對值，判定異物存在與否。
此時，藉由該第1機構獲得之該光線接收量之資訊宜使用藉由將於每一該取樣時點獲得之該光束之光線接收量與基準值加以比較所產生之比例而顯示之數值。
且依本發明之光學式異物檢測裝置之實施形態中，宜沿該感測器單元之相對移動方向設定有3或是4個檢查區域，且作為該取樣時點單位過去同一檢查區域光線接收量之資訊，係利用5取樣時點前光線接收量之資訊。
另一方面，依本發明之處理液塗佈裝置中，包含處理液供給噴嘴，該處理液供給噴嘴與載置於平台上之該被處理基板彼此面對而相對地移動，藉由朝該被處理基板噴吐處理液，將處理液塗佈於該基板之表面，藉由在相對於該被處理基板而移動之處理液供給噴嘴移動方向之前方搭載該光學式異物檢測裝置，作為該相對移動機構利用該處理液供給噴嘴。
此時，該處理液供給噴嘴中宜包含沿該基板之寬度方向延伸之狹縫狀噴吐開口，以將自處理液供給噴嘴之該狹縫狀噴吐開口呈帶狀噴吐之處理液塗佈於該基板之表面，配置有該感測器單元，俾沿該狹縫狀噴吐開口之長邊方向平行，且沿該基板極近投射該光束。
且於實施形態中，宜藉由該光學式異物檢測裝置偵測到異物之存在時，停止相對於該基板處理液供給噴嘴之移動。
依該光學式異物檢測裝置，沿光透射型感測器單元之相對移動方向設定有複數之檢查區域，並運算藉由該感測器單元獲得之於每一檢查區域光線接收量之資訊與取樣時點單位過去同一檢查區域光線接收量之資訊之差分，亦即相當於單位時間內光線接收量之變化之微分值。
且自於各檢查區域之該差分值(微分值)，依對應該感測器單元之相對移動履歷之檢查區域之順序，導出依序錯開1取樣時點之差分值。又，第1機構中宜乘以該依序錯開1取樣時點之差分值。且第2機構中宜加上該依序錯開1取樣時點之差分值。
藉此，即使於一檢查區域中檢測異物時發生誤差，亦可藉由另一檢查區域內檢查資料(微分值)之乘算或是加算，而確實檢測異物之存在。因此，可提供一種異物檢測裝置，可大幅提升對異物之反應感度，就判定異物之有無而言更可確保高精度。
又，依於處理液供給噴嘴搭載有該異物檢測裝置之處理液塗佈裝置，隨著相對於處理基板處理液供給噴嘴之移動，可在其移動方向之前方高感度地偵測基板上之異物。根據此偵測控制，俾停止相對於該基板處理液供給噴嘴之移動，藉此可解決造成基板及處理液供給噴嘴損壞之問題。
以下說明關於依本發明之光學式異物檢測裝置與搭載有此之處理液塗佈裝置，而首先說明關於處理液塗佈裝置之整體構成，後再說明關於搭載於該塗佈裝置中之光學式異物檢測裝置之詳細構成。
圖1及圖2將處理液塗佈裝置之主要部位相互以剖面圖顯示之。亦即，圖1以圖2中自B-B線沿箭頭方向觀察之狀態之剖面圖顯示之，且圖2以圖1中自A-A線沿箭頭方向觀察之狀態之剖面圖顯示之。
圖1及圖2中，符號1顯示作為被處理基板之例如方形之玻璃基板，符號2顯示呈水平狀態載置該玻璃基板1，以例如負壓吸附固持其之載置台(平台)。符號11顯示處理液供給噴嘴，此噴嘴11之外觀大致形成為直立方體狀，其上端部形成有處理液供給口11a，且其下端部形成有狹縫狀之處理液噴吐開口11b。
此圖1及圖2所示之實施形態中，處理液供給噴嘴11呈固定狀態，以水平狀態載置玻璃基板1之平台2沿圖1中以中空之箭頭C顯示之方向移動。又，在該噴嘴11之前端部(圖中所示之下端部)與玻璃基板1之間，平台2隔著大致約100μm之間隔移動，同時自噴嘴11之狹縫狀開口11b呈線狀噴吐處理液R，藉此在玻璃基板1上呈帶狀塗佈處理液R以動作之。
於該處理液供給噴嘴11相對移動方向前方之側壁安裝有支架構件12。此支架構件12係藉由相較於該噴嘴11中狹縫狀開口11b長邊方向之尺寸更長之例如柱狀之構件形成。又，支架構件12之兩端部中安裝有光投射部5及光接收部6，俾分別相向，藉此構成光透射型感測器單元。
如圖2所示，該光投射部5及光接收部6安裝於該支架構件12，俾連結此等者之直線，亦即光軸(光束)4與處理液供給噴嘴11中狹縫狀噴吐開口11b之長邊方向平行，且位於該噴嘴11相對移動方向之前方。
自該光投射部5投射之光束4中，可使用具有約例如670nm波長之雷射光束。又，設定該光束4之光軸，俾沿基板1之上表面平行，亦即於此實施形態中沿基板1之上表面通過約50μm之位置，該光束4伴隨著基板1之水平移動，沿基板1之上表面掃描。
圖3說明該圖1及圖2所示之構成中，特別是光學式之異物檢測裝置之基本作用。亦即圖3(A)顯示在平台2上呈水平狀態載置之玻璃基板1上附著有異物3之狀態，且(B)示意顯示在玻璃基板1與平台2之間介在有異物3，基板1之一部分顯示為符號1a而隆起之狀態之例。
又，該狹縫狀之噴吐開口11b呈其長邊方向沿圖3所示之紙面左右方向配置之狀態。此時，處理液供給噴嘴與該基板1之間之間隙如上述約為100μm，調整該光束4，俾沿基板1之上表面，沿該上表面通過約50μm之位置。
於圖3(A)所示之狀態中，自光投射部5投射之雷射光束受到附著於基板1上表面異物3之影響導致雷射光束被截斷，或是由光接收部6所接收之光線接收量減少。且即使在圖3(B)所示之狀態中，自光投射部5投射之雷射光束亦受到基板隆起部1a之影響，而同樣地使雷射光束被截斷，或是由光接收部6所接收之光線接收量減少。利用此作用，藉由針對該光線接收量於後詳細說明之運算處理，可高精度判定異物3存在與否。
圖4說明關於搭載於該塗佈裝置中之光學式異物檢測裝置之基本形態。此異物檢測裝置中，沿由該光投射部5及光接收部6所構成之光感測器單元之相對移動方向設定有複數檢查區域。亦即於圖4所示之例中，設定有區域1~區域4之4個檢查區域。又，圖4中例示以關於基板一部分附著有異物3之情形，伴隨著光感測器單元之相對移動，該異物3自區域1朝區域4移動。
在此，該平台2及基板1以等速水平移動，其速度約例如100mm/sec。又，該光感測器單元於每一預定之取樣時點(作為一例，10msec)測定每一該各檢查區域該光束之光線接收量，以獲得各檢查區域中該光線接收量之資訊。
此時，構成光感測器單元之該光接收部6中使用有例如以CCD構成之光電轉換元件，藉此而得之光線接收信號以預先於基板之處理開始時獲得之光線接收信號為基準值，獲得與該基準值比較而產生之比例，亦即以“%”(百分比)所顯示之數值。
圖5顯示關於該一例，自顯示異物3存在之部分中抽出實際資料一部分之例。亦即，t0011~t0028顯示經抽出之取樣時點，此作為一例如上述，隔著10msec間隔。又，於每一取樣時點取得檢查區域1~4中之光線接收量，如上述以與基準值比較產生之“%”值將其寫入記憶體(第1機構)。
例如，於圖5所示之取樣時點“t0017”，區域1之數值S1顯示為“51.45114”，此顯示相對於該基準值為約一半之光線接收量。又，於其次顯示之取樣時點“t0018”，區域2之數值S2顯示為“56.13845”，藉由該相對移動顯示異物3存在於區域2。
該狀況亦出現於其次之取樣時點“t0019”中區域3之數值S3，且亦同樣出現於其次之取樣時點“t0020”中區域4之數值S4。
於該每一取樣時點各區域中之數值S1~S4顯示每一所謂檢查區域中光線接收量之資訊。在此，於此實施形態中，分別運算各檢查區域中光線接收量之資訊，與該取樣時點單位過去同一檢查區域之光線接收量之資訊之差分。亦即，運算相當於單位時間內光線接收量之變化之微分值。
為獲得該微分值，於此實施形態中，利用5取樣時點前同一檢查區域光線接收量之資訊。亦即，取得於該取樣時點“t0017”區域1之數值S1時，運算與在5取樣時點前之“t0012”之同一檢查區域，區域1之數值S1，亦即“75.81424”之差分，作為區域1微分值寫入該差分值之“-24.3631”。
以同樣之程序依序獲得區域2~4之各數值S2~S4，同時分別依序與5取樣時點前同一檢查區域光線接收量之資訊進行比較，分別作為區域1~4之微分值寫入之(第2機構)。
又，於此實施形態中獲得該各微分值時，雖可與5取樣時點前同一檢查區域光線接收量之資訊進行比較(差分檢測)，但就原理上而言其可為1取樣時點前，亦可為2取樣時點前。惟若與最近之資料進行比較，有時會因異物3之大小、該相對速度、試樣時間之間距等參數而無法放大該變化率(微分值)。因此，關於與幾個取樣時點前之光線接收量之資訊進行比較，需對應該參數進行調諧。
依本發明之光學式異物檢測裝置之第1實施形態(請求項1所記載)中，藉由該程序獲得區域1~4之各微分值時，宜進行運算，依對應該感測器單元之相對移動履歷之檢查區域之順序，分別導出依序錯開1取樣時點之該差分值(微分值)，再乘以該4個差分值。例如於取樣時點“t0020”，取得區域4之數值S4時，可作為區域4之微分值獲得該微分值(“-21.5195”)。
獲得此微分值時，進行下列運算，“運算1(乘算)=區域4之微分值×區域3之1取樣時點前之微分值×區域2之2取樣時點前之微分值×區域1之3取樣時點前之微分值”。亦即，藉由乘上圖5中以粗斜箭頭顯示之4個微分值，可獲得作為一例，於取樣時點“t0020”，作為其運算值之“703962.4994”(第3機構)。
又，圖6係基板上存在有異物3之部分中使用圖5所示之實際資料描繪之線圖，a係根據此第1實施形態之特性線圖。且c顯示僅利用例如區域1之微分值，所謂該習知者之特性，d顯示光線接收量之單純變化特性。
如可由圖6所示之線圖而得以理解者，參照藉由該“運算1(乘算)”獲得之乘算輸出之絕對值，並將此與預定之臨界值加以比較，可判定異物存在與否(第4機構)。亦即，於圖6所示之特性線圖a中顯示之例，藉由該“運算1(乘算)”所獲得之數值超過設定為例如約±200之臨界值時，可判定異物3存在。
若按照依此實施形態之光學式異物檢測裝置，可沿例如異物之相對移動履歷，乘上對應各檢查區域之微分值。因此，即使於一檢查區域檢測異物時發生誤差，亦可藉由另一檢查區域中檢查資料(微分值)之乘算，確實檢測異物之存在，可大幅提升對異物之反應感度。
又，於以上說明之光學式異物檢測裝置之第1實施形態，雖進行運算，依對應該感測器單元之相對移動履歷之檢查區域之順序，乘上依序錯開1取樣時點之差分值(微分值)，但分別加上該差分值亦可獲得同樣之作用效果。
以下說明關於依本發明之光學式異物檢測裝置之第2實施形態(請求項2所記載)。亦即，於第2實施形態中，藉由該第2機構獲得區域1~4之各微分值時，進行運算，依對應該感測器單元之相對移動履歷之檢查區域之順序，分別導出依序錯開1取樣時點之該差分值(微分值)，再加上該4個差分值。
亦即，進行下列運算，“運算2(加算)=區域4之微分值+區域3之1取樣時點前之微分值+區域2之2取樣時點前之微分值+區域1之3取樣時點前之微分值”。此藉由加上圖5中以粗斜箭頭顯示之4個微分值，作為一例獲得於取樣時點“t0020”，作為該加算運算值之“-120.456”(第3機構)。
圖6中作為b顯示根據藉由實行該“運算2(加算)”獲得之資料之特性線圖。如由圖6所示之線圖b而得以理解者，參照藉由該“運算2(加算)”獲得之輸出之絕對值，將此與預定之臨界值加以比較，藉此可判定異物存在與否(第4機構)。亦即，於圖6中作為線圖b顯示之例，藉由該“運算2(加算)”獲得之數值超過設定為例如約±30~40之臨界值時可判定異物3存在。
於依此第2實施形態之光學式異物檢測裝置中，亦可沿異物之相對移動履歷，加上對應各檢查區域之微分值。因此，即使於一檢查區域檢測異物時發生誤差，亦可藉由加上另一檢查區域中之檢查資料(微分值)，確實檢測異物之存在，相較於習知機構可大幅提升對異物之反應感度。
圖7及圖8係說明關於搭載有該第1或是第2異物檢測裝置之處理液塗佈裝置之動作之方塊圖及流程圖。此處理液塗佈裝置中包含上位裝置21，如圖7所示用作為例如包含CPU之控制機構。藉由來自此上位裝置21之指令，首先一旦進行基準要求，即如圖8之步驟S11~S13所示，實行基準取得之動作。
其中，如圖8之步驟S11所示，於平台上輸送基板，於步驟S12判斷要求取得基準時，如步驟S13所示實行基準值之取得動作。
此基準值之取得動作中，藉由圖7所示之構成感測器單元之光接收部6獲得之影像信號於影像/光線接收量轉換機構22中轉換為光線接收信號。於各檢查區域藉由光線接收量運算機構23辨識此光線接收信號以作為各區域之基準值，分別將於每一該區域之基準值寫入達成資料管理功能之記憶體24。
接著，如圖8之步驟S14所示，判定是否要求檢查，一旦判斷要求檢查，即實行步驟S15所示之檢查，亦即異物檢測動作。其中，圖7所示之為檢測異物而藉由光接收部6獲得之影像信號藉由影像/光線接收量轉換機構22轉換為光線接收信號，朝每一檢查區域之光線接收量運算機構23供給之。
又，藉由該運算機構23，自該管理基準值之記憶體24接收基準值，獲得與此基準值比較產生之比例，亦即以該“%”(百分比)顯示之該光線接收量之資訊S1~S4，並將此數值寫入記憶體24。又，朝區域內履歷差分運算機構25供給該數值(S1~S4)。
該差分運算機構25運算最新之該數值(S1~S4)，與過去(5取樣時點前)同一檢查區域光線接收量之資訊之差分，將藉此獲得之各區域之差分(微分值Dt_1~Dt_4)寫入記憶體26。如根據圖5所說明，針對寫入該記憶體26之資料(微分值Dt_1~Dt_4)進行運算，乘以(第1實施形態)或是加上(第2實施形態)依序錯開1取樣時點之4個差分值，並將此乘算或是加算值朝比較器27供給之。
該比較器27中可供給為發出警報之基準之來自臨界值設定機構28之臨界值，出現大於該臨界值位準之乘算或是加算運算值時，比較器27具有朝該上位裝置21輸出警報之功能。
於圖8所示之該檢查步驟S15實行中，如步驟S16所示監視警報之發生，若不發生警報而如步驟S17所示橫跨基板全面異物檢測之檢查結束，此異物檢測之程序即結束。
另一方面，持續檢查中於步驟S16判定發生警報時，如圖7所示，由上位裝置21接收，如步驟S18所示停止輸送基板，並如步驟S19所示停止自噴嘴11噴吐處理液R，實行使噴嘴11上昇之動作。
又，於以上說明之實施形態中，載置被處理基板1之平台2雖水平移動，處理液供給噴嘴11與包含光投射部5及光接收部6之感測器單元呈固定狀態，但與此相反，載置被處理基板1之平台2呈固定狀態，處理液供給噴嘴11與包含光投射部5及光接收部6之感測器單元在被處理基板上移動亦可獲得同樣之作用效果。
且以上說明之光學式異物檢測裝置中，雖沿該感測器單元之相對移動方向設定有4個檢查區域，但此數不限於4，亦可適當設定複數之檢查區域。亦即，檢查區域之數量愈多，雖愈可提高對異物之反應感度，但運算需花費時間。因此，檢查區域之數量由對異物之反應感度，與被允許之運算時間之關係所決定，因該原因該檢查區域之數量宜設定為3~4。
【產業上利用性】
依本發明之處理液塗佈裝置不限於先前說明之對LCD基板塗佈例如光阻液時之塗佈裝置，亦可適當採用於半導體晶圓或印刷基板、其他電子元件之製造領域或其他領域中所採用之狹縫塗佈式塗佈裝置等中。且依本發明之光學式異物檢測裝置不僅可採用於該處理液塗佈裝置中，亦可適當採用於特別需監視呈平面狀之基板面之自動機等。
C．．．箭頭
Dt_1~Dt_4．．．微分值
R．．．處理液
S1~S4．．．數值
S11~S19．．．步驟
1．．．被處理基板(基板)(玻璃基板)
1a．．．基板隆起部
2．．．載置台(平台)
3．．．異物
4．．．光軸(光束)
5．．．光投射部
6．．．光接收部
11．．．處理液供給噴嘴(噴嘴)
11a．．．處理液供給口
11b．．．處理液噴吐開口(狹縫狀開口)(狹縫狀噴吐開口)
12．．．支架構件
21．．．上位裝置
22．．．影像/光線接收量轉換機構
23．．．光線接收量運算機構
23．．．運算機構
24、26．．．記憶體
25．．．區域內履歷差分運算機構(差分運算機構)
27．．．比較器
28．．．臨界值設定機構
圖1係顯示依本發明之處理液塗佈裝置之實施形態之剖面圖。
圖2係圖1中自A-A觀察之狀態之剖面圖。
圖3係說明搭載於圖1及圖2所示之處理液塗佈裝置中之光透射型感測器單元之作用之示意圖。
圖4係說明關於依本發明之光學式異物檢測裝置之基本形態之示意圖。
圖5係說明用以判定異物存在與否之處理運算之表圖。
圖6係說明自圖5所示之表圖獲得之異物檢測狀況之線圖。
圖7係用以說明搭載有異物檢測裝置之處理液塗佈裝置整體構成之方塊圖。
圖8係用以說明相同動作之流程圖。
Dt_1~Dt_4．．．微分值
S1~S4．．．數值
3．．．異物

Claims (8)

  1. 一種光學式異物檢測裝置，包含：光透射型感測器單元，具有：光投射部，沿載置於平台上之被處理基板上表面投射光束；及光接收部，接收該光束之光線；及相對移動機構，使該感測器單元相對於被處理基板而移動，藉此使該光束之光軸沿被處理基板之上表面平行掃描；該光學式異物檢測裝置之特徵在於包含：第1機構，沿著藉由該相對移動機構所進行之該感測器單元的相對移動之方向設定複數之檢查區域，於每一預定之取樣時點針對該各檢查區域逐一測定該光束之光線接收量，以於各檢查區域逐一獲得光線接收量之資訊，該光線接收量之資訊係將於每一該取樣時點獲得之該光束之光線接收量與在基板處理開始時獲得之光束之光線接收量加以比較所產生的比例；第2機構，對於藉由該第1機構獲得之於該各檢查區域的光線接收量之資訊，與該取樣時點單位的過去同一檢查區域之光線接收量的資訊之差分，分別加以計算，以獲得於各檢查區域之該差分值；第3機構，自藉由該第2機構獲得之於各檢查區域之該差分值，依對應該感測器單元相對移動履歷的檢查區域之順序，分別導出依序錯開1取樣時點之該差分值，並將該各差分值相乘；及第4機構，依照由該第3機構獲得之乘算輸出之絕對值，判定異物存在與否。
  2. 一種光學式異物檢測裝置，包含：光透射型感測器單元，具有：光投射部，沿著載置於平台上之被處理基板上表面投射光束；及光接收部，接收該光束之光線；及相對移動機構，使該感測器單元相對於被處理基板而移動，藉此使該光束之光軸沿被處理基板之上表面平行掃描；該光學式異物檢測裝置之特徵在於包含： 第1機構，沿著藉由該相對移動機構所進行之該感測器單元的相對移動之方向設定複數之檢查區域，於每一預定之取樣時點針對該各檢查區域逐一測定該光束之光線接收量，以於各檢查區域逐一獲得光線接收量之資訊，該光線接收量之資訊係將於每一該取樣時點獲得之該光束之光線接收量與在基板處理開始時獲得之光束之光線接收量加以比較所產生的比例；第2機構，對於藉由該第1機構獲得之於該各檢查區域的光線接收量之資訊，與該取樣時點單位的過去同一檢查區域之光線接收量的資訊之差分，分別加以計算，以獲得於各檢查區域之該差分值；第3機構，自藉由該第2機構獲得之於各檢查區域之該差分值，依對應該感測器單元相對移動履歷的檢查區域之順序，分別導出依序錯開1取樣時點之該差分值，並將該各差分值相加；及第4機構，依照由該第3機構獲得之加算輸出之絕對值，判定異物存在與否。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之光學式異物檢測裝置，其中，藉由該第1機構獲得之該光線接收量之資訊，係將於每一該取樣時點獲得之該光束之光線接收量與基準值加以比較，所產生之比例的數值。
  4. 如申請專利範圍第1或2項之光學式異物檢測裝置，其中，沿該感測器單元之相對移動方向設定有3或4個檢查區域。
  5. 申請專利範圍第1或2項之光學式異物檢測裝置，其中，作為該取樣時點單位的過去之同一檢查區域的光線接收量之資訊，係採用5取樣時點前的光線接收量之資訊。
  6. 一種處理液塗佈裝置，包含處理液供給噴嘴，該處理液供給噴嘴與載置於平台上之該被處理基板彼此面對而相對地移動，藉由朝該被處理基板噴吐處理液，將處理液塗佈於該基板之表面，藉由在相對於該被處理基板而移動之處理液供給噴嘴的移動方向之前方搭載該如申請專利範圍第1或2項之光學式異物檢測裝置，而利用該處理液供給噴嘴作為該相對移動機構。
  7. 如申請專利範圍第6項之處理液塗佈裝置，其中，該處理液供給噴嘴具有沿該基板之寬度方向延伸之狹縫狀噴吐開口，以將自處理液供給噴嘴之該狹縫狀噴吐開口呈帶狀噴吐出之處理液塗佈於該基板之表面，且該感測器單元係配置成平行於該狹縫狀噴吐開口之長邊方向，且沿著極接近該基板而投射該光束。
  8. 如申請專利範圍第6項之處理液塗佈裝置，其中，在藉由該光學式異物檢測裝置偵測到異物之存在時，停止處理液供給噴嘴相對於該基板之移動。
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