CN101685070B - 光学式异物检测装置以及搭载它的处理液涂布装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种能够高灵敏度地检测异物的光学式异物检测装置以及搭载它的处理液涂布装置。构成为使以水平状态载置在载物台(2)上的被处理基板(1)和具有沿上述基板(1)的宽度方向延伸的狭缝状喷出开口(11b)的处理液供给喷嘴(11)相对地移动，从而将从处理液供给喷嘴(11)带状地喷出的处理液涂布到基板(1)的表面。在上述处理液供给喷嘴(11)的相对移动方向的前方搭载有由光投射部(5)和受光部(6)构成的光透过型传感器单元。提供一种光学式异物检测装置，在沿着上述传感器单元的相对移动方向设定有多个检查区域，通过追溯异物的移动方向的历史记录而对由传感器单元得到的受光数据进行统计，来提高对异物的反应灵敏度。

Description

光学式异物检测装置以及搭载它的处理液涂布装置
技术领域
本发明涉及一种以光学方式对在被处理基板上附着有尘埃等异物的状态进行检测的检测装置、以及搭载该检测装置来对上述被处理基板涂布处理液的例如狭缝涂布(slit coat)式处理液涂布装置。 
背景技术
例如在LCD制造技术领域中，执行将形成在LCD基板上的半导体层、绝缘体层以及电极层等选择性地蚀刻为规定图案的工序。在这种情况下应用如下的所谓光刻(lithography)技术：在上述LCD基板上涂布光致抗蚀(photo resist)液来形成抗蚀膜，与电路图案相对应地对抗蚀膜进行曝光，并对其进行显影处理。 
在上述LCD基板上涂布光致抗蚀液的情况下，已知如下涂布方法：采用带状地喷出抗蚀液的抗蚀剂供给喷嘴，使方形LCD基板沿与利用上述喷嘴喷出抗蚀液的喷出方向正交的方向相对地进行平行移动来进行涂布，其中，上述抗蚀液是将感光性树脂溶解在溶剂中而成。在这种情况下，上述抗蚀剂供给喷嘴中具备沿LCD基板的宽度方向延伸的具有微小间隔的狭缝状的喷出开口，将从该狭缝状的喷出开口带状地喷出的抗蚀液供给到基板的整个表面，从而形成抗蚀层。 
根据该方法，能够从上述基板的一边到另一边带状地喷出(供给)抗蚀液，因此能够在整个基板上均匀且有效地形成抗蚀层。关于这种狭缝涂布式的处理液涂布装置，在本发明申请人以前申请的例如下面所示的专利文献1中示出。 
[专利文献1]日本特开平10-156255号公报 
另外，在上述结构的处理液涂布装置中，为了通过一次涂布动作而得到均匀的膜厚，在从狭缝状喷出开口喷出上述抗蚀液的情况下，伴有一边拉伸该膜厚一边将该膜厚形成为均匀的层状的动作。为此，与膜厚相对应地将用于喷出上述抗蚀液的喷嘴和上述基板之间的间隙(气隙(air gap))设定为极小，两者例如具有100μm左右的间隙而相对移动。 
当对基板涂布以上述抗蚀液为代表的处理液时，喷嘴和基板具有上述微小间隔而相对移动，因此例如在尘埃等异物附着在基板上的情况下，在该涂布动作过程中发生上述异物接触到上述喷嘴前端部的问题。另外，在异物存在于上述基板与载置并保持该基板的载物台(stage)之间的情况下，基板的一部分变形为山状，因此伴随着喷嘴与基板的相对移动，发生基板被强力地压在喷嘴前端部上的问题。 
特别是如后者那样，在异物存在于上述基板与载物台之间的情况下，基板破损是显然的，还对喷嘴前端部造成损伤，在涂布的处理液上产生所谓的条痕(筋引き)。为此，需要进行上述喷嘴的更换以及伴随此更换的调节作业等，还发展为基板的制造线不得不长时间停止运行的问题。 
因此，本发明申请人提出了采用如下光学检测单元的狭缝涂布式涂布装置，并将其公开在专利文献2中，该光学检测单元通过向上述处理液喷嘴的相对前进方向的前方沿水平方向投射光束，能够检测出被处理基板上的异物或者由于该异物而上述基板从载物台隆起的异常状态。 
[专利文献2]日本特开2007-85960号公报 
发明内容
发明要解决的问题
另外，在上述专利文献2中所示的光学式异物检测装置中，采用光透过型传感器单元并使用检测单元，该光透过型传感器单元包括沿着载置在载物台上的被处理基板的上表面而投射例如激光等光束的光投射部以及接收上述光束的受光部(照相机)，该检测单元判断上述光束的受光输出和上述受光输出的单位时间的变化量(微分值)是否大于等于规定值。 
如上所述，特别是根据利用受光输出的微分值来检测异物的结构，能够提高异物检测精确度，因此通过将该结构采用于专利文献2中公开的狭缝涂布式涂布装置中，从而能够有助于提高涂布装置的运转率。 
然而，如上所述，即使利用激光等光束，在向空间投射光的情况下，无法忽略因空气密度的变化而产生的光折射的影响，另外，受到因载置基板的载物台和处理液供给喷嘴等的相对移动而产生的微振动的影响，在异物检测判断中在提高其精确度上存在限度等，在异物检测判断单元中还存在改进的余地。 
因此，本发明的课题在于提供一种如下的光学式异物检测装置以及搭载该光学式异物检测装置的处理液涂布装置：在异物的相对移动方向、换句话说在光透过型传感器单元的相对移动方向上分为多个区域来以光学方式进行异物检测，通过追溯历史记录来统计数据，由此能够提高对异物的反应灵敏度且在是否存在异物的判断中能够确保更高精确度。 
用于解决问题的方案
为了解决上述课题而完成的本发明所涉及的优选光学式异物检测装置具备：光透过型传感器单元，其包括沿着载置在载物台上的被处理基板的上表面而投射光束的光投射部以及接收上述光束的受光部；以及相对移动单元，其通过使上述传感器单元相对于被处理基板进行相对移动而使上述光束的光轴沿 着被处理基板的上表面平行地进行扫描，该光学式异物检测装置的特征在于，具备：第一单元，在沿着由上述相对移动单元进行的上述传感器单元的相对移动方向设定有多个检查区域，该第一单元按预先确定的每个采样定时(sample timing)测量各个上述检查区域中的每个上述检查区域的上述光束的受光量，从而得到各个检查区域中的每个检查区域的上述受光量的信息；第二单元，其分别运算由上述第一单元得到的各个上述检查区域中的每个检查区域的受光量的信息、与以上述采样定时为单位的过去的同一检查区域的受光量的信息之间的差分，得到各个检查区域中的每个检查区域的上述差分值；第三单元，其从由上述第二单元得到的各个检查区域中的每个检查区域的上述差分值中分别取出按照与上述传感器单元的相对移动历史记录相对应的检查区域顺序依次错开1个采样定时的上述差分值，并对所取出的各差分值进行乘法运算；以及第四单元，其根据由上述第三单元得到的乘法运算输出的绝对值，判断是否存在异物。 
另外，为了解决上述课题而完成的本发明所涉及的其它优选的光学式异物检测装置具备：光透过型传感器单元，其包括沿着载置在载物台上的被处理基板的上表面而投射光束的光投射部及接收上述光束的受光部；以及相对移动单元，其通过使上述传感器单元相对于被处理基板进行相对移动而使上述光束的光轴沿着被处理基板的上表面平行地进行扫描，该光学式异物检测装置的特征在于，具备：第一单元，在沿着由上述相对移动单元进行的上述传感器单元的相对移动方向设定有多个检查区域，该第一单元按预先确定的每个采样定时测量各个上述检查区域中的每个检查区域的上述光束的受光量，得到各个检查区域中的每个检查区域的上述受光量的信息；第二单元，其 分别运算由上述第一单元得到的各个上述检查区域中的每个检查区域的受光量的信息、与以上述采样定时为单位的过去的同一检查区域的受光量的信息之间的差分，得到各个检查区域中的每个检查区域的上述差分值；第三单元，其从由上述第二单元得到的各个检查区域中的每个检查区域的上述差分值中分别取出按照与上述传感器单元的相对移动历史记录相对应的检查区域顺序依次错开1个采样定时的上述差分值，并对所取出的各差分值进行加法运算；以及第四单元，其根据由上述第三单元得到的加法运算输出的绝对值，判断是否存在异物。 
在这种情况下，在上述第一单元中得到的上述受光量的信息优选使用以通过按每个上述采样定时得到的上述光束的受光量与参考值(reference value)的比较而得到的比例来表示的值。 
此外，在本发明所涉及的光学式异物检测装置的优选实施方式中构成为：沿着上述传感器单元的相对移动方向，设定有3个或者4个检查区域，并且作为以上述采样定时为单位的过去的同一检查区域的受光量的信息，利用5个采样定时之前的受光量的信息。 
另一方面，在本发明所涉及的处理液涂布装置中具有如下特征：该处理液涂布装置具备处理液供给喷嘴，该处理液供给喷嘴与载置在载物台上的被处理基板相面对地进行相对移动，通过向上述被处理基板喷出处理液，将处理液涂布到上述基板的表面，该处理液涂布装置通过在相对于上述被处理基板进行相对移动的处理液供给喷嘴的移动方向的前方搭载上述光学式异物检测装置，利用处理液供给喷嘴来作为上述相对移动单元。 
在这种情况下，在上述处理液供给喷嘴中具备沿上述基板的宽度方向延伸的狭缝状喷出开口，并构成为将从处理液供给喷嘴的上述狭缝状喷出开口带状地喷出的处理液涂布到上述基 板的表面上，并将上述传感器单元配置成平行于上述狭缝状喷出开口的长度方向且沿着上述基板且紧贴着上述基板投射上述光束。 
并且，在优选实施方式中，构成为：在由上述光学式异物检测装置检测到存在异物的情况下，停止处理液供给喷嘴相对于上述基板的相对移动。 
发明的效果
根据上述光学式异物检测装置，沿着光透过型传感器单元的相对移动方向设定有多个检查区域，运算出由上述传感器单元得到的每个检查区域中的受光量的信息与以采样定时为单位的过去的同一检查区域的受光量的信息之间的差分，即运算出与单位时间的受光量的变化相当的微分值。 
此外，从各个检查区域中的每个检查区域的上述差分值(微分值)中，取出按照与上述传感器单元的相对移动历史记录相对应的检查区域顺序依次错开1个采样定时的差分值。并且，在第一优选方式中，对上述的依次错开一个采样定时的差分值进行乘法运算。另外，在第二优选方式中，对上述的依次错开一个采样定时的差分值进行加法运算。 
由此，即使在一个检查区域中的异物检查中产生误差，也通过其它检查区域中的检查数据(微分值)的乘法运算或者加法运算，能够可靠地检测出异物的存在。因而，能够提供一种能够显著提高对异物的反应灵敏度且能够确保高精确度地判断是否存在异物的异物检测装置。 
并且，根据将上述异物检测装置搭载在处理液供给喷嘴上的处理液涂布装置，按照处理液供给喷嘴相对于处理基板的移动，能够高灵敏度地检测该移动方向的前方的基板上的异物。基于该检测，进行控制使得停止处理液供给喷嘴相对于上述基 板的相对移动，由此能够解决对基板以及处理液供给喷嘴造成损伤的问题。 
附图说明
图1是表示本发明所涉及的处理液涂布装置的实施方式的截面图。 
图2是从图1中的A-A观察的状态的截面图。 
图3是说明搭载在图1以及图2所示的处理液涂布装置上的光透过型传感器单元的作用的示意图。 
图4是说明本发明所涉及的光学式异物检测装置的基本方式的示意图。 
图5是说明用于判断是否存在异物的处理运算的表。 
图6是说明根据图5所示表所得到的异物检测状况的曲线图。 
图7是用于说明搭载异物检测装置的处理液涂布装置的整体结构的框图。 
图8是用于说明上述处理液涂布装置的动作的流程图。 
附图标记说明
1：被处理基板(玻璃基板)；1a：基板隆起部；2：载置台(载物台)；3：异物；4：光轴(光束)；5：光投射部；6：受光部(照相机)；11：处理液供给喷嘴；11a：处理液供给口；11b：处理液喷出开口；R：处理液。 
具体实施方式
下面，对本发明所涉及的光学式异物检测装置和搭载它的处理液涂布装置进行说明。首先对处理液涂布装置的整体结构进行说明，然后对搭载在上述涂布装置上的光学式异物检测装 置的详细结构进行说明。 
图1和图2是相互以截面图来示出处理液涂布装置的主要部分的图。即，图1是以从图2中的B-B线向箭头方向观察的状态的截面图来示出，另外，图2是以从图1中的A-A线向箭头方向观察的状态的截面图来示出。 
在图1和图2中，附图标记1表示作为被处理基板的例如方形玻璃基板，附图标记2表示以水平状态载置上述玻璃基板1并例如通过负压将该玻璃基板1吸着保持的载置台(载物台)。附图标记11表示处理液供给喷嘴，该喷嘴11的外观形成为大致长方体状，在该喷嘴11的上端部形成有处理液供给口11a，并且在其下端部形成有狭缝状的处理液喷出开口11b。 
在图1和图2所示的实施方式中构成为：处理液供给喷嘴11处于固定状态，以水平状态载置玻璃基板1的载物台2向图1中用空心箭头C表示的方向进行移动。并且，在上述喷嘴11的前端部(图中所示的下端部)和玻璃基板1之间保持大约100μm左右的间隔而载物台2进行移动，通过从喷嘴11的狭缝状开口11b线状地喷出处理液R，从而在玻璃基板1上带状地涂布处理液R。 
在上述处理液供给喷嘴11的相对移动方向的前方的侧壁上安装有保持构件12。该保持构件12是由比上述喷嘴11中的狭缝状开口11b的长度方向尺寸还长的尺寸的例如柱状构件所形成。并且，光投射部5和受光部6分别相向地安装在保持构件12的两端部上，由此构成光透过型传感器单元。 
如图2所示，上述光投射部5和受光部6以如下方式安装在上述保持构件12上：连接上述光投射部5和受光部6的直线、即光轴(光束)4与处理液供给喷嘴1中的狭缝状喷出开口11b的长度方向平行，并且上述光投射部5和受光部6位于上述喷嘴11的相对移动方向的前方。 
作为由上述光投射部5投射的光束4，例如使用具有670nm左右波长的激光束。并且，上述光束4的光轴被设定成沿着基板1的上表面平行，即在本实施方式中设定成通过离基板1的上表面约50μm的位置，上述光束4伴随着基板1的水平移动，沿着基板1的上表面进行扫描。 
图3是上述图1以及图2所示结构中的特别是说明光学式异物检测装置的基本作用的图。即，图3的(A)表示在以水平状态载置在载物台2上的玻璃基板1上附着有异物3的状态，另外图3的(B)示意性地表示在玻璃基板1与载物台2之间存在异物3而基板1的一部分如附图标记1a所示那样处于隆起状态的例子。 
并且，上述狭缝状喷出开口11b是其长度方向沿图3所示的纸面左右方向配置的状态。在这种情况下，处理液供给喷嘴与上述基板1之间的间隙如前所述那样为100μm左右，上述光束4被调节成沿着基板1的上表面，通过离该基板1的上表面约50μm的位置。 
在图3的(A)所示的状态下，从光投射部5投射的激光束受到附着在基板1的上表面的异物3的影响而被遮断或者由受光部6接收的受光量下降。另外，在图3的(B)所示的状态下，从光投射部5投射的激光束受到基板隆起部1a的影响，同样地，激光束被遮断或者由受光部6接收的受光量下降。利用该作用，对上述受光量进行在后面详细说明的运算处理，从而能够高精确度地判断是否存在异物3。 
图4是说明搭载在上述涂布装置上的光学式异物检测装置的基本方式的图。在该异物检测装置中沿着由上述光投射部5和受光部6构成的光传感器单元的相对移动方向，设定有多个检查区域。即，在图4所示的例子中，设定有区域1～区域4的四个检查区域。并且，图4中例示了在基板的一部分上附着有异物3的情况，伴随着光传感器单元的相对移动，上述异物3从区域1向区域4移动。 
在此，上述载物台2和基板1以等速进行水平移动，其速度例如为100mm/sec左右。并且，上述光传感器单元按预先确定的每个采样定时(作为一个例子为100msec)对上述各检查区域的每个检查区域的上述光束的受光量进行测量，从而得到各个检查区域中的每个检查区域的上述受光量的信息。 
在这种情况下，构成光传感器单元的上述受光部6中，例如使用由CCD构成的光电转换元件，由该光电转换元件得到的受光信号被设为以通过该受光信号与参考值的比较而得到的比例、即“％”(百分比)表示的值，其中，该参考值是在开始基板处理时预先得到的受光信号。 
图5示出其一例，示出了摘录出存在异物3的部分中的一部分实际数据的例子。即，t0011～t0028表示所摘录的采样定时，其作为一个例子，与上述的情况相同，设为10msec间隔。并且，按每个采样定时获取检查区域1～4中的受光量，如上所述，将该受光量以通过与上述参考值的比较所得到的“％”值的形式写入到存储器中(第一单元)。 
例如，图5所示的采样定时“t0017”的区域1的数值S1表示为“51.45114”，这表示是上述参考值的约一半的受光量。并且，接着示出的采样定时“t0018”的区域2的数值S2表示为“56.13845”，示出通过上述相对移动而异物3存在于区域2中。 
上述状况在下一个采样定时“t0019”的区域3的数值S3中也出现，再下一个采样定时“t0020”的区域4的数值S4中也同样出现。 
上述每个采样定时的各区域中的数值S1～S4可以说是表示每个检查区域中的受光量的信息。因此，在本实施方式中，分 别运算出各个检查区域中的每个检查区域的受光量的信息与以上述采样定时为单位的同一检查区域的过去的受光量的信息之间的差分。即，运算出与单位时间的受光量变化相当的微分值。 
为了得到上述微分值，在本实施方式中，利用5个采样定时前的同一检查区域的受光量的信息。即，在上述采样定时“t0017”获取了区域1的数值S1的情况下，计算与作为比该采样定时“t0017”提前5个采样定时的“t0012”的同一检查区域的区域1的数值S1、即“75.81424”之间的差分，写入该差分值“-24.3631”来作为区域1的微分值。 
通过同样的步骤，依次得到区域2～4的各数值S2～S4，与此同时依次进行与各自的5个采样定时前的同一检查区域的受光量的信息之间的比较，并分别作为区域1～4的微分值来写入(第二单元)。 
此外，在本实施方式中在得到上述各微分值时，进行与5个采样定时前的同一检查区域的受光量的信息之间的比较(差分检测)，但是原理上也可以是1个采样定时前或者2个采样定时前。但是，当与很近的数据进行比较时，存在因异物3的大小、上述相对速度、采样时间间隔等参数而难以将其变化率(微分值)取大的情况。因而，关于与几个采样定时前的受光量的信息之间进行比较，需要根据上述参数来进行调节(tuning)。 
在本发明所涉及的光学式异物检测装置的优选的第一实施方式(记载在第一优选方式)中，当通过上述步骤得到区域1～4的各微分值时，分别取出按照与上述传感器单元的相对移动历史记录相对应的检查区域顺序依次错开1个采样定时的上述差分值(微分值)，对所取出的四个差分值进行乘法运算。例如，在采样定时“t0020”获取了区域4的数值S4的情况下，作为区域4的微分值能够得到其微分值(“-21.5195”)。 
在得到该微分值的情况下，进行“运算1(乘法运算)＝区域4的微分值×区域3的1个采样定时前的微分值×区域2的2个采样定时前的微分值×区域1的3个采样定时前的微分值”的运算。即，通过对图5中用粗斜箭头表示的四个微分值进行乘法运算，作为一个例子，在采样定时“t0020”上作为其运算值能够得到“703962.4994”(第三单元)。 
此外，图6是使用基板上存在异物3的部分的图5所示的实际数据来描绘的曲线图，a是基于该第一实施方式的特性曲线图。另外，c示出例如只使用区域1的微分值的特性，换言之是上述的现有技术的特性，d示出受光量的单纯变化特性。 
根据图6所示的曲线图可知，参照通过上述“运算1(乘法运算)”所得到的乘法运算输出的绝对值，并将该绝对值与预先确定的阈值进行比较，由此能够判断是否存在异物(第四单元)。即，在图6所示出的特性曲线a所表示的例子中，在通过上述“运算1(乘法运算)”所得到的数值超过例如设定为±200左右的阈值的情况下，能够判断为存在异物3。 
根据本实施方式的光学式异物检测装置，例如沿着异物的相对移动历史记录，对与各检查区域相对应的微分值进行乘法运算。因而，即使在一个检查区域中异物的检测产生误差，也能够通过其它检查区域中的检查数据(微分值)的乘法运算来可靠地检测出异物的存在，从而能够显著提高对异物的反应灵敏度。 
另外，在以上说明的光学式异物检测装置的第一实施方式中，对按照与上述传感器单元的相对移动历史记录相对应的检查区域顺序依次错开一个采样定时的差分值(微分值)进行乘法运算，但是通过对上述差分值分别进行加法运算也能够得到同样的作用效果。 
下面说明本发明所涉及的光学式异物检测装置的第二实施方式(记载在第二优选方式)。即，在第二实施方式中，当通过上述第二单元得到区域1～4的各微分值时，分别取出按照与上述传感器单元的相对移动历史记录相对应的检查区域顺序依次错开一个采样定时的上述差分值(微分值)，进行对该四个差分值进行加法运算的运算。 
即，进行“运算2(加法运算)＝区域4的微分值+区域3的1个采样定时前的微分值+区域2的2个采样定时前的微分值+区域1的3个采样定时前的微分值”的运算。这点能够通过对图5中用粗斜箭头表示的四个微分值进行加法运算来实现，作为一个例子，在采样定时“t0020”上作为其加法运算值得到“-120.456”(第三单元)。 
在图6中，b表示基于通过执行上述“运算2(加法运算)”所得到的数据的特性曲线。根据图6所示曲线b可知，参照通过上述“运算2(加法运算)”所得到的输出的绝对值，并将该绝对值与预先确定的阈值进行比较，由此能够判断是否存在异物(第四单元)。即，在图6中以曲线b示出的例子中，在通过上述“运算2(加法运算)”所得到的数值超过例如设定为±30～40左右的阈值的情况下，能够判断为存在异物3。 
在基于该第二实施方式的光学式异物检测装置中，也沿着异物的相对移动历史记录，对与各检查区域相对应的微分值进行加法运算。因而，例如，即使在一个检查区域中异物的检测产生误差，也能够通过其它检查区域中的检查数据(微分值)的加法运算来可靠地检测出异物的存在，与现有方法相比能够显著提高对异物的反应灵敏度。 
图7和图8是说明搭载了上述第一或者第二异物检测装置的处理液涂布装置的动作的框图以及流程图。在该处理液涂布 装置中，如图7所示，例如具备作为控制单元而发挥功能的上位装置21，该控制单元例如具备CPU。当通过来自该上位装置21的指令首先进行参考值请求时，如图8的步骤S11～S13所示，执行获取参考值的动作。 
其中，如图8的步骤S11所示，在载物台上输送基板，在步骤S12中判断为存在获取参考值的请求的情况下，如步骤S13所示，执行获取参考值的动作。 
在该获取参考值的动作中，由图7所示的构成传感器单元的受光部6得到的图像信号在图像/受光量转换单元22中被转换为受光信号。该受光信号在各个检查区域中的每个检查区域的受光量运算单元23中被识别为各个区域中的每个区域的参考值，上述每个区域的参考值分别被写入到实现数据管理功能的存储器24中。 
接着，如图8的步骤S14所示，判断是否存在检查请求，当判断为存在检查请求时，执行步骤S15所示的检查、即异物检测动作。其中，如图7所示，为了检测异物，由受光部6得到的图像信号在图像/受光量转换单元22中被转换为受光信号，并提供给每个检查区域的受光量运算单元23。 
然后，在上述运算单元23中，由管理上述参考值的存储器24接收参考值，得到通过与该参考值的比较而得到的比例、即以上述“％”(百分比)表示的上述受光量的信息S1～S4，并且将该值写入到存储器24中。并且，上述值(S1～S4)提供给区域内历史记录差分运算单元25。 
上述差分运算单元25运算最新的上述值(S1～S4)、和同一检查区域的过去(5个采样定时前)的受光量的信息之间的差分，由此所得到的各个区域中的每个区域的差分(微分值Dt_1～Dt_4)被写入到存储器26中。如根据图5所说明的那样，关于写入到上 述存储器26中的数据(微分值Dt_1～Dt_4)，进行对依次错开1个采样定时的四个差分值进行乘法运算(第一实施方式)或者加法运算(第二实施方式)的运算，该乘法运算或者加法运算值被提供给比较器27。 
对上述比较器27提供成为发出警报的基准的来自阈值设定单元28的阈值，比较器27在得到大于上述阈值的乘法运算值或者加法运算值的情况下，对上述上位装置21发出警报。 
在图8所示的上述检查步骤S15的执行过程中，如步骤S16所示，监视警报的发生，如果未发生警报而如步骤S17所示那样对基板整个面的异物检测的检查结束，则该异物检测的例程结束。 
另一方面，在继续检测的过程中，在步骤S16中判断为有警报的情况下，图7所示的上位装置21接收该警报，如步骤S18所示那样停止输送基板，并且如步骤S19所示那样停止从喷嘴11喷出处理液R，执行使喷嘴11上升的动作。 
此外，在以上所说明的实施方式中，载置了被处理基板1的载物台2进行水平移动，而处理液供给喷嘴11以及包括光投射部5和受光部6的传感器单元处于固定状态，但是与此相反，即使构成为载置被处理基板1的载物台2处于固定状态而处理液供给喷嘴11以及包括光投射部5和受光部6的传感器单元在被处理基板上进行移动，也能够得到同样的作用效果。 
另外，在以上所说明的光学式异物检测装置中，沿着上述传感器单元的相对移动方向设定有四个检查区域，但是该数量并不限定于四个，能够适当设定多个检查区域。即，检查区域数量越多，越能够提高对异物的反应灵敏度，但是运算中需要更多时间。因而，根据对异物的反应灵敏度、允许的运算时间之间的关系来确定检查区域的数量，根据上述理由，上述检查 区域的数量最好设定为3～4个。 
产业上的实用性
本发明所涉及的处理液涂布装置，不限于上面所说明的对LCD基板例如涂布抗蚀液时的涂布装置，还能够适于在半导体晶片、印刷基板、其它电子设备的制造领域、或者在其它领域中所采用的狭缝涂布式涂布装置等中采用。另外，本发明所涉及的光学式异物检测装置不仅能够在上述处理液涂布装置中采用，还能够适于在特别是需要监视平面状基板面的自动机械等中采用。 

Claims (8)

1.一种光学式异物检测装置，具备：光透过型传感器单元，其包括沿着载置在载物台上的被处理基板的上表面而投射光束的光投射部以及接收上述光束的受光部；以及相对移动单元，其通过使上述传感器单元相对于被处理基板进行相对移动而使上述光束的光轴沿着被处理基板的上表面平行地进行扫描，该光学式异物检测装置的特征在于，具备：
第一单元，在沿着由上述相对移动单元进行的上述传感器单元的相对移动方向设定有多个检查区域，该第一单元按预先确定的每个采样定时测量各个上述检查区域中的每个上述检查区域的上述光束的受光量，从而得到各个检查区域中的每个检查区域的上述受光量的信息；
第二单元，其分别运算由上述第一单元得到的各个上述检查区域中的每个检查区域的受光量的信息、与以上述采样定时为单位的过去的同一检查区域的受光量的信息之间的差分，得到各个检查区域中的每个检查区域的上述差分值；
第三单元，其从由上述第二单元得到的各个检查区域中的每个检查区域的上述差分值中分别取出按照与上述传感器单元的相对移动历史记录相对应的检查区域顺序依次错开1个采样定时的上述差分值，并对所取出的各差分值进行乘法运算；以及
第四单元，其根据由上述第三单元得到的乘法运算输出的绝对值，判断是否存在异物。
2.一种光学式异物检测装置，具备：光透过型传感器单元，其包括沿着载置在载物台上的被处理基板的上表面而投射光束的光投射部及接收上述光束的受光部；以及相对移动单元，其通过使上述传感器单元相对于被处理基板进行相对移动而使上述光束的光轴沿着被处理基板的上表面平行地进行扫描，该光学式异物检测装置的特征在于，具备：
第一单元，在沿着由上述相对移动单元进行的上述传感器单元的相对移动方向设定有多个检查区域，该第一单元按预先确定的每个采样定时测量各个上述检查区域中的每个检查区域的上述光束的受光量，得到各个检查区域中的每个检查区域的上述受光量的信息；
第二单元，其分别运算由上述第一单元得到的各个上述检查区域中的每个检查区域的受光量的信息、与以上述采样定时为单位的过去的同一检查区域的受光量的信息之间的差分，得到各个检查区域中的每个检查区域的上述差分值；
第三单元，其从由上述第二单元得到的各个检查区域中的每个检查区域的上述差分值中分别取出按照与上述传感器单元的相对移动历史记录相对应的检查区域顺序依次错开1个采样定时的上述差分值，并对所取出的各差分值进行加法运算；以及
第四单元，其根据由上述第三单元得到的加法运算输出的绝对值，判断是否存在异物。
3.根据权利要求1或2所述的光学式异物检测装置，其特征在于，
在上述第一单元中得到的上述受光量的信息是以通过按每个上述采样定时得到的上述光束的受光量与参考值的比较而得到的比例来表示的值。
4.根据权利要求1或2所述的光学式异物检测装置，其特征在于，
沿着上述传感器单元的相对移动方向，设定有3个或者4个检查区域。
5.根据权利要求1或2所述的光学式异物检测装置，其特征在于，
作为以上述采样定时为单位的过去的同一检查区域的受光量的信息，利用5个采样定时之前的受光量的信息。
6.一种处理液涂布装置，其特征在于，
具备处理液供给喷嘴，该处理液供给喷嘴与载置在载物台上的被处理基板相面对地进行相对移动，通过向上述被处理基板喷出处理液，将处理液涂布到上述基板的表面，
该处理液涂布装置通过在相对于上述被处理基板进行相对移动的处理液供给喷嘴的移动方向的前方搭载权利要求1或2所述的光学式异物检测装置，利用上述处理液供给喷嘴来作为上述相对移动单元。
7.根据权利要求6所述的处理液涂布装置，其特征在于，
在上述处理液供给喷嘴中具备沿上述基板的宽度方向延伸的狭缝状喷出开口，并构成为将从处理液供给喷嘴的上述狭缝状喷出开口带状地喷出的处理液涂布到上述基板的表面上，并将上述传感器单元配置成平行于上述狭缝状喷出开口的长度方向且沿着上述基板且紧贴着上述基板投射上述光束。
8.根据权利要求6所述的处理液涂布装置，其特征在于，
构成为在由上述光学式异物检测装置检测到存在异物的情况下，停止处理液供给喷嘴相对于上述基板的相对移动。
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