CN100535764C - 一种检测指定光强值所对应目标位置的方法 - Google Patents

一种检测指定光强值所对应目标位置的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN100535764C
CN100535764C CNB200710173572XA CN200710173572A CN100535764C CN 100535764 C CN100535764 C CN 100535764C CN B200710173572X A CNB200710173572X A CN B200710173572XA CN 200710173572 A CN200710173572 A CN 200710173572A CN 100535764 C CN100535764 C CN 100535764C
Authority
CN
China
Prior art keywords
light intensity
intensity value
value
sampling
specifying
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CNB200710173572XA
Other languages
English (en)
Other versions
CN101216677A (zh
Inventor
孙红梅
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd
Original Assignee
Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd filed Critical Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd
Priority to CNB200710173572XA priority Critical patent/CN100535764C/zh
Publication of CN101216677A publication Critical patent/CN101216677A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN100535764C publication Critical patent/CN100535764C/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

一种检测指定光强值所对应目标位置的方法，每次采样的位置均位于两侧最近两点的中心，且保证两边的两个采样点一个是大于指定光强值，一个小于指定光强值，与指定光强值之差的绝对值大于光强阈值。所有采样点必须位于一条直线上。当相邻两采样点的距离之差大于位置阈值的绝对值时，继续采样，直到小于位置阈值时，停止采样，再利用线形插值法得到指定光强值对应的目标位置。本发明既保证了定位目标的位置精度，又减少了花费的时间。

Description

一种检测指定光强值所对应目标位置的方法
技术领域
本发明涉及光刻检测装置，尤其涉及一种检测指定光强值所对应目标位置的方法。
背景技术
对曝光成像质量进行检测的光刻检测装置，通常由掩模台1，投影物镜2，工件台3组成，如图1所示，工件台3可实现水平X、Y方向和垂向方向运动，检测装置用于将掩模上的图形以一定的比例转移到工件台3上，工件台3上装有传感器4，用于采集光强信号，实现像质检测。
检测装置曝光时，掩模上的通孔标记投影到工件台上，其边缘线条的像是一段光强渐变的区域，如图2所示。我们在很多像质检测中需要精确确定这个明暗过渡区102中指定光强所对应的某一位置，明暗过度区102夹在暗区101和明区103之间，如设定通孔投影区域中最大光强为参考光强，确定明暗过渡区102中50％参考光强所对应的位置。现有技术的检测方法是，工件台上的点传感器在明暗过渡区中垂直边缘线条的方向上，以固定的步长，进行多次采样光强，再利用光强数据拟和得到明暗过渡区上光强随位置变化的曲线表达式，确定目标位置。
这种定位目标方法的位置精度取决于采样的步长，步长越大，花费的时间越短，但精度越低；步长越小，精度越高，但是花费的时间长。当定位目标的精度要求很高时，采样的步长必须很小，那么在固定的采样长度区域内采样的点数必然增加，花费的时间相应的增加。
发明内容
本发明为克服现有技术中为精确检测指定光强所对应的目标位置，耗费时间长的缺点，提供了一种检测指定光强值所对应目标位置的方法。
一种检测指定光强值所对应目标位置的方法，包括下列步骤：
(1)在工件台上通孔像明区的一个确定位置采样第一点，保证采样的光强值与指定光强值差的绝对值大于光强阈值，且采样点光强值大于指定光强值；
(2)在垂直于通孔边缘线条方向，并远离通孔的暗区采样第二点，两点距离为L，保证采样的光强值与指定光强值之差的绝对值大于光强阈值，且采样点光强值小于指定光强值；
(3)当第一点与第二点的位置距离大于位置阈值时，在第一点和第二点之间，距离第二点L/2处采样第三点；
(4)若第三点的光强值与指定光强值之差的绝对值大于光强阈值，且第二点与第三点距离大于位置阈值时，进行第四点的采样；
(5)依此类推，每次采样的位置均位于两侧最近两点的中心，且保证两边的两个采样点一个是大于指定光强值，一个小于指定光强值，与指定光强值差的绝对值大于光强阈值；
(6)当相邻两采样点的距离之差大于位置阈值的绝对值时，继续采样，直到小于位置阈值时，停止采样。
其中所述步骤(4)中，若第三点的光强值大于指定光强值，则在第二点和第三点之间，距离第三点L/4处采样第四点，第四点光强值与指定光强值之差的绝对值大于光强阈值时，
a、若第四点光强值小于指定光强值，且第四点与第三点距离大于位置阈值时，则在第四点和第三点之间，距离第四点L/8处采样第五点；
b、若第四点光强值大于指定光强值，且第四点与第二点距离大于位置阈值时，则在第四点和第二点之间，距离第四点L/8处采样第五点。
其中所述步骤(4)中，若第三点的光强值小于指定光强值，则在第一点和第三点之间，距离第三点L/4处采样第四点，第四点光强值与指定光强值之差的绝对值大于光强阈值时，
a、若第四点光强值小于指定光强值，则在第四点和第一点之间，距离第四点L/8处采样第五点。
b、若第四点光强值大于指定光强值，则在第四点和第三点之间，距离第四点L/8处采样第五点。
其中所有采样的点必须位于一条直线上。
其中若指定光强值是I，其所对应的目标位置是X，最后一个采样点的位置是X1，对应的光强值是I1，倒数第二个采样点的位置是X2，对应的光强值是I2，则利用线性插值法可得到光强值为I时所对应的目标位置X，即
I 2 - I 1 X 2 - X 1 = I - I 1 X - X 1 .
本发明由于采用了改变检测装置中工件台上点传感器的采样点位置及对采样数据进行线性插值的数学处理方法，既保证了定位目标的位置精度，又减少了花费的时间。
附图说明
图1为检测装置结构简图；
图2为传统定位目标的传感器采样路径示意图；
图3为快速定位目标的传感器采样路径示意图。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明所提供的检测方法做详细的描述，令工件台在垂向焦深范围内某一确定的位置上，先确定通孔标记中心在工件台上像的最大光强值作为参考光强值，再确定边缘线条像为参考光强值的25％和75％时所对应的位置P25、P75，其中
|P25-P75|＝A
工件台在不同的垂向位置时，A的值是不同的，离焦面越近，A越小，在焦面位置时，A达到最小值。
改变工件台的垂向位置，分别在每个垂向位置计算A的值，总共改变工件台的位置20次，共得到20个A的值，再利用最小二乘法，确定当A在最小值时所对应的工件台垂向位置，即工件台焦面的位置。
在测量参考光强值的25％所对应的目标位置之前还需确定两个参数，即位置阈值，光强阈值，其中这两个参数的值可以根据需要自行设定，当这两个参数值较小时，测量比较精确，25％参考光强值为指定光强值，其测试的步骤如下：
1、在工件台上通孔像明区103的一个确定位置(如通孔的参考中心位置)采样第一点，保证采样的光强值与指定光强值差的绝对值大于光强阈值，且采样点光强值大于指定光强值；
2、在垂直于通孔边缘线条方向，并远离通孔的暗区102采样第二点，两点距离为L，保证采样的光强值与指定光强值之差的绝对值大于光强阈值，且采样点光强值小于指定光强值；
3、当第一点与第二点的位置距离大于位置阈值时，在第一点和第二点之间，距离第二点L/2处采样第三点；
4、若第三点的光强值与指定光强值之差的绝对值大于光强阈值，且第二点与第三点距离大于位置阈值，
(1)若第三点的光强值大于指定光强值，则在第二点和第三点之间，距离第三点L/4处采样第四点，第四点光强值与指定光强值之差的绝对值大于光强阈值。
a、若第四点光强值小于指定光强值，且第四点与第三点距离大于位置阈值时，则在第四点和第三点之间，距离第四点L/8处采样第五点；
b、若第四点光强值大于指定光强值，且第四点与第二点距离大于位置阈值时，则在第四点和第二点之间，距离第四点L/8处采样第五点。
(2)、若第三点的光强值小于指定光强值，则在第一点和第三点之间，距离第三点L/4处采样第四点，第四点光强值与指定光强值之差的绝对值大于光强阈值。
a、若第四点光强值小于指定光强值，则在第四点和第一点之间，距离第四点L/8处采样第五点；
b、若第四点光强值大于指定光强值，则在第四点和第三点之间，距离第四点L/8处采样第五点；
(5)依此类推，每次采样的位置均位于两侧最近两点的中心，且保证两边的两个采样点一个是大于指定光强值，一个小于指定光强值，与指定光强值之差的绝对值大于光强阈值。所有采样点必须位于一条直线上。
(6)当相邻两采样点的距离之差大于位置阈值的绝对值时，继续采样，直到小于位置阈值时，停止采样。位置阈值和光强阈值决定了采样精度，位置阈值越小，光强阈值越小，采样精度越高。
由于位置阈值很小，所以在很短的距离内可以近似认为光强随位置是均匀变化的，故可以利用线性插值的方法求指定光强值对应的目标位置。
令指定光强值是I，其所对应的目标位置是X，最后一个采样点的位置是X1，对应的光强值是I1，倒数第二个采样点的位置是X2，对应的光强值是I2，则根据公式(1)可得到光强值为I时所对应的目标位置X，
I 2 - I 1 X 2 - X 1 = I - I 1 X - X 1 - - - ( 1 )
参考光强值的75％所对应位置的确定方法与之相同。
本发明通过改变检测装置中工件台上点传感器的采样点位置及对采样数据的数学处理方法，既保证了定位目标的位置精度，又减少了花费的时间。

Claims (5)

1、一种检测指定光强值所对应目标位置的方法，其特征在于，包括下列步骤：
(1)在工件台上通孔像明区的一个确定位置采样第一点，保证采样的光强值与指定光强值差的绝对值大于光强阈值，且采样点光强值大于指定光强值；
(2)在垂直于通孔边缘线条方向，并远离通孔的暗区采样第二点，两点距离为L，保证采样的光强值与指定光强值之差的绝对值大于光强阈值，且采样点光强值小于指定光强值；
(3)当第一点与第二点的位置距离大于位置阈值时，在第一点和第二点之间，距离第二点L/2处采样第三点；
(4)若第三点的光强值与指定光强值之差的绝对值大于光强阈值，且第二点与第三点距离大于位置阈值时，进行第四点的采样；
(5)依此类推，每次采样的位置均位于两侧最近两点的中心，且保证两边的两个采样点一个是大于指定光强值，一个小于指定光强值，与指定光强值差的绝对值大于光强阈值；
(6)当相邻两采样点的距离之差大于位置阈值的绝对值时，继续采样，直到小于位置阈值时，停止采样。
2、如权利要求1所述的一种检测指定光强值所对应目标位置的方法，其特征在于，所述步骤(4)中，若第三点的光强值大于指定光强值，则在第二点和第三点之间，距离第三点L/4处采样第四点，第四点光强值与指定光强值之差的绝对值大于光强阈值时，
a、若第四点光强值小于指定光强值，且第四点与第三点距离大于位置阈值时，则在第四点和第三点之间，距离第四点L/8处采样第五点；
b、若第四点光强值大于指定光强值，且第四点与第二点距离大于位置阈值时，则在第四点和第二点之间，距离第四点L/8处采样第五点。
3、如权利要求1所述的一种检测指定光强值所对应目标位置的方法，其特征在于，所述步骤(4)中，若第三点的光强值小于指定光强值，则在第一点和第三点之间，距离第三点L/4处采样第四点，第四点光强值与指定光强值之差的绝对值大于光强阈值时，
a、若第四点光强值小于指定光强值，则在第四点和第一点之间，距离第四点L/8处采样第五点；
b、若第四点光强值大于指定光强值，则在第四点和第三点之间，距离第四点L/8处采样第五点。
4、如权利要求1所述的一种检测指定光强值所对应目标位置的方法，其特征在于，所有采样的点必须位于一条直线上。
5、如权利要求1所述的一种检测指定光强值所对应目标位置的方法，其特征在于，若指定光强值是I，其所对应的目标位置是X，最后一个采样点的位置是X1，对应的光强值是I1，倒数第二个采样点的位置是X2，对应的光强值是I2，则利用线性插值法可得到光强值为I时所对应的目标位置X，即
I 2 - I 1 X 2 - X 1 = I - I 1 X - X 1 .
CNB200710173572XA 2007-12-28 2007-12-28 一种检测指定光强值所对应目标位置的方法 Active CN100535764C (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CNB200710173572XA CN100535764C (zh) 2007-12-28 2007-12-28 一种检测指定光强值所对应目标位置的方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CNB200710173572XA CN100535764C (zh) 2007-12-28 2007-12-28 一种检测指定光强值所对应目标位置的方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101216677A CN101216677A (zh) 2008-07-09
CN100535764C true CN100535764C (zh) 2009-09-02

Family

ID=39623128

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB200710173572XA Active CN100535764C (zh) 2007-12-28 2007-12-28 一种检测指定光强值所对应目标位置的方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN100535764C (zh)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102402139A (zh) * 2010-09-14 2012-04-04 上海微电子装备有限公司 一种确定工件台光电传感器最佳高度的方法
CN105116691B (zh) * 2015-09-16 2017-07-11 中国科学院光电技术研究所 一种光刻机工件台探测器最佳高度确定方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1577096A (zh) * 2003-06-26 2005-02-09 Asml荷兰有限公司 光刻装置的校准方法和器件制造方法
CN1900825A (zh) * 2006-07-21 2007-01-24 上海微电子装备有限公司 一种提高光强探测器测量精度的方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1577096A (zh) * 2003-06-26 2005-02-09 Asml荷兰有限公司 光刻装置的校准方法和器件制造方法
CN1900825A (zh) * 2006-07-21 2007-01-24 上海微电子装备有限公司 一种提高光强探测器测量精度的方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN101216677A (zh) 2008-07-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102073324B (zh) 一种基于线性偏振光的偏振实时跟踪方法
CN101660932A (zh) 一种指针式汽车仪表自动校验方法
CN101308155B (zh) 机械臂校准
US20130137121A1 (en) Method And Device For Assay Determination
CN105700297B (zh) 振幅监测系统、调焦调平装置及离焦量探测方法
CN103528953A (zh) 一种岩心图像采集系统的镜头对焦方法
TW202129278A (zh) 用於維持在探針系統的光學探針和受測裝置的光學裝置之間的空隙間隔之方法以及執行該方法的探針系統
CN100535764C (zh) 一种检测指定光强值所对应目标位置的方法
CN204461354U (zh) 一种激光测距机光轴检测系统
CN113739661A (zh) 一种测量标尺和检测构件表面裂缝的方法
CN104316530A (zh) 一种零部件检测方法及应用
US8743350B2 (en) Measuring device for characterizing two-phase flows
CN104776804B (zh) 基于非接触式微小距离测量的光学相机装调方法及装置
CN110208365B (zh) 一种基于脉冲漏磁信号暂态特征的缺陷量化评估方法
CN108534699B (zh) 一种激光光幕靶距精确测量装置及测量方法
CN103575655A (zh) 一种红外气体传感器
CN215952393U (zh) 一种工具式比对测量构件表面裂缝宽度的标尺
CN100468209C (zh) 一种提高光强探测器测量精度的方法
JP2014048280A (ja) 近接センサの距離特性検査方法
CN107726977A (zh) 一种位置检测机构及位置检测方法
CN207937605U (zh) 一种超精密激光位移传感器
CN113945134A (zh) 一种滑动测微计的零飘测定装置及其测定方法
JP2002148001A (ja) ダイヤルゲージ検査装置
CN103438992A (zh) 一种带有自动定位功能的照度计
CN109298179B (zh) 一种免疫层析检测系统及其背景识别方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CP01 Change in the name or title of a patent holder
CP01 Change in the name or title of a patent holder

Address after: 201203 Zhangjiang High Tech Park, Shanghai, Zhang Dong Road, No. 1525

Patentee after: Shanghai microelectronics equipment (Group) Limited by Share Ltd

Address before: 201203 Zhangjiang High Tech Park, Shanghai, Zhang Dong Road, No. 1525

Patentee before: Shanghai Micro Electronics Equipment Co., Ltd.