TWI402598B - 用以控制顯示器角度特色之光學膜 - Google Patents

用以控制顯示器角度特色之光學膜 Download PDF

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Description

用以控制顯示器角度特色之光學膜
本發明之領域係關於微機電系統(MEMS)。
微機電系統(MEMS)包括微機械元件、致動器及電子儀器。可使用蝕刻掉部分基板及/或經沉積之材料層、或加入層以形成電及機電裝置之沉積、蝕刻及或其它微加工製程來建置微機械元件。一種類型之MEMS裝置稱為干涉調變器。在本文中，術語"干涉調變器"或"干涉光調變器"係指使用光干涉原理之有選擇地吸收及/或反射光之裝置。在特定實施例中，干涉調變器可包含一對傳導板，其一個或兩者可為全部或部分透明及/或反射性的，且施加適當電訊號後能夠相對移動。在一特定實施例中，一個板可包含一沉積於一基板上之固定層，且另一板可包含金屬膜，其藉由氣隙自固定層分離。如更詳細地在本文中所說明，一個板相對於另一板之位置可改變干涉調變器上入射光之光干涉。此等裝置具有廣泛用途，且在此項技術中，利用及/或修飾此等類型裝置之特色以便其特徵可用於改良現存產品並建置未開發之新產品係有益的。
本發明之系統、方法及裝置各自具有數種態樣，其中單一態樣並未單獨造成本發明之理想特性。現將簡要地討論本發明之更顯著之特徵而不限制本發明之範疇。考慮到此討論後，且特定言之閱讀題名為"實施方式"之部分後，吾人將理解本發明之特徵如何提供相對於其它顯示器裝置之優點。
在一個實施例中，提供一顯示器，該顯示器包含：包括第一及第二光學表面之複數個光調變元件，該第二光學表面可相對於該第一光學表面移動；及經組態以限制該顯示器視域的複數個元件。
在另一實施例中，提供一顯示器，該顯示器包含：包括第一及第二光學表面之複數個光調變元件，該第二光學表面可相對於該第一光學表面移動；及一位於複數個光調變元件之前之漫射元件，其經組態以漫射光以使得入射於漫射元件上之光比入射光更準直地引導至光調變元件。
在另一實施例中，提供製造顯示器之方法，該方法包含：形成包括第一及第二光學表面之複數個光調變元件，該第二光學表面可相對於該第一光學表面移動；並形成經組態用以限制該顯示器視域的複數個元件。
在另一實施例中，提供一製造顯示器之方法，該方法包含：形成包括第一及第二光學表面之複數個光調變元件，該第二光學表面可相對於該第一光學表面移動；並形成位於光調變元件之前之複數個漫射元件，其經組態以接收廣泛角度範圍內入射之光，並引導更窄角度範圍之光至調變元件上。
在另一實施例中，提供一顯示器，該顯示器包含：用於調變光之構件，其包含用於操作光之第一及第二光學構件，該第二光學構件可相對於該第一光學構件移動；及限制該光調變構件之視域的構件。
在另一實施例中，提供一顯示器，該顯示器包含：用於調變光之構件，其包含用於操作光之第一及第二光學構件，該第二光學構件可相對於該第一光學構件移動；及於光調變構件之前漫射光以使得入射於漫射元件上之光比入射於其上之光更準直地引導至光調變構件的構件。
微機電系統(MEMS)包括微機械元件、致動器及電子儀器。可使用蝕刻掉部分基板及/或經沉積之材料層、或加入層以形成電及機電裝置之沉積、蝕刻及或其它微加工製程來建置微機械元件。一種類型之MEMS裝置稱為干涉調變器。如在本文中所用，術語"干涉調變器"或"干涉光調變器"係指使用光干涉原理之有選擇地吸收及/或反射光之裝置。在特定實施例中，干涉調變器可包含一對傳導板，其一個或兩者可為全部或部分透明及/或反射性的，且施加適當電訊號後能夠相對移動。在一特定實施例中，一個板可包含一沉積於一基板上之固定層，且另一板可包含金屬膜，其藉由氣隙自固定層分離。如更詳細地在本文中所說明，一個板相對於另一板之位置可改變干涉調變器上入射光之光干涉。此等裝置具有廣泛用途，且在此項技術中，利用及/或修飾此等類型裝置之特色以便其特徵可用於改良現存產品並建置未開發之新產品係有益的。
在本發明之各種實施例中，提供具有一外部膜之干涉顯示裝置，其中該外部膜具有縮小該顯示器之視域的複數個結構。舉例而言，此等結構可包含隔板或諸如複合式抛物線聚光器之非成像光學元件。該等隔板可包含排列成(例如)柵格的複數個垂直對準之表面。在特定較佳實施例中，此等隔板為不透明或反射性的。因而此等垂直表面能夠大體上阻擋光以大體上非垂直方向離開該干涉顯示裝置。然而，此等垂直表面可允許以大體上垂直方向導向之光離開該顯示器。例如複合式抛物線聚光器之非成像光學元件將光自大入射角以更法向之角度重定向至該顯示器。結果，藉由顯示器反射至使用者之光亦處於更法向之角度。
圖1 描述了一個干涉調變器顯示器實施例，其包含一個干涉MEMS顯示元件。在此等裝置中，像素為發亮或黑暗狀態。在發亮("啟動"或"打開")狀態，顯示元件將入射可見光之一大部分反射至使用者。當在黑暗("停止"或"關閉")狀態，顯示元件將很少入射可見光反射至使用者。視實施例之情況而定，可反轉"啟動"或"停止"狀態之光反射性質。可組態MEMS像素以主導地反射選擇之顏色，允許顯示除了黑色及白色之外之顏色。
圖1 為等角視圖，其描述一視覺顯示器之一系列像素中之兩個相鄰像素，其中每一像素包含一MEMS干涉調變器。在某些實施例中，干涉調變器顯示器包含一列/一行此等干涉調變器陣列。每一干涉調變器包括一對反射性層，其以一彼此間可變及可控制距離定位以形成一具有至少一個可變維度之諧振光學腔。在一個實施例中，一個反射層可在兩個位置之間移動。在第一位置(本文稱之為鬆弛位置)，可移動反射層位於自固定之部分反射層相對大之距離處。在第二位置(本文稱之為致動位置)，可移動反射層與部分反射層更緊密相鄰定位。視可移動反射層之位置的情況而定，自該等兩個層反射之入射光建設性地或破壞性干涉，對於每一像素產生全反射性或非反射性狀態。
圖1 之像素陣列之經描述部分包括兩個相鄰干涉調變器12a及12b。在左側之干涉調變器12a中，所描述之可移動反射層14a以自一光學堆疊16a之預定距離處於鬆弛位置，該光學堆疊16a包括部分反射層。在右側之干涉調變器12b，所描述之該可移動反射層14b處於一與光學堆疊16b相鄰之致動位置。
如在本文中所使用，光學堆疊16a及16b(統稱為光學堆疊16)，通常包含數個熔合層，其可包括一諸如氧化銦錫(ITO)之電極層、一諸如鉻之部分反射層，及一透明介電質。光學堆疊16因此係導電、部分透明且部分反射性的，且可藉由，例如，於透明基板20上沉積一個或多個該等上述層來製造。在某些實施例中，該等層可圖案化成平行帶，且可如下進一步所述在一顯示裝置中形成列電極。該等可移動反射層14a、14b可形成一系列沉積於柱18及沉積於柱18之間之干涉犧牲材料之上方之沉積金屬層(與列電極16a、16b成直角)平行帶。當蝕刻掉犧牲材料時，藉由一已確定之間隙19將該等可移動反射層14a、14b自光學堆疊16a、16b分離。一諸如鋁之高傳導性及反射性材料可用於反射層14，且此等帶可形成顯示裝置中之行電極。
不施加電壓時，腔19保持於可移動反射層14a及光學堆疊16a之間，且可移動反射層14a於機械鬆弛狀態，如圖1 中之像素12a說明。然而，當於選擇之列及行上施加電位差時，形成於相應像素處之列及行電極相交處之電容器充電，且靜電力將該等電極牽引在一起。若電壓足夠高，則可移動反射層14變形，且受迫抵靠著光學堆疊16。如圖1 中右側像素12b所描述，光學堆疊16內之介電質層(未在此圖中描繪)可防止短路並控制層14及16之間之分離距離。不管施加電位差極性，該行為係相同的。由此，控制反射性對非反射性像素狀態之列/行致動在許多方面類似於使用於習知LCD及其它顯示技術中之致動。
圖2 至5B 說明一個示例性製程及系統，用於在一顯示器應用中使用干涉調變器之一陣列。
圖2 為系統方塊圖，說明了一可併入本發明態樣之電子裝置之一個實施例。在示例性實施例中，該等電子裝置包括處理器21，其可為任何通用單一或多晶片微處理器，諸如ARM、Pentium、Pentium II、Pentium III、Pentium IV、PentiumPro、8051、MIPS、Power PC、ALPHA，或諸如數位訊號處理器、微控制器之任何專用微處理器，或一可程式化閘極陣列。如在此項技術中所習知，可組態處理器21以執行一個或多個軟體模組。除了執行作業系統外，可組態該處理器以執行一個或多個軟體應用，包括網頁瀏覽器、電話應用、電子郵件程式或任何其它軟體應用。
在一個實施例中，亦組態處理器21以與陣列驅動器22通信。在一個實施例中，陣列驅動器22包括向顯示陣列或顯示板30提供訊號之一列驅動器電路24及一行驅動器電路26。藉由在圖2 中之線1－1展示圖1 中描述之陣列的截面。對於MEMS干涉調變器，列/行致動協定可利用圖3 中描述之此等裝置之滯後性質。例如，可需要10伏特電位差以引發一可移動層以自鬆弛狀態變形為致動狀態。然而，當電壓自該值降低時，可移動層保持其狀態如同電壓降低至10伏特以下一樣。在圖3 之示例性實施例中，可移動層直至電壓降至2伏特以下才完全鬆弛。因此在圖3 描述之實施例中存在一約3至7 V之電壓範圍，其中存在一施加電壓之窗，在該窗內裝置穩定為鬆弛或致動狀態。本文中稱此為"滯後窗"或"穩定窗"。對於具有圖3 之滯後特色的顯示陣列，可設計列/行致動協定以使得在列選通期間，在經選通列之待致動之像素，曝露於約10伏特之電壓差，且待鬆弛之像素曝露於接近0伏特之電壓差。選通後，曝露像素於約5伏特之穩定狀態電壓差以使得其保持列選通使其進入之狀態。開始寫入後，每一像素發生一在此實例之3－7伏特"穩定窗"內之電位差。此特徵使得在圖1 中描述之像素設計在相同施加電壓條件下穩定於致動或鬆弛預存在狀態中。因為不管在致動或鬆弛狀態，干涉調變器之每一像素基本上係一藉由固定及移動反射層而形成之電容器，此狀態狀態可保持於一在滯後窗內之電壓，而幾乎無功率耗散。若固定施加電位，則基本上沒有電流流入像素。
在典型應用中，可根據第一列所需之致動像素組藉由確定行電極組來建置顯示框架。然後向列1電極施加列脈衝，致動相應於確定行之線的像素。然後將行電極之確定組變為相應於第二列中所需致動像素組。然後向列2電極施加脈衝，根據確定之行電極而致動在列2中之適當像素。列1像素未受列2脈衝影響，並保持於列1脈衝期間設置之狀態。此可以相繼方式對全部連續之列進行重複以產生框架。通常而言，藉由以每秒某一所需框架數目連續重複此過程，用新顯示資料刷新及/或更新該等框架。用於驅動像素陣列之列及行電極以產生顯示框架之廣泛種類之協定亦為人熟知，且可與本發明聯合使用。
圖4、5A 及5B 說明一個可能的致動協定，用於建置圖2 之3×3陣列上之顯示框架。圖4 說明一組可能的行及列電壓位準，其可用於顯出圖3 滯後曲線之像素。在圖4 之實施例中，致動一像素涉及將適當行設置為－V偏 差 ，並將適當列設置為＋△V，其分別可相當於－5伏特及＋5伏特。鬆弛像素可由將適當行設置為＋V偏 差 ，並將適當列設置為相同＋△V從而產生穿過該像素之一零伏特電位差而完成。在此等列電壓保持在零伏特之列，不論行處於＋V偏 差 ，或－V偏 差 ，像素穩定在其初始的任何狀態。如亦在圖4中所說明，應理解可用除彼等上述外之相反極性之電壓，例如，致動像素可涉及將適當行設置為＋V偏 差 ，並將適當列設置為－△V。在此實施例中，藉由將適當行設置為－V偏 差 ，並將適當列設置為相同－△V從而產生穿過該像素之一零伏特電位差而完成釋放像素。如亦在圖4中所說明，應理解可用除彼等上述外之相反極性之電壓，例如，致動像素可涉及將適當行設置為＋V偏 差 ，並將適當列設置為－△V。在此實施例中，藉由將適當行設置為－V偏 差 ，並將適當列設置為相同－△V，而產生穿過該像素之一零伏特電位差而完成釋放像素。
圖5B 係一時序圖，其展示了一系列施加至圖2 之3×3陣列之列及行訊號，其將導致圖5A中說明之顯示配置，其中致動像素為非反射性的。寫入圖5A 中說明之框架之前，該等像素可為任意狀態，且在此實例中，所有的列處在0伏特，且所有的行處在＋5伏特。在此等施加電壓下，所有像素穩定在其現存致動或鬆弛狀態。
在圖5A 框架中，致動像素(1,1)、(1,2)、(2,2)、(3,2)及(3,3)。為完成此，在列1之"線路時間"期間，將行1及2設置為－5伏特，並將行3設置為＋5伏特。因為所有像素保留在3－7伏特穩定性窗內，所以此不改變任何像素之狀態。然後用一自0升至5伏特再降至零之脈衝選通列1。此致動(1,1)及(1,2)像素並鬆弛(1,3)像素。在陣列中之其它像素未受影響。為將列2按照所需設置，將行2設為－5伏特，並將行1及3設置為＋5伏特。施加至列2之同樣選通然後將致動像素(2,2)並鬆弛像素(2,1)及(2,3)。又，陣列中之其它像素未受影響。類似地藉由將行2及3設置為－5伏特並將行1設置為＋5伏特而設置列3。如圖5A 所示，列3選通設置列3像素。寫入框架後，列電位為零，且行電位可保持為＋5或－5伏特，且該顯示器接著穩定在圖5A 之配置。應理解同樣程序可用於數十或數百列及行之陣列。亦應理解用於執行列及行之致動之電壓的時序、序列及位準可在上述通用原則內廣泛變化，且上述實例僅為示例性的，且本文描述之系統及方法可使用任何致動電壓方法。
圖6A 及6B 為系統方塊圖，其說明一顯示裝置40的實施例。例如，顯示裝置40可為蜂巢式電話或行動電話。然而，顯示裝置40之相同元件或其輕微變化亦說明各種顯示裝置之類型，諸如電視及攜帶型媒體播放機。
顯示裝置40包括外殼41、顯示器30、天線43、揚聲器44、輸入裝置48及麥克風46。外殼41通常自熟習此項技術者所熟知之包括射出成形、真空成形之任何各種製造方法形成。另外，外殼41可由任何各種材料製成，包括但不限於塑膠、金屬、玻璃、橡膠及陶瓷或其組合。在一個實施例中，該外殼41包括可移除部分(未顯示)，其可與其它不同顏色或含有不同標識、圖片或符號之可移除部分互換。
示例性顯示裝置40之顯示器30可為如本文所述之任何各種顯示器，包括雙穩態顯示器。在其它實施例中，顯示器30包括平板顯示器，諸如電漿、EL、OLED、STN LCD或上述TFT LCD；或非平板顯示器，諸如CRT或其它為熟習此項技術者所熟知之顯像管裝置。然而，為說明本實施例之目的，顯示器30包括一如本文說明之干涉調變器顯示器。
在圖6B 中圖解地說明示例性顯示裝置40之一個實施例之元件。所說明之示例性顯示裝置40包括外殼41並可包括至少部分封閉於其中之額外元件。例如，在一個實施例中，示例性顯示裝置40包括網路接口27，其包括一與收發器47耦接之天線43。收發器47連接至處理器21，其連接至調節硬體52。可組態調節硬體52以調節訊號(例如過濾訊號)。調節硬體52連接至揚聲器45及麥克風46。處理器21亦連接至輸入裝置48及驅動器控制器29。驅動器控制器29耦接至框架緩衝器28及陣列驅動器22，陣列驅動器22又耦接至顯示陣列30。電源50按照特定示例性顯示裝置40設計之要求向所有元件提供功率。
網路接口27包括天線43及收發器47，以使得示例性顯示裝置40可與一個或多個裝置於網路上通信。在一個實施例中，網路接口27亦可具有某些處理能力以減輕處理器21之要求。天線43為任何為熟習此項技術者已知之用於發射並接收訊號的天線。在一個實施例中，該天線根據IEEE 802.11標準(包括IEEE 802.11(a)、(b)或(g))發射並接收RF訊號。在另一實施例中，天線根據藍牙標準發射並接收RF訊號。在蜂巢式電話之情形中，天線經設計以接收CDMA、GSM、AMPS或其它用於在一無線手機網路中通信的已知訊號。收發器47預處理自天線43接到之訊號以使其可由處理器21接收並進一步操作。收發器47亦處理自處理器21接收到之訊號以使其可自示例性顯示裝置40經天線43發射。
在一替代實施例中，收發器47可由接收器替代。仍在另一替代實施例中，網路接口27由一影像源替代，其可儲存或產生將送至處理器21之影像資料。例如，影像源可為含有影像資料之數位視訊光碟(DVD)或硬碟機，或產生影像資料之軟體模組。
處理器21通常控制示例性顯示裝置40之全部操作。處理器21接收資料，諸如來自網路接口27或影像源之經壓縮之影像資料，並將該資料處理為原始影像資料或容易處理成為原始影像資料之格式。然後處理器21將經處理之資料送至驅動器控制器29或框架緩衝器28用於儲存。原始資料通常係指識別一影像內每一位置之影像特色之資訊。例如，此等影像特色可包括顏色、飽和度及灰階度。
在一個實施例中，處理器21包括微控制器、CPU或邏輯單元以控制示例性顯示裝置40之操作。調節硬體52通常包括放大器及濾波器，用於將訊號發射至揚聲器45，並自麥克風46接收訊號。調節硬體52可為在示例性顯示裝置40中之離散元件，或可併入處理器21或其它元件中。
驅動器控制器29直接自處理器21或自框架緩衝器28獲取處理器21產生之原始影像資料，並適當地重定原始影像資料之格式以適於高速傳輸至陣列驅動器22。具體言之，驅動器控制器29將原始影像資料重定格式成為資料流，其具有類似光柵之格式，以使其具有一適於掃描遍及顯示陣列30之時間順序。然後驅動器控制器29將格式化之資訊送至陣列驅動器22。儘管諸如LCD控制器之驅動器控制器29經常與系統處理器21聯合為一單機積體電路(IC)，但是可以許多方式執行此等控制器。其可作為硬體嵌入處理器21、可作為軟體嵌入處理器21或與陣列驅動器22一起完全整合於硬體中。
通常，陣列驅動器22接收來自驅動器控制器29之格式化之資訊，並將該視訊資料重定格式為平行波形組，其每秒多次施加至數百且有時數千個來自顯示器x－y像素矩陣之導線。
在一個實施例中，驅動器控制器29、陣列驅動器22及顯示陣列30適於本文中說明之任何類型的顯示器。例如，在一個實施例中，驅動器控制器29為習知顯示器控制器或雙穩態顯示器控制器(例如，干涉調變器控制器)。在另一實施例中，陣列驅動器22為習知驅動器或雙穩態顯示器驅動器(例如，干涉調變器顯示器)。在一個實施例中，驅動器控制器29與陣列驅動器22整合。此實施例在高整合度系統諸如蜂巢式電話、表及其它小面積顯示器中是常見的。仍在另一實施例中，顯示陣列30為典型顯示陣列或雙穩態顯示器陣列(例如，一包括干涉調變器之陣列之顯示器)。
輸入裝置48允許使用者控制示例性顯示裝置40之操作。在一個實施例中，輸入裝置48包括諸如標準電腦鍵盤或電話小鍵盤之小鍵盤、按鈕、開關、觸敏式螢幕、壓敏膜或熱敏膜。在一個實施例中，麥克風46為用於示例性顯示裝置40之輸入裝置。當使用麥克風46以向裝置輸入資料時，使用者可提供語音指令用於控制示例性顯示裝置40之操作。
電源50可包括各種在此項技術中熟知之能量儲存裝置。例如，在一個實施例中，電源50為諸如鎳－鎘電池或鋰離子電池之可充電電池。在另一實施例中，電源50為可更新能量源、電容器或太陽能電池，包括塑膠太陽能電池及太陽能電池漆。在另一實施例中，電源50經組態以接收來自壁式插座之功率。
在某些實施例中，如上所述，控制可程式性存在於驅動器控制器中，其可位於電子顯示系統中之若干位置。在某些情形中控制可程式性存在於陣列驅動器22中。熟習此項技術者將認可上述最優化可實施於任何數目之硬體及/或軟體元件及各種組態中。
根據上文闡明之原則操作之干涉調變器結構的細節可廣泛變化。例如，圖7A－7E 說明可移動反射層14及其支撐結構的五個不同實施例。圖7A 為圖1 實施例之截面，其中金屬材料帶14沉積於成直角地延伸之支撐物18上。在圖7B 中，可移動反射層14僅在栓鏈32之角落處附接至支撐物。在圖7C 中，可移動反射層14自一可變形層34懸垂，可變形層34可包含可撓性金屬。可變形層34直接或間接與圍繞可變形層34之周邊的基板20連接。此等連接在本文中稱為支撐柱。圖7D 中說明之實施例具有支撐柱塞42，可變形層34憑靠於其上。如圖7A－7C 所示，可移動反射層14保持懸垂在腔上方，但可變形層34未藉由填充可變形層34與光學堆疊16之間之空洞而形成支撐柱。確切而言，該等支撐柱由平坦材料形成，該材料用於形成支撐柱塞42。在圖7E 中說明之實施例係基於圖7D 所示之實施例，但亦可適用於任何在圖7A－7C 中說明之實施例以及未顯示之額外實施例。在圖7E 所示之實施例中，已使用額外一層金屬或其它傳導材料以形成匯流排結構44。此允許訊號沿著該等干涉調變器之後部選徑，消除許多可能需要另外形成於基板20上之電極。
在諸如此等圖7 所示之實施例中，干涉調變器充當直視型裝置，其中自透明基板20之前側(與其上配置調變器之側相反之側)觀看影像。在此等實施例中，反射層14於反射層之與基板20相反之一側上光學地屏蔽干涉調變器之部分，包括可變形層34。此允許組態並操作經屏蔽之區域而不負面地影響影像品質。此屏蔽允許在圖7E 中之匯流排結構44，其提供自調變器之機電性質分離調變器光學性質的能力，諸如定址及自該定址引發之運動。此可分離調變器架構允許彼此獨立地選擇並運行用於調變器之機電態樣及光學態樣的結構設計及材料。此外，圖7C－7E 所示之實施例具有來源於反射層14之光學性質自其機械性質解偶的額外優勢，該等機械性質藉由可變形層34執行。此允許於光學性質方面最優化用於反射層14之結構設計及材料，且於所需機械性質方面最優化用於反射層34之結構設計及材料。
如上所述，來自直視型顯示器之像元(像素)可包含諸如圖7A－7E 所示之元件。在各種實施例中，具有未偏轉狀態之鏡14的此等調變器元件將為明亮或‘ON’。當鏡14朝向腔之前表面移動至其完全設計深度進入該腔時，腔中之變化引起所得像素為‘黑暗’或OFF。對於顏色像素，視調變器組態及顯示顏色方案而定，個別調變元件之ON狀態可為白色、紅色、綠色、藍色或其它顏色。在某些使用紅色/綠色/藍色(RGB)像素之實施例中，例如，一單一顏色像素包含許多建置干涉藍色光之調變器元件、相似數目之建置干涉紅色光之調變器元件及相似數目之建置干涉綠色光之調變器元件。藉由根據顯示資訊移動該等鏡，該調變器可產生全色影像。
可使用各種實施例，包括可使用各種光學膜對干涉調變器裝置之改良。該等光學膜包括來自捲筒上或薄片型之膜。膜附著於干涉調變器或在其附近，並定位該膜以使得自干涉調變器反射之光當傳播至觀察者時穿過該膜。該等光學膜亦可包括於干涉調變器之表面上展布、濺鍍或另外經沉積之塗層，以使得自干涉調變器反射之光當傳播至觀察者時穿過該膜。
該等膜通常沉積於干涉調變器之外部表面，以使得可達到所需光學特色而不改變干涉調變器自身。本文使用之"外部"係指該膜於所製造之干涉調變器外之置放，例如，於干涉調變器之基板之外表面上，以使得製造干涉調變器顯示器後可施加該外部膜。外部膜可安置於首先接收入射光之干涉調變器之表面上或附近，本文稱之為干涉調變器之外表面。此外表面亦為定位於最接近觀察干涉調變器者之表面。外部膜可在形成干涉調變器之層上，或可形成於一個或多個形成於干涉調變器之層上。儘管在本文中各種實施例通常說明為在干涉調變器顯示器之外部，在其它實施例中此等類型之膜亦可製造於干涉調變器之內部，及/或該等說明之外部膜之特色可併入干涉調變器中(例如，在製造干涉調變器期間)以達到相似效果。
如在圖8A 中所示，顯示器100A之一個實施例包括空間光調變器105及外部膜110，其位於空間光調變器105之外表面115上或附近。空間光調變器105為干涉調變器裝置之表示，其可包括，例如，基板、導體層、部分反射器層、介電質層及可移動反射器(亦稱為鏡)，該反射器經組態具有一介於可移動鏡與介電質之間之間隙。空間光調變器105可為，但不限於，全色、單色或黑色及白色干涉調變器顯示裝置。干涉調變器之設計及操作在，例如，美國專利第6,650,455號、第5,835,255號、第5,986,796號及第6,055,090號中詳細說明，其全部以引用的方式併入本文中。
外部膜110可以各種方法製造，包括，例如使用外部膜110傾瀉、旋塗、沉積於該顯示器上或層積至該顯示器的製造技術。在某些實施例中，外部膜110為單獨膜層，而在其它實施例中外部膜110包括多於一個之膜層。若外部膜110包含多於一個之膜層，則每一膜層可具有不同性質，其影響自空間光調變器105反射及穿過外部膜110傳播之光之一個或多個特色。多層外部膜110之每一層可藉由相同膜製造技術或不同膜製造技術製造，例如，任何單獨層可例如傾瀉、旋塗、沉積於相鄰層上或層積至相鄰層。其它定向及組態亦係可能的。
參照圖8B ，顯示器100B之一個實施例於RGB空間光調變器105B之外表面115上具有外部膜110，RGB空間光調變器105包含顏色干涉調變器。在此實施例中，RGB空間光調變器105B包含於多層125上之基板120，多層125包含，例如，傳導層(其至少為部分透射的)、部分反射層及介電質層125，接著介電質層125位於一組反射器(例如鏡)之上，該組反射器包括紅色150、綠色160及藍色170反射器，各自具有分別對應於紅色、綠色及藍色顏色之不同間隙寬度175、180、190。在特定實施例中，如圖8B 所述，基板120可於外部膜110與反射器150、160、170之間。在其它實施例中，反射器150、160、170可於外部膜110與基板120之間。
在其它實施例中，外部膜可安置於單色或黑色及白色干涉調變器之上。如圖8C 所示，該單色或黑色及白色空間光調變器105C所包含之基板120位於傳導層、部分反射層124、介電質層125之上，介電質層125又在一組反射器(例如鏡)130、135、140之上。單色空間光調變器105C經製造具有反射器130、135、140，其經組態具有於反射器130、135、140與介電質層125之間之單一間隙寬度145。
在特定實施例中，外部膜可漫射自干涉調變器顯示器反射之光。可至少部分漫射自干涉調變器顯示器反射之光以使得該顯示器具有與紙相似之外觀(例如，該顯示器看似漫射地反射)。
參照圖9 ，顯示器300可包括外部漫射膜305，其定位於空間光調變器105上。反射性空間光調變器105鏡面地反射入射於顯示器300上之光320。當經鏡面地反射之光307自顯示器300傳播時，漫射膜305改變該經鏡面地反射之光307之特色，經鏡面地反射之光307改變成為漫射光330。漫射體305亦漫射入射於干涉調變器上之光。
漫射膜305可由多種材料製造，且可包括一個或多個漫射材料層。漫射體305可包括具有表面變化(例如皺紋及粗糙)或材料變化的材料。此變化可在不同實施例中折射或散射光。廣泛種類之漫射體305係可能的，且不限於本文說明之彼等。
圖10 說明顯示器400之一示例性實施例，顯示器400產生漫射經反射之光。顯示器400包括附著於空間光調變器105之外部膜405。外部膜405包括包含散射特徵(例如，粒子)之材料410，該等散射特徵散射自空間光調變器105反射之光403以將自干涉調變器裝置發射之光407之特徵由鏡面改變為漫射。
在某些實施例中，外部漫射膜305包括改變經反射之光403光譜特色的材料，及改變該經反射之光之漫射或鏡面特色的材料。此材料可包括於外部膜305、405(圖9 及10 )之單一層中。或者，改變該經反射之光之光譜特色的材料可併入外部膜305之一個層中，且改變經反射之光之漫射或鏡面特色之材料可併入外部膜之一單獨層中。在一個實施例中，漫射材料可包括於一用於外部膜305與空間光調變器105之間之膠黏劑中(圖9 )。
如上所述，某種類型之漫射適用於要求顯示器300、400具有紙張之外觀而非鏡面外觀之干涉調變器顯示器。當然，在某些實施例中可需要顯示器300、400或該顯示器之一部分之外觀為高反射性或"類似鏡"的，且在此等實施例中，該顯示器可具有覆蓋干涉顯示裝置305、405所有或僅一部分之漫射膜305、405。在某些實施例中，一光學透射層經"磨砂"以達到所需漫射。例如，顯示器105之外表面(圖9 )經磨砂以提供該經反射光之漫射。若表面經深度磨砂，則將比輕微磨砂表面漫射更多光。在某些實施例中，該經磨砂之光學透射層可包含一玻璃或聚合物層。
在某些實施例中，最好包括一光源(本文稱為"前光")以向干涉調變器提供額外光，例如，便於在黑暗或低環境亮度條件下觀看干涉調變器。參照圖11A ，顯示器500A之一個實施例包括光源515，其位於一前板505之側面。此前板505包含對來自光源515之光507大體光學透射之材料。前板505可包含，例如在某些實施例中，玻璃或塑膠。前板505具有光學特徵(例如，諸如槽之外形)，其經組態以干擾前板內光之傳播並將該光重定向朝向干涉調變器顯示裝置105。氣隙525將波狀/槽狀前板505自空間光調變器105分離。操作上，該光源515提供光507進入前板505，於此處光520反射離開傾斜之表面特徵506並朝向空間光調變器105行進。對於進入顯示器500之環境光，氣隙525降低顯示器500A之感覺對比度，因為在氣隙525中之空氣與用於形成前板505及空間光調變器105材料之間的折射率存在差異。
參照圖11B ，因為顯示器500B不具有分離前板505及顯示器105之氣隙，所以其向空間光調變器105提供一更有效之光傳輸。實情為，前板505附著至空間光調變器105。儘管顯示器500B之組態增加光向空間光調變器105之傳輸，但因為前板505及空間光調變器105均為相對昂貴之物件，且若任一件在製造期間顯出故障則兩件均損耗，所以將兩件附接並非一良好製造實踐。
現參見圖11C ，顯示器500C說明如何使用一外部膜而非前板來克服圖11A 及11B 之顯示器500A、500B所經歷之問題。如圖11C 所示，顯示器500C包括光源515，其位於鄰接空間光調變器105之邊緣531處，此處層積有一外部膜530，該膜530具有包含諸如造型之光學特徵之表面514，例如槽或傾斜表面特徵，其經組態以將光重定向朝向空間光調變器105。光源515例如可安置於支撐干涉調變器裝置105之一基板的一邊緣。外部膜530附著至空間光調變器105或層積於空間光調變器105上。可使用膠黏劑。因為與經開槽之前玻璃板505(圖11A，11B )之成本相比，外部膜530係相對低廉的，所以若顯示器105失效可將其處置而無巨大額外損失。操作上，外部膜530自光源515接收光511。當光穿過空間光調變器105(例如，干涉調變器裝置之基板)及外部膜530傳播時，光511反射離開波狀/經開槽之表面514之內部部分，且該經反射之光513穿過干涉調變器裝置之基板傳播，並反射離開干涉調變器之鏡表面。
現參見圖12A ，在其它實施例中，顯示器600可包含外部膜605，其附著於空間光調變器105之外表面，其中該外部膜包含降低或最小化該顯示器視域之複數個結構603。在一個實施例中，結構603為垂直排列之小的障礙物，其可形成於柵格中，且"凹陷"或擴散進入外部膜605中。在另一實施例中，外部膜605之材料提供垂直排列之結構603。此等結構603可稱為隔板。隔板603可為大體上不透明的。隔板603可為大體上吸收性或反射性的。
圖12B 說明結構603如何大體上阻擋以大體上非垂直方向反射之光607離開外部膜605，及結構603如何未大體上阻礙以大體上垂直方向反射之光609。在圖12A 及12B 所示之實施例中，視隔擋結構603之形狀(及定向)、尺寸(例如，長度)及間隔而定，視域受到限制。例如，隔板603可具有提供不大於約20度或不大於約40度之視域之尺寸、形狀及間隔，該等視域自垂直於顯示器600前表面606之平面610量測。因而，視域可於如自法線所量測之約20、25、30、35及40度之間或更少。在一個示例性實施例中，隔板603向顯示器600提供約30度之視域。如在本文中所用，術語隔擋包括但不限於在圖12A 及12B 中描述之結構603。
可根據在圖12C 及12D 中說明之實施例構造隔擋結構603。例如，複數個大體上垂直地排列之圓柱狀特徵612可包含圓柱形透射材料，於圓柱形透射材料之外表面612a上具有不透明材料塗層。可將圓柱狀特徵612束在一起並排列。可用透射材料填充垂直排列之圓柱狀特徵612之間之空間，該透射材料諸如聚碳酸酯、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、丙烯酸或聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)，此填充形成此等垂直排列之圓柱狀特徵612之矩陣613。具有安置於其中之圓柱狀特徵612的矩陣613可垂直穿過線A－A經切割以產生薄膜。圖12D 描述經切割形成外部膜605之部分的俯視圖。在此實施例中，圓柱狀特徵612之不透明外表面612a大體上阻擋光以大體上非垂直之方向離開外部膜605。
隔擋結構603亦可根據諸如參照圖12E 及12F 說明的其它實施例構造。在圖12E 中，構造具有複數個經堆疊之層的多層結構618。多層結構618具有交替之大體上透射材料層615及大體上不透明材料層614。為製造此多層結構618，形成可包含輕微漫射材料之光學透射層615，並於其上形成由大體上不透明材料組成之不透明層614。可重複此等步驟直至已形成所需數目之層。然後可垂直穿過線A－A切割多層結構618。在圖12F 中描述經切割形成外部膜605之部分的俯視圖。大體上不透明層614形成隔板603，其大體上阻擋光以大體上非垂直方向離開外部膜605。
如圖12G 所示，外部膜605包含二維柵格，其包含水平不透明層616及垂直不透明層617。可使用自多層結構618(圖12E )切割之一對切片製造此二維柵格，如圖12F 所示其中一個切片安置於另一個之前。一個切片相對於其它外部膜結構605大體上垂直地定向。其它定向及組態亦為可能的。
在特定實施例中，圖12C－12G 所示之隔擋結構603可包含反射性材料。例如，參照圖12H ，若最接近空間光調變器105之隔擋結構603之一部分625為大體上反射性的，則自空間光調變器105反射、入射於隔擋之反射性部分625上的光620，將不穿過外部膜結構605，但將反射回空間光調變器105。或者，隔擋結構603之外表面603a及603b可由大體上反射性材料製成，諸如於隔擋結構603上之大體上反射性材料之閃光塗層。在此實施例中，隔擋結構603之底部部分625亦可使用大體上反射性材料閃光塗覆。
在某些實施例中，干涉調變器可併入使用者輸入裝置，其亦可改變自干涉調變器反射之光的特色。例如，在圖13A 中之顯示器700包括觸控螢幕705，其連接至空間光調變器105之外表面。觸控螢幕705包括觸控螢幕外部部分715，其具有經組態以接收來自使用者之接觸訊號的外接觸表面730，及附著至顯示器105之觸控螢幕內部部分720。觸控螢幕內部部分720及觸控螢幕外部部分715分隔一空間710，並藉由間隔片717保持分開。對於使用者輸入，可以一種在此項技術中熟知之方式操作觸控螢幕705，例如，使用者向其它觸控螢幕部分715(其與觸控螢幕內部部分720接觸)上之接觸表面730施加壓力，並啟動經組態以當啟動時發出訊號之電路。除了提供使用者輸入功能外，觸控螢幕705可經組態具有觸控螢幕內部部分720中之光漫射材料731及/或在觸控螢幕外部部分715中之光漫射材料725。
圖13B 係具有漫射材料之觸控螢幕外部部分715及/或觸控螢幕內部部分720之一個實施例的側視圖。在此實施例中，漫射材料係在上部層750a及下部層750b之間之漫射膠黏劑751。漫射膠黏劑751可為與充當散射光之散射中心之填充料粒子751a混合的膠黏劑。任何折射、反射或散射光之合適材料可用作填充料粒子751a。例如，填充料粒子751a可由諸如，但不限於下列之聚合物材料製成：聚苯乙烯矽石，聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)及中空聚合物粒子。在替代實施例中漫射膠黏劑751經組態具有折射光之空氣泡。在其它實施例中，可使用不透明非反射性粒子。上部750a及/或下部750b層可包含諸如聚碳酸酯、丙烯酸及聚對苯二甲酸乙二酯(PET)之材料以及其它材料。圖13C 係包含漫射材料之觸控螢幕外部部分715及/或觸控螢幕內部部分720之另一實施例，其中漫射材料752併入層750中，其形成觸控螢幕之上部及/或下部部分715、720。圖13D 係一實施例，其中漫射材料753在觸控螢幕705與空間光調變器105之間。例如，在圖13D 中，漫射材料753塗覆於空間光調變器105之外表面754的頂部。在此實施例中，漫射材料753可圖案化於顯示器105之外表面754，其中漫射材料753在空間光調變器105之外表面754與觸控螢幕705之間。在某些實施例中，漫射材料753可旋塗，例如，於空間光調變器105之玻璃外表面上。在特定實施例中，漫射材料可包含與紫外環氧樹脂或熱固化環氧樹脂混合之散射特徵。當使用環氧樹脂時，漫射材料753可為與該環氧樹脂混合之填充料粒子，其中填充料粒子充當散射光之散射中心。其它組態亦為可能。
圖14A 展示包括觸控螢幕705之顯示器800之實施例，觸控螢幕705具有附著至空間光調變器105(其包括基板)之內部部分720及具有用於接收使用者輸入之觸控螢幕表面730的外部分715。間隔片717安置於內部部分720與外部分715之間之間隙710內。顯示器800亦包括經組態以向觸控螢幕705(例如，內部部分720、外部分715或兩者)提供光719的光源740。在一個實施例中，觸控螢幕705可包括重定向光719以使得光入射於空間光調變器105上之光學結構。在某些實施例中，光學結構包含在觸控螢幕705內之傾斜或斜置表面。在某些實施例中，可使用全內反射(TIR)元件。又，在特定實施例中，光學元件包含散射光以使得經散射之光之一部分入射於空間光調變器105上的粒子。在某些實施例中，在觸控螢幕705之內部部分720中之材料745及/或外部分715中之材料735可包括磷光材料。當來自光源740之光719激活此磷光材料時其發射光，直接向觸控螢幕705並向空間光調變器105提供光，然後其可反射回觸控螢幕705。
在圖14B1 及14B2 描述之其它實施例中，具有觸控螢幕705之顯示器800亦可包括波狀的光導板。例如，在圖14B1 中，觸控螢幕705之內部部分720可包含一具有波狀(例如槽形)之表面765之板或層760a。此波狀表面765可包括複數個斜置部分。此表面765可具有，例如，鋸齒形。然後可將透射材料760b置放於表面765之輪廓或槽中以在板/層760a之上形成大體上平面表面760c。光源740將光719引導進入板或層760a，於此處光719經光學導向。在板760a中傳播之光反射離開表面765之斜置部分並朝向空間光調變器105行進。在使用光導板或層760a或任何其它合適光導板之實施例中，漫射材料可於板760a之上或之下併入顯示器800。例如，漫射材料可在觸控螢幕705之外部部分715內，或於空間光調變器105之外表面754上。
在圖14B2 中描述之替代實施例中，板或層760a可置放於觸控螢幕705與空間光調變器105之間。在此實施例中，透射材料760b(圖14B1 )並非置放於板760a表面765上。確切而言，空氣或真空佔據板/層760a與觸控螢幕705之間之腔760c。
在圖14C 所示之其它實施例中，光源740之光719可引導向該觸控螢幕705之一邊緣，並經導向穿過觸控螢幕705之至少一部分，且該觸控螢幕705可包含將此光重定向至空間光調變器105的特徵。例如，在圖14C 中，觸控螢幕705之內部部分720可併入將光朝向空間光調變器105散射之粒子770。如圖14D 所示，可用混合於上部層750a與下部層750b之間之膠黏劑中之粒子770多層化內部部分720。上部750a及/或下部750b層可包含諸如聚碳酸酯、丙烯酸及聚對苯二甲酸乙二酯(PET)之材料或其它材料。在諸如在圖14E 中描述之其它實施例中，散射特徵或粒子770塗覆於空間光調變器105之外表面754之頂部。此等散射特徵或粒子770可將光重定向至干涉調變器之可移動反射器；見例如2004年3月5日申請且題名為"Integrated Modulator Illumination"之美國專利申請案第10/794,825號，該案以引用的方式併入本文中。在此實施例中，散射特徵或粒子770可圖案化於顯示器105之外表面754，其中散射特徵770處在空間光調變器105之外表面754與觸控螢幕705之間。在特定實施例中，散射特徵770可旋塗於空間光調變器105之玻璃表面。在某些實施例中，散射特徵與紫外環氧樹脂或熱固化環氧樹脂混合。當使用環氧樹脂時，散射特徵770可包含與環氧樹脂混合之粒子，其中粒子充當將光重定向朝向干涉調變器之鏡化表面的散射中心。
圖15A 表示使用入射於有效反射器區之間之無效區之光的顯示器1100之一個實施例。在本文使用中之術語"無效區"包括但不限於干涉調變器之反射性區域(諸如鏡)之間的空間。在本文中使用之有效區包括但不限於干涉調變器之反射性區域(諸如鏡)，例如，形成光學腔之反射性區域。
參照圖15A ，顯示器1100包括連接至空間光調變器105之外表面之膜1105。紅色1121、綠色1122及藍色1123有效反射器區域展示於空間光調變器105之底部上，並代表顯示器1100之眾多有效反射器區域(例如，諧振光學腔)。第一空間1110將紅色有效反射器區域1121自綠色有效反射器區域1122分離，綠色有效反射器區域1122藉由第二空間1111自藍色有效反射器區域分離。空間1110及1111可介於約2至10微米寬之間，並彼此間隔開約125至254微米。相似地，在膜1105中之空間1110及1111之重定向光的光學特徵可為約2微米至10微米寬，並彼此分隔約125至254微米。在此等範圍之外之尺寸亦為可能的。
通常而言，若無膜1105，入射於第一空間1110或第二空間1111之區域上之光可能不達到有效反射器區域1121、1122、1123之一。為增加干涉調變器1100之反射，入射於有效反射器區域之間之無效區(例如，第一空間1110及第二空間1111)上之光可重定向至有效反射器區域1121、1122、1123中之一個。因為無效區及有效反射器區域之位置係已知的，所以可組態外部膜1105以將入射於膜1105之無效區1110、1111之入射光1115，如箭頭1120所示，重定向回至有效反射器區域1121、1122、1123(例如，光學腔)。在某些實施例中，膜1105包括重定向光之反射器。在某些實施例中，膜1105經組態在空間1110、1111之區域上具有既定折射率以重定向光。在其它實施例中，膜1105在空間1110、1111之區域上可含有散射元件以使得至少一部分光散射進入並落在有效反射器區域(例如，光學腔)上。
在圖15B 描述之一替代實施例中，膜1105可置放於反射器區域1121、1122、1123之上，但於空間光調變器105之基板下。因此，膜1105在空間光調變器105中。在此實施例中，膜1105經組態以將入射於有效區上但將正常地行進至無效區的光1115，如箭頭1120所示重定向至有效反射器區域1121、1122、1123。
參照圖16A－H ，說明各種外部膜之實施例。在圖16A 中，外部膜1205具有散射光之散射區域1212。如圖16A 所描述，此等散射光之散射區域1212可插入有不散射光之區域1217。散射區域1212可散射光，例如，藉由反射或折射。參照圖16B ，外部膜1205在包含較低折射率材料之矩陣或膜內具有較高折射率之區域。此實施例使用TIR以重定向光。例如，若具有高折射率之外部膜1205之空間置放於一干涉調變器之有效區域上，且具有低折射率之空間置放於干涉調變器之無效區域上，則某些入射於外部膜1205之低折射區、本應正常地穿過無效區之光將經重定向至干涉調變器之有效區。參照圖16C ，外部膜1205於外部膜之單獨表面上可具有充當凹透鏡之凹坑區域1213。參照圖16D ，外部膜1205在區域1214中可具有費涅透鏡。在其它實施例中，可於區域1214中安置全像或繞射光學元件。此等光學元件可散射或繞射光並充當，例如，具有將入射於透鏡上之光重定向至有效區域之負功率的透鏡。參照圖16E ，外部膜1205可具有相對傾斜表面1215以將光向相反方向朝向不同有效區域折射。圖16F 展示具有表面1215之外部膜1205，表面1215相似地定向以在相同方向折射光。參照圖16G ，外部膜1205可具有一個或多個反射傾斜表面1216，其將光朝向有效區域反射。亦完成光於外部膜1205上之所需重定向的許多其它組態係可能的。
現參見圖17 ，干涉調變器1200可包括外部膜1205，其連接至空間光調變器105之外表面，其中膜1205經組態以收集廣泛角度範圍內入射之光，並以更窄角度範圍將該光引導至光調變元件。在圖17 中，組態外部膜1205接收各種角度之入射光1206、1207，並大體上準直該光(由箭頭1208、1209表示)並將光引導朝向有效反射器1211。在某些實施例中，諸如圖17 所示者，外部膜1205包括準直元件1218，其大體上準直該光。在某些實施例中，外部膜1205包括複數非成像光學元件1218，例如複合式抛物線聚光器。例如複合式抛物線聚光器1218之非成像光學元件準直至少某些以一角度範圍入射於外部膜1205之光1206及1207。然後光1208及1209之一部分以更法向之角離開複合式抛物線聚光器1218，並引導向有效反射器1211。然後光1208及1209中之某些藉由有效反射器1211反射，且作為以受限之角度範圍射出顯示器1200的光1210a及1210b而離開顯示器1200。相應地，膜1205具有受限視域。在某些實施例中，至少某些光1210a及1210b以自垂直於外部膜1205前表面之平面610不大於約70度之錐角離開顯示器1200。在某些實施例中，該錐角自垂直於外部膜1205前表面之平面610不大於約65、60、55、50、45、40、35、30、25或20度。準直元件1205有效地限制裝置1200之視域，因為光通常不以大體上大於入射角之角度自顯示器1200射出。相應地，外部膜之視域可為自法線量測之約70、65、60、55、50、45、40、35、30、25或20度或更少。此等角度為半角。此等範圍之外之其它值亦為可能的。
圖18A－C 描述顯示器1300之另一實施例，顯示器1300包括安置於空間光調變器105之前之光學膜1305。組態光學膜1305以接收廣泛角度範圍內入射之光，並以更狹窄之角度範圍將光引導至光調變元件上。光學膜1305亦漫射光。在特定實施例中，組態光學膜1305以漫射光，以使得入射於漫射元件上之光比入射光更準直地引導至光調變元件。
在一個實施例中，光學膜1305包含全像漫射體。全像漫射體包含經配置以操縱光以便，例如，在一狹窄角度範圍內產生升高強度分佈之繞射特徵。在另一實施例中，光學膜1305包括複數個非成像光學元件，例如，複數個諸如上文說明之複合式抛物線聚光器，及於光學膜1305之上部表面1340上之漫射材料薄層。在另一實施例中，光學膜1305包括其它於外表面1340上具有漫射材料膜之準直元件。
參照圖18A ，組態膜1305以接收入射光1310。參照圖18B ，亦組態該膜以大體上重定向入射光1310(用箭頭1315表示該大體上經重定向光)，將入射光1310引導至空間光調變器105內之有效反射器，朝向有效反射器之表面的法線。對於＋/－75度角度範圍內之入射光，該經重定向之光可在＋/－35度之範圍內，其中自法線量測該等角度。在此實施例中，經重定向之光大體上經準直的。在某些實施例中，反射器可在空間光調變器105之底部部分。參照圖18C ，自有效反射器反射之光1325進入膜1305之下部表面1330。組態膜1305以於其下部表面1330處接收經反射之鏡面光，並作為漫射光自膜1305發射之前經漫射。在某些實施例中，當該光穿過膜1305傳播時該光經漫射。在其它實施例中，光漫射於膜1305之上部表面1340(或下部表面1330)。其它組態或在上述範圍之外之值亦為可能的。
上述說明詳述了本發明之特定實施例。然而，應理解無論本文中上述者看似如何詳盡，本發明可以許多方式實施。亦如上文所述，應注意，當說明本發明之特定特徵或態樣時所使用之特定術語不應視作意謂該術語在本文中重新定義以受限於包括與該術語關聯之本發明特徵或態樣的任何特定特色。
12．．．a/移動反射層
16．．．光學堆疊
16a．．．光學堆疊
16b．．．光學堆疊
18．．．柱/支撐物
19．．．間隙/腔
20．．．透明基板
21．．．處理器
22．．．陣列驅動器
24．．．列驅動器電路
26．．．行驅動器電路
27．．．網路接口
28．．．框架緩衝器
29．．．驅動器控制器
30．．．顯示陣列/顯示板/顯示器
32．．．範圍
34．．．可變形層/反射層
40．．．顯示裝置
41．．．外殼
42．．．支撐柱塞
43．．．天線
44．．．揚聲器/匯流排結構
45．．．揚聲器
46．．．麥克風
47．．．收發器
48．．．輸入裝置
50．．．電源
52．．．調節硬體
100A．．．顯示器
100B．．．顯示器
105．．．空間光調變器
105B．．．RGB空間光調變器
105C．．．單色空間光調變器
110．．．外部膜
115．．．外表面
120．．．基板
124．．．部分反射層
125．．．多層/介電質層
130．．．反射器
135．．．反射器
140．．．反射器
145．．．間隙寬度
150．．．紅色反射器
160．．．綠色反射器
170．．．藍色反射器
175．．．間隙寬度
180．．．間隙寬度
190．．．間隙寬度
300．．．顯示器
305．．．外部漫射膜/漫射體/顯示裝置
307．．．經鏡面地反射之光
320．．．入射於顯示器300上之光
330．．．漫射光
400．．．顯示器
403．．．自空間光調變器105反射之光
405．．．外部膜/顯示裝置
407．．．自干涉調變器裝置發射之光
410．．．包含散射特徵之材料
500．．．顯示器
500A．．．顯示器
500B．．．顯示器
500C．．．顯示器
505．．．前板/前玻璃板
506．．．表面特徵
507．．．來自光源515之光
511．．．光
513．．．反射之光
514．．．表面
515．．．光源
525．．．氣隙
530．．．外部膜
531．．．邊緣
600．．．顯示器
603．．．結構/隔板
603a．．．隔擋結構603之外表面
603b．．．隔擋結構603之外表面
605．．．外部膜
606．．．前表面
607．．．大體上非垂直方向反射之光
609．．．大體上垂直方向之反射之光
610．．．平面
612．．．圓柱狀特徵
613．．．矩陣
614．．．大體上不透明材料層
615．．．大體上透射材料層
616．．．水平不透明層
617．．．垂直不透明層
618．．．多層結構
620．．．入射於隔擋之反射性部分
625．．．上的光
625．．．最接近空間光調變器105之隔擋結構603之部分/隔擋之反射性部分/隔擋結構603之底部部分625
700．．．顯示器
705．．．觸控螢幕
710．．．間隙
715．．．觸控螢幕外部部分
717．．．間隔片
719．．．光
720．．．觸控螢幕內部部分
730．．．外接觸表面
725．．．觸控螢幕外部分715中之光漫射材料
731．．．觸控螢幕內部部分720中之光漫射材料
740．．．光源
745．．．內部部分720中之材料
750．．．層
750a．．．上部層
750b．．．下部層
751．．．漫射膠黏劑
751a．．．填充料粒子
752．．．漫射材料
753．．．漫射材料
754．．．顯示器105之外表面
760a．．．板或層
760b．．．透射材料
760c．．．大體上平面表面/腔
765．．．波狀表面
770．．．空間光調變器105散射之粒子
800．．．包括觸控螢幕705之顯示器
1100．．．顯示器
1105．．．膜
1110．．．第一空間
1111．．．第二空間
1115．．．入射光
1120．．．箭頭
1121．．．紅色有效反射器區域
1122．．．綠色有效反射器區域
1123．．．藍色有效反射器區域
1200．．．干涉調變器
1205．．．外部膜
1206．．．入射光
1207．．．入射光
1208．．．箭頭/光
1209．．．箭頭/光
1210a．．．光
1210b．．．光
1211．．．有效反射器
1212．．．散射光之散射區域
1213．．．凹坑之區域
1214．．．區域
1215．．．相對傾斜表面
1216．．．反射傾斜表面
1217．．．不散射光之區域
1218．．．準直元件/複合式抛物線聚光器
1300．．．顯示器
1305．．．光學膜
1310．．．入射光
1315．．．箭頭
1325．．．自有效反射器反射之光
1330．．．膜1305之下部表面
1340．．．膜1305之上部表面
圖1 為等角視圖，其說明了一干涉調變器顯示器之一個實施例之一部分，其中第一干涉調變器之一可移動反射層位於一鬆弛位置，且第二干涉調變器之一可移動反射層位於一致動位置。
圖2 為系統方塊圖，其說明了一併入3×3干涉調變器顯示器之電子裝置的一個實施例。
圖3 為一圖1干涉調變器之一個示例性實施例之可移動鏡位置對所施加電壓的圖。
圖4 為一組可用於驅動一干涉調變器顯示器之列及行電壓之說明。
圖5A 說明一個在圖2之3×3干涉調變器顯示器中之顯示資料之示例性框架圖5B 說明一個用於列及行訊號之示例性時序圖，該等列及行訊號可用於寫圖5A之框架。
圖6A及6B 為系統方塊圖，其說明一包含複數個干涉調變器之視覺顯示裝置的實施例。
圖7A 為圖1裝置之截面。
圖7B 為一干涉調變器之一替代實施例的截面。
圖7C 為一干涉調變器之另一替代實施例的截面。
圖7D 為一干涉調變器之仍另一替代實施例的截面。
圖7E 為一干涉調變器之一額外替代實施例的截面。
圖8A 為一具有外部膜之顯示裝置的側視圖。
圖8B 為一干涉調變器裝置之側視圖，該干涉調變器裝置經組態以RGB顏色顯示資訊。
圖8C 為一干涉調變器裝置之側視圖，該干涉調變器裝置經組態以黑色及白色顯示資訊。
圖9 為一干涉調變器裝置之側視圖，該干涉調變器裝置經組態於其外表面具有一光漫射體。
圖10 為一干涉調變器裝置之側視圖，該干涉調變器裝置經組態於其外表面具有一光漫射體，其中該光漫射體包括漫射粒子。
圖11A 為一經組態具有經開槽之前光板之干涉調變器裝置的側視圖，其中藉一氣隙將該經開槽之前光板自該干涉調變器裝置分離。
圖11B 為一經組態具有經開槽之前光板之干涉調變器裝置的側視圖，該經開槽之前光板連接至該干涉調變器裝置。
圖11C 為一經組態具有一外部膜之干涉調變器裝置的側視圖，其中該外部膜具有一波狀的外表面，以使得將自一光源提供之光重定向至干涉調變器裝置，並自干涉調變器反射出至一觀察者。
圖12A 為一經組態具有一外部膜之干涉調變器裝置的側視圖，其中該外部膜包括限制干涉調變器裝置視域之隔擋結構。
圖12B 為一干涉調變器裝置之一個實施例之側視圖，展示包含在外部膜內之隔擋結構如何限制反射光之方向。
圖12C 及12D 為一具有包含不透明圓柱之隔擋結構之外部膜的實施例。
圖12E－12G 為具有包含不透明部分之隔擋結構之外部膜的實施例。
圖12H 描述一具有包含反射性材料之隔擋結構的外部膜。
圖13A 為一干涉調變器顯示器之側視圖，該顯示器包括一觸控螢幕。
圖13B－D 展示併入一漫射材料之不同方法。
圖14A 為一經組態具有一觸控螢幕之干涉調變器裝置的側視圖，該觸控螢幕包含將來自一光源之光朝向干涉調變器裝置散射之漫射材料。
圖14B1 及14B2 展示用於將來自一光源之光傳遞至干涉調變器裝置之不同組態。
圖14C－E 說明將漫射材料整合進入顯示器之不同方法，該漫射材料用於將來自一光源之光引導至干涉顯示裝置。
圖15A 及15B 為經組態具有一膜之干涉調變器裝置的側視圖，其中該膜將入射於有效反射器區之間之空間之光的至少一部分引導至有效反射器區。
圖16A 為一外部膜之側視圖，該外部膜具有散射光之區域。
圖16B 為一外部膜之側視圖，該外部膜在一重定向光之較低折射率材料之矩陣中具有更高折射率的區域。
圖16C 為一外部膜之側視圖，其表面具有充當凹透鏡之凹進區域。
圖16D 為一外部膜之側視圖，該外部膜具有一包含費涅透鏡之表面。
圖16E 為一外部膜之側視圖，該外部膜具有經組態以於相反方向折射光之相對傾斜表面。
圖16F 為一外部膜之側視圖，該外部膜具有經組態以朝一個方向折射光之傾斜表面。
圖16G 為一具有經組態以反射光之傾斜表面的外部膜的圖16G 為一具有經組態以反射光之傾斜表面的外部膜的側視圖。
圖17 為一經組態具有一外部膜之干涉調變器裝置的側視圖，該外部膜改變入射於該外部膜上之光的方向，以將該光以比其於外部膜處之入射角更垂直之角度提供至干涉調變器裝置之有效反射器區。
圖18A 為一經組態具有一包含一漫射元件之外部膜之干涉調變器裝置的側視圖，該漫射元件經組態以準直經定向至干涉調變器裝置之光。
圖18B 為圖18A 干涉調變器之側視圖，其展示入射光經準直並重定向至干涉調變器裝置之有效反射器區。
圖18C 為圖18A 之干涉調變器裝置的側視圖，其展示外部膜漫射自干涉調變器裝置有效區反射之光。
105．．．空間光調變器
610．．．平面/垂直於外部膜1205前表面之平面
1200．．．干涉調變器
1205．．．外部膜
1206．．．入射光
1207．．．入射光
1208．．．箭頭/光
1209．．．箭頭/光
1210a．．．光
1210b．．．光
1211．．．有效反射器
1218．．．準直元件/複合式抛物線聚光器

Claims (80)

  1. 一種顯示器，其包含：複數個干涉微機電系統(MEMS)元件，其包括一部份反射性第一光學表面及一反射性第二光學表面，該第二光學表面可相對於該第一光學表面移動以便反射性地調變在該等第一和第二光學表面之入射光；及被該等第一和第二光學表面反射之調變光經組態以限制於一視域之複數個隔板，其中該複數個隔板包括在個別隔板之間的間隔，該等間隔具有一尺度，該尺度提供一自一垂直於該顯示器一前表面之平面不大於約40度之視角，其中該角度作為相對於該垂直面之一半角而量測。
  2. 如請求項1之顯示器，其中該等複數個隔板係併入於一形成於該等複數個干涉MEMS元件之上之光學層中。
  3. 如請求項1之顯示器，其中該等複數個干涉微機電系統元件形成一陣列，其安置於一水平平面內，且該等複數個隔板包含平行於一垂直平面之大體上平面的表面。
  4. 如請求項1之顯示器，其中該等複數個隔板包含個別隔板之間之間隔，該等間隔具有一尺度，該尺度提供一自一垂直於該顯示器一前表面之平面不大於約20度之視角，其中該角度作為相對於該垂直面之一半角而量測。
  5. 如請求項1之顯示器，其中該等隔板為大體上不透明的。
  6. 如請求項1之顯示器，其中該等隔板包含吸收材料。
  7. 如請求項1之顯示器，其中該等隔板包含一反射材料。
  8. 如請求項5之顯示器，其中該等隔板包含大體上平面之不透明表面。
  9. 如請求項1之顯示器，其進一步包含：一處理器，其與該等複數個干涉MEMS元件電通信，該處理器係經組態以處理影像資料；及一與該處理器電通信之記憶體裝置。
  10. 如請求項9之顯示器，其進一步包含一經組態以向該等複數個干涉MEMS元件發送至少一個訊號的驅動器電路。
  11. 如請求項10之顯示器，其進一步包含一經組態以向該驅動器電路發送該等影像資料之至少一部分的控制器。
  12. 如請求項9之顯示器，其進一步包含：一經組態以向該處理器發送該等影像資料的影像源模組。
  13. 如請求項12之顯示器，其中該影像源模組包含接收器、收發器及發射器中之至少一個。
  14. 如請求項9之顯示器，其進一步包含：一經組態以接收輸入資料並向該處理器通信該等輸入資料的輸入裝置。
  15. 一種顯示器，其包含：複數個干涉微機電系統(MEMS)元件，其包括一部份反射性第一光學表面及一反射性第二光學表面，該第二光學表面可相對於該第一光學表面移動以便反射性地調變在該等第一和第二光學表面之入射光；及被該等第一和第二光學表面反射之調變光經組態以限 制於一視域之複數個元件，其中該等經組態以限制該顯示器之一視域的複數個元件包含一集光器陣列，該等集光器所包含之彎曲反射性表面係經成形以收集於一廣泛角度範圍內入射之光，並引導處於一更窄角度範圍內之該光至該等干涉MEMS元件上，其中該等複數個元件限制該顯示器之該視域於一自一垂直於該顯示器之一前表面之平面不大於約70度之角度，其中該角度作為相對於該垂直面之一半角而量測。
  16. 如請求項15之顯示器，其中該等複數個元件限制該顯示器之該視域於一自一垂直於該顯示器之一前表面之平面不大於約20度之角度，其中該角度作為相對於該垂直面之一半角而量測。
  17. 如請求項15之顯示器，其中該等集光器包含非成像光學元件。
  18. 如請求項15之顯示器，其中該等非成像光學元件包含複合式抛物線聚光器。
  19. 如請求項15之顯示器，其中該等反射性表面與穿過該等集光器之中央光軸對稱。
  20. 如請求項15之顯示器，其中該等集光器與穿過該等集光器之中央光軸環式對稱。
  21. 如請求項15之顯示器，其中該等彎曲反射性表面定義該等集光器之輸入及輸出孔徑，該等輸出孔徑大於該等輸入孔徑。
  22. 如請求項5之顯示器，其中該等彎曲反射性表面係經成形為大體上準直光。
  23. 一種顯示器，其包含：複數個干涉微機電系統(MEMS)元件，其包括第一及第二光學表面，該第二光學表面可相對於該第一光學表面移動；及一處於該等複數個干涉MEMS元件之前之漫射元件，其經組態以反射自該等複數個干涉MEMS元件之漫射光並使入射於該漫射元件之光比該入射光更準直地引導至該等干涉MEMS元件。
  24. 如請求項23之顯示器，其中該漫射元件包含複數個散射特徵，其經配置以使得入射於該漫射元件之光比該入射光更準直地引導至該等干涉MEMS元件。
  25. 如請求項23之顯示器，其中該漫射元件包含一繞射光學元件。
  26. 如請求項25之顯示器，其中該漫射元件包含一全像光學元件。
  27. 如請求項23之顯示器，其中該漫射元件包含一多層膜。
  28. 如請求項27之顯示器，其中該多層膜包含：一第一層，其經組態以使該入射於該漫射元件上之光大體上準直；及一第二層，其包含經組態以漫射自該等干涉MEMS元件反射之光的漫射材料。
  29. 如請求項23之顯示器，其進一步包含： 一與該等複數個干涉MEMS元件電通信之處理器，該處理器經組態以處理影像資料；及一與該處理器電通信之記憶體裝置。
  30. 如請求項29之顯示器，其進一步包含一經組態以向該等複數個干涉MEMS元件發送至少一個訊號的驅動器電路。
  31. 如請求項30之顯示器，其進一步包含一經組態以向該驅動器電路發送該等影像資料之至少一部分的控制器。
  32. 如請求項29之顯示器，其進一步包含一經組態以向該處理器發送該等影像資料的影像源模組。
  33. 如請求項32之顯示器，其中該影像源模組包含接收器、收發器及發射器中之至少一個。
  34. 如請求項29之顯示器，其進一步包含一經組態以接收輸入資料並向該處理器通信該等輸入資料的輸入裝置。
  35. 一種製造一顯示器之方法，該方法包含：形成複數個干涉微機電系統(MEMS)元件，其包括第一及第二光學表面，該第二光學表面可相對於該第一光學表面移動；及形成經組態以限制該顯示器之一視域的複數個隔板，其中該複數個隔板包括在個別隔板之間的間隔，該等間隔具有一尺度，該尺度提供一自一垂直於該顯示器一前表面之平面不大於約40度之視角，其中該角度作為相對於該垂直面之一半角而量測。
  36. 如請求項35之方法，其中該等複數個隔板係併入於一形成於該等複數個干涉MEMS元件上之光學層中。
  37. 如請求項35之方法，其中該等複數個干涉MEMS元件形成一陣列，其安置於一水平平面內，且該等隔板係平行於一垂直平面而排列。
  38. 如請求項35之方法，其中該等隔板為大體上不透明的。
  39. 如請求項38之方法，其中該等隔板包含大體上平面之不透明表面。
  40. 如請求項35之方法，其中該等隔板包含吸收材料。
  41. 如請求項35之方法，其中該等隔板包含反射材料。
  42. 一種製造一顯示器之方法，該方法包含：形成複數個干涉微機電系統(MEMS)元件，其包括第一及第二光學表面，該第二光學表面可相對於該第一光學表面移動；及形成經組態以限制該顯示器之一視域的複數個隔板，其中該等經組態以限制該顯示器之一視域的複數個元件包含一集光器陣列，該等集光器所包含之彎曲反射性表面係經成形以收集於一廣泛角度範圍內入射之光，並引導處於一更窄角度範圍內之該光至該等干涉MEMS元件上，其中該等複數個元件限制該顯示器之該視域於一自一垂直於該顯示器之一前表面之平面不大於約70度之角度，其中該角度作為相對於該垂直面之一半角而量測。
  43. 如請求項42之方法，其中該等集光器包含非成像光學元件。
  44. 如請求項43之方法，其中該等非成像光學元件包含複合 式抛物線聚光器。
  45. 如請求項42之方法，其中該等反射性表面相關於穿過該等集光器之中央光軸對稱。
  46. 如請求項42之方法，其中該等反射性表面相關於穿過該等反射收集器之中央光軸環式對稱。
  47. 如請求項42之方法，其中該等彎曲反射性表面定義該等集光器之輸入及輸出孔徑，該等輸出孔徑大於該等輸入孔徑。
  48. 如請求項42之方法，其中該等彎曲反射性表面係經成形以大體上準直光。
  49. 一種顯示器，其藉由如請求項35至48之任意一項之方法形成。
  50. 一種製造一顯示器之方法，該方法包含：形成複數個干涉微機電系統(MEMS)元件，其包括第一及第二光學表面，該第二光學表面可相對於該第一光學表面移動；及形成一處於該等複數個干涉MEMS元件之前之漫射元件，其經組態以接收於一廣泛角度範圍內入射之光，並引導處於一更窄角度範圍內之該光至該等干涉MEMS元件上。
  51. 如請求項50之方法，其中該漫射元件包含複數個散射特徵，其經配置以使得該以一廣角度範圍入射於該漫射元件上之光以一更窄角度範圍引導至該等干涉MEMS元件上。
  52. 如請求項50之方法，其中該漫射元件包含一繞射光學元件。
  53. 如請求項52之方法，其中該漫射元件包含一全像光學元件。
  54. 如請求項50之方法，其中該漫射元件包含一多層膜。
  55. 如請求項54之方法，其中該多層膜包含：一第一層，經組態以大體上以接收於一廣泛角度範圍內入射之光，並引導處於一更窄角度範圍內之該光至該等干涉MEMS元件上；及一第二層，其包含經組態以漫射自該等干涉MEMS元件反射之光的漫射材料。
  56. 一種顯示器，其藉由如請求項50至55之任意一項之方法形成。
  57. 一種顯示器，其包含：複數個干涉微機電系統(MEMS)元件，其包含用於操縱光之第一及第二光學構件，該第二光學構件可相對於該第一光學構件移動；及用於限制該等干涉MEMS元件之該視域的構件，其中該用於限制該視域的構件包括複數個隔板，及其中該複數個隔板包括在個別隔板之間的間隔，該等間隔具有一尺度，該尺度提供一自一垂直於該顯示器一前表面之平面不大於約40度之視角，其中該角度作為相對於該垂直面之一半角而量測。
  58. 如請求項57之顯示器，其中該第一光學構件及該第二光 學構件包含第一及第二光學表面，該第二光學表面可相對於該第一光學表面移動。
  59. 如請求項57之顯示器，其中該光調變構件包含複數個干涉調變器。
  60. 一種顯示器，其包含：複數個干涉微機電系統(MEMS)元件，其包含用於操縱光之第一及第二光學構件，該第二光學構件可相對於該第一光學構件移動；及用於朝向該等干涉MEMS元件漫射光以使得將入射於該等漫射構件上之光比入射於其上之光更準直地引導至該等干涉MEMS元件之構件。
  61. 如請求項60之顯示器，其中該第一光學構件及該第二光學構件包含第一及第二光學表面，該第二光學表面可相對於該第一光學表面移動。
  62. 如請求項60之顯示器，其中該光調變構件包含複數個干涉調變器。
  63. 如請求項60之顯示器，其中該等漫射構件包含至少一個漫射體。
  64. 一種顯示資訊於一顯示器之方法，該顯示器具有複數個干涉微機電系統元件，該等干涉微機電系統元件設置以形成一陣列，各該微機電系統元件包括一部分反射性第一光學表面及一反射性第二光學表面，該第二光學表面可相對於該第一光學表面移動以便反射性地調變在該等第一和第二光學表面之入射光，其方法包括： 接收於一薄膜之一表面上之入射環境光；傳播來自該表面所接收之該環境光至設置於該薄膜之該表面與該陣列之間之複數個光學元件；引導一部份入射於該等複數個光學元件之光至該陣列，其中該引導包括準直該部分之光；反射干涉地調變接收來自該等複數個光學元件之光；傳播通過該等複數光學元件之該調變光使得一薄膜之該表面存在一限制視域，其中該複數個光學元件包括經組態以限制於一視域之複數個隔板，及其中該等複數個隔板包含個別隔板間之間隔，該等間隔具有一尺度，該尺度提供一自一垂直於該顯示器一前表面之平面不大於約40度之視角，其中該角度作為相對於該垂直面之一半角而量測。
  65. 如請求項64之方法，其中該等複數個隔板係併入設置於該第一表面和該陣列之間之一光學層中。
  66. 如請求項64之方法，其中該陣列設置於一水平平面，且該等複數個隔板包含平行於一垂直平面之大體上平面的表面。
  67. 如請求項64之方法，其中該等複數個隔板包含個別隔板之間之間隔，該等間隔具有一尺度，該尺度提供一自一垂直於該顯示器一前表面之平面不大於約20度之視角，其中該角度作為相對於該垂直面之一半角而量測。
  68. 如請求項64之方法，其中該等隔板為大體上不透明的。
  69. 一種顯示資訊於一顯示器之方法，該顯示器具有複數個干涉微機電系統元件，該等干涉微機電系統元件設置以形成一陣列，各該微機電系統元件包括一部分反射性第一光學表面及一反射性第二光學表面，該第二光學表面可相對於該第一光學表面移動以便反射性地調變在該等第一和第二光學表面之入射光，其方法包括：接收於一薄膜之一表面上之入射環境光；傳播來自該表面所接收之該環境光至設置於該薄膜之該表面與該陣列之間之複數個光學元件；引導一部份入射於該等複數個光學元件之光至該陣列，其中該引導包括準直該部分之光；反射干涉地調變接收來自該等複數個光學元件之光；傳播通過該等複數光學元件之該調變光使得一薄膜之該表面存在一限制視域，其中該等經組態以限制該顯示器之一視域的複數個光學元件包含一集光器陣列，該等集光器所包含之彎曲反射性表面係經成形以收集於一廣泛角度範圍內入射之光，並引導處於一更窄角度範圍內之該光至該等干涉微機電系統元件上，其中該等複數個光學元件限制該顯示器之該視域於一自一垂直於該顯示器之一前表面之平面不大於約70度之角度，其中該角度作為相對於該垂直面之一半角而量測。
  70. 如請求項69之方法，其中該等複數個光學元件限制該顯示器之該視域於一自一垂直於該顯示器之一前表面之平 面不大於約20度之角度，其中該角度作為相對於該垂直面之一半角而量測。
  71. 如請求項69之方法，其中該等反射性表面與穿過該等集光器之中央光軸對稱。
  72. 如請求項69之方法，其中該等集光器與穿過該等集光器之中央光軸環式對稱。
  73. 如請求項69之方法，其中該等彎曲反射性表面定義該等集光器之輸入及輸出孔徑，該等輸出孔徑大於該等輸入孔徑。
  74. 如請求項69之方法，其中該等彎曲反射性表面係經成形為大體上準直光。
  75. 一種顯示資訊於一顯示器之方法，該顯示器具有複數個干涉微機電系統元件，該等干涉微機電系統元件設置以形成一陣列，各該微機電系統元件包括一部分反射性第一光學表面及一反射性第二光學表面，該第二光學表面可相對於該第一光學表面移動以便反射性地調變在該等第一和第二光學表面之入射光，其方法包括：接收於一薄膜之一表面上之環境光；引導所接收之環境光從該表面至該陣列；當該引導光傳播至該陣列時，準直至少一部份該引導光使得在該陣列上之入射光更準直該薄膜之該表面上所接收之該環境光；干涉調變於該陣列上所接收之光，其中包括反射該調變光至該薄膜之該表面；及 當該調變光傳播於該陣列和該薄膜之該表面之間時，漫射該調變光。
  76. 如請求項75之方法，其中準直至少一部份該引導光包括將該調變光通過經配置以準直引導致該陣列之該環境光之具有複數散射特徵之複數個漫射元件。
  77. 如請求項76之方法，其中該漫射元件包含一繞射光學元件。
  78. 如請求項76之方法，其中該漫射元件包含一全像光學元件。
  79. 如請求項76之方法，其中該漫射元件包含一多層膜。
  80. 如請求項79之方法，其中該多層膜包含：一第一層，其經組態以使該入射於該漫射元件上之光大體上準直；及一第二層，其包含經組態以漫射自該陣列反射之光的漫射材料。
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