TWI393681B - 向下式基板薄化裝置及使用此裝置之薄化系統 - Google Patents

Description

向下式基板薄化裝置及使用此裝置之薄化系統

本發明係有關於一種向下式玻璃薄化裝置及應用該裝置之薄化系統，其中該向下式玻璃薄化裝置係藉由重力將蝕刻液從玻璃的上部往下部，沿著玻璃的表面自然地流動，來達成需要的玻璃蝕刻，同時能夠減少因玻璃蝕刻後所產生的副產物亦即玻璃泥漿及微粒所造成的擦傷不良等，能夠將玻璃的厚度超薄化，而該薄化系統具備蝕刻模組及水洗模組，能夠利用一個製程來進行水洗及蝕刻。

最近，為了對應半導體、顯示器裝備產業的發展及消費者希望輕薄短小的製品，迫切地要求發展：將以玻璃合在一起的形態而被製造出來的顯示器面板(Panel)薄化之技術。亦即，隨著裝備的薄化，用於LCD基板等處的玻璃厚度被要求超薄化，作為此種用以薄化的技術，係使用顯示器面板(Panel)的蝕刻。使用化學蝕刻方法來將面板薄化之先前技術係廣泛地被知悉，有浸漬法(Dip)、噴射法(Spray)等。

但是，因為此種蝕刻方法係從外部噴射蝕刻液、或是浸漬於蝕刻液，必然地供給用以蝕刻的氣泡，所以在蝕刻面會產生微細的微粒或擦傷，而會有難以實現精密的玻璃蝕刻或是使用此蝕刻的薄化製程之問題。

另外，隨著蝕刻製程之蝕刻液的水洗，若無法得到精密蝕刻時，會有必須再次進行蝕刻製程之不便，且亦有難以大量作業，致使生產性低落之問題。

[發明所欲解決之課題]

本發明係為了解決前述問題而開發出來，其目的係為了消除因蝕刻液噴射式或浸漬及氣泡(bubble)所造成在蝕刻時於玻璃基板上所產生的微粒及擦傷，提供一種向下式玻璃薄化裝置，其具備功能性噴嘴部，該功能性噴嘴部係從基板的上部，垂直地沿著基板的面自由落下之蝕刻液供給單元，可顯著地減少產生微米及擦傷，同時能夠提供高品質的玻璃，並且將顯示器面板(Panel)超薄化。

本發明的另外目的，係提供一種向下式玻璃薄化系統，其能夠利用一個製程來進行蝕刻製程及蝕刻前後的水洗製程，能夠將製程簡單化，另一方面能夠附加循環式蝕刻液及水洗水系統，來節省製造費用。

為了解決前述的問題，特別地，本發明係提供一種向下式玻璃薄化裝置，其係具備固定部及噴嘴部，其中該固定部係垂直地固定至少1片基板，而該噴嘴部係設置在前述基板的垂直上部，並使蝕刻液沿著前述基板的表面流下。在此，前述噴嘴部係在基板的垂直上部側設置有多數個，並且為了使從噴嘴部供給的蝕刻液溢出而一邊流動一邊沿著基板的表面進行蝕刻，而具備特有的收容部、蝕刻液通過狹縫及導引部，且具備用以防止蝕刻液過度流出之緩衝隔壁。

依照本發明，係從玻璃或液晶面板的外部之噴射式蝕刻製程進行改變，提供一種具備噴嘴部之蝕刻裝置，該噴嘴部能夠使蝕刻液從基板的上部流動，並藉由重力沿著基板表面進行蝕刻，可顯著地減少發生微粒及擦傷，同時能夠提供高品質的玻璃，並且可將顯示器面板(Panel)超薄化。

又，藉由提供一種結合蝕刻模組及水洗模組而成之蝕刻系統，通過蝕刻液的循環及水洗水液的循環來節省製程費用，且能夠以一個製程來得到完美品質且經薄化的玻璃之方式反覆地進行作業，能夠增加薄化製程的效率性。

本發明係提供一種向下式玻璃薄化裝置，其具備固定部及噴嘴部，其中該固定部係垂直地固定至少1片基板，而該噴嘴部係被設置在前述基板的垂直上部，並使蝕刻液沿著前述基板的表面流下。此薄化裝置能夠除去在想要蝕刻的基板亦即玻璃或液晶面板的蝕刻時，會產生的微粒或擦傷等的缺陷，來提供高品質的薄化基板。

又，本發明係提供一種向下式玻璃薄化裝置，其中前述噴嘴部，係在前述基板的垂直上部側，至少設置一個，並且形成能夠調節噴嘴的流量。藉此，能夠將複個片基板的蝕刻作業依照需要程度而大量生產。

而且，本發明係提供一種向下式玻璃薄化裝置，其中係前述噴嘴部係由收容部及導引部所構成；其中該收容部係收容從外部注入的蝕刻液，而該導引部係將從前述收容部溢出的蝕刻液導引至前述基板的垂直上部方向。此裝置，未使用噴霧或噴射方式，而是藉由蝕刻液沿著想要蝕刻的玻璃表面一邊自由落下一邊自然地蝕刻，來除去微粒的產生或擦傷等的缺陷，能夠提供高品質的薄化基板。

又，本發明係提供一種向下式玻璃薄化裝置，其中在前述收容部的上部面，形成一定部分開口而成之蝕刻液通過狹縫；且在前述通過狹縫的外側方向，係形成有用以將蝕刻液均等地導引至前述導引部之複數個導引槽。藉此，將流出的蝕刻液自然地導引至想要蝕刻的基板的表面上，能夠增加蝕刻的效率性。

而且，本發明係提供一種向下式玻璃薄化裝置，其中在前述收容部的內部形成有緩衝隔壁，用以防止所供給的蝕刻液的流量急速地增加。藉此，能夠防止蝕刻液的流量急速地增加或從上部噴出。

又，本發明係提供一種向下式玻璃薄化裝置，其中前述緩衝隔壁係由形成有複數個蝕刻液緩衝通孔的薄板構件所構成。此薄化裝置，基本上，藉由在收容部內所設置的緩衝隔壁之存在，用以誘導蝕刻液使其自然且均等地流出，能夠有效率地防止蝕刻液的流量急速地增加或從上部噴出。

而且，本發明係提供一種向下式玻璃薄化裝置，其中前述導引部係具有越往垂直下部越傾斜之結構，且其末端係以與前述基板的上部面的垂直上部方向對應之方式排列。藉此，能夠使蝕刻液沿著基板的前面及背面自然地流動，且能夠使蝕刻液從基板的垂直上部方向落下。

又，本發明係提供一種向下式玻璃薄化裝置，其中前述蝕刻液係選自氟酸系、混酸系及非氟酸系的蝕刻液之任一種。

而且，本發明為了應用前述的向下式玻璃薄化裝置來實現能夠將玻璃蝕刻及水洗之蝕刻系統，提供一種向下式玻璃薄化系統，其特徵為：係由水洗模組及蝕刻模組所構成，其中該水洗模組係含有洗水處理室，用以將至少1片基板在垂直立起狀態下進行洗淨，而該蝕刻模組係含有蝕刻處理室，用以將通過前述基板水洗模組的基板進行蝕刻，而且前述蝕刻處理室，係包含噴嘴部及固定部，其中該噴嘴部係在前述在前述基板的垂直上部至少形成1個，並從前述基板的垂直上部方向使蝕刻液沿著前述基板的表面流下，而該固定部係垂直地固定至少1片基板，又，具備使前述固定部移動之移動單元，用以在前述水洗模組及蝕刻模組的內部作往復移動。此玻璃薄化系統，利用一個製程同時進行蝕刻及水洗作業，能夠增加作業製程的效率性。

又，本發明係提供一種向下式玻璃薄化系統，其中前述噴嘴部係由收容部及導引部所構成；該收容部係收容從外部注入的蝕刻液，而該導引部係將從前述收容部溢出的蝕刻液導引至前述基板的垂直上部方向。

而且，本發明係提供一種向下式玻璃薄化系統，其中在前述收容部的上部面，形成一定部分開口而成之蝕刻液通過狹縫；在前述通過狹縫的外側方向，係形成有用以將蝕刻液均等地導引至前述導引部之複數個導引槽。

又，本發明係提供一種向下式玻璃薄化系統，其中在前述收容部的內部形成有緩衝隔壁，用以防止所供給的蝕刻液的流量急速地增加。

而且，本發明係提供一種向下式玻璃薄化系統，其中述緩衝隔壁係由形成有複數個蝕刻液通過狹縫的薄板構件所構成。

又，本發明係提供一種向下式玻璃薄化系統，其中進而具備蝕刻液循環供給單元，該蝕刻液循環供給單元係由將在前述蝕刻模組所使用的蝕刻液供給至前述蝕刻處理室，並將使用過的蝕刻液再次使其循環的結構所構成。藉此，能夠有效率地使用蝕刻液，能夠節省薄化製程的製造費用。

而且，本發明係提供一種向下式玻璃薄化系統，其中前述蝕刻液循環供給單元，具備：蝕刻液主槽，該蝕刻液主槽具有用以供給蝕刻液之蝕刻液供給泵。

又，本發明係提供一種向下式玻璃薄化系統，其中具備蝕刻液回收槽，該蝕刻液回收槽係回收在前述蝕刻處理室中使用過的蝕刻液。藉此，能夠增加蝕刻液的回收效率性。

而且，本發明係提供一種向下式玻璃薄化系統，其中前述蝕刻液循環供給單元，係具備至少1個過濾器部，用以過濾在前述蝕刻處理室中使用過的蝕刻液。藉此，除去在蝕刻液中所含有的泥漿等的污物，能夠增加蝕刻製程的效率性。

又，本發明係提供一種向下式玻璃薄化系統，其中具備第1過濾器，用以過濾要被供給至前述蝕刻處理室中的蝕刻液，且前述蝕刻液回收槽，更具備第2過濾器，用以過濾從前述蝕刻處理室回收的蝕刻液。藉此，除去在蝕刻液中所含有的泥漿或腐蝕物、蝕刻殘餘物，能夠增加蝕刻的效率性。

而且，本發明係提供一種向下式玻璃薄化系統，其中前述蝕刻液主槽，更具備第3過濾器，用以過濾從前述蝕刻處理室回收的蝕刻液之泥漿。藉此，能夠增加蝕刻的效率性。

又，本發明係提供一種向下式玻璃薄化系統，其中前述水洗模組，更具備水洗水循環供給單元，前述水洗水循環供給單元，係由將要在前述水洗模組中所使用的水洗水供給至前述水洗處理室，並將使用過的水洗水使其再次循環的結構所構成。藉此，使來自蝕刻製程的基板能夠進行至洗淨製程，能夠提升薄化製程的效率性。

而且，本發明係提供一種向下式玻璃薄化系統，其中前述水洗水循環供給單元，係具備經由水洗水供給泵來供給水洗水之水洗水主槽而構成。

又，本發明係提供一種向下式玻璃薄化系統，其中更具備水洗水回收槽，該水洗水回收槽係將在前述水洗處理室使用過的水洗水回收。

而且，本發明係提供一種向下式玻璃薄化系統，其中前述水洗水循環供給單元，係至少具備1個過濾器，用以將洗淨前述基板後的水洗水過濾。藉此，通過將水洗水過濾，能夠得到有效率的水洗效果。

又，本發明係提供一種向下式玻璃薄化系統，其中前述水洗水主槽，係更具備第4過濾器及第5過濾器；該第4過濾器，將前述水洗水主槽供給至前述水洗水處理室之水洗水過濾，而該第5過濾器，將前述水洗水回收槽從前述水洗水處理室回收的水洗水過濾。

而且，本發明係提供一種向下式玻璃薄化系統，其中至少具備一個前述水洗模組。藉此，確保連續製程的效率性，能夠提供製造方式的方便性及大量生產時之製程經濟性。

又，本發明係提供一種向下式玻璃薄化系統，其中具備至少1個前述蝕刻模組。

而且，本發明係提供一種向下式玻璃薄化系統，其中前述基板的出入口係形成於相同位置。

又，本發明係提供一種向下式玻璃薄化系統，其中前述基板的出入口係形成於相異位置。

而且，本發明係提供一種向下式玻璃薄化系統，其中在連結前述水洗模組與前述蝕刻模組之結構中，係在前述水洗模組形成基板的出入口。

又，本發明係提供一種向下式玻璃薄化系統，其中在前述至少1個蝕刻模組的前側或後側連結水洗模組的情況，前述基板的出入口係形成於前述排頭的水洗模組中，且前述基板的排出口係形成於蝕刻作業後基板被移送之水洗模組中。

而且，本發明係提供一種向下式玻璃薄化系統，其中更含有噴淋或乾燥模組。藉此，能夠實現製程的完成度。

以下，一邊參照附加的圖示，一邊說明本發明的構成及作用。

參照第1圖時，本發明之向下式玻璃薄化裝置，係其要點係將玻璃或液晶面板(以下，稱為「基板」)20，在垂直立起狀態，一邊從基板的上部沿著基板的表面使蝕刻液自由落下，一邊進行蝕刻，來進行薄化。另外，具備將基板蝕刻之蝕刻處理室10，且具備用以將基板垂直地立起在該蝕刻處理室10的內部之固定部30。

該固定部30所形成的結構係用以將基板垂直地立起，若是將基板自左右把持之結構或夾鉗結構等的能夠將基板挾持或立起並固定之結構物時，能夠變形成為各式各樣的結構。在較佳實施例中，固定部30係製成能夠將基板從上部至下部插入而固定之夾具。該夾具係能夠插入至少1片基板而固定之結構，且其下部在蝕刻處理室的內部能夠在基板被固定狀態下，以負載或卸載的方式與移動單元50連結。移動單元50，係具備輸送軌道，在連結蝕刻處理室及後述之1個或複數個水洗處理室時，能夠在各處理室之間輸送該基板，且較佳是能夠經由時序皮帶移動，但是未限定於此，亦可使用個別輸送輥、橡膠皮帶等各式各樣的方法來實現驅動。當然，較佳是形成有控制部(未圖示)，此控制部能夠全面性地調節蝕刻液的供給、藉由移動單元所產生的基板的移動、及蝕刻速度。

本發明，在蝕刻處理室上部，具備用以從基板的垂直上部供給蝕刻液之噴嘴部100。

參照第2圖說明噴嘴部100的構成時，如(a)所示，噴嘴部100係由收容部110及導引部120所構成，其中該收容部110係收容從外部的蝕刻液供給管P所供給的蝕刻液，而該導引部120係將從收容部溢出之該收容部110所收容的蝕刻液，導引至基板的垂直上部方向。

導引部120，較佳是其從與收容部連結的部分至連接基板的部分，如圖所示，往基板方向傾斜地形成，使得蝕刻液可沿著收容部的外周面一邊移動一邊自然地傳送至基板的上部。

基本上，導引部係作成沒有間隙S之結構，能夠將蝕刻液從基板的正上方流下。又，作為其他例子，導引部120亦可以作成在中心部形成有間隙S且將基板的上部一定部分夾進該間隙S中之結構。如此，基板的上部若被夾進導引部的間隙中時，能夠將蝕刻液均等地供給至基板的兩側表面，能夠增加蝕刻的效率性。

特別是在前述收容部的上部面，較佳是：形成一定部分係開口的形態之蝕刻液通過狹縫130，來使從收容部溢出的蝕刻液往外部流動。

又，蝕刻液通過狹縫130，較佳是形成於收容部110的長度方向。在該蝕刻液通過狹縫130的外側方向，較佳是形成複數個導引槽140，來將該蝕刻液均等導引至導引部120。該導引槽140，能夠以凹刻形成誘導槽，來使蝕刻液往垂直於蝕刻液通過狹縫130的方向流動。藉此，能夠使蝕刻液自然地沿著收容部的軀幹部的彎曲而被引導至導引部。

其他實施例係如第2圖的(b)所示，可以將通過狹縫130與蝕刻液導引槽140整體地形成，且將通過狹縫130形成在垂直於收容部的長度方向的方向後，在蝕刻液通過狹縫130的兩端形成導引槽140。

在收容部110的內部，較佳是具備緩衝隔壁150，用以防止因從供給蝕刻液的管P流入的蝕刻液急速增加而造成蝕刻液急速地從通過狹縫流出。緩衝隔壁150係被配置在收容部的內部，且以形成有蝕刻液緩衝通孔151之薄板狀者為佳。藉由該緩衝隔壁150的存在，能夠防止在收容部中的蝕刻液的急速上升，能夠調節蝕刻液的供給速度及流量，且能夠誘導蝕刻液均等地流動。

如第2圖之(c)～(e)所示，收容部110能夠製成各式各樣的形狀。亦即，只要是能夠均等地供給蝕刻液之結構，例如剖面橢圓狀(c)、剖面圓狀(e)、或上部具有一定的傾斜之形狀(d)等，只要是能夠使蝕刻液的流動順利，而且使收容部的外周面為曲面之物時，任一種均可。

又，緩衝隔壁150，係如第3圖所示，較佳是形成薄板狀，同時形成有複數個緩衝通孔151，而能夠調節蝕刻液的上升速度。特別是緩衝通孔151係簡單地製成相當於緩衝隔壁厚度之貫通孔即可，另外，該等通孔的形狀亦可以是如第3圖(b)之圓筒形，而且較佳是藉由作成如第3圖(c)般的逆圓錐台狀，能夠更有效率地控制蝕刻液的上升速度。但是並未限定於此形狀，緩衝通孔亦可按照必要製成四角形、菱形、橢圓形等各式各樣的剖面形狀。

所供給的蝕刻液，基本上能夠使用氟酸系、混酸系、或非氟酸系等各式各樣的蝕刻液。特別是通常用作為玻璃的蝕刻液所使用的蝕刻液之任一種，都能夠使用在本裝置。亦即，含有氟酸之蝕刻液系列之反應，能夠藉由下述的式來說明。基本上，其原理係氟酸的F鍵結於玻璃，並且一邊生成泥漿(SiF₄ )及水，一邊將玻璃薄化。

aHF+bSiF₄ →cSiF₄ +dH₂ O

因此，在應用蝕刻液之一個例子中，作為氟酸系蝕刻液，能夠使用HF，且在此混合微量的添加劑及界面活性劑而使用。

作為混酸系蝕刻液，係基本上能夠使用HF，且可以在此混合硝酸(HNO₃ )、硫酸(H₂ SO₄ )而使用，亦可在此追加添加劑。

作為非氟酸系蝕刻液，係基本上係使用氟化銨(NH₄ F)、酸性氟化銨(NH₄ F‧HF)、等的氟化銨鹽，且亦可在此添加硫酸或界面活性劑而使用。

由以上構成之蝕刻液處理室，係構成具備蝕刻液供給槽及複數個過濾器之向下式玻璃薄化系統，且藉由結合用以水洗蝕刻前後的基板之水洗模組，能夠謀求製程的自動化及連續製程，且能夠增加製程的效率性。

如第4圖所示，使水洗處理室200連結蝕刻液處理室10，作成連結水洗基板的製程及蝕刻基板的製程之製程而整體化，能夠以通過移動單元而在水洗處理室與蝕刻處理室之間循環的方式，形成具備蝕刻液循環供給單元或水洗水循環供給單元之結構(以下，稱為“蝕刻模組”及“水洗模組”)。特別是基板要被投入的部分，係在水洗處理室的一側面形成出入口，基板經由移動單元而被負載(loading)至水洗處理室200內，基本的水洗作業結束時，通過形成於水洗處理室與蝕刻處理室的連結部分之通路部(未圖示)，且藉由移動單元的驅動，能夠自動地被負載至蝕刻處理室，在此進行蝕刻作業，隨後蝕刻作業結束後的基板係再次被送至水洗處理室，經過水洗作業後，從水洗處理室排出。特別是此種往復移動製程，為了作業的完全性，當然亦可以反復進行。此種實施例能夠作各式各樣的變化，關於此點，將後述。

具體上，若說明本發明的構成，能夠具備蝕刻模組，其具備蝕刻液主槽300及回收結構，其中該蝕刻液主槽300係用以將蝕刻液供給至蝕刻液處理室，且經由蝕刻液供給泵310將蝕刻液供給至蝕刻液處理室的前述噴嘴部，而該回收結構係在將基板蝕刻後，將蝕刻液再次回收至蝕刻液主槽。當然，在各自的蝕刻液供給及回收製程中，亦可在其間安裝過濾器320、330，而且，在蝕刻液主槽內亦可另外搭載過濾器，來除去泥漿，或是在外部另外設置用以使蝕刻液循環之循環泵340，且具備過濾器350來過濾泥漿，能夠淨化蝕刻液。藉此，不必將在蝕刻製程中所使用的蝕刻液廢棄而能夠繼續活用，能夠確保製程的經濟性並實現精密的基板輕薄化。

特別是能夠具備水洗處理室200，用以與前述蝕刻液處理室結合，並經由移動單元來輸送基板。該水洗處理室，其結構係在將基板導入至蝕刻液處理室之前，預先洗淨基板，且利用連續製程將基板輸送至蝕刻液處理室來進行蝕刻，接著，蝕刻作業結束後的基板再次被輸送至水洗處理室且在洗淨後被排出；能夠以簡單的連續製程來進行基板的薄化製程，能夠謀求製程的單純化。

水洗處理室200，係以經由水洗水供給泵220從水洗水主槽210將水洗水供給至水洗處理室，且水洗後使水洗水再次流入水洗水主槽的方式，來構成水洗水循環供給單元，在各自的情況，能夠配備用以過濾污物之過濾器230、240。

參照第5圖，說明更細分化之本發明的向下式玻璃薄化系統之其他實施例。當然，本發明之向下式玻璃薄化系統係基本上具備蝕刻液處理室10及水洗處理室200；在此，藉由蝕刻液主槽300及水洗水主槽210來供給蝕刻液及水洗水，而具有各液體能夠循環而供給之結構。在此，其結構係更具備用以除去泥漿或污物之複數個過濾器，並且更具備用以使各液體循環之泵，且能夠變化為各式各樣的實施例。亦即，能夠將蝕刻液過濾而使用之過濾器構件，在向下式玻璃薄化系統中係至少能夠具備1個，當然，為了連續製程的效率性，使用者能夠按照必要調整。

若舉出其一個例子，能夠具備：蝕刻液供給泵310，其係將蝕刻液供給至蝕刻液處理室10；第1過濾器320，其係將所供給的蝕刻液過濾；蝕刻液回收槽370，其係在蝕刻作業後將蝕刻液回收；蝕刻液回收泵360，其係將蝕刻液從回收槽移送至蝕刻液主槽；及第2過濾器330，其係設置在該回收過程中，用以將蝕刻液過濾器。當然，在蝕刻液主槽的外部，另外設置泵340及第3過濾器350，用以使蝕刻液循環，來將泥漿再次過濾。該等過濾器能夠按照必要進而追加或除去，能夠配合生產條件而調整或變更。

在水洗處理室，基本上係具備用以供給水洗水之水洗水主槽210及水洗水供給泵220，且能夠更具備至少一個過濾器，用以過濾水洗水。例如，使用者能夠考慮作業製程的速度及效率而調整過濾器的個數，其一個例子係能夠具備用以除去水洗水的污物之第4過濾器230。在水洗作業後，係通過回收水洗水之水洗水回收槽260及回收水洗水之水洗水回收泵250，而將水洗水回收至水洗水主槽210。當然，此時亦可具備其他的過濾器，例如較佳是具備第5過濾器240，來將水洗水過濾。該等過濾器能夠按照必要進而追加或除去，能夠配合生產條件而調整或變更。

使用第6圖，說明本發明之向下式玻璃薄化裝置的各式各樣的變化例。

亦即，具有：基本的構造(a)，其係能夠經由移動單元，一邊使複數片基板往復移動一邊重複地進行水洗及蝕刻製程之結構，且係由水洗模組及蝕刻模組所構成；構造(b)，其係設備有2個水洗模組，且設置有蝕刻模組；構造(c)，其係將蝕刻模組置於中間，在該蝕刻模組之前、後，設置水洗模組；構造(d)，其係在中間設置2個蝕刻模組，且在其兩端設置水洗模組；及構造(e)，其係在構造(d)具備噴淋及乾燥製程處理室。

特別是為了製程的效率性，前述(a)及(b)的結構，係作成在水洗模組側形成基板的出入口，且在重複進行蝕刻及水洗製程後，在一個方向將基板排出之結構。當然，亦可在蝕刻模組側形成排出口，但是水洗模組係位於前側時，為了將蝕刻後的蝕刻液除去，較佳是使其從前側排出。

又，如(c)及(e)的結構，在中間至少具備1個蝕刻模組之情況，係將基板的出入口與排出口形成在不同側，就製程的效率性的觀點，乃是較佳。當然，在該情況亦可與前述(a)、(b)的結構同樣地在一側形成出入口。

在各自的變化例中，可使用移動單元來進行往復循環製程；又，在蝕刻模組之後，結合有水洗模組而成之結構時，較佳係作成：在蝕刻後立刻將製品排出之結構，其係未往復循環而立刻將製品排出之連續製程結構。

以上具體地舉出實施例來說明本發明，但是未限定於該等具體例，當然，在未悖離本發明的範疇之限度內，能夠有各式各樣的變化。因此，本發明的技術思想未限定於具體的實施例，應當由申請專利範圍及與其均等者決定。

10．．．蝕刻液處理室

20．．．基板

30．．．固定部

50．．．移動單元

100．．．噴嘴部

P．．．蝕刻液供給管

110．．．收容部

120．．．導引部

130．．．蝕刻液通過狹縫

140．．．導引槽

150．．．緩衝隔壁

151．．．緩衝通孔

S．．．間隙

200．．．水洗處理室

210．．．水洗水主槽

220．．．水洗水供給泵

230、240．．．過濾器

250．．．水洗槽回收槽

260．．．水洗水回收槽

300．．．蝕刻液主槽

310．．．蝕刻液供給泵

320．．．第1過濾器

330．．．第2過濾器

340．．．蝕刻液循環泵

330．．．第2過濾器

350．．．第3過濾器

360．．．蝕刻液回收泵

370．．．蝕刻液回收槽

第1圖係表示依照本發明的向下式基板薄化裝置的構成之概略圖。

第2圖係依照本發明的噴嘴部的構成之重要部分斜視圖。

第3圖係表示本發明的噴嘴部中的緩衝隔壁之重要部分放大圖。

第4圖係表示應用本發明的向下式玻璃薄化裝置而成的薄化系統的一個實施例之構成圖。

第5圖係表示應用本發明的向下式玻璃薄化裝置而成的薄化系統的另外實施例之構成圖。

第6圖係表示應用本發明的向下式玻璃薄化裝置而成的薄化系統的各式各樣的應用例之構成圖。

10．．．蝕刻液處理室

20．．．基板

30．．．固定部

50．．．移動單元

100．．．噴嘴部

P．．．蝕刻液供給管

Claims (30)

1. 一種向下式玻璃薄化裝置，其係具備固定部及噴嘴部，其中該固定部係垂直地固定至少1片基板，而該噴嘴部係被設置在前述基板的垂直上部，並使蝕刻液沿著前述基板的表面流下；其中前述噴嘴部係由收容部及導引部所構成，該收容部係收容從外部注入的蝕刻液，而該導引部係將從前述收容部溢出的蝕刻液導引至前述基板的垂直上部方向。
2. 如申請專利範圍第1項所述之向下式玻璃薄化裝置，其中前述噴嘴部，係在前述基板的垂直上部側至少設置1個，並且形成能調節噴嘴的流量。
3. 如申請專利範圍第2項所述之向下式玻璃薄化裝置，其中在前述收容部的上部面，形成一定部分開口而成之蝕刻液通過狹縫；在前述通過狹縫的外側方向，係形成有用以將蝕刻液均等地導引至前述導引部之複數個導引槽。
4. 如申請專利範圍第1或3項所述之向下式玻璃薄化裝置，其中在前述收容部的內部形成有緩衝隔壁，用以防止所供給的蝕刻液的流量急速地增加。
5. 如申請專利範圍第4項所述之向下式玻璃薄化裝置，其中前述緩衝隔壁係由形成有複數個蝕刻液緩衝通孔的薄板構件所構成。
6. 如申請專利範圍第1項所述之向下式玻璃薄化裝置，其中前述導引部係具有越往垂直下部越傾斜之結構，且其末端係以與該基板的上部面的垂直上部方向對應之方式排列。
7. 如申請專利範圍第6項所述之向下式玻璃薄化裝置，其中前述蝕刻液係選自氟酸系、混酸系及非氟酸系的蝕刻液之任一種。
8. 一種向下式玻璃薄化系統，其特徵為：係由水洗模組及蝕刻模組所構成，其中該水洗模組係含有洗水處理室，用以將至少1片基板在垂直立起狀態下進行洗淨，而該蝕刻模組係含有蝕刻處理室，用以將通過前述基板水洗模組的基板進行蝕刻，而且前述蝕刻處理室，係包含噴嘴部及固定部，其中該噴嘴部係在前述基板的垂直上部側至少設置1個，並從前述基板的垂直上部方向使蝕刻液沿著前述基板的表面自由落下，而該固定部係垂直地固定該至少1片基板；又，具備使前述固定部移動之移動單元，用以在前述水洗 模組及蝕刻模組的內部作往復移動。
9. 如申請專利範圍第8項所述之向下式玻璃薄化系統，其中前述噴嘴部係由收容部及導引部所構成；該收容部係收容從外部注入的蝕刻液，而該導引部係將從前述收容部溢出的蝕刻液導引至該基板的垂直上部方向。
10. 如申請專利範圍第9項所述之向下式玻璃薄化系統，其中在前述收容部的上部面，形成一定部分開口而成之蝕刻液通過狹縫；在該通過狹縫的外側方向，係形成有用以將蝕刻液均等地導引至前述導引部之複數個導引槽。
11. 如申請專利範圍第10項所述之向下式玻璃薄化系統，其中在前述收容部的內部形成有緩衝隔壁，用以防止所供給的蝕刻液的流量急速地增加。
12. 如申請專利範圍第11項所述之向下式玻璃薄化系統，其中前述緩衝隔壁係由形成有複數個蝕刻液通過狹縫的薄板構件所構成。
13. 如申請專利範圍第10項所述之向下式玻璃薄化系統，其中進而具備蝕刻液循環供給單元，該蝕刻液循環供給單元係由將在該蝕刻模組中所使用的蝕刻液供給至該蝕刻 處理室，並將使用過的蝕刻液再次使其循環的結構所構成。
14. 如申請專利範圍第12項所述之向下式玻璃薄化系統，其中前述蝕刻液循環供給單元，具備：蝕刻液主槽，該蝕刻液主槽具有用以供給蝕刻液之蝕刻液供給泵。
15. 如申請專利範圍第13項所述之向下式玻璃薄化系統，其中具備蝕刻液回收槽，該蝕刻液回收槽係回收在前述蝕刻處理室中使用過的蝕刻液。
16. 如申請專利範圍第12或13項所述之向下式玻璃薄化系統，其中前述蝕刻液循環供給單元，係具備至少1個過濾器部，用以過濾在前述蝕刻處理室中使用過的蝕刻液。
17. 如申請專利範圍第16項所述之向下式玻璃薄化系統，其中更具備第1過濾器，用以過濾要被供給至前述蝕刻處理室中的蝕刻液，且前述蝕刻液回收槽，更具備第2過濾器，用以過濾從前述蝕刻處理室回收的蝕刻液。
18. 如申請專利範圍第17項所述之向下式玻璃薄化系統，其中前述蝕刻液主槽，更具備第3過濾器，用以過濾從前 述蝕刻處理室回收的蝕刻液之泥漿。
19. 如申請專利範圍第12或17項所述之向下式玻璃薄化系統，其中前述水洗模組，更具備水洗水循環供給單元，前述水洗水循環供給單元，係由將要在前述水洗模組中所使用的水洗水供給至前述水洗處理室，並將使用過的水洗水使其再次循環的結構所構成。
20. 如申請專利範圍第19項所述之向下式玻璃薄化系統，其中前述水洗水循環供給單元，係具備經由水洗水供給泵來供給水洗水之水洗水主槽而構成。
21. 如申請專利範圍第20項所述之向下式玻璃薄化系統，其中更具備水洗水回收槽，該水洗水回收槽係將在該水洗處理室使用過的水洗水回收。
22. 如申請專利範圍第21項所述之向下式玻璃薄化系統，其中前述水洗水循環供給單元，係至少具備1個過濾器，用以將洗淨前述基板後的水洗水過濾。
23. 如申請專利範圍第22項所述之向下式玻璃薄化系統，其中前述水洗水主槽，係更具備第4過濾器及第5過濾器；該第4過濾器，將前述水洗水主槽供給至前述水洗水處理室之水洗水過濾，而 該第5過濾器，將前述水洗水回收槽從前述水洗水處理室回收的水洗水過濾。
24. 如申請專利範圍第9項所述之向下式玻璃薄化系統，其中至少具備一個前述水洗模組。
25. 如申請專利範圍第24項所述之向下式玻璃薄化系統，其中具備至少1個前述蝕刻模組。
26. 如申請專利範圍第24或25項所述之向下式玻璃薄化系統，其中前述基板的出入口係形成於相同位置。
27. 如申請專利範圍第24或25項所述之向下式玻璃薄化系統，其中前述基板的出入口係形成於相異位置。
28. 如申請專利範圍第24項或25項所述之向下式玻璃薄化系統，其中在連結前述水洗模組與前述蝕刻模組之結構中，係在前述水洗模組形成基板的出入口。
29. 如申請專利範圍第24項或25項所述之向下式玻璃薄化系統，其中在前述至少1個蝕刻模組的前側或後側連結水洗模組的情況，前述基板的出入口係形成於前述排頭的水洗模組中，且前述基板的排出口係形成於蝕刻作業後基板被移送之水洗模組中。
30. 如申請專利範圍第24項或25項所述之向下式玻璃薄化系統，其中更具備噴淋或乾燥模組。