KR101338849B1 - 유리기판 식각용 블레이드 - Google Patents
유리기판 식각용 블레이드 Download PDFInfo
- Publication number
- KR101338849B1 KR101338849B1 KR1020120087501A KR20120087501A KR101338849B1 KR 101338849 B1 KR101338849 B1 KR 101338849B1 KR 1020120087501 A KR1020120087501 A KR 1020120087501A KR 20120087501 A KR20120087501 A KR 20120087501A KR 101338849 B1 KR101338849 B1 KR 101338849B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- blade
- glass substrate
- etchant
- etching
- irregularities
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67063—Apparatus for fluid treatment for etching
- H01L21/67075—Apparatus for fluid treatment for etching for wet etching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/6715—Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133302—Rigid substrates, e.g. inorganic substrates
Abstract
본 발명은 디스플레이 패널, 솔라셀 등에 사용되는 유리기판을 다운플로어 방식으로 슬리밍 하는 데 사용하는 식각 장치용 블레이드 구조에 관한 것이다.
종래 일자형 블레이드는 에천트가 안쪽으로 쏠려 뭉치는 현상이 발생하여 식각 균일도가 좋지 못하고 유리기판에 얼룩이 생기는 등의 문제가 있어, 본 발명은, 블레이드 단부를 굴곡 있게 형성하여 에천트를 유리기판 전면에 걸쳐 균일하게 퍼져 흘러내리게 하였다.
종래 일자형 블레이드는 에천트가 안쪽으로 쏠려 뭉치는 현상이 발생하여 식각 균일도가 좋지 못하고 유리기판에 얼룩이 생기는 등의 문제가 있어, 본 발명은, 블레이드 단부를 굴곡 있게 형성하여 에천트를 유리기판 전면에 걸쳐 균일하게 퍼져 흘러내리게 하였다.
Description
본 발명은 디스플레이 패널, 솔라셀 등에 사용되는 유리기판 식각 장치 에 관한 것으로, 좀 더 상세하게는, 유리기판을 다운플로어 방식으로 슬리밍 하는 데 사용하는 식각 장치용 블레이드 구조에 관한 것이다.
디스플레이 패널 등의 주요 부품으로 얇은 두께로 식각(슬리밍) 된 유리기판을 들 수 있다. 이러한 박형 유리기판은 두께가 1mm 이상 되는 유리기판을 에천트로 얇게 식각하여 만들어진다. 파손율이 낮은 두꺼운 유리기판으로 몇몇 공정을 실시한 후, 일면을 식각하여 박형화하기도 하며, 공정 실시 전 유리기판을 양면 식각하여 박형화한 후, 공정을 실시하기도 한다. 유리기판의 슬리밍 공정은, 에천트를 이용한 화학적 식각을 통해 이루어지며, 슬리밍 방식은 액침 방식, 스프레이 방식, 다운플로어 방식 중 어느 하나의 방식을 이용한다. 다운플로어 방식의 경우, 파손율이 낮은 안정성과 더불어 생산성도 우수한 편에 속한다.
다운플로어 방식은 도 1과 같이 유리기판을 프레임에 넣고 지그로 고정하여 에천트를 그 일면 또는 양면으로 일정시간 흘려주어 원하는 두께로 슬리밍하는 공정이다. 이때, 에천트가 유리기판 전면에 균일하게 흐르도록 블레이드(200)를 사용하며, 상기 블레이드(200)를 통해 에천트는 유리기판 전면으로 흘러내리게 된다.
그러나, 상기 블레이드(200)를 사용하여도 에천트 특유의 표면장력 및 유리기판에 대한 점도 등으로 인하여 에천트는 좀 더 안쪽으로 흘러들어와 뭉치는 현상이 일어나 유리기판 전면에 걸쳐 균일한 에천트 분포가 나오지 않으며, 이는 유리 기판에 얼룩이 생기거나 두께가 전면적으로 균일하지 않게 되는 원인이 된다.
또한, 에천트 흐름 부분에 맞추어 유리기판을 얼라인 하여야 하는 등의 번거로움이 따르나, 초기 얼라인과 달리 에천트의 흐름이 여전히 점도 등으로 인하여 달라져 동일한 문제가 발생 될 수 있다.
따라서 본 발명의 목적은 유리 기판의 전면에 걸쳐 균일한 식각이 가능하도록 구조를 개선한 새로운 블레이드를 제공하고자 하는 것이다.
상기 목적에 따라 본 발명은 블레이드 단부를 굴곡 있게 형성하여 에천트를 유리기판 전면에 걸쳐 균일하게 퍼져 흘러내리게 하였다.
즉, 본 발명은,
다운플로우 방식으로 유리 기판을 식각 하는 슬리밍 공정에 사용되는 블레이드로서,
상기 블레이드의 단부를 굴곡진 형상으로 하여 에천트가 블레이드 전 길이에 걸쳐 균일한 유량으로 흘러내리게 하는 것을 특징으로 하는 유리기판 식각용 블레이드를 제공한다.
또한, 본 발명은, 상기 블레이드 단부의 굴곡은, 물결모양 요철, 톱니모양 요철, 사각 요철, 마름모형 요철, 원형 요철 중 어느 하나로 구성하는 것을 특징으로 하는 유리기판 식각용 블레이드를 제공한다.
또한, 본 발명은, 상기 요철의 피치를 5 내지 15 mm로 하는 것을 특징으로 하는 유리기판 식각용 블레이드를 제공한다.
또한, 본 발명은, 상기 블레이드의 두께를 3 내지 7 mm로 하는 것을 특징으로 하는 유리기판 식각용 블레이드를 제공한다.
또한, 본 발명은, 상기 블레이드는, 에천트가 유입될 수 있는 틈과, 내부에 속이 빈 공간을 구비하고, 굴곡진 단부에 홀 또는 슬릿을 구비하여 에천트를 블레이드 외주면과 홀 또는 슬릿을 통하여도 에천트를 흘려주는 것을 특징으로 하는 유리기판 식각용 블레이드를 제공한다.
본 발명에 따르면 블레이드 단부에 형성된 굴곡에 의해 에천트가 안쪽으로 뭉치는 현상이 없이 블레이드 길이 전체에 균일하게 퍼져 하단에 있는 유리기판 전 면에 균일하게 흘러내려 유리기판 전면을 균일하게 식각 하며, 블레이드의 단부에 형성한 굴곡에 의하여 에천트 폭이 증가되어, 블레이드와 유리기판과의 얼라인 정밀도에는 크게 신경 쓸 필요가 없어 작업상의 편리함을 제공하며, 블레이드 두께 확대로 인하여 에천트의 유량 증가로 슬리밍 공정 작업시간이 단축되어 전체적으로 생산성이 향상된다.
도 1은 일반적인 다운 플로우 방식의 유리기판 슬리밍 장치 구성을 나타내는 정면도와 측면도이다.
도 2는 종래 블레이드 구조에 따라 발생하는 에천트의 안쪽 편향 현상을 나타내는 정면도이다.
도 3은 본 발명에 따른 단부에 굴곡을 형성한 블레이드 실시예들을 나타내는 정면도이다.
도 4는 본 발명에 따른 블레이드를 채용하여 유리기판 전면에 걸쳐 에천트를 균일하게 흘려 식각하는 모습을 나타내는 정면도이다.
도 5는 일반적인 다운 플로우 방식의 유리기판 슬리밍 장치에서 블레이드 노즐의 구조를 보여주며, 식각 공정을 설명하는 단면도들이다.
도 2는 종래 블레이드 구조에 따라 발생하는 에천트의 안쪽 편향 현상을 나타내는 정면도이다.
도 3은 본 발명에 따른 단부에 굴곡을 형성한 블레이드 실시예들을 나타내는 정면도이다.
도 4는 본 발명에 따른 블레이드를 채용하여 유리기판 전면에 걸쳐 에천트를 균일하게 흘려 식각하는 모습을 나타내는 정면도이다.
도 5는 일반적인 다운 플로우 방식의 유리기판 슬리밍 장치에서 블레이드 노즐의 구조를 보여주며, 식각 공정을 설명하는 단면도들이다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 첨부도면을 참조하여 상세히 설명한다.
다운플로우 방식의 유리기판 식각 용 블레이드(200)는 도 3과 같이 단부에 굴곡을 갖도록 제작한다. 즉, 물결모양, 톱니모양, 사각 요철, 마름모형 요철, 원형 요철 등으로 블레이드 단부를 형성한다. 블레이드는 도 1의 단면도 및 도 3의 사시도에 나타낸 바와 같이, 단부로 갈수록 두께가 얇게 형성되며, 에천트가 블레이드 외주면을 타고 흘러내게 된다. 또한, 블레이드 내부를 속이 빈 공간으로 만들고 상단에 에천트가 유입될 수 있는 틈을 두고, 굴곡진 단부에는 홀(hole) 또는 슬릿을 형성할 수도 있으며, 이러한 경우, 블레이드 외주면 뿐만 아니라 홀이나 슬릿을 통해서도 에천트를 흘려줄 수 있다. 틈의 두께, 홀, 슬릿 등의 크기 내지 폭은 수 mm 정도로 할 수 있고 홀은 굴곡부마다 형성하는 등 다수 형성할 수 있으며, 슬릿은 일체형의 틈새 형태 또는 다수의 슬릿으로 형성할 수 있다.
상기와 같은 블레이드의 굴곡진 단부는 종래 일자형 단부와 달리, 에천트의 흐름을 다소 분산시키는 역할을 하여 에천트의 점도나 표면장력에도 불구하고, 에천트가 유리기판 안쪽으로 쏠리지 않고, 양단부로 확장되도록 하는 효과가 있다.
이로써 종래 블레이드에 의해 에천트가 유리기판 단부에 도달량이 적어 유리기판 단부에 얼룩이 발생하는 현상을 제거할 수 있다. 또한, 종래 블레이드에 의할 경우, 유리기판 상부 쪽에서 에천트의 흐름이 빨라 식각 작용이 다소 부족하였으나, 단부의 굴곡 형성으로, 에천트의 흐름 속도 또한 다소 완화되어 유리기판 상부의 식각도 다른 부분과 동일하게 되어 전체적으로 균일한 식각을 할 수 있다.
상기 굴곡진 단부의 형상은 요철부의 피치를 5 내지 15 mm 내외, 바람직하게는 10 mm 내외로 하여 블레이드에서 흘러내리는 에천트의 흐름 폭을 전체적인 관점에서 균일하게 확장할 수 있으며, 종래 일자형 블레이드에 비해 에천트 폭은 7 mm 정도 더 확장된다.
또한, 종래, 2 내지 3 mm로 구성되어 있던 블레이드의 두께도 다소 증가시켜 3 내지 5 mm 정도로 하여, 유리기판 상부에 도달하는 에천트의 유량을 증가시킬 수 있다.
이와 같이 블레이드의 단부에 형성한 굴곡에 의하여 에천트 폭이 증가 됨으로써, 블레이드와 유리기판과의 얼라인 정밀도에는 크게 신경 쓸 필요가 없어 작업상의 편리함이 있다. 즉, 종래 블레이드로는 에천트 유량 폭이 유리기판 폭에 못 미치는 상황이 발생하지 않도록 얼라인 공정에 매우 주의를 기울여야 했으나, 굴곡진 단부로 인하여 유량 폭이 확장되어 에천트가 유리기판 전면을 충분히 커버 할 수 있어 얼라인 공정에 들어가는 시간과 노력을 줄일 수 있다.
또한, 에천트의 폭 확장 및 유리기판 전면에 걸친 균일한 유량으로 유리기판의 슬리밍 균일도가 높아지며, 블레이드 두께 확대로 인하여 에천트의 유량 증가로 슬리밍 공정 작업시간이 단축되어 전체적으로 생산성이 향상된다.
본 발명의 권리는 위에서 설명된 실시예에 한정되지 않고 청구범위에 기재된 바에 의해 정의되며, 본 발명의 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 청구범위에 기재된 권리범위 내에서 다양한 변형과 개작을 할 수 있다는 것은 자명하다.
100: 유리기판
200: 블레이드
200: 블레이드
Claims (5)
- 다운플로우 방식으로 유리 기판을 식각 하는 슬리밍 공정에 사용되는 블레이드로서,
상기 블레이드의 단부를 굴곡진 형상으로 하여 에천트가 블레이드 전 길이에 걸쳐 균일한 유량으로 흘러내리게 하는 것을 특징으로 하는 유리기판 식각용 블레이드. - 제1항에 있어서, 상기 블레이드 단부의 굴곡은, 물결모양 요철, 톱니모양 요철, 사각 요철, 마름모형 요철, 원형 요철 중 어느 하나로 구성하는 것을 특징으로 하는 유리기판 식각용 블레이드.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 요철의 피치를 5 내지 15 mm로 하는 것을 특징으로 하는 유리기판 식각용 블레이드.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 블레이드의 두께를 3 내지 7 mm로 하는 것을 특징으로 하는 유리기판 식각용 블레이드.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 블레이드는, 에천트가 유입될 수 있는 틈과, 내부에 속이 빈 공간을 구비하고, 굴곡진 단부에 홀 또는 슬릿을 구비하여 에천트를 블레이드 외주면과 홀 또는 슬릿을 통하여도 에천트를 흘려주는 것을 특징으로 하는 유리기판 식각용 블레이드.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020120087501A KR101338849B1 (ko) | 2012-08-09 | 2012-08-09 | 유리기판 식각용 블레이드 |
CN201310190989.2A CN103570249A (zh) | 2012-08-09 | 2013-05-21 | 玻璃基板蚀刻用刀片 |
TW102118507A TW201407680A (zh) | 2012-08-09 | 2013-05-24 | 玻璃基板蝕刻用刀片 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020120087501A KR101338849B1 (ko) | 2012-08-09 | 2012-08-09 | 유리기판 식각용 블레이드 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR101338849B1 true KR101338849B1 (ko) | 2013-12-06 |
Family
ID=49987687
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020120087501A KR101338849B1 (ko) | 2012-08-09 | 2012-08-09 | 유리기판 식각용 블레이드 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101338849B1 (ko) |
CN (1) | CN103570249A (ko) |
TW (1) | TW201407680A (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101517726B1 (ko) * | 2014-03-12 | 2015-05-04 | 노바테크인더스트리 주식회사 | 에칭용 지그 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100887344B1 (ko) | 2007-11-21 | 2009-03-06 | 에이스하이텍 주식회사 | 디스플레이 유리기판의 식각장치 |
KR100889949B1 (ko) | 2008-04-10 | 2009-03-20 | 주식회사 엠엠테크 | 하향식 기판 박형화장치 및 이를 이용한 박형화 시스템 |
KR20090044826A (ko) * | 2007-11-01 | 2009-05-07 | 주식회사 해진아이엠피 | 이중관 노즐을 가지는 글라스 식각 장치 |
KR20100008608A (ko) * | 2008-07-16 | 2010-01-26 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 기판 에칭 장치 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101723598B (zh) * | 2008-10-22 | 2012-05-30 | 株式会社海赈Imp | 具有双层管喷嘴的玻璃蚀刻设备 |
-
2012
- 2012-08-09 KR KR1020120087501A patent/KR101338849B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2013
- 2013-05-21 CN CN201310190989.2A patent/CN103570249A/zh active Pending
- 2013-05-24 TW TW102118507A patent/TW201407680A/zh unknown
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20090044826A (ko) * | 2007-11-01 | 2009-05-07 | 주식회사 해진아이엠피 | 이중관 노즐을 가지는 글라스 식각 장치 |
KR100887344B1 (ko) | 2007-11-21 | 2009-03-06 | 에이스하이텍 주식회사 | 디스플레이 유리기판의 식각장치 |
KR100889949B1 (ko) | 2008-04-10 | 2009-03-20 | 주식회사 엠엠테크 | 하향식 기판 박형화장치 및 이를 이용한 박형화 시스템 |
KR20100008608A (ko) * | 2008-07-16 | 2010-01-26 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 기판 에칭 장치 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101517726B1 (ko) * | 2014-03-12 | 2015-05-04 | 노바테크인더스트리 주식회사 | 에칭용 지그 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201407680A (zh) | 2014-02-16 |
CN103570249A (zh) | 2014-02-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI400205B (zh) | 用於蝕刻玻璃晶圓之器械和方法,及使用此器械和方法製造之玻璃薄板 | |
US20150101536A1 (en) | Mask assembly and deposition apparatus using the same for flat panel display | |
JP5534093B1 (ja) | メタルマスクおよびメタルマスクの製造方法 | |
JP2014521992A5 (ko) | ||
JP2020531679A (ja) | マスクストリップ及びその製造方法、マスクプレート | |
JP2014133930A (ja) | メタルマスクおよびメタルマスクの製造方法 | |
JP2009063995A (ja) | グレースケールマスク | |
KR101338849B1 (ko) | 유리기판 식각용 블레이드 | |
KR100908884B1 (ko) | 이중관 노즐을 가지는 글라스 식각 장치 | |
JP6344090B2 (ja) | メタルマスクの製造方法 | |
US7608387B1 (en) | Method for fabricating mold core | |
JPWO2014020687A1 (ja) | 太陽電池の製造方法 | |
KR101378578B1 (ko) | 글라스 식각용 지그 | |
JP2012043908A5 (ko) | ||
KR100924863B1 (ko) | 반도체 소자 제조용 습식 세정 장치 | |
KR20150002660A (ko) | 유리판의 제조 방법 및 제조 장치 | |
JP6231249B2 (ja) | 基板処理装置 | |
CN114100959B (zh) | 进行硬化处理的方法和治具、电子设备壳体和电子设备 | |
JP6108120B2 (ja) | 太陽電池の製造方法 | |
KR102094943B1 (ko) | 식각 장치 | |
KR102153285B1 (ko) | 플로트 유리 리본, 플로트 유리판, 및 플로트 유리판의 제조 방법 | |
KR101110718B1 (ko) | 핫플레이트 구조체 | |
CN109369028B (zh) | 一种蚀刻设备 | |
KR20050108465A (ko) | 백라이트용 도광판 제조를 위한 스탬퍼 제작 방법과 상기스탬퍼를 이용한 도광판 제조 방법 및 장치. | |
JP2009240901A (ja) | 塗布ノズル、ペーストの塗布方法、およびプラズマディスプレイ用部材の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |