JP6344090B2 - メタルマスクの製造方法 - Google Patents
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Description
前記メタルマスクの製造方法の、大孔スリットを設けた面側の有効エリア外に、前記大孔スリットと平行に、非貫通の凹状のスリットを設け、
板厚が0.03mmt〜0.05mmtに対して、前記非貫通の凹状のスリットのスリット幅が0.04mm〜0.06mmで、エッチング深さが0.010〜0.030mmであることを特徴とするメタルマスクの製造方法である。
メタルマスクに使用される金属基板としては、熱膨張係数が1.2×10−6/℃程度と有利なインバー材が好適であり、板厚として0.03mmt、0.04mmt、0.05mmtが好適である。
パネルが多面付けされたマスク外形は縦方向が300mm〜450mm、搬送方向が500mm〜800mmであり、パネルとパネルとの間隔は5〜20mmである。
スリットパターンは、ライン幅が0.05〜0.10mmであり、小孔スリット3の開口幅は0.03〜0.05mm、大孔スリットの開口幅は0.07〜0.13mm、非貫通の凹状スリットの開口幅は0.04〜0.06mmで、深さは、板厚が0.03mmtの時には、0.01〜0.02mm、板厚が0.04mmtの時には、0.015〜0.025mm、板厚が0.05mmtの時には0.020〜0.030mmである。
耐腐食性のニス材が使用でき、3μm〜10μm厚みに塗布し使用する。
スリットを充填するよう形成し、エッチング防止のため貼り付けたバックシートを除去し、大孔スリット面側にエッチングを行ない大孔スリット、非貫通の凹状のスリット面を形成した。
非貫通の凹状のスリットを設けないで、他は、実施例と同じ条件にて比較例1のメタルマスクを作製した。
評価は、ニス割れの発生の有無と、スリットパターンのパターン形状による判断とし、ライン幅0.05mmに対して、0.04mm以下のとなったパターン形状不良の発生より判断した。
2・・・フォトレジスト膜
3・・・小孔スリット
4・・・バックシート
5・・・ニス
6・・・大孔スリット
7・・・パネル
8・・・非貫通の凹状スリット
9・・・メタルマスク
10・・・小孔スリットを設けた面
11・・・大孔スリットを設けた面
Claims (4)
- ニス法を用い、金属基板の一方の面に大孔スリットを、他方の面に小孔スリットを形成したメタルマスクの製造方法であって、
前記メタルマスクの製造方法の、大孔スリットを設けた面側の有効エリア外に、前記大孔スリットと平行に、非貫通の凹状のスリットを設け、
板厚が0.03mmt〜0.05mmtに対して、前記非貫通の凹状のスリットのスリット幅が0.04mm〜0.06mmで、エッチング深さが0.010〜0.030mmであることを特徴とするメタルマスクの製造方法。 - 前記非貫通の凹状のスリットを、前記有効エリア外の中で、大孔スリットのスリット延長線上には設けず、大孔スリットと平行となる有効エリア外に設けたことを特徴とする請求項1に記載のメタルマスクの製造方法。
- 前記非貫通の凹状のスリットを、前記大孔スリットより有効エリア内のスリットピッチ寸法だけ離して設けたことを特徴とする請求項1または請求項2に記載のメタルマスクの製造方法。
- ニス法を用い、金属基板の一方の面に大孔スリットを、他方の面に小孔スリットを形成するメタルマスクの製造法であって、大孔スリットを設けた面の有効エリア外に、請求項1〜3のいずれか一項に記載の非貫通の凹状のスリットを、大孔スリットの形成と同時に設ける工程を持つことを特徴とするメタルマスクの製造方法。
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