KR101075783B1 - 액처리 유닛 및 이를 구비하는 기판 처리 장치 - Google Patents

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박우철
나동호
채성병
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삼성전기주식회사
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Abstract

본 발명은 액처리 유닛에 관한 것으로, 본 발명의 실시예에 따른 액처리 유닛은 액처리 공정을 수행하는 내부 공간을 갖는 하우징, 하우징 내에서 기판을 상하로 수직하게 세워 지지하는 지지 유닛, 기판의 처리면에 대향되도록 배치되어 기판의 처리면을 향해 제1 처리액을 분사하는 제1 분사유닛, 그리고 지지 유닛을 향해 제2 처리액을 분사하는 제2 분사유닛을 포함한다.

Description

액처리 유닛 및 이를 구비하는 기판 처리 장치{LIQUID TREATING UNIT AND APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE WITH THE SAME}
본 발명은 액처리 유닛 및 이를 구비하는 기판 처리 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 인쇄회로기판(PCB)와 같은 박판을 처리액으로 액처리하는 유닛 및 이를 구비하는 습식 기판 처리 장치에 관한 것이다.
일반적으로 인쇄회로기판(Printed Circuit Board:PCB)과 같은 회로 기판을 제조하는 공정은 소정의 처리액을 사용하여 상기 회로 기판의 제조를 위한 박판들을 습식 처리하는 공정을 포함한다. 예컨대, 상기 회로 기판의 제조 공정은 상기 박판들 상의 이물질을 제거하는 세정 공정, 상기 박판들에 형성된 포토레지스트 패턴을 선택적으로 현상하는 현상 공정, 그리고 상기 박판들에 형성된 박막을 제거하는 식각 공정 등의 습식 처리 공정을 포함한다.
이에 따라, 상술한 인쇄회로기판의 제조를 위한 습식 처리 공정들의 수행을 위해, 소정의 박판 처리 장치가 구비된다. 상기 현상 공정을 수행하는 박판 처리 장치로는 배치식(batch type)의 습식 처리 장치가 사용될 수 있다. 상기 습식 처리 장치는 일렬로 배치되는 복수의 액처리 유닛들, 상기 액처리 유닛들 내에서 기판을 지지하는 지지 유닛, 그리고 액처리 유닛들 간에 기판이 이송되도록, 상기 지지 유닛을 상기 액처리 유닛들을 따라 이동시키는 이송 유닛을 포함할 수 있다. 상기와 같은 구조의 기판 처리 장치는 상기 지지 유닛에 상기 기판을 지지시킨 상태에서, 상기 이송 유닛이 상기 지지 유닛을 상기 액처리 유닛들을 차례로 이동시키면서, 상기 기판에 대해 일련의 공정들을 차례로 수행할 수 있다.
그러나, 상기와 같은 구조의 기판 처리 장치는 상기 액처리 유닛들을 따라 상기 지지 유닛을 이동시켜 공정을 수행하므로, 어느 하나의 액처리 유닛에서 사용된 처리액이 상기 지지 유닛에 잔류하여, 다른 액처리 유닛으로 유입되는 현상이 발생된다. 이 경우, 상기 액처리 유닛 간의 약액 오염이 발생되어, 액처리 공정의 효율이 저하된다. 특히, 이종 처리액들을 사용하여 일련의 액처리 공정을 수행하는 경우, 먼저 사용된 처리액이 후속 공정을 수행하는 액처리 유닛에 유입되게 되므로, 후속 액처리 공정의 효율이 저하되는 문제점이 발생된다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 액처리 공정의 효율을 향상시킨 액처리 유닛 및 이를 구비하는 기판 처리 장치를 제공하는 것에 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 서로 상이한 액처리 공정들을 수행하는 유닛들 간에 처리액이 유입되는 것을 방지하는 액처리 유닛 및 이를 구비하는 기판 처리 장치를 제공하는 것에 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 일련의 액처리 공정들을 차례로 수행하되, 선 액처리 공정에서 사용된 처리액에 의해 후속 액처리 공정의 효율이 저하되는 것을 방지하는 액처리 유닛 및 이를 구비하는 기판 처리 장치를 제공하는 것에 있다.
본 발명에 따른 액처리 유닛은 액처리 공정을 수행하는 내부 공간을 갖는 하우징, 상기 하우징 내에서 상기 기판을 상하로 수직하게 세워 지지하는 지지 유닛, 상기 기판의 처리면에 대향되도록 배치되어, 상기 기판의 처리면을 향해 제1 처리액을 분사하는 제1 분사유닛, 그리고 상기 지지 유닛을 향해 제2 처리액을 분사하는 제2 분사유닛을 포함한다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 지지 유닛은 상기 기판의 하부에서 상기 기판의 하부를 지지하는 하부 지지체를 포함하고, 상기 제2 분사유닛은 상기 하부 지지체의 하부에 배치되어, 상기 하부 지지체를 향해 상방향으로 상기 제2 처리액을 분사할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 지지 유닛은 상기 기판의 하부에서 상기 기판의 하부를 지지하는 하부 지지체를 포함하고, 상기 제2 분사유닛은 상기 하부 지지체의 상부에 배치되어, 상기 하부 지지체를 향해 아래 방향으로 상기 제2 처리액을 분사할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 제1 분사유닛은 상기 기판의 일면에 대향되어 배치되는 제1 노즐들 및 상기 기판의 타면에 대향되어 배치되는 제2 노즐들을 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 지지 유닛을 상기 하우징으로 반입시키거나 상기 하우징으로부터 반출시키는 이송 유닛을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 하우징은 상기 기판 및 상기 지지 유닛이 출입되는 출입구를 갖는 측벽을 가지되, 상기 액처리 유닛은 상기 출입구를 갖는 측벽에 대향되어 배치되어, 상기 처리액이 상기 하우징으로부터 비산되는 것을 방지하는 구획 격벽을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 구획 격벽은 상기 기판 및 상기 지지 유닛의 이동 통로를 정의하는 개구를 가질 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 구획 격벽은 상기 기판에 대해 수직하게 배치되며, 상기 기판을 기준으로 양측에 배치되는 제1 및 제2 격벽들을 포함하되, 상기 제1 격벽은 상기 하우징의 일측벽에 대향되어 배치되고, 상기 제2 격벽은 상기 일측벽과 마주보는 타측벽에 대향되어 배치될 수 있다.
본 발명에 따른 기판 처리 장치는 서로 인접하게 배치되는 액처리 유닛들, 상기 액처리 유닛들 내에서, 기판을 상하로 수직하게 세워 지지하는 지지 유닛, 그리고 상기 액처리 유닛들 간에 상기 지지 유닛을 이동시키는 이송 유닛을 포함하되, 상기 액처리 유닛들 각각은 액처리 공정을 수행하는 내부 공간을 갖는 하우징, 상기 기판의 처리면에 대향되도록 배치되어, 상기 기판의 처리면을 향해 제1 처리액을 분사하는 제1 분사유닛, 그리고 상기 지지 유닛을 향해 제2 처리액을 분사하는 제2 분사유닛을 포함한다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 지지 유닛은 상기 기판의 하부에서 상기 기판의 하부를 지지하는 하부 지지체를 포함하고, 상기 제2 분사유닛은 상기 하부 지지체의 하부에 배치되어, 상기 하부 지지체를 향해 상방향으로 상기 제2 처리액을 분사할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 지지 유닛은 상기 기판의 하부에서 상기 기판의 하부를 지지하는 하부 지지체를 포함하고, 상기 제2 분사유닛은 상기 하부 지지체의 상부에 배치되어, 상기 하부 지지체를 향해 아래 방향으로 상기 제2 처리액을 분사할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 제1 처리액은 상기 기판에 형성된 포토 레지스트 박막을 현상하는 현상액을 포함하고, 상기 제2 처리액은 상기 기판의 이물질을 제거하는 세정액을 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 하우징 내에서 상기 기판 및 상기 이송 유닛의 이동 방향을 가로지르도록 배치되는 구획 격벽을 더 포함하되, 상기 구획 격벽은 상기 액처리 공정시 상기 기판을 사이에 두고 양측에 배치되는 제1 격벽 및 제2 격벽을 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 제1 격벽 및 상기 제2 격벽은 상기 기판 및 상기 지지 유닛의 이동 통로를 정의하는 개구를 가질 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 하우징은 상기 기판 및 상기 이송 유닛의 출입이 이루어지는 출입구를 갖는 일측벽 및 상기 일측벽에 대향되는 타측벽을 포함하되, 상기 제1 격벽은 상기 하우징의 일측벽에 대향되어 배치되고, 상기 제2 격벽은 상기 일측벽과 마주보는 타측벽에 대향되어 배치될 수 있다.
본 발명에 따른 액처리 유닛은 하우징, 상기 하우징 내부에서 기판을 지지하는 지지 유닛, 상기 지지 유닛을 이송하는 이송 유닛, 상기 기판을 향해 처리액을 분사하는 제1 분사부재, 그리고 상기 지지 유닛을 세정하는 제2 분사부재를 포함할 수 있다. 이에 따라, 본 발명에 따른 기판 처리 장치는 상기 제2 분사부재에 의해 상기 지지 유닛에 잔류하는 처리액을 제거할 수 있어, 상기 액처리 유닛에서 사용된 처리액이 상기 지지 유닛에 의해 다른 액처리 유닛에 유입되는 것을 방지할 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 액처리 유닛은 상기 제1 분사부재를 통해 상기 기판으로 분사되는 처리액이 상기 하우징의 외부로 비산되는 것을 제한하는 구획 격벽을 더 포함할 수 있다. 이에 따라, 본 발명에 따른 액처리 유닛은 액처리 공정시 사용되는 처리액이 상기 하우징의 외부로 비산되는 것을 방지할 수 있다.
본 발명에 따른 기판 처리 장치는 액처리 유닛들, 상기 액처리 유닛들 내부에서 기판을 지지하는 지지 유닛, 그리고 상기 액처리 유닛들을 따라 상기 지지 유닛을 이송하는 이송 유닛을 포함하되, 상기 액처리 유닛들 각각은 상기 기판으로 처리액을 분사하는 제1 분사부재 및 상기 지지 유닛을 세정하는 제2 분사부재를 포함할 수 있다. 이에 따라, 본 발명에 따른 기판 처리 장치는 상기 제2 분사부재가 상기 지지 유닛에 잔류하는 처리액을 제거하여, 어느 하나의 액처리 유닛에서 사용된 처리액이 상기 지지 유닛에 의해 다른 액처리 유닛에 유입되는 것을 방지함으로써, 액처리 공정 효율을 향상시킬 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 기판 처리 장치는 상기 제1 분사부재를 통해 상기 기판으로 분사되는 처리액이 상기 하우징의 외부로 비산되는 것을 제한하는 구획 격벽을 더 포함할 수 있다. 이에 따라, 본 발명에 따른 기판 처리 장치는 어느 하나의 액처리 유닛에서 사용된 처리액이 다른 액처리 유닛으로 비산되는 것을 방지하여, 액처리 공정 효율을 향상시킬 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 기판 처리 장치를 보여주는 정면도이다.
도 2은 본 발명에 따른 기판 처리 장치를 보여주는 측면도이다.
도 3은 본 발명의 일 변형예에 따른 기판 처리 장치를 보여주는 도면이다.
도 4는 본 발명의 다른 변형예에 따른 기판 처리 장치를 보여주는 정면도이다.
도 5는 본 발명의 다른 변형예에 따른 기판 처리 장치를 보여주는 측면도이다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 기술 등은 첨부되는 도면들과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예를 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있다. 본 실시예는 본 발명의 개시가 완전하도록 함과 더불어, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공될 수 있다. 명세서 전문에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
본 명세서에서 사용된 용어들은 실시예를 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 '포함한다(comprise)' 및/또는 '포함하는(comprising)'은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여, 본 발명에 따른 액처리 유닛 및 이를 구비하는 기판 처리 장치에 대해 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명에 따른 기판 처리 장치를 보여주는 정면도이고, 도 2은 본 발명에 따른 기판 처리 장치를 보여주는 측면도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치(100)는 배치식(batch type)으로 소정의 기판(10)을 습식 처리하는 장치일 수 있다. 예컨대, 상기 기판 처리 장치(100)는 현상 공정 및 세정 공정을 차례로 수행하는 배치식 습식 스테이션(batch type wet station)일 수 있다.
상기 기판 처리 장치(100)는 액처리 유닛(110), 지지 유닛(120), 그리고 이송 유닛(130)을 포함할 수 있다. 상기 액처리 유닛(110)은 상기 기판(10)을 습식 처리하는 공정이 수행되는 내부 공간을 가질 수 있다. 상기 액처리 유닛(110)은 적어도 하나 이상이 구비될 수 있다. 상기 액처리 유닛(110)이 복수개가 구비되는 경우, 상기 액처리 유닛들(110)은 일렬로 나란히 배치될 수 있다. 이때, 상기 액처리 유닛들(110)은 서로 상이한 액처리 공정을 수행할 수 있다. 일 예로서, 상기 액처리 유닛들(110) 중 상대적으로 전방에 배치된 유닛은 현상 공정을 수행하고, 상대적으로 후방에 배치된 유닛은 세정 공정을 수행할 수 있다. 이에 따라, 상기 기판 처리 장치(100)은 상기 기판(10)에 대해 현상 공정 및 세정 공정을 차례로 수행하는 장치일 수 있다. 여기서, 상기 액처리 유닛들(110) 각각이 수행하는 액처리 공정들은 서로 상이할 수 있으며, 이 경우 상기 액처리 유닛들(110)에서 사용되는 처리액들은 상이할 수 있다.
상기 액처리 유닛들(110) 각각은 대체로 유사한 구조로 이루어질 수 있으며, 이에 따라 상기 액처리 유닛들(110) 중 어느 하나를 설명하고, 나머지 유닛들에 대한 설명은 생략한다.
상기 액처리 유닛들(110) 각각은 하우징(112), 제1 분사부재(114), 그리고 제2 분사부재(116)를 포함할 수 있다. 상기 하우징(112)은 상기 액처리 공정을 수행하는 공정 공간을 가질 수 있다. 상기 하우징(112)의 측벽에는 상기 기판(10)을 상기 하우징(112)으로 반입하거나 상기 하우징(112)으로부터 반출하기 위한 출입구(112a)가 구비될 수 있다. 그리고, 상기 하우징(112)의 하부벽에는 상기 하우징(112) 내 처리액이 상기 하우징(112)으로부터 배출시키기 위한 배출포트(112b)가 구비될 수 있다.
상기 제1 분사부재(114)는 상기 기판(10)으로 제1 처리액을 분사할 수 있다. 예컨대, 상기 제1 분사부재(114)는 제1 노즐들(114a) 및 제2 노즐들(114b)을 포함할 수 있다. 상기 제1 노즐들(114a)은 상기 기판(10)의 일면으로 상기 제1 처리액을 분사하도록 배치되고, 상기 제2 노즐들(114b)은 상기 기판(10)의 타면으로 상기 제1 처리액을 분사하도록 배치될 수 있다. 이를 위해, 상기 제1 노즐들(114a)은 상기 기판(10)의 일면에 대향되도록 상기 하우징(112)의 일측벽에 고정 설치되고, 상기 제2 노즐들(114b)은 상기 기판(10)의 타면에 대향되도록 상기 하우징(112)의 타측벽에 고정 설치될 수 있다. 여기서, 상기 제1 처리액으로는 다양한 종류의 약액이 사용될 수 있다. 일 예로서, 상기 제1 처리액으로는 상기 기판(10)에 형성된 포토레지스트 박막을 현상하기 위한 현상액을 사용할 수 있다.
상기 제2 분사부재(116)는 상기 지지 유닛(120)을 향해 제2 처리액을 분사하도록 구성될 수 있다. 상기 제2 분사부재(116)에 대한 구체적인 설명은 후술한다.
상기 지지 유닛(120)은 상기 액처리 유닛들(110) 내에서 상기 기판(10)을 상하로 수직하게 세워 지지할 수 있다. 이에 더하여, 상기 지지 유닛(120)은 상기 하우징(112) 내부에서 상기 기판(10)의 처리면이 상기 기판(10)의 이동방향과 평행하도록, 상기 기판(10)을 지지할 수 있다. 예컨대, 상기 지지 유닛(120)은 상부 지지체(122) 및 하부 지지체(124)를 포함할 수 있다. 상기 상부 지지체(122)는 상기 기판(10)의 상부 가장자리를 지지하도록 구성되고, 상기 하부 지지체(124)는 상기 기판(10)의 하부 가장자리를 지지하도록 구성될 수 있다. 이를 위해, 상기 상부 지지체(122) 및 상기 하부 지지체(124)에는 각각 상기 기판(10)을 클램핑할 수 있는 클램퍼(미도시됨)가 구비될 수 있다.
상기 이송 유닛(130)은 상기 지지 유닛(120)을 상기 액처리 유닛들(110) 간에 이송시킬 수 있다. 일 예로서, 상기 이송 유닛(130)은 상기 지지 유닛(120)을 상기 액처리 유닛들(110)을 따라 차례로 이동시키도록 구성될 수 있다. 이를 위해, 상기 이송 유닛(130)은 상기 액처리 유닛들(110)에 걸쳐 배치되어, 상기 하부 지지체(124)의 이동을 안내하는 가이드 레일(미도시됨) 및 상기 가이드 레일을 따라 상기 하부 지지체(124)를 이동시키기 위한 구동모터(미도시됨)를 포함할 수 있다. 상기 지지 유닛(120)을 상기 액처리 유닛들(110) 간에 이동시키는 기술은 다양한 종류의 구동 장치를 구비하여 이루어질 수 있다. 상기와 같은 이송 유닛(130)은 상기 지지 유닛(120)을 상기 액처리 유닛들(110) 간에 이송시킴으로써, 상기 지지 유닛(120)에 의해 지지된 상기 기판(10)을 상기 액처리 유닛들(110)을 따라 이동시킬 수 있다.
한편, 상기 제2 분사부재(116)는 상기 지지 유닛(120)을 세정할 수 있다. 앞서 살펴본 바와 같이, 상기 지지 유닛(120)은 상기 이송 유닛(130)에 의해, 상기 액처리 유닛들(110) 간에 이송되도록 구성될 수 있다. 이때, 어느 하나의 액처리 유닛(110)에서 사용된 처리액은 상기 지지 유닛(120)에 잔류할 수 있으며, 상기 처리액은 추후에 상기 지지 유닛(120)이 이동되는 과정에서, 다른 액처리 유닛으로 유입될 수 있다. 즉, 상기 액처리 유닛들(110) 중 어느 하나에서 사용되었던 처리액에 의해, 상기 지지 유닛(120)에 의해 다른 액처리 유닛이 오염되는 현상이 발생될 수 있다.
이러한 액처리 유닛의 오염을 방지하기 위해, 상기 제2 분사부재(116)는 상기 액처리 유닛들(110) 중 어느 하나에서 습식 처리 공정이 수행된 후, 후속 공정이 수행되는 다른 액처리 유닛으로 이동되기 이전에, 상기 지지 유닛(120)을 세정할 수 있다. 예컨대, 상기 제2 분사부재(116)는 상기 이송 유닛(120)의 하부에 대향되도록, 상기 하우징(110)의 하부벽 상에 고정 설치될 수 있다. 이에 따라, 상기 제2 분사부재(116)는 상기 지지 유닛(120)의 하부에서, 상기 하부 지지체(124)를 향해 상방향으로 제1 처리액을 분사할 수 있다. 상기 제2 처리액으로는 다양한 종류의 세정액이 사용될 수 있다. 상기 세정액으로는 순수가 사용될 수 있다. 이때, 상기 제2 분사부재(116)는 선택적으로 그 분사각도가 조절되도록 스윙 운동(swing monement) 하도록 구성될 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 기판 처리 장치(100)는 액처리 유닛들(110), 기판(10)을 상하로 수직하게 세워 지지하는 지지 유닛(120), 그리고 상기 액처리 유닛들(110) 간에 상기 지지 유닛(120)을 이송하는 이송 유닛(130)을 포함하되, 상기 액처리 유닛들(110)은 상기 지지 유닛(120)를 세정하는 제2 분사부재(116)를 포함할 수 있다. 이에 따라, 본 발명에 따른 기판 처리 장치(100)는 상기 제2 분사부재(116)가 상기 지지 유닛(120)에 잔류하는 처리액을 제거하여, 상기 액처리 유닛들(110) 중 어느 하나에서 사용된 처리액이 상기 지지 유닛(120)에 의해 다른 액처리 유닛들에 유입되는 것을 방지할 수 있다.
이하, 앞서 도 1 및 도 2를 참조하여 설명한 기판 처리 장치(100)의 다양한 변형예들에 대해 상세히 설명한다. 여기서, 상기 기판 처리 장치(100)에 대해 중복되는 내용은 생략하거나, 간소화할 수 있다.
도 3은 본 발명의 일 변형예에 따른 기판 처리 장치를 보여주는 도면이다. 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 변형예에 따른 기판 처리 장치(100a)는 액처리 유닛(110a), 지지 유닛(120), 그리고 이송 유닛(130)을 포함하되, 상기 액처리 유닛(110a)은 하우징(112), 제1 분사부재(114), 그리고 제2 분사부재(116a)를 포함할 수 있다.
상기 제2 분사부재(116a)는 상기 지지 유닛(120)의 하부 지지체(124)에 비해 상부에 배치될 수 있다. 이에 따라, 상기 제2 분사부재(116a)는 상기 하부 지지체(124)를 향해 아래 방향으로 제2 처리액을 분사하도록 구성될 수 있다. 상기 아래 방향으로 분사되는 제2 처리액은 상기 하부 지지체(124)에 잔류하는 처리액을 제거한 후, 배출 포트(118)를 통해 배출될 수 있다. 상기와 같은 구조의 제2 분사부재(116a)는 분사하는 제2 처리액이 상기 기판(10)을 향하지 않도록 그 분사 각도가 아래 방향으로 조절됨으로써, 상기 제2 처리액에 의해 상기 기판(10)이 오염되는 것을 방지할 수 있다.
도 4는 본 발명의 다른 변형예에 따른 기판 처리 장치를 보여주는 정면도이고, 도 5는 본 발명의 다른 변형예에 따른 기판 처리 장치를 보여주는 측면도이다.
도 4 및 도 5를 참조하면, 본 발명의 다른 변형예에 따른 기판 처리 장치(100b)는 앞서 도 1 및 도 2를 참조하여 설명한 기판 처리 장치(100)에 비해, 구획 격벽(140)을 더 포함할 수 있다.
상기 구획 격벽(140)은 액처리 유닛들(110) 간에 처리액의 비산을 방지하기 위한 것일 수 있다. 예컨대, 상기 구획 격벽(140)은 상기 액처리 유닛들(110) 사이에 배치될 수 있다. 상기 구획 격벽(140)은 상기 액처리 유닛들(110) 각각에 두 개 씩 배치될 수 있다. 일 예로서, 상기 액처리 유닛들(110) 각각에는 상기 기판(10)의 이동 방향에 대체로 수직하게 배치되는 제1 격벽(142) 및 제2 격벽(144)을 포함할 수 있다. 상기 제1 격벽(142)은 상기 하우징(112)의 일측벽에 배치되고, 상기 제2 격벽(144)은 상기 일측벽과 마주보는 타측벽에 배치될 수 있다. 이에 따라, 상기 제1 격벽(142)과 상기 제2 격벽(144)은 상기 기판(10)에 수직하게 배치되되, 상기 기판(10)을 사이에 두고, 서로 이격되어 마주보도록 배치될 수 있다. 상기 일측벽 및 타측벽은 상기 하우징(12)의 출입구(112a)가 형성된 측벽일 수 있다.
상기 액처리 공정시, 상기 제1 격벽(142)은 상기 일측벽을 통해 다른 상기 액처리 유닛(110)에 인접하는 다른 액처리 유닛으로 비산되는 처리액을 제한할 수 있다. 동일한 방식으로, 상기 제2 격벽(144)은 상기 타측벽을 통해 상기 액처리 유닛(110)에 인접하는 다른 액처리 유닛으로 비산되는 처리액을 제한할 수 있다.
한편, 상기 제1 및 제2 격벽들(142, 144)에는 상기 기판(10) 및 상기 이송 유닛(120)의 이동 통로를 정의하는 개구(141)를 가질 수 있다. 상기 기판(10) 및 상기 이송 유닛(120)은 상기 개구(141)를 통해, 어느 하나의 액처리 유닛으로부터 다른 액처리 유닛으로 이동될 수 있다. 여기서, 상기 개구(141)는 상기 기판(10)과 상기 이송 유닛(120)의 이송을 방해하지 않는 조건에서, 최소화되도록 구성될 수 있다. 상기 개구(141)는 상기 기판(10)과 상기 이송 유닛(120)으로 이루어진 구성의 단면 형상과 상응한 형상을 가질 수 있다. 이에 따라, 상기 구획 격벽(140)은 상기 기판(10) 및 상기 이송 유닛(120)의 이동을 방해하지 않으면서, 상기 액처리 유닛들(110) 간의 처리액의 비산을 최대로 방지할 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 다른 변형예에 따른 기판 처리 장치(100b)는 액처리 유닛(110), 지지 유닛(120), 이송 유닛(130), 그리고 구획 격벽(140)을 구비하되, 상기 구획 격벽(140)은 상기 액처리 유닛(110)으로부터 다른 액처리 유닛으로 처리액이 비산되는 것을 방지할 수 있다. 이에 따라, 본 발명의 다른 변형예에 따른 기판 처리 장치(100)는 상기 액처리 유닛들(110) 간의 약액 오염을 방지하여, 액처리 공정 효율을 향상시킬 수 있다.
이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내고 설명하는 것에 불과하며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉, 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위 내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 전술한 실시예들은 본 발명을 실시하는데 있어 최선의 상태를 설명하기 위한 것이며, 본 발명과 같은 다른 발명을 이용하는데 당업계에 알려진 다른 상태로의 실시, 그리고 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서, 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.
10 : 기판
20 : 제1 처리액
30 : 제2 처리액
100 : 기판 처리 장치
110 : 액처리 유닛들
112 : 하우징
112a : 출입구
112b : 회수부
114 : 제1 노즐
116 : 제2 노즐
120 : 지지 유닛
122 : 기판 상부 지지체
124 : 기판 하부 지지체
130 : 이송 유닛
140 : 구획 격벽

Claims (15)

  1. 기판을 습식으로 처리하는 액처리 유닛에 있어서,
    액처리 공정을 수행하는 내부 공간을 갖는 하우징;
    상기 하우징 내에서 상기 기판을 상하로 수직하게 세워 지지하는 지지 유닛;
    상기 기판의 처리면에 대향되도록 배치되어, 상기 기판의 처리면을 향해 제1 처리액을 분사하는 제1 분사유닛; 및
    상기 지지 유닛을 향해 제2 처리액을 분사하는 제2 분사유닛을 포함하는 액처리 유닛.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 지지 유닛은 상기 기판의 하부에서 상기 기판의 하부를 지지하는 하부 지지체를 포함하고,
    상기 제2 분사유닛은 상기 하부 지지체의 하부에 배치되어, 상기 하부 지지체를 향해 상방향으로 상기 제2 처리액을 분사하는 액처리 유닛.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 지지 유닛은 상기 기판의 하부에서 상기 기판의 하부를 지지하는 하부 지지체를 포함하고,
    상기 제2 분사유닛은 상기 하부 지지체의 상부에 배치되어, 상기 하부 지지체를 향해 아래 방향으로 상기 제2 처리액을 분사하는 액처리 유닛.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1 분사유닛은:
    상기 기판의 일면에 대향되어 배치되는 제1 노즐들; 및
    상기 기판의 타면에 대향되어 배치되는 제2 노즐들을 포함하는 액처리 유닛.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 지지 유닛을 상기 하우징으로 반입시키거나 상기 하우징으로부터 반출시키는 이송 유닛을 더 포함하는 액처리 유닛.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 하우징은 상기 기판 및 상기 지지 유닛이 출입되는 출입구를 갖는 측벽을 가지되,
    상기 액처리 유닛은 상기 출입구를 갖는 측벽에 대향되어 배치되어, 상기 처리액이 상기 하우징으로부터 비산되는 것을 방지하는 구획 격벽을 더 포함하는 액처리 유닛.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 구획 격벽은 상기 기판 및 상기 지지 유닛의 이동 통로를 정의하는 개구를 갖는 액처리 유닛.
  8. 제 6 항에 있어서,
    상기 구획 격벽은 상기 기판에 대해 수직하게 배치되며, 상기 기판을 기준으로 양측에 배치되는 제1 및 제2 격벽들을 포함하되,
    상기 제1 격벽은 상기 하우징의 일측벽에 대향되어 배치되고,
    상기 제2 격벽은 상기 일측벽과 마주보는 타측벽에 대향되어 배치되는 액처리 유닛.
  9. 서로 인접하게 배치되는 액처리 유닛들;
    상기 액처리 유닛들 내에서, 기판을 상하로 수직하게 세워 지지하는 지지 유닛; 및
    상기 액처리 유닛들 간에 상기 지지 유닛을 이동시키는 이송 유닛을 포함하되,
    상기 액처리 유닛들 각각은:
    액처리 공정을 수행하는 내부 공간을 갖는 하우징;
    상기 기판의 처리면에 대향되도록 배치되어, 상기 기판의 처리면을 향해 제1 처리액을 분사하는 제1 분사유닛; 및
    상기 지지 유닛을 향해 제2 처리액을 분사하는 제2 분사유닛을 포함하는 기판 처리 장치.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 지지 유닛은 상기 기판의 하부에서 상기 기판의 하부를 지지하는 하부 지지체를 포함하고,
    상기 제2 분사유닛은 상기 하부 지지체의 하부에 배치되어, 상기 하부 지지체를 향해 상방향으로 상기 제2 처리액을 분사하는 기판 처리 장치.
  11. 제 9 항에 있어서,
    상기 지지 유닛은 상기 기판의 하부에서 상기 기판의 하부를 지지하는 하부 지지체를 포함하고,
    상기 제2 분사유닛은 상기 하부 지지체의 상부에 배치되어, 상기 하부 지지체를 향해 아래 방향으로 상기 제2 처리액을 분사하는 기판 처리 장치.
  12. 제 9 항에 있어서,
    상기 제1 처리액은 상기 기판에 형성된 포토 레지스트 박막을 현상하는 현상액을 포함하고,
    상기 제2 처리액은 상기 기판의 이물질을 제거하는 세정액을 포함하는 기판 처리 장치.
  13. 제 9 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 하우징 내에서 상기 기판 및 상기 이송 유닛의 이동 방향을 가로지르도록 배치되는 구획 격벽을 더 포함하되,
    상기 구획 격벽은 상기 액처리 공정시 상기 기판을 사이에 두고 양측에 배치되는 제1 격벽 및 제2 격벽을 포함하는 기판 처리 장치.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 제1 격벽 및 상기 제2 격벽은 상기 기판 및 상기 지지 유닛의 이동 통로를 정의하는 개구를 갖는 기판 처리 장치.
  15. 제 13 항에 있어서,
    상기 하우징은 상기 기판 및 상기 이송 유닛의 출입이 이루어지는 출입구를 갖는 일측벽 및 상기 일측벽에 대향되는 타측벽을 포함하되,
    상기 제1 격벽은 상기 하우징의 일측벽에 대향되어 배치되고,
    상기 제2 격벽은 상기 일측벽과 마주보는 타측벽에 대향되어 배치되는 기판 처리 장치.
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