TWI373648B - Fine pattern modification device and modification method of the fine pattern defect - Google Patents
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Description
1373648 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明有關於一種冑細圖案修正裝置以及微細圖案之 缺陷的修正方法,特別是有關於一種修正形成於基板:的 微細圖案的缺陷的微細圖案修正裝置及微細圖案缺陷修正 方法。 【先前技術】
使用於液晶顯示裝置“⑻的彩色滤光片所可能產生 的缺陷大致上有顏色缺陷、黑缺陷以及突起缺陷三種。顏 色缺陷為某一畫素未給予既定的顏色的缺陷。黑缺陷為光 線未穿過晝素而造成黑色部分的缺陷。黑缺陷的原因為黑 色基板的材料向·晝素部分露出’“素的顏色露出至相鄰 晝素而產生混色’好像異物附著在畫素上。突起缺陷係由 於異物附著或墨水的氣泡等所造成的突起的缺陷。 修正顏色缺陷的裝置為將修正液用針做塗佈。修正里 缺陷的裝置係將黑缺陷利用雷射切割轉變成顏色缺陷,再 利用沾塗佈修正液於該顏色缺陷(例如參照專利文獻卜 2)。修正突起缺陷的裝置將研磨膠帶M附在突起缺陷上並 做研磨而除去(例如參照專利文獻3 )。 [專利文獻1]待開2001_174625號公報 [專利文獻2]特開平9_236933號公報 [專利文獻3]特開平8-229797號公報 【發明内容】 [發明所欲解決之問題] 5 1373648 …而,習知技術由於必須根據缺陷的種類而使用不同 的裳置’例如在同一基板產生顏色缺陷與突起缺陷的情況 下,裝置間的搬運以及在裝置内的基板位置計算等需要時 間,因此,縮短修正時間是困難的。 又近年來,由於基板大型化,因此缺陷修正裝置也大 型化,裝置的價格提高。又,供設置裝置的地面面積增大, 無塵室的建設及維持的費用提高。 又,由於異物附著而產生的黑缺陷,在異物大的情況 下為了除去黑缺陷而轉變成顏色缺陷,必須提高雷射的 ”、、射此量。因此,會對黑缺陷附近的正常部位造熱影響。 因此本發明之主要目的在於提供一種微細圖案的修 正裝置,可在短時間内修正微細圖案的缺陷,並且使裝置 扣格變低,裝置設置面積變小,修正的品質提高。 又本發明之另一目的在於提供一種修正品質高的微 細圖案缺陷的修正方法。 [解決課題的手段] 本發明之微細圖案修正裝置為修正形成於基板上之德 細圖案的缺陷的微細圖案修正裝置,包括—修正頭部,^ f將修正液塗佈於缺陷上的塗佈單元、照射雷射光束而脖 缺陷的雷射裝置、觀察缺陷的觀察光學系、以及研磨缺 陷的帶狀研磨單元;一搭載基板的工作台;以及使工作台 目對於修正頭部移動並實施三度空間定位的定位裝置。 又’本發明之微細圖案的缺陷修正方法為修正形成於 的微細圖案之缺陷的缺陷修正方法,以研磨帶研磨 1373648. « 大略等高的研磨製 除去缺陷部的雷射 去缺陷部的位置的 缺陷部的突起,而成為與周邊正常部 程;將雷射光束照射研磨後的缺陷部而 切割製程:將修正液塗佈於雷射光束除 塗佈製程。 又’本發明之其他微細圖案的缺陷修正方法為修正形 成於基板上的微細圖案之缺陷的缺陷修正方法,包括:將 修正:塗佈於圖案缺落的缺落缺陷部的塗佈製程;將突起
於正常圖案表面的修正液以研磨帶除去而成為與正常部大 體上相同高度的研磨製程。 在本發明的微細圖案修正裝置中,包括一修正頭部, 具有將修正㈣佈於缺陷上时佈單元、照射雷射光束而 除去缺陷的雷射裝置、觀察缺陷的觀察光學系、以及研磨 =陷的帶狀研磨單元;—搭載基板的工作[以及使工作 口相對於修正頭部移動並實施三度空間定位的定位裝置。 由於在。卩裝置上可修正顏色缺陷、黑缺陷以及突 、陷可縮知修正時間、降低裝置價格、縮小裝置設置 面積以及提高修正品質。 本發明之微細圖案的缺陷修正方法,以研磨帶研 磨缺陷部的突艇,& + Λ、 ^ ^ 而成為與周邊正常部大略等高,將雷射 光束::、射研磨後的缺陷部而除去缺陷部,將修正液塗佈於 雷射光束除去缺陷部的位置。因&,即使在大的異物附著 曰_情況下’由於可以降低雷射光束的照射能 $ 1防止熱對缺陷部周邊的正常部造成影響,可使修正 品質提升。 7 1373648 又,在本發明的其他的微 將修正液塗佈於圖案缺落的缺 案表面的修正液以研磨帶除去 高度。因此,可提升修正的品 【實施方式】 細圖案的缺陷修正方法中, 落缺陷部,將突起於正常圖 而成為與正常部大體上相同 質。 第1圖為本發明之一實施型態之微細目t修正裝置的 全體構造的立體圖。在第1圖中,在該微細圖案修正裝置 中’包括雷射裝置卜觀察光學系2、墨水塗佈單元3、修 正液硬化用光源4以及帶狀研磨單元5的修正頭部6係固 定於Z軸工作台7’z轴工作台7設置成可於z軸方向(上 下方向)上移動βΖ軸工作台7係設置於可於χ軸方向(橫 方向)移動的X轴工作台上βχ轴工作台8係設置於可於Υ 軸方向(橫方向)移動的γ軸工作台9上。 在X軸工作台8的下方,設置作為搭載被修正玻璃基 板10之工作台的玻璃定盤u。在玻璃定盤11上,形成上 ,銷孔11a以及真空用吸附槽llb,上舉銷孔lla係用於 *被修正玻璃基板1〇搬入排出之際供做上舉的上舉機構 的上舉銷通過,而真空用吸附槽lib係用於將被修正玻璃 基板10固定於玻璃定盤11上。在真空吸附槽lib的數個 位置上^/成供真空吸引用的真空吸附孔。 雷射裝置1將雷射光束照射至被修正玻璃基板丨〇上的 彩色濾光片的黑缺陷及突起缺陷,用其熱能使墨水及異物 昇華或飛散而除去。觀察光學系2係將缺陷部份放大並攝 影,所拍攝的影像由監視器(未圖示)顯示。墨水塗佈單 13.73648· 101年4月26曰修正替換頁 第 094115387 號 元3將墨水塗佈於被修正玻璃基板1〇上的彩色濾光片的顏 色缺陷上。修正液硬化用光源4對已塗佈的墨水照射光線 而使其硬化。帶狀研磨單元5將被修正玻璃基板1〇上的彩 色濾光片的黑缺陷及突起缺陷以研磨帶研磨而除去。 包含雷射裝置1、觀察光學系2、墨水塗佈單元3、修 正液硬化用光源4以及帶狀研磨單元5的修正頭部6由於 安裝於Z軸工作台7上,可使其位於被修正玻璃基板⑺上 任意的高纟,而且由於Z轴1作台7係載置於1軸工作台 8及Y軸工作台9上,對應於被修正玻璃基板w可移動至 X軸方向& Y軸方向的任意位置。其他設有控制各機構的 控制用電冑(未圖示)以及控制裝置全體的主電腦(未圖 示)。
接著,針對該微細圖案修正裝置的動作做說明。缺陷 位置資訊(χ、γ座標)從其他的檢查裝置送到修正裝置的 控制控制部根據該資訊將指令訊號給予包含卫作台8、 9的疋位機構4位機構根據指令訊號將觀察光學系2移 =可能觀察到缺陷的位置。由觀察光學系、2所拍攝的缺 #的影像_示於設在操作部的顯示畫面上。操作員由 顯不的畫像判定缺陷的種類,並選擇適當的修正方 施。 貝 產生顏色缺陷的情j:兄下 由墨水塗佈單元3將墨水 塗佈於缺陷部上,柏昭“/女宝·^ 並”、、射修正液用光源4使墨水硬化。在 彦·生黑缺陷的槽《 , ',裝置1將雷射光束照射至缺
部,缺陷部以逮·A 雷射先束的熱能而昇華或飛散,將黑缺陷 I373648 轉變成顏色缺陷後,在由墨水的塗佈而修正。在突起缺陷 的情況下’用帶狀研磨單元5研磨突起部。 而且疋位裝置雖然如第j圖所示的工作台7〜9, 在三度空間内使修正頭部6與被修正玻璃基板心的缺陷 部相對地做定位,但不限於此,例如平行連桿機構等,其 I式亦可亦可將玻璃基板1G可移動地^於X轴及Y轴 方向上’而修正頭部6可於 j於Z軸方向移動。亦可將玻璃基 板1〇可移動地設於U方向上,而修正頭部6可移動地設 於X轴及Z轴方向上。 又,控制部具有供紀錄實施影像處理裝置及各種修正 順序的程式及資料的_愔舻,你A " ㈣4體’從缺陷部的影像由影像處理 、置判疋缺陷的位置、種類,從記錄於記憶體的修正 内選擇適當的修正方法而眚烯攸τ h 、 万冼而實施修正,各種缺陷的修正不經 由操作員而自動地進行。 第2圖表示修正頭部6的構造的詳細圖。在第2圖卜 將雷射裝置1射出的雷射光庚導^丨 由耵尤朿導引至缺陷部的雷射光學系 =固定於Z轴工作台7的中央部。觀察光學系2與雷二 系12_轴設置,並共用接物鏡13等。觀察光 2將被修正基板1〇上的微细圄宏 ’、 扪微,.田圖案放大而包括攝影用的 鏡及CCD攝影機14。雷射裝晉— 由耵裝置1係固定於雷射光學 的上部。雷射裝置1可傕用久 ^ ^〜 各種雷射’最好使用YAG雷射 的第二咼調波以下的短波長雷射。 射 墨水塗佈單元3係固定於2轴工作台7的一端部,在 轴工作台7的另—端部上設有殼於2軸方向上移動 10 1373648. :工作台15,帶狀研磨單元5係固定於副z 修正液硬化用光源4係設於觀作。15。 3之間。 千糸2與墨水塗佈單元 墨水塗佈單元3與帶狀研磨單元5係 2而配置於兩側。由觀察光學系2所拍攝的:、先學系 操作部的影像顯示裝置的畫面上 二係顯示於 置,使指定於該位置的修:單元(:水:指示修正的位 (墨水塗佈單元3或德此 研磨早元5)移動而進行修正作業,但若此時的移動量大, 則對應於指定位置的修正單 藉由在觀窣光學夺2的^ 的疋位誤差會變大。 ㈣ 予系2的兩側配置有二個修正單元3、5,由 =移至修正時的移動量小,因此可做高精度的修正。 的定ΠΓ6Γ可由2轴工作台7於z轴方向做完整 #由使帶狀研磨單元5獨立而設置副Ζ軸 :二」吏其於2方向移動’可使帶狀研磨單元5快速且 精度同地位。 修正液硬化用光源4的作用範圍比-般圖案的尺寸 大,與墨水塗佈單元3及帶狀研磨單元5相比,對於定位 精度的要求不那麼嚴格。因此,修正液硬化用光源4設置 於Ζ轴工作台7的任何位置均可,而最好中央是觀察光學 系 ❿仏正液硬化用光源4則配置於比兩側之墨水塗佈 單,*帶狀研磨單70 5的更外側。由修正液硬化用光源 4在微”田圓案修正裝置内使墨水硬化可將被修正玻璃基 板10、速地送至下一製程。而且,光源4可用鹵素燈、雷 射裝置、紫外線燈、紅外線燈等。又,除了光源4以外, 1373648 亦可使用使塗佈的修正液乾燥或硬化的熱源,如熱風產生 第3圖為墨水塗佈單元3的構造的立體圖。在第3圖 中’墨水塗佈單元3具有於垂直方向驅動墨水塗佈用針 21 :21的定位用致動器22。針21藉由支持構件設置於致 動器22的驅動軸23的前端部。保持構件24@藏有海綿用 來緩和針21與被修正玻璃基板1G的表面接觸時的衝擊。 又,為了緩和針21與被修正玻璃基板1〇之間的衝擊保 持構件24經由如線性導引件的導引元件安裝於驅動轴23 上,針21的前端接觸於被修正玻璃基板1〇的表面後,針 21與保持構件24對應於驅動軸相對地向上方移動。定位 用的致動器22係固定於z軸工作台7上。 、又墨水塗佈單元3具有水平設置的旋轉工作台25、 於圓周方向依次配置於旋轉工作台25上的複數個墨水槽 26 29 ’洗淨褒置3〇以及打氣裝置μ。在旋轉工作台 么形成塗佈墨水時使針21通過的缺口部32,在旋轉工作 25的中〜部立設有旋轉軸33。在墨水槽26〜29中,分 〆入RGB以及黑色的墨水。在洗淨裝置30中,貯存有洗 淨針21用的洗淨液。打氣裝置31對插入小孔的針21喷射 m有於針21上的洗淨液等吹飛。 而且’墨水塗佈單元3具有使旋轉工作台25的旋轉轴 Μ旋,的刀度用馬達34、與旋轉轴—同旋轉的分度板 、垔由刀度板35而檢測出旋轉工作台25的旋轉位置的 刀度用感測器36、經由分度板35檢測旋轉工作台25的旋 12 第 094115387 號 101年4月26日修正替換頁 轉位置是否回歸至斥點认 原點的原點回歸用感測器37。馬達34 係根據感測器36、37的輸出來控制,使旋轉工作台25旋 轉而使缺口部32、墨水槽26〜29、洗淨裝置3〇以及打氣 裝置31其中之一位於針21的下方。 接著針對墨水塗佈單元3的動作做說明。首先,驅 動Z軸工作台7、χ軸工作台8以及工作台9,使針η 位於被修正玻璃基板1〇表面的彩色遽光片的顏色缺陷的 上方的既定位置上。接著’使旋轉工作台25旋轉,藉由致 動器22使針21上下移動,使墨水附著於針21的前端部。 接著使疑轉工作台25旋轉,使缺口部32位於針21 的下方’由致動器22使針21下降,使針21的前端接觸於 彩色濾光片的顏色缺陷部,並將墨水塗佈於顏色缺陷部上。 墨水塗佈完畢之後,使洗淨裝置30位於針21的下方, 使針21上下移動而洗淨針21,使打氣襄置31位於針μ 的下方,使針21上下移動而吹去附著於針21的洗淨液。 第4圖表示產生顏色缺陷的彩色濾光片4〇。在第4圖 中,彩色遽光片40包括在玻璃基板1〇的表面上以既定週 期形成的著色部分41以及形成於著色部分41的間隙之門 的方塊基材42。在著色部分41或方塊基材42形成時,^ 玻璃基板10的表面有異物㈣,異物附著的部分則成 色缺陷部份43、44。 > 第5a〜5c圖表示由墨水㈣單元3修正顏色缺陷u 的製程。首先’如第5a圖所示’使修正用的墨水π附著 於針21的前端部。接著’如第5b圖所示,使針21的前端 1373648 第094115387號 101年4月26日修正替換頁 接觸於顏色缺陷43並使墨水45附著於顏色缺陷43。接著, 如第5c圖所示,使針21從顏色缺陷43分離,由修正液硬 化用光源4使墨水45硬化而完成顏色缺陷43的修正。同 樣地,方塊基材的顏色缺陷44也可修正。 第6圖表示修正後的彩色濾光片40。顏色缺陷43、44 周圍用相同顏色的墨水45、46覆蓋。修正後的彩色濾光片 40成為良品。
第7a、7b圖表示在玻璃基板1〇表面的彩色遽光片的 著色部41產生黑缺陷48的修正方法。黑缺陷48為附著於 玻璃基板10的異物被墨水所覆蓋而殘存的缺陷。一面由觀 察光學系2觀察黑缺陷48, 一面使雷射裝置!及雷射光學 系12的焦點位於黑缺陷48的中央,如第7a圖所示,將雷 射光束49照射在黑缺陷48而除去黑缺陷48。藉此,如第 7b圖所示,黑缺陷柁係轉變為顏色缺陷43。顏色缺陷43 係如第5a〜5c圖所示的方法做修正。
接著,針對突起缺陷的修正方法做說明。突起缺陷名 由第2圖所示的帶狀研磨單元5做修正。參照第2圖,爷 狀研磨單70 5包括用於研磨突起缺陷的研磨帶50、用於奢 疋研磨帶50的輸送側捲軸51、用於將研磨_ 5〇壓在突走 研磨頭52、用於驅動研磨帶5°的驅動機構53、 陷的高产Π帶50的捲動側捲轴54以及用於測定突㈣ 门义,问度測定感測器55。帶狀研磨單元5 轴工作二7、 你稽由 位。而:,二及副2軸工作台5於Ζ轴方向做精度佳的笼 且可设置僅使研磨頭52於ζ軸方向移動的 14 構。 第8a〜8c圓表示破璃其 嫂其们冑基板1G表面的彩色遽光片的方 塊基材42或者色部41所吝4 & 生的犬起缺陷60的修正方法。 盲先,如第8a圖所开·,丄山* 、由局度測定感測器55測定突起缺 60的兩度hi盘# E9 .# _ ^ 又匕、其周邊正常部的高度h2。接著,如第8b 圖所不’使研磨頭55的壓 至开構件56的則端部位於突起缺 陷60的中央,由壓押構件 仟56的刖端部一方面使研磨帶50 押於突起缺陷60’ _方面驅動研磨帶5。研削突起缺陷 〇。壓入壓押構件56的深度係根據缺陷周邊的正常部的高 度的測疋結果h2而決定。藓此〇楚q θ 疋籍此如第8c圖所示,突起缺 陷60被修正。 又,在該微細圖案修正裝置中,由高度測定感測器55 所測定的缺陷高度hl與正常部的高度h2的差Η.,並 根據觀察光學系2所評估的缺陷的面積,以掌 缺陷部分的大小,而決定僅使用雷射光束49的照'射 合併使用研磨帶50的研磨。 即’在由異物等造成的黑缺陷48存在的情況下,當黑 缺陷48的尺寸大時,若僅用雷射光束49的照射除去,則 雷射光束49的功率必須相當大,恐怕會對缺陷周邊的正常 邛產生不良的影響。在此情況下,如第9a、9b圖所示,由 研磨帶50除去突起部的大部分而使缺陷部與正常部大體 上等高,接著如第9b、9c圖所示’照射雷射光束49而將 黑缺陷48轉變成顏色缺陷43,用第5a〜5c圖所示的方法 將墨水塗佈於顏色缺陷43上而做修正。如此,可用較弱的 15 1373648 二射功率除去缺陷部,降低對周邊正常部的不良影響,可 實施高品質的修正1黑缺陷的尺寸小,無須使用大功率 的雷射光束49,對缺陷周邊的正常部無影響的情況下,如 第7a、7b圖所不,僅用雷射光束49的照射而將黑缺陷 轉變成顏色缺陷43。 又,在塗佈墨水而進行修正的情況下,墨水超過顏色 :陷43而突起的情況下’如第1〇a'⑽圖所示,用研磨 帶5〇將超過而突起的墨水45研磨除去,藉此可提升修正 部的平坦度。 如上所述,在該實施型態中’ LCD彩色濾光片的顏色 缺陷43、黑缺m 48以及突起缺陷6〇可用_台裝置做修正。 :此:即使在二種缺陷混合的情況下,將基板放置於修正 、置後無須基板位置的計算動作,可縮短修正時間。又, :使用複數個裝置而做修正的情況相比,纟置的設置面積 減少’可減少無塵室的建設、維持費用。又,減少修正設 八,社修 | $从〜斤、奶m 48的情況下,藉〗 :磨帶50所做的研磨與雷射光束49的照射併用減幻 A邊的正常部的熱影響,藉由研磨帶的研磨而除去墨水塗彳 一分的突起’藉由功能的組合而使修正的品質提升。 又’由於墨水塗佈單元3與帶狀研磨單元5配置於1 :光學系2的兩側’從觀察(指定修正位置)至修正時, 谁正碩部6的移動量變小’因此’可對高精度指定的位 進行修正。 又,使修正頭部6與使基板1〇相對於χγζ方 的ΠΖ定位裝置(工 做疋位 佈單元3的塗佈針21: 藉由設置使墨水塗 e .針21於2轴方向移動的致動器22以及使 單兀5於2軸方向移動的副Z軸工作台15,由於 古乙正士程中於Z軸方向的移動量變小’可實施Z軸方向 速或门精度的定位。因此,墨水塗佈修正的時間縮短, 研磨帶的研磨的高度控制可高精度化。 而且,在該實施型態中,雖然以LCD用的彩 的缺陷的修正做說明, 愿九片 _ 仁其他如電漿顯不裝置及有機EL顯 不、,有關於在平面基板上設置微細圖案的平面顯示 裝置用基板的缺陷的修正,本發明亦有效地適用。… 又’墨水塗佈單元3使用塗佈針21的方式以外,使用 分配器的方式(例如特開2〇〇卜174625號公報第㈣)以 及喷墨方式(例如特開平7 — 318724號公報)亦可。 本次所揭示的實施型態係作為實施例,但本發明並不 限於此,本發明的範圍為以上的說明以及申請專利範圍, 二^申清專利範圍相同的意義或在申請專利範圍 的變更。 【圖式簡單說明] 全二W為:發明之一實施型態之微細圖案修正裝置的 全體裝置的立體圖。 !;圖圖二第1圖所示之修正頭部6的構造的示意圖。 :圖為第!圖所示的墨水塗佈單元的構造的立體圖。 第4圖表示產生顏色缺陷的彩色遽光片。 17 1373648 第5圖(a)〜(c)說明第4圖所示的彩色濾光片的顏色缺 陷的修正方法。 第6圖表示修正後的彩色濾光片。 第7圖(a)〜(b)表示彩色濾光片之黑缺陷的修正方法。 第8圖(a)〜(c)表示彩色濾、光片之突起缺陷的修正方 法。 第9圖(a)〜(c)表示彩色瀘、光片之黑缺陷的其他修正 方法。 第10圖(a)~(b)表示彩色濾光片之顏色缺陷的修正方 法的另一圖。 【主要元件符號說明】 1〜雷射裝置; 2〜觀察光學系; 3〜墨水塗佈單元; 4〜修正液硬化用光源; 5〜帶狀研磨單元; 6〜修正頭部; 7〜Z軸工作台; 8〜X軸工作台; 9〜Y軸工作台; 1〇〜被修正玻璃基板; 11〜玻璃定盤; 11a〜上舉銷孔; lib〜吸附槽; 13.73648·
12- -雷射光學 系 > 13- i接物鏡; 14〜CCD攝影; 機 > 15- -副Z軸工 作 台 , 21- i墨水塗佈 用 針 22〜致動器; 23〜驅動軸; 24- 。保持構件 9 25- v旋轉工作 台 9 26、 .27 ' 28 ' 29 墨 水槽 30- “洗淨裝置 9 31- -打氣裝置 9 34- -分度用馬 達 35、 -分度板; 36- -分度用感 測 器 t 37- “原點回歸 用 感 測 3S. · , 4 0〜彩色滤光 片 41- -著色部分 42- -方塊基材 43、 44〜顏色 缺 陷 部 份; 45、 4 6〜墨水 48〜黑缺陷; 49- /雷射光束 , 50、 "研磨帶; 19 1373648 51〜輸送側捲軸; 52〜研磨頭; 53〜驅動機構; 5 4〜捲動側捲軸; 5 5〜高度測定感測器; 5 6〜壓押構件; 60〜突起缺陷。
20
Claims (1)
- ν-TU _l〇l年2JT2T日修正替換異 第094〗15387號 ㈣年屮月冬曰修正本! --------1 十、申請專利範園·· 微細圖案的修正裝置’用於修正形成於基板 (10)上的微細圖案的缺陷,包括: 一修正頭部 沾n m ),八有將修正液(45)塗佈於缺陷上 的堡佈 ( ‘ 、知射雷射光束而除去缺陷的雷射裝置 )觀察缺陷的觀窣井與 m ^ „ 規祭先予系(2)、以及研磨缺陷的帶狀 研磨早元(5); 二:载基板(1。)的工作台(11);以及 裝置(7〜9)’使工作台(11)相對於修正頭部 ⑷移動並實施三度空間定位; 、述雷射裝置(1)用的光學系與上述觀察光學 、)係同轴配置’上述觀察光學系(2 )係配置於上述 ▼狀研磨早兀(5)及上述塗佈單元(3)之間。 2.如申請專利範圍第1項所述之微細圖案修正裝置, ”中上述正頭部(6 )更包括—高度測定感測器(^ ), 測疋上述微細圖案的缺陷部與正常部的高度。 3·如申請專利範圍第1項所述之微細圖案修正裝置, 其中上述修正頭部(6 )更包括-光源(4 )或熱源,使上 述塗佈單70 (3)塗佈於缺陷上的修正液(45)硬化。 4. 如申請專利範圍第i項所述之微細圖案修正裝置, 其中上述修正頭部(6 )更包含一副定位裝置(15 ),使上 述研磨單元(5)或包含於上述研磨單元(5)的研磨頭部 (52)朝垂直於上述基板(1〇)的方向移動。 5. 如申請專利範圍第i項所述之微細圖案修正裝置, 1373648 第 094115387 號 月則細麵吞 其中上述塗佈單元(3)包括塗布針(21),使附著於其前 端的修正液(45)轉寫至缺陷部;以及致動器(22)使上 述塗佈針(21)朝垂直於上述基板(1〇)的方向移動。 6. —種微細圖案之缺陷修正方法,用於修正形成於基 板(10)上的微細圖案之缺陷的缺陷,包括下列製程: 以研磨帶(50)研磨缺陷部的突起,而成為與周邊正 常部大略等高的研磨製程; 將雷射光束(49)照射研磨後的缺陷部而除去缺陷部 的雷射切割製程; 將修正液(45)塗佈於雷射光束(49)除去缺陷部的 位置的塗佈製程;以及 測定最初缺陷部的高度並根據測定的結果判斷僅實施 上述之雷射切割製程以除去缺陷部還是將上述研磨製程與 上述雷射切割製程併用的判定製程。 〃22 1373648 七、指定代表圖: (一) 本案指定代表圖為:第(1)圖。 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明: 1〜 雷射裝置; 2〜觀察光學系; 3〜 墨水塗佈單元; 4〜修正液硬化用光源; 5〜 帶狀研磨單元; 6〜修正頭部; 7〜 Z軸工作台; 8〜X軸工作台; 9〜 γ轴工作台; 10〜被修正玻璃基板; 11- -玻璃定盤; 11 a〜上舉銷孔; 11 b〜吸附槽。 八、本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵的化學式: 益
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KR101067373B1 (ko) * | 2008-09-05 | 2011-09-23 | 참엔지니어링(주) | 평판표시패널용 연마장치와 그 구동방법 및 이를 구비하는 리페어 시스템 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI671519B (zh) * | 2018-11-30 | 2019-09-11 | 帆宣系統科技股份有限公司 | 聚醯亞胺膜缺陷之非接觸式修補方法 |
Also Published As
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