JP5164002B2 - レーザ加工装置 - Google Patents
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Description
前記結像レンズをその光軸方向に変位させる変位手段と、を備え、前記撮像手段で検出される前記反射光の輝度変化に基づいて前記被加工物の微小高さを測定して加工量を求めると共に、前記被加工物上のレーザ加工しようとする部分の輪郭を検出し、該輪郭に囲まれた領域に対応する前記複数のマイクロミラーをON駆動して前記レーザ光の光束断面形状を規制し、該光束断面形状が規制された前記レーザ光を前記被加工物上の前記領域に照射して該領域を前記加工量だけレーザ加工可能にしたものである。
最初に高さ測定の手順について、図4のフローチャートを参照して説明する。
先ず、ステップS1においては、カラーフィルタ基板がレーザ加工装置のステージ1上に載置される。そして、装置の起動スイッチが投入されて、照明光源8が点灯する。これにより、照明光L4が対物レンズ4を介してカラーフィルタ基板面に照射する。また、同時に撮像手段7がON駆動してカラーフィルタ基板表面を撮像する。このとき、レーザ光源2及び白色光源6は消灯されたままである。また、対物レンズ4としては、低倍率の対物レンズ4a〜4cのいずれかが選択されている。
先ず、ステップS21において、照明光源8が点灯され、異物21を含むピクセルの画像が撮像手段7により撮像される。同時に、変位手段9を駆動して光学系本体部の高さを所定の高さに合わせる。この高さは、照射するレーザ光のパワーに依存し、例えばカラーフィルタ基板のパターン表面、異物21の頂点、又はその中間高さ位置等であり、実験により決められる。
3…光束規制手段
4…対物レンズ
5…結像レンズ
6…白色光源(計測用光源)
7…撮像手段
9…変位手段
10…被加工物
11…マイクロミラー
L1…レーザ光
L2…白色光(計測光)
L3…反射光
Claims (3)
- マトリクス状に並べられ個別に傾動する複数のマイクロミラーのうち、ON駆動されたマイクロミラーにより、レーザ光源から入射するレーザ光の光束断面形状を規制して被加工物側に反射させる光束規制手段と、前記被加工物と対向して設けられ光束断面形状が規制された前記レーザ光を前記被加工物上に集光する対物レンズと、を備えたレーザ加工装置であって、
前記光束規制手段から前記レーザ光源に向かう光路が分岐された光路上に設けられ前記光束規制手段の複数のマイクロミラーに計測光を照射する計測用光源と、
前記対物レンズから前記光束規制手段に向かう光路が分岐された光路上に設けられ、複数の受光素子を備えて前記複数のマイクロミラーで反射された計測光の前記被加工物からの反射光を受光する撮像手段と、
前記対物レンズと前記被加工物との間の距離を変位させる変位手段と、
を備え、前記撮像手段で検出される前記反射光の輝度変化に基づいて前記被加工物の微小高さを測定して加工量を求めると共に、前記被加工物上のレーザ加工しようとする部分の輪郭を検出し、該輪郭に囲まれた領域に対応する前記複数のマイクロミラーをON駆動して前記レーザ光の光束断面形状を規制し、該光束断面形状が規制された前記レーザ光を前記被加工物上の前記領域に照射して該領域を前記加工量だけレーザ加工可能にしたことを特徴とするレーザ加工装置。 - マトリクス状に並べられ個別に傾動する複数のマイクロミラーのうち、ON駆動されたマイクロミラーにより、レーザ光源から入射するレーザ光の光束断面形状を規制して被加工物側に反射させる光束規制手段と、前記被加工物と対向して設けられ光束断面形状が規制された前記レーザ光を前記被加工物上に集光する対物レンズと、前記光束規制手段と前記対物レンズとの間の光路上に設けられ前記対物レンズと組み合わされて前記被加工物上に前記複数のマイクロミラーの像を結像させる結像レンズと、を備えたレーザ加工装置であって、
前記光束規制手段から前記レーザ光源に向かう光路が分岐された光路上に設けられ前記光束規制手段の複数のマイクロミラーに計測光を照射する計測用光源と、
前記結像レンズから前記光束規制手段に向かう光路が分岐された光路上に設けられ、複数の受光素子をマトリクス状に備えて前記複数のマイクロミラーで反射された計測光の前記被加工物からの反射光を受光する撮像手段と、
前記結像レンズをその光軸方向に変位させる変位手段と、
を備え、前記撮像手段で検出される前記反射光の輝度変化に基づいて前記被加工物の微小高さを測定して加工量を求めると共に、前記被加工物上のレーザ加工しようとする部分の輪郭を検出し、該輪郭に囲まれた領域に対応する前記複数のマイクロミラーをON駆動して前記レーザ光の光束断面形状を規制し、該光束断面形状が規制された前記レーザ光を前記被加工物上の前記領域に照射して該領域を前記加工量だけレーザ加工可能にしたことを特徴とするレーザ加工装置。 - 前記撮像手段の複数の受光素子の配列ピッチは、前記光束規制手段の複数のマイクロミラーの配列ピッチに略等しいことを特徴とする請求項1又は2記載のレーザ加工装置。
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