TWI363936B - An apparatus for forming an image and the method for forming the same - Google Patents

An apparatus for forming an image and the method for forming the same Download PDF

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Description

1363936 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明是有關於一種影像形成之裝置與方法,且特別 是有關於一種控制佈電電壓以及顯影電壓之影像形成裝置 與方法。 【先前技術】 影像形成裝置例如影印機(photocopier),雷射印表機 (laser printer),以及傳真機(facsimile machine)通常會使用 光電成像(Electrophotographic)顯影系統。光電成像顯影系 統應用顯影靜電潛像(electrostatic latent image)於一個感光 元件之上,以使用顯影劑(如碳粉)形成可見的影像,以及將 可見的影像轉印(transfer)於一影印元件,例如紙張。 在此,靜電影像形成裝置通常包括一個感光元件,此 感光元件可以是一個感光鼓或是一個感光帶。潛像即根據 影像資料形成於感光元件之上。顯影裝置即使用碳粉將潛 像顯影而產生對應的碳粉影像。 當在感光元件上的潛像因電場作用而吸附碳粉於其上 而使得潛像成為一碳粉影像時,被施予在顯影裝置的一顯 影電壓(developing bias voltage ),將決定投射至感光元件 上的碳粉量。舉例而言,參照第1圖,感光元件102可以 被佈電至-750V。感光元件102在經過曝光過程後,感光元 件102的潛像區域104的電壓Vexp可為-60V。而施予一顯 影裝置106的顯影電壓通常會介於感光元件102原佈電電 6 1363936 壓以及潛像區域104的電壓之間(-75GV和-6GV之間),例如 -45〇V,或者是等同感光元件102的佈電電壓(_75〇V)。 藉由電壓差,潛像區域1〇4可以吸引顯影裝置1〇6上 的碳粉1〇8,亦即藉由力Η使得碳粉108投射至潛像區域 10心F1的形成是由顯影裝置1〇6以及潛像區蜮之間的 電壓差所產生。要成功的完成顯影,F1應有足夠的能量使 碳粉108移動一個間距G(顯影裝置1〇6及感光元件1〇2之 間的間距)。當顯影過程於上述的條件進行時,由顯影裝置 106及感光元件部102之間的電壓差所形成的電場,可帶動 碳粉108進行投射至潛像區域1〇4。 當顯影裝置106上的電壓等於或小於感光元件1〇2表 面上的電壓時,則有一斥力F2,例如感光元件1〇2表面上 的表面電壓,會阻止碳粉108從顯影裝置1〇6上投射至感 光元件102的背景區域110 (非潛像區域)上。箭頭ιΐ2 指出對應於潛像區域104邊緣地帶114的碳粉1〇8的投射 路徑。斥力F2的力量分佈會影響潛像區域1〇4邊緣地帶ιΐ4 碳粉108的投射路徑,使碳粉無法完全涵蓋潛像區域1〇4 的邊緣地帶114 ’而造成線條過細,粒點不飽滿。 另外’於上述的條件進行顯影時’電場可被顯影間距 G的大小所控制。碳粉佈電分佈可被摩擦靜電製程所控 制。顯影間距的大小以及碳粉佈電分佈影響到列印品質。 若不控制顯影間距的大小或碳粉佈電分佈,列印影像則常 會發生粒點不良,以及影像内細線過多的現象。 由此可見,目前需要一個改良後的裝置及方法,用以 7 控制顯影電壓而解決列印品質下降的問題。此方法可改善 影像内所形成的影像粒點以及線條。 【發明内容】 本發明的一目的是在提供一種影像形成裝置。此裝置 包括一個佈電件、一個曝光元件、一個顯影裝置、以及 一個控制元件。佈電元件是用以將一電壓佈於一個感光元 件。曝光元件是用以於感光元件的佈電表面上形成潛像。 顯影裝置是用以承載碳粉。控制元件則是用以控制感光元 件以及顯影裝置的顯像電壓,使顯影裝置的顯像電壓的絕 對值大於感光元件感光元件的佈電電壓的絕對值(丨^丨 >丨 Vil)。其中VD是顯影裝置的顯像電壓,而Vi是感光元件的 佈電電壓。更佳的,該顯影裝置的顯像電壓與感光元件的 佈電電壓間滿足0 V £ (|Vd| -丨Vi[) $ 250 V。 上述之影像形成裝置,其中的顯影裝置將碳粉佈置於 感光元件的潛像上之方法是,藉由感光元件以及顯影裝置 的佈電電壓壓差,使得碳粉往佈電電壓的絕對值較低的表 面移動。因此當顯.影裝置的佈電電壓的絕對值大於感光元 件的佈電電壓的絕對值時,顯影裝置上的碳粉將會轉移至 感光元件部,而形成碳粉影像。 由於感光元件上的潛像區域以及背景區域之佈電電壓 的絕對值皆小於顯影裝置的佈電電壓,因此背景區域將不 會產生阻抗力’而導致更多碳粉可被吸引至潛像區域的邊 緣地帶’使得感光元件的潛像區域具有更飽和的碳粉影像。 本發明的又-目的是在提供一種影像形戍的方法。該 法包括首先’轉動一感光元件。將感光元件之表面佈電 至一佈電電壓,以於感光元件上形成—佈電表面。曝光該 佈電表面,以形成潛像於該感光元件之該佈電表面。接著, 轉動一顯影裝置並施加一顯影電壓於該顯影裴置,以將碳 粉投射至感光元件之潛像上以形成—碳粉影像。並將顯影 裝置之顯影電壓的絕對值以及感光元件之佈電電壓的絕對 值分別設定至-職電壓值,其巾顯影電壓的絕對值大於 佈電電壓的絕對值。 【實施方式】 本發明的實施例利用碳粉的附著臨界點,而使感光元 件上的顯影區域得到更充足的碳粉量。以控制電場的方法 達到完整的形成影像,但不形成多餘的背景影像。為防止 多餘的背景影像形成,顯影電壓的絕對值可被設為大於感 光元件表面的佈電電墨,但不可大於一個會形成可見背景 的電壓值。最大的電壓值將決定於碳粉的附箸臨界點。 請參照第2圖,其繪示依照本發明一實施例的一種影 像形成裝置的示意圖。本發明之實施例的影像形成裝置包 括一佈電元件202、一曝光元件204、一顯影裝置206、以 及一控制裝置208。控制裝置208提供電力於佈電元件 202,用以施加佈電電壓於一感光元件21〇,以對感光元件 210進行佈電。感光元件210可以是一可轉動的感光鼓或感 光帶。當曝光元件204對感光元件210進行曝光時,一潛 像即形成於感光元件210之佈電表面上。在曝光之後,顯 影裝置206(例如一顯影滚輪)則被施加一顯影電壓,使感光 元件210與顯影裝置206之間產生一電壓差。顯影電壓是 直流電壓。此電壓差所產生的電場則將顯影裝置2〇6所承 載的碳粉212投射至感光元件210的潛像區域214上,以 形成一碳粉影像。顯影裝置206所投射的碳粉具有與該佈 電電壓相同極性。 舉例而言’當感光元件210被曝光處理後,被曝光的 區域’也就是潛像區域214’則被佈電至一潛像電壓Vexp (例如-60V)。而未被曝光的區域,也就彖背景區域216,於 佈電步驟時被佈電至一佈電電壓Vi(例如-650)。因此,當 顯影裝置206上的顯影電壓V〇等於或大於佈電電壓時(例 如VD=-750) ’潛像區域214與顯影裝置206因彼此的電壓 差’而產生的助力F1則會使碳粉212從顯影裝置206被吸 引至潛像區域214。同樣的,當背景區域216上的佈電電壓 Vi與顯影裝置206因彼此之間的壓差,形成另一助力F3, 會使得碳粉212投射至背景區域216,而使成像品質不佳。 本實施例因為佈電電壓Vi與顯影電壓VD之間的電壓差並 不大(例如本實施例中|VDHVi丨=100V),所以電壓差所形成 的F3即較弱,因此力量不足以使碳粉212由顯影裝置206 投射至背景區域216,也就不會污染了背景區域216 » 更詳細的來說,碳粉212若要從顯影裝置206投射至 感光元件210,顯影裝置206與感光元件210之間的電壓差 必須大於一臨界電壓值(Threshold Voltage)。此臨界電壓 1363936 值是由顯影裝置206與感光元件210之間的一間距G大小 所決定。舉例而言,當顯影電壓VD至少等☆ 500V,但不 大於1000V,而G的大小是介於約100-500 u:m之間時,臨 界電壓值則約在250V以下。但若要防止碳粉212落入背景 區域216 ’則需維持以下的關係: 〇^^(I^dI-|^/I)^250F » 其中’ lvD|-|Vi丨的範圍可被進一步限縮為 2〇F^(|FD|-R|)^i〇〇r,以確保碳粉212不會落入背景區域 216。 當背景區域216上的佈電電壓Vi的絕對偟小於顯影電 壓vD的絕對值時,顯影裝置_206之電場所產生的助力F3 將有助於更多碳粉被投射至潛像區域214的邊緣地帶 218。潛像區域214的邊緣地帶218則可附有更多的碳粉, 而呈現出更飽滿的線條,以及更清楚的粒點。 因此’本發明的實施例所包括的控制裝置2〇8則是用 以控制施加於感光元件210之該佈電電壓,以及施加於顯 影裝置206之顯影電壓’並分別提高該佈電電壓及該顯影 電壓之絕對值至一預設電壓值。舉例而言,控制裝置2〇8 可將|VD|設為750V,|Vi|可被設為650V,而|Vexp丨則可被設為 60V。因|VD|與|Vi|的電壓差所產生的助力F3雖然不至於使 碳粉212投射至背景區域216的範圍内,但部份顯影裝置 206上的碳粉212’其位置對應於潛像區域214的邊緣地帶 218,會因為F3是助力而非斥力’而更容易投射至潛像區 域214的邊緣地帶218。由此可見,箭頭220指出對應於潛 11 1363936 像區域214邊緣地帶218的碳粉212的投射路徑可使碳粉 212更完全的覆蓋於潛像區域214的邊緣地帶。 本發明之另一實施例是一種形成影像之方法。首先, 轉動一感光元件。將感光元件之表面佈電至一佈電電壓, 以於感光元件形成佈電表面。曝光該感光元件之佈電表面 以形成潛像於感光元件表面。接著,轉動一顯影裝置並施 加一顯影電壓於顯影裝置上,使碳粉投射至感光元件之潛 像上以形成一碳粉影像。並將顯影裝置之顯影電壓的絕對 值以及感光元件之佈電電壓的絕對值分別設定至一預設電 麼值’其中顯影電壓的絕對值大於佈電電壓的絕對值。因 此’當顯影電壓的絕對值大於佈電電壓的絕對值時,則可 產生上述之助力F3,以達到碳粉212更完全的覆蓋於潛像 區域214的邊緣地帶218的效果》 請參照第3圖,其繪示本發明之實施例所產生的電場 模擬圖。第3圖是模擬一個二像素所形成的線條,而碳粉 的附著臨界點在此約為1.7 V/um。曲線302是代表合 丨Vi|=750V,以及丨VD|=750V時,顯影裝置206上的電場分 佈與所形成的線條寬度的關係。曲線3〇4則是代表當 丨Vi|=650V,以及丨VD|=750V時,顯影承載部2〇6上的電場 分佈與所形成的線條寬度的關係《由此可見,從曲線3〇4 可比較出曲線304所形成的線條寬度3〇6較寬於曲線3〇2 所形成的線條寬度308 » 雖然本發明已以一較佳實施例揭露如上,然其並非用 以限定本發明,任何熟習此技藝者,在不脫離本發明之精 12 1363936 神和範圍内,當可作各種之更動與潤飾,因此本發明之保 護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。 【圖式簡單說明】 為讓本發明之上述和其他目的、特徵、優點與實施例 能更明顯易懂,所附圖式之詳細說明如下: 第1圖一種習知影像形成裝置的示意圖。 第2圖依照本發明一實施例的一種影像形成裝置的示 意圖。 第3圖係本發明之實施例所產生的電場模擬圖。 【主要元件符號說明】 10 2 ·感光元件 104:潛像區域 i〇6:顯影裝置 108:碳粉 背景區域 112:箭頭 114 ·邊緣地帶 202:佈電元件 204 ·曝光元件 206:顯影裝置 208:控制裝置 210 :感光元件 212 ·碳粉 214 :潛像區域 216:背景區域 218 :邊緣地帶 220=箭頭 302:曲線 3 04’·曲線 308:線條寬度 306:線條寬度 13

Claims (1)

  1. K(年)月P日修正本10丨年〇1月2〇曰修正 十、申請專利範圍: 一種影像形成裝置,包含: 一佈電元件,該佈電元件施加一佈電電壓於一感光元 件’以對該感光元件進行佈電,以形成一佈電表面; 一曝光元件,對該感光元件之佈電表面進行曝光,用 以形成一潛像於該感光元件之佈電表面上; 一顯影裝置,用以承載碳粉,當一顯影電壓施加於該 顯影裝置時’該顯影裝置之碳粉投射至該潛像,以於該感 光元件上形成一碳粉影像;以及 控制裝置,用以控制施加於感光元件之該佈電電 壓,以及施加於該顯影裝置之該顯影電壓,並分別提高該 佈電電壓及該顯影電壓之絕對值至一預設電壓值; 其中該顯影電壓以及該佈電電壓之關係如下: 20FS(|FJ-|F;|)5100F’ 其中|VD| 大於 750V 且|Vi|大於 650V, 其中vDR表施加於該顯影裝置之該顯影電壓,而% 代表施加於該感光元件之該佈電電壓。 % 2.如申請專利範圍第丨項所述之影像形成裝置其中 s玄奴粉影像之線條寬度大於或等於2〇〇 um。 1 ·如申凊專利範圍第1項所述之影像形成裝置,其中 5玄潛像具有一潛像區域與一非潛像區域。 101年03月20日修正 4·如申請專利範圍第1項所述之影像形成裝置,其中 |VD丨大於750V,但不大於1〇〇〇v。 5. 如申請專利範圍第丨項所述之影像形成裝置,更包括 一間距’其位於該顯影裝置與該感光元件最接近彼此之點 端之間。 6. 如申請專利範圍第5項所述之影像形成裝置,其中 該間距之寬度約為1〇〇·5〇〇ι1ηι。 7. —種形成一影像之方法,包含: 轉動一感光元件; 佈電该感光元件之一表面至一佈電電壓,以於該感光 元件上形成一佈電表面; 曝光該佈電表面以形成一潛像於該感光元件之該佈電 表面; 轉動一顯影裝置; 施加一顯影電壓於該顯影裝置; 投射碳粉至該感光元件之潛像上以形成一碳粉影像; 以及 分別設定該顯影裝置之該顯影電壓之絕對值以及該感 光元件之該佈電電壓之絕對值至—預設電壓值,其中該顯 影電壓之絕對值大於該佈電電壓之絕對值,該顯影電壓之 絕對值與該佈電電壓之絕對值之間的差值介於2〇·1〇() ν, 1363936 101年03月20曰修正 該顯影電壓之絕對值大於750V,且該佈電電壓之絕對值大 於 650V。 8. 如申請專利範圍第7項所述之方法,其中該碳粉影 像之線條寬度大於或等於200 um。 9. 如申請專利範圍第7項所述之方法,其中該潛像具 有一潛像區域與一非潛像區域。
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