TWI344440B - - Google Patents
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(2) 1344440 由晶圓針測器室被送返載體內之原來場所。
在進行ΒΒ圓之檢查時,作業員以載體單位將晶圖搬運 到載入室的載體載置部而加以設置^但是,例如,在如 j 00mm BB圓之大口徑的晶圓之情形’收容複數片之晶圓 的載體極爲沈重。作業貝要搬運此種載體幾乎不可能。因 此’在日本專利特開平】0- 3 03 2 7 0號公報中,使用自動搬 運車以搬運載體,在自動搬運車與工程設備之間,能以載 體單位父接同一批次之晶圓的搬運方法被提出。如使用此 搬運方法’不需要作業員做載體之搬運,可以解決前述問 題。
另一方面’基於最近之晶圓的大口徑化及超微細化, 形成在一片晶阒之裝置的數目飛躍增加,關於一片之晶圓 ’於結束檢查等之處理上,也需要長時間。因此,如前述 般’即使使用自動搬運車,能以載體單位將同一批次之晶 圓搬運至檢查裝置等之半導體製造裝置,全部處理在載體 內以批次單位所收容之晶圓,需要相當的時間,在該期間 中,即使是處理完畢的晶圓,也被停放在半導體製造裝置 內。其結果爲,將批次單位之晶圓送至後工程的時間被相 當地延遲,結果爲,難於縮短T A T ( T u r η - A r 〇 u n d - T i m e :週 轉時間)。 因此.本申請人在日本專利特開2 002 - 2 1 7 2 63號公報 中,提出使用光耦合並聯1/0通訊之被處理體的搬運系統 及被處理體的搬運方法。藉此’在複數的半導體製造裝置 的第1交接機構與自動搬蓮裝置的第2交接機構之間的晶 (3) (3)1344440 圓等之被處埋體,可確實進行片單位之交接,而且,使用 複數之半導體製造裝置,並行處理複數的被處理體,可以 實現被處理體的週轉時間之縮短。 【發明內容】 在曰本專利特開2 〇 02 _ 2 I 7 2 6 3號公報中所被提出之被 處理體的搬運系統及被處理體的搬運方法中,在自動搬運 裝置與半導體製造裝置之間,藉由進行光通訊,各別之第 ] '第2交接機構受到驅動,被處理體以片單位被正確且 確實搬運。但楚,依據半導體製造裝置的稼動狀況,即使 是有進行連續,例如2片之被處理體的交接之餘裕的情形 ’自動搬運裝蟹的第1交接機構只能各一次進行被處理體 的交接動作。因此,被處理體的搬運效率不一定好。另外 ’以順序控制第]、第2交接機構故,藉由自動搬運裝置 與半導體製造裝置之間的光通訊,而送收訊順序控制訊號 故’通訊次數多,通訊時間之縮短有其界限。 本發明係爲了解決前述課題所完成者,目的在於提供 :提高自動搬蓮裝置與處理設備之間的搬運效率,可以縮 短被處理體的週轉時間之被處理體的搬運系統及被處理體 的搬運方法。另外,目的在於提供:可以提高自動搬運裝 置與處理設備之間的通訊效率之被處理體的搬運系統及被 處理體的搬運方法。 本發明係〜種被處理體的搬運系統,其特徵爲:具備 有,複數的半導體處理裝置,及在前述複數的半導體處理 -8- (4) (4)1344440 裝置之間’各一片地自動搬運被處理體之自動搬運裝置; 各半導體處理裝置係具有:第]交接機構,及第]光耦台 並列I/O通訊介面,前述自動搬運裝置係具有:第2交接 機構’及第2光耦合並列I /〇通訊介面;前述第]交接機 構與前述第2交接機構係相互之間可各一片地連續交接前 述被處理體’前述第1光耦合並列I/O通訊介面與前述第 2光輔合並列I/O通訊介面係相互之間可送收訊作爲控制 前述第1交接機構或前述第2交接機構之控制訊號的光訊 號。 如依擄本發明,可以提高複數的半導體處理裝置與自 動搬運裝置之間的搬運效率,能縮短被處理體的週轉時間 〇 例如’前述半導體處理裝置係半導體製造裝置。或者 前述半導體處理裝置爲半導體檢查裝置。或者前述半導體 處理裝置爲半導體收容裝置。 另外’本發明係一種被處理體的搬運方法,是針對利 用特徵爲:具備有’具有第1交接機構,及第丨光耦合並 列I/O通訊介面之半導體處理裝置,及具有第2交接機構 ’及第2光耦合並列I /〇通訊介面之自動搬運裝置;前述 第I交接機構與前述第2交接機構係相互之間可各一片地 連續交接被處理體’前述第1光耦合並列I/O通訊介面與 前述第2光||合並列]/〇通訊介面係相互之間可送收訊控 制前述第】交接機構或前述第2交接機構之控制訊號的光 訊號之被處理體的搬運系統的被處理體的搬運方法,其特 -9 - (5) (5)1344440 徵爲:在前述第]交接機構與前述第2交接機構之間,可 連續地各一片交接複數的被處理體之情形,則藉由前述第 1光耦合並列I/O通訊介面與前述第2光耦合並列I/O通 、 訊介面之間的光通訊,進行在前述自動搬運裝置與前述半 ♦ 導體處理裝置之間可連續交接通知之連續交接通知工程, 及在前述第1交接機構與前述第2交接機構之間,被處理 體各一片地連續交接之連續交接工程6 如依據本發明’可以提高半導體處理裝置與自動搬運 裝置之間的搬運效率’能縮短被處埋體的週轉時間。 g 最好進而具備:在前述連續交接工程開始之際’藉由 前述第】光耦合並列I/O通訊介面與前述第2光耦合並列 I / 〇通訊介面之間的光通訊,由前述自動搬運裝置對前述 半導體處理裝置進行交接開始通知之交接開始通知工程, 及在前述交接開始通知工程之後,依據前述第丨交接機搆 之被處理體的有無’確認前述第2交接機構可否存取前述 第1交接機構之存取確認工程,及藉由前述第】光耦合並 列I/O通訊介面與前述第2光耦合並列】/〇通訊介面之間 鲁 的光通訊,前述存取確認工程之結果由前述半導體處理裝 置被通知給前述自動搬運裝置之存取確認通知工程,及在 前述存取確認通知工程之後,依據前述存取確認工程之結 果’前述第2交接機構存取前述第1交接機構之存取工程 Ο 進而,在前述連續交接通知工程中,變成進行由前述 、 自動搬運裝置對前述半導體處理裝置做可連續交接通知, -10- (6) (6)1344440 前述連續交接通知工程與前述交接開始通知工程最好彙整 而略微同時進行。在此情形下’可以提高自動搬運裝置與 半導體處理裝置之間的通訊效率。 另外最好進而具備:在前述存取工程之後,依據前述 第〗交接機構之被處理體的有無’確認前述第2交接機搆 是否可由前述第】交接機構避開之避開確認工程,及藉由 前述第1光耦合並列丨/0通訊介面與前述第2光耦合並列 I/O通訊介面之光通訊,前述避開確認工程之結果由前述 半導體處理裝置被通知給前述自動搬運裝置之避開確認通 知工程,及在前述避開礎認通知工程之後,依據前述避開 確認工程之結果,前述第2交接機構由前述第1交接機構 避開之避開工程,及在前述避開工程之後,藉由前述第1 光耦合並列I/O通訊介面與前述第2光耦合並列I/O通訊 介面之間的光通訊,進行由前述自動搬運裝置對前述半導 體處理裝置做交接結束通知之交接結束通知工程。 在前述連續交接工程中,例如,可以重複由前述第2 交接機構對於前述第]交接機構交付被處理體之工程。或 者’在前述連續交接工程中,可以連續地進行前述第2交 接機構由前述第]交接機構取得被處理體之工程,及由前 述第2交接機構對前述第1交接機構交付別的被處理體之 工程。 【實施方式〕 以下,依據第]圖〜第圖所示之實施形態,說明 -11 - (7) (7)1344440 本發明。 本發明之〜實施形態之被處理體的搬運系統( A u t 〇 m a t e d m a t e 1. i a i h a n d 1 i n g s y s t e m (A Μ H S ) ) £ 係如第! a 及弟丨B圖所示般,係具備:管理包含被處理體之晶圓( 未圖示出)的檢查工程之工廠全體的生產工程之主電腦】 ’及在此主電腦]之管理下,進行晶圓之電氣特性檢查之 複數的檢查裝置之晶圓針測器2,及對於這些晶圓針測器 2 ’医1應各別之要求,各一片地自動搬運晶圓之複數的自 動搬運裝置(以下,稱爲「RGV」)3,及控制這些RG V3 之搬運控制裝置(以下,稱爲「r G V控制器」)4。晶圓 針測器2與R g V 3係具有基於S Ε Μ I規格E2 3或E 8 4之光 稱合並列1/0(以下,稱爲「ΡΙ0」)通訊介面,在兩者間藉 由進行Ρ〗〇通訊,相互各一片地交接晶圓 W。晶圓針測 器2係以片單位取得晶圓W而進行檢查之片式晶圓針測 器 2 。 R G V 控制器 4 係與主電腦 1 藉由 SECS(Semicoiiductor Equipment Community Standai.d :牛 導體設備社群標準)通訊線路而連接,在主電腦]之管理 下’藉由無線通訊以控制R G V 3之同時,以批次單位來管 理晶圓W。 另外’如第】A圖所示般,複數之晶圓針測器2係錯 由群控制器5進而藉由S E C S通訊線路而與主電腦】連接 。藉此,主電腦1藉由群控制器5而管理複數的晶圓針測 器2。群控制器5係管理關於晶圓針測器2之處理程式資 料或曰誌資料等之檢查之資訊。 -12 - (8) (8)1344440 另外’在各晶圓針測器2分別藉由g e C S通訊線路連 接有測試機6。藉此,各晶圓針測器2係依據來自各別對 應之測試機6的指令’各別地貴行特定之檢查。這歧測試 機6係藉由測試機主電腦(以下’稱爲r測試機主機」) 7進而藉由S E C S通訊線路而與主電腦〗連接。藉此,主 電腦1係藉由測試機主機7而管理複數的測試機6 ^ 另外,依據晶圓之檢查結果而進行特定之印字的印字 裝置8係錯由印字指不裝置9而連接於主電腦1。印字指 不裝置9係依據測試機主機7之資料而對於印字裝置8指 示印字。 進而’保管對應複數之晶圓尺寸之複數的緩衝器b ( 或者卡匣)用之貯存器1 0係藉由S E C S通訊線路而連接於 主電腦1。藉此,貯存器1 〇在主電腦]之管理下,以片 單位保管(分類)檢查前後之晶圓的同時,可以片單位進 行晶圓之出入。 晶圓針測器2係如第2 A圖所示般,具備:載入室2 ] 與晶圓針測器室22。 載入室2 1係具有:轉接部2 3、手臂機構2 4及副夾 具25。轉接部23以外之構成要素係依據習知之晶圓針測 器而構成。轉接部23係作爲在與RGV3之間各一片地交 接晶圓W之第]交接機構而搆成。手臂機構24係具有上 下二段之手臂24 I。各別之手臂24 ]係真空吸附晶圓W而 加以保持,藉由解除真空吸附,可以開放晶圓W。藉此’ 各別之手臂24〗係在與轉接部23之間進行晶圓之交接, -13 - (9) 1344440 可將取得之晶圓W搬運於晶圓針測器室2 2。副夾具2 5係 在手臂機構24搬運晶圓W之間,進行其之預先校正。
晶圓針測器室2 2係具有:晶圓夾具2 6、校正機構2 7 及探針卡2 8。主夾具2 6係藉由X ' Y工作台2 6】而往X 、Y方向移動之同時,藉由未圖示出之升降機構及β旋轉 機構而往Ζ及e方向移動。校正機構2 7係如習知所周知 般,具有:校正橋部2 7 1 ' C C D相機2 7 2,與晶圓夾具2 6 協同動作而進行晶圆W與晶圓針測器卡2 8之校正。探針 卡2 8係具有複數的探針2 8 I。藉由探針2 8 1與晶圓夾具 2 6上的晶圓電性接觸,藉由測試頭(未圖示出),晶圓 W與測試機6 (參照第1 A圖)接觸。
轉接部2 3係具備具有真空吸附機構的可升降之副夾 具23 1。在與RGV3之間或與手臂機構24之間,交接晶 圓 W時,副夾具2 3 1升降之同時,藉由真空吸附機構而 吸附、放開晶圓 W。更具體爲,在交接晶圓 W時,副夾 具231在手臂機構24與後述之RGV3的手臂機構之間升 降。 另外,R G V 3係如第]B圖、第2 A圖及第2 B圖所示 般,具備:裝置本體3 1,及配置在裝置本體3 ]之一端部 ,且載置收容晶圓W之緩衝器B之緩衝器載置部3 2,及 檢測載置於緩衝器載置部3 2上之緩衝器B內的晶圓W之 收容位置之映射感測器3 3,及搬運緩衝器B內之晶圓之 手臂機構3 4,及進行晶圓W之預先校正之副夾具3 5,及 光學式之預先校正感測器3 6,及讀取晶圓W之]D碼(未 -14 - (10) (10)1344440 圖示出)之光學式文字讀取裝置(0 C R ) 3 7 ’及成爲驅動 源之電池(未圖示出),及真空排氣裝置(未圖示出)。 RGV3藉此,藉由與RGV控制器4之無線通訊,行走在貯 存器1 0與晶圆針測器2之間或複數的晶圓針測器2問, 搬運晶圓W,或藉由手臂機構3 4而對於複數的晶圓針測 2各一片地交接緩衝器B之晶圓W。此R G V 3之搭載機 器類’機構上係依據日本專利特開2 0 0 2 2 ] 7 2 6 3號公報所 έ己載之A G V而構成Λ 手臂機構3 4係搭載在R G V 3之晶圓搬運機構《此手 臂機搆3 4係構成爲在晶圓W之交接時可旋轉及升降。即 如第2 Α圖及第2 Β圖所示般,手臂機構34係具備:真空 吸附晶圓 W之上下二段的手臂3 4 ] ( 3 4 ] A、3 4 ] B ),及 可前後移動支撐這些手臂3 4 1之可正逆轉之基台4,及收 容在基台3 4 2內之驅動機構(未圖示出)。在交接晶圓W 時’如後述般,上下之手臂3 4 ]藉由驅動機構在基台3 4 2 上各別前後移動之同時’基台3 4 2正腻旋轉於交接晶圓w 之方向。 RGV3 —到達晶圓W對於晶圓針測器2之交接位置時 ’在RG V 3內,手臂機構3 4受到驅動,緩衝器β內的晶 圓W —面被對心而一片一片地被取出。手臂機構3如由 緩衝器B取出一片的晶圓W時,則如第3圖所示般,旋 轉90°,對晶圓針測器2的轉接部23交接晶圓w。 如前述般,在R G V 3內,進行晶圓W之對心故,由 R G V 3對於晶圆針測器室2 2內的晶圆夾具2 6直接交接晶 -15- (11) (11)1344440 圓w時,不需要重新進行晶圓W之對位。即R G V 3內之 晶圓W的對心係在由RGV 3對於晶圓針測器室22內之主 夾具2 6直接交接晶圓W時,達成對位之任務。 R G V 3之手臂機構3 4在與晶圓針測器2之轉接部2 3 間進行晶圓W之交接時,如前述般1於晶圓針測器2與 RGV3之間進行光耦合PIO通訊。因此,RGV3與晶圓針 測器2分別具備PIO通訊介面1 1 A、] 1 B(參照第]A圖、 第4圖),相互利用P 1 0通訊可正確地進行一片之晶圆W 的交接。RG V3係在以習知的SEM 1規格所規定的通訊線 路外,具有控制手臂機搆3 4之真空吸附機構(未圖示出 )用之訊號線路及控制上下的手臂3 4 ]用之訊號線路。 如前述般,晶圆針測器2係具備作爲晶圓 W之交接 用的載入口之一個轉接部(以下,因應需要稱爲「實際載 入口」)2 3。另外,如第3圖所示般,在本實施形態中, 於軟體上在晶圓針測器2設定有有別於實際載入口 2 3之 至少一個虛擬載入口 2 3 V。例如,卸載用之手臂2 4 1或卸 載台(未圖示出)作用爲軟體上之虛擬載入口 2 3 V。即 R G V 3在交接晶圓W時,如第3圖所示般,於晶圓針測器 2內存在有檢查完畢之晶圓W時,利用藉由光訊號之P I 0 通訊,藉由在軟體上切換第4圖所示之P I 0通訊介面1] A 、:Π B之訊號線路的載入口號碼,指定虛擬載入口 2 3 V, 即使在晶圓針測器2內存在晶圓W,也可以新投入晶圓W 〇 例如,晶圓針測器2的虛擬載入口 2 3 V —被指定, -16 - (12) (12)1344440 則以虛擬載入口 2 3 V保持檢查完畢之晶圓w,轉接部2 3 可以等待下一晶圓W。如此’藉由設置虛擬載入口 2 3 v, 可以充分活用卸載用之手臂24]或卸載台(未圖示出)’ 能夠S某求產出率之提升,不需要設置多餘之實際載入口’ 可以防止設置面積增加或裝置的成本提升。 且說本貫施形態之搬運系統E係如第4圖所示般,具 備有在R G V 3之手臂機構3 4與晶圓針測器2之轉接部2 3 之間’可正確交接晶圓W用之獨自的p】〇通訊介面】]A 、】1 B。如第4圖所示般,這些PI 0之通訊介面】】a ' Π B分别以具有】4埠之1 4位元的介面所構成,由第】位 元埠至第1 〇位元埠被分配以同圖所示之訊號,即一部份 之位元埠被分配以控制轉接部2 3之副夾具2 3 ]或R G V 3 之手臂機構3 4的光訊號(後述之A E N B訊號、A E N B 2訊 號、PENB訊號、PENB2訊號等)。 關於利用藉由P 1 〇通訊介面1】A、Π B之P I 0通訊的 R G V 3與晶圓針測器2之間的晶圆W之搬運方法,一面參 考第5圖〜第1 5圖所示之時序圖一面做說明。 第5圖係顯示在RGV與晶圓針測器之間連續進行晶 圓W之載入之搬運方法的時序圖,第6圖係顯示在RG V 與晶圓針測器之間達續進行晶圓 W之卸載、載入之搬運 方法之時序圖,第7圖係顯示在R G V與晶圓針測器之間 同時進行晶圓W之卸載、載入之搬運方法的時序圖,第8 圖〜第1 2圖係顯示在R G V與晶圓針測器之間藉由進行跳 過程序控制訊號之通訊,以交接晶圓W之搬運方法之時 -17 - (13) 1344440 序圖,第】3圖〜第1 5圖係顯示在R G V與晶圓針測器之 間連續交接晶圓W之搬運方法之時序圖。 首先,一面參照第]圖〜第5圖,說明由R G V 3連續 對於晶圓針測器2載入晶圓W之搬運方法。
主電腦】藉由S E C S通訊線路而對R G V控制器4送 訊晶圓W之搬運指令時,R G V 3在R G V控制器4之控制 下,移動於晶圓針測器2之前(晶圓交接位置)。R G V 3 一到達晶圓針測器2之前,映射感測器3 3進出於緩衝器 B側之同時,手臂機構3 4升降。在手臂機構3 4升降之間 ,藉由映射感測器3 3進行緩衝器B內之晶圓W的映射。 之後,例如,手臂機構3 4之上手臂3 4 1 A (參照第2 B圖) 前進,由特定之晶圓 W的稍微下方進入緩衝器 B。在此 之間,藉由上手臂3 4 ] A與緩衝器B,進行晶圓W之對心 。之後,晶圓W被取出。藉由此對心處理,晶圓W對於 晶圓夾具26對位自動地進行。因此,可由RGV3對於晶 圓夾具2 6直接交付晶圓W。 在本實施形態中,副夾具3 5上升,由上手臂3 4〗A 取得晶圓W後,在副夾具3 5旋轉之間,藉由預先校正感 測器3 6而進行晶圓W之預先校正。之後,副夾具3 5停 止&轉而下降’晶H W回到上手臂3 4 ] Α。¾:此之間’ OCR37讀取附在晶圓W之1D卡,辨識晶圓W之批次。 之後,手臂機構3 4旋轉9 0°,調整方向面對晶圓針測器 2之轉接部23。以OCR37所辨識之晶圓W的;1D碼係經 由R G V控制器4而通知給主電腦I,進而,由主電腦】 -18 - (14) 1344440 通知晶圓針測器2。
接著,如第5圖之時序圖所示般,在RGV3與晶圓針 測器2之間,藉由P10通訊介面1 1 A、1 1 B,開始P10通 訊。首先,如第5圖所示般,R G V 3對於晶圓針測器2送 訊High狀態之CS_0訊號及Low狀態之CS_1訊號後,送 訊H i g h狀態之V A L I D訊號。藉此,載入模式成爲有效。 此處,CS_0訊號係在High狀態下,指令晶圓 W之載入 的訊號,CS_]訊號係在High狀態下,指令晶圓 W之卸 載之訊號。在第 5圖之搬運方法中,只進行載入故, CS_]訊號維持 Low狀態。CS_0訊號如前述般,如爲 High狀態,VALID訊號維持High狀態,確認晶圓針測器 2的轉接部2 3是否爲可取得晶圓W之狀態。
晶圓針測器2 —收訊V A LID訊號,如第5圖所示般 ,設L — REQ訊號爲High狀態,送訊給RGV3,通知爲可 載入。另外,在第5圖中,以 <> 所包圍之訊號係對於貯 存器1 〇之訊號,與晶圓針測器2之晶圓W的交接沒有關 係。 如第5圖所示般,RGV3 —收訊L — REQ訊號,開始晶 圓W之載入故,使TR-REQ訊號成爲High狀態,送訊給 晶圓針測器2,對於晶圓針測器2通知可做晶圓W搬運。 晶圓針測器2 —收訊TR-REQ訊號,設READY訊號 成爲Hlgh狀態,送訊給RG V3,對RGV3通知轉接部23 可以存取。另外,在晶圓針測器2中,於轉接部2 3之副 夾具2 3】(第5圖中,顯示爲「轉接部Z軸。在第6圖以 -19 - (15) 1344440 後的圖中,也相同」上升,等待晶圓W。 R G V 3 —由晶圓針測器2收訊R E A D Y訊號 圖所示般,使BUS Y訊號成爲High狀態,送訊 測器2,對於晶圓針測器2通知開始晶圓W之搬 。另外,RGV3在BUSY訊號的送訊之同時,使 號成爲H igh狀態,送訊給晶圓針測器2,對於 器2通知連續搬運模式之旨意。CONT訊號係顯 圓針測器2,連續交接2片之晶圓W,即連續將 晶圓W交接給晶圓針測器2,或者在由晶圓針測 檢查完畢之晶圓W後,交接未檢查之晶圓W之訏 晶圓針測器2 —收訊B U S Y訊號而認識搬運 使 A E N B訊號成爲H i g h狀態,送訊給R G V 3, 機構3 4可以存取。A ΕΝ B訊號在晶圓針測器2 收訊到H i gh狀態狀態之B U S Y訊號時,由晶圓 送訊給RG V3。即AENB訊號在晶圓W之載入時 2 3之副夾具2 3 1位於上升位置,不保持晶圓W 載入晶圓W之狀態下,變成H i gh狀態;在卸載 具2 3 1位於上升位置,保持晶圓W,可以卸載晶 狀態下,成爲H i g h狀態。另外,在載入時,轉主 副夾具2 3】檢測晶圓W在確認了晶圓W之載入 ,ΑΕΝΒ訊號成爲Low狀態,在卸載時,副夾具 檢測晶圓W之狀態,AENB訊號成爲Low狀態。
RGV3 —收訊High狀態之AENB訊號時, 所示般,開始由R G V 3之晶圓W的載入。即手J ,如第5 給晶圓針 運之旨意 CONT 訊 晶圓針測 示對於晶 未檢查之 器2接受 I號。 開始時, 通知手臂 由 RG V 3 針測器2 ,轉接部 ,在可以 時,副夾 _圓 W之 &部2 3之 的狀態下 2 3 ]在不 □第5圖 ,機構3 4 -20- (16) (16)1344440 進出晶圓針測器2的轉接部2 3內,將晶圓w搬運至轉接 部2 3的副夾具23】之正上方。另外,r g V 3在手臂機構 3 4之轉接部2 3內的進出動作之同時,對於晶圓針測器2 送訊PENB訊號。 晶圓針測器2依據High狀態之PEnb訊號,使轉接 部2 3的副夾具2 3 ]的真空吸附機構動作,使a E n b 2訊號 成爲Η 1 g h狀嘘’送訊給r G v 3。此處,p e n B訊號係控制 轉接部2 3之副夾具2 3 I的真空吸附機構之〇 N、〇 F F之訊 號’在載入時’係使真空吸附機構成爲〇FF之L〇w狀態 ’晶圓W在由手臂機構34被放開時,成爲使真空吸附機 構漤成Ο N之H】g li狀態’手臂機構3 4由r 〇 v 3避開,晶 圓W的載入結束後,成爲Low狀態。另外,aEN]B2訊號 係驅動控制R G V 3之手臂機構3 4及其之真空吸附機構之 5只撕,在載入時,使手臂機構3 4下降之同時,解除真空 吸附機構,由手臂機構3 4對於轉接部2 3的副夾具2 3】交 付晶圓w之時間點,變成Low狀態。 RG V ^依據來自晶圓針測器2之High狀態的AENB2 訊號,手臂機構34結束下降動作’使晶圓w交付給轉接 部23之副夾具23]之時間點,使pENB2訊號成爲High 狀態,送訊給晶圓針測器2,通知交接結束。此處, Ρ ΕΝ B 2讯5虎係顯示晶圓w之交接結束之訊號’在載入時 ,顯示由手臂機搆34對於轉接部23之晶圓w的交接結 束。 曰曰圓針測器2依據High狀態之pENB2訊號,確認轉 (17) 1344440 接部23上的晶圓W後,使AENB訊號、AENB2訊號及 L_REQ訊號之全部切換爲Low狀態,將那些訊號送訊給 R G V 3,通知晶圓W之載入結束之旨意。 在R G V 3中,依據此通知,手臂機構3 4由轉接部2 3 往RGV3避開。手臂機構34 —避開,RGV3使TR_REQ訊 號' BUSY訊號、PENB訊號、PENB2訊號及CONT訊號 都切換爲L 〇 w狀態之同時,將C Ο Μ P T訊號切換爲H i g h 狀態,將各別之訊號送訊給晶圓針測器2,通知手臂機構
3 4已經避開之旨意。 依據此通知,如第5圖所示般,晶圓針测器2使 R E A D Y訊號成爲L 〇 w狀態,送訊給R G V 3,通知第】片 之晶圓W的搬運作業結束之同時,使COM PT訊號切換爲 Low狀態,結束第]片之晶圓W的搬運作業。 在晶圓針測器2中,手臂機構2 4係由轉接部2 3之副 夾具2 3 1取得晶圓W。手臂機構2 4將晶圓W儲存在虛擬 載入口 2 3 V,準備接著之檢查。在此之間,在晶圓針測器 室2 2內也進行晶圓W之電氣特性檢查。另外,在手臂機 構2 4所取得之晶圓W原樣受到檢查之情形,則手臂機構 2 4與副夾具2 5協同動作進行晶圆W之預先校正後,如第 ]A圖所示般,晶圓W被交付給主夾具2 6,藉由校正機構 2 7而進行晶圓W之校正。之後,一面進行主夾具2 6之分 度進給,一面晶圓W與探針卡2 8之探針2 8 ]電性接觸, 進行晶圓W之電氣特性檢查。 如前述般,在晶圓針測器2中,在由副夾具2 3 1對於 -22- (18) 1344440 手臂機構2 4之晶圓W的交接結束後,依據c Ο N T訊號, 在R G V 3中’由緩衝器Β取出第2片之晶圓W,開始下一 載入工程。即在R G V 3與晶圓針測器2之間,以與第一片 之晶圓W相同之步驟’實行第二片晶圓W之交接。手臂 機構2 4以與第一片相同之要領,一取得第二片之晶圓w 時,因應需要’將此晶圓W儲存於虛擬載入口 2 3 V。當 然在R G V 3中’藉由複數之手臂同時由緩衝器B取出複數 片之晶圓W的形態也可以採用。
在晶圓針測器2之晶圓W的電氣特性檢查一結束, 手臂機構24進出主夾具2(5,取得該晶圆W,儲存在轉接 部2 3之副夾具2 3 ]或虛擬載入口 2 3 V。之後,在R G V控 制器4之控制下’ R G V 3移動於晶圓針測器2之前。R G V 3 一與晶圓針測器2面對時,轉接部2 3開始對於R G V 3之 晶圓W的交接。
如以上說明般,如依據本實施形態,藉由透過P10通 訊介面Π A、]] B之光通訊,因應晶圓針測器2之稼動狀 況,而程序控制轉接部23及手臂機構34,可以由RGV 3 連續地對於晶圓針測器2載入二片之晶圓W。藉此,可縮 短藉由R G V 3之搬運距離 '搬運時間,得以提高搬運效率 ,甚而縮短週轉時間而可提高生產效率。 在前述之搬運方法中’晶圓W係二片連續地被載入 。但是’在晶圓針測器2有檢查完畢的晶圓W時,藉由 晶圓針測器2與R G V 3之間的P I 〇通訊,可以連續地進行 卸載與載入。因此’一面參照第6圖一面說明連續進行卸 -23- (19) 1344440 載與載入之第2搬運方法。 在此搬運方法中,如第6圖之時序圖所示般|首先, 進行晶圓W之卸載後,進行晶圓W之載入。在進行晶圓 w之卸載的情形,係如第6圖所示般,R G V 3依據來自 R G V控制器4之指示,移動於特定之晶圓針測器2前, 對於晶圓針測器2,送訊Low狀態之CS_0訊號(指示載 入之訊號)及High狀態之CS_]訊號(指示卸載之訊號 )後,送訊VALID訊號。藉此,卸載模式成爲有效。
晶圓針測器2 —收訊V A LID訊號,如第6圖所示般 ,使U-REQ訊號成爲High狀態=送訊給RGV3.通知卸 載晶圓W之旨意。 如第 6圖所示般,RGV3依據 U_REQ訊號,使 TR_REQ訊號成爲High狀態,送訊給晶圓針測器2,對於 晶圓針測器2,通知可做晶圓W之搬運。 晶圓針測器2依據丁R_REQ訊號’使READY訊號成 爲High狀態,送訊給RGV3,對RGV3通知可以存取。
RGV3 —收訊READY訊號,使BUSY訊號成爲High 狀態之同時,使CONT訊號成爲High狀態’對晶圓針測 器2送訊各別之訊號。藉此,變成晶圖針測器2及r g V 3 連續進行卸載及載入之連續搬運模式。而且’依據High 狀態之CS_1訊號,卸載先於載入而實行。 如第6圖所示般,晶圓針測器2依據H i gh狀態之 B U S Y訊號,使Α ΕΝ B訊號成爲H i g h狀態’送訊給R g V 3 ,通知可以卸載之旨意。 -24 - (20) 1344440 依據此通知,在R G V 3中,手臂機構34進出於轉 部2 3內。另外,R G V 3使Ρ ΕΝ B訊號成爲H i g h狀態, 訊給R G V 3,通知可以卸載之旨意。 晶圓針測器2依據p ENIB訊號,解除上升位置之副 具2 3 1的真空吸附機構後,使A E N B 2 A 5虎成爲H i 2 h狀 ,送訊給RGV3,對RGV3通知可以卸載。 在R G V 3中,依據H i g h狀备'之A E N B 2 $ 5虎,手臂 構34上升,手臂機構3 4之手臂真空吸附晶圓W,由副 具2 3 ]卸載晶圓W。藉由手臂機構3 4之晶圓W的卸載 結束,RGV3使PENB2訊號成爲High狀態’送訊給晶 針測器2,對晶圓針測器2通知卸載了晶圓W之旨意 High狀態之PENB2訊號在卸載時’係顯示由轉接部 對於手臂機構3 4之晶圓W的卸載已經結束。 晶圆針測器2 —收訊High狀態之PENB2訊號,如 6圖所示般,依據該訊號,使轉接部23的副夾具23 1 真空吸附機構動作,確認副夾具2 3 ]上之晶圓W。在做 此確認後,使真空吸附機構成爲0 F F。晶圓針測器2藉 此確認動作,一確認晶圓W由副夾具2 3 ]被移除時, A Ε Ν Β訊號、A Ε Ν Β 2訊號及U - R E Q訊號全部成爲L 〇 w 態,將各別之訊號送訊給RGV3,對RGV3通知晶圓W 載之確認結束。 依據此通知,在R G V 3中,手臂機構3 4由轉接部 往R G V 3避開。 R G V 3如手臂機構3 4 —避開,則如第6圖所示般 接 夾 態 機 夾 圓 〇 23 弟 之 了 由 使 狀 卸 -25- 23 (21) (21)1344440 使TR_REQ訊號、BUSY訊號、PENB訊號及PENB2訊號 都成爲Low狀態之同時,使COM PT訊號成爲High狀態 ,對晶圓針測器2送訊這些訊號,對晶圓針測器2通知手 臂機構3 4之避開。 依據此通知’晶圓針測器2使R E A D Y訊號成爲L 〇 w 狀態,送訊給RGV3 » 依據此訊號’晶圓針測器2切換C S _ 0訊號、V A LI D 訊號成爲Low狀態’結束晶圓之卸載作業。 晶圓W之卸載一結束,在r 〇 V 3中,手臂機構3 4將 被卸載之晶圓W送回緩衝器b內的原來處所之同時,由 緩衝器B取出未檢查之晶圓w,成爲載入該晶圓W之態 勢。R G V 3及晶圖針測器2 一成爲載入態勢,依據與前述 之一連串的載入搬運動作相同的程序控制,由r G V 3對於 晶圓針測器2之轉接部2 3載入晶圓w。 如前述說明般’如依據本實施形態,藉由透過p丨〇通 訊介面1 1 A、] 1 B之光通訊’因應晶圓針測器2之稼動狀 況’藉由程序控制轉接部2 3及手臂機構3 4,可連續地進 行由晶圓針測器2對於R G V 3之晶圓W的卸載及由R G V 3 對於晶圓針測器2之晶圓w的載入。藉此,可縮短藉由 R G V 3之搬運距離、搬運時間,能提高搬運效率,甚而縮 短週轉時間而可提高生產效率。 接著’一面參照第7圖一面說明同時進行卸載與載入 之第3搬運方法。 在此搬運方法中,如第7圖之時序圖所示般,r G V 3 (22) (22)1344440 與晶圓針測器2之間的p i 〇通訊一開始時’ R G V 3對於晶 圓針測器2同時送訊H i g h狀態之C S _ 〇訊號及H i g h狀態 之C S _ I訊號’通知同時進行卸載及載入後,送訊v A LI D 訊號。藉此,同時搬運模式成爲有效。 晶圓針測器2 —收訊v A U D訊號時,如第7圖所示 般’同時使U — R E Q訊號及l _ R E Q訊號成爲H i g h狀態’ 送訊給R G V 3 ’通知同時進行晶圓W之卸載與載入之旨意 〇 如第7圖所示般,R G V 3同時收訊U _ R E Q訊號及 L — REQ訊號之雙方時’使TR_REQ訊號成爲High狀態· 送訊給晶圓針測器2 ’通知對於晶圓針測器2變成晶圓认 之搬運態勢。 晶圓針測器2依據T R _ R E Q訊號,使R E A D Y訊號成 爲High狀態,送訊給RG V3,對RGV3通知可以存取° RGV3 —收訊READY訊號,使BUSY訊號成爲High 狀態,使AENB訊號成爲High狀態,送訊給RGV3 ’通 知可以交接之旨意。 依據此通知,在RGV3中,手臂機構34之上下的手 臂同時進出轉接部23內之同時,下手臂341之真空 吸附機構動作,變成可以下手臂34 1卸載。此時,手臂機 構3 4之上手臂3 4 1藉由真空吸附機構而保持載入鸬之晶 圓w。接著,RGV3使PENB訊號成爲Hjgli狀態,送訊給 晶圓針測器2 ’通知可以卸載之旨意。 晶圓針測器2依據P E N B訊號,解除上升位置之0彳夾 (23) (23)1344440 具2 3 ]的真空吸附機構,成爲可卸載晶圓w之狀態後, 使A E N B 2訊號成爲H i g h狀態’送訊給R G V 3,對R G V 3 通知可以卸載。 在R G V 3中,依據H i g h狀態之A E N B 2訊號’手臂機 構3 4上升,下手臂3 4 I真空吸附晶圓w ’由副夾具2 3 1 卸載晶圓W。藉由手臂機構34之晶圓W的卸載一結束, R G V 3使P E N B 2訊號成爲H i g h狀態,送訊給晶圓針測器 2,對晶圓針測器2通知已經卸載晶圓w之旨意。 晶圓針測器2 —·收訊H i g h狀態之Ρ Ε Μ B 2訊號’如第 7圖所示般,依據該訊號’使轉接部2 3的副夾具2 3〗之 真空吸附機構動作,確認副夾具2 3 1上之晶圓w。在做了 此確認後,使真空吸附機構成爲0FF。晶圓針測器2藉由 此確認動作,一確認晶圓W被由副夾具2 3 I移除時,使 AENB訊號、AENB2訊號及U_REQ訊號全部成爲Low狀 態,將各別之訊號送訊給RGV3,對RGV3通知晶圓w卸 載之結束。 如第7圖所示般,RGV3使PENB訊號及PENB2訊號 訊號分別成爲L 〇 w狀態,將各別之訊號送訊給晶圓針測 器2。 晶圓針測器2使A E N B訊號再度切換爲H i g h狀態, 將此訊號送訊給RGV3。 RGV3依據High狀態之AENB訊號,解除手臂機構 3 4之上手臂3 4 1之真空吸附機構’使之成爲可以載入載 入用之晶圓W的狀惑。R G V 3在解除上手臂3 4 I之真空吸 (24) (24)1344440 附機構後,將P E N B訊號由L o w狀態切換爲H i g h狀態, 將此訊號送訊給晶圓針測器2,通知可以存取。 晶圓針測器2依據High狀態之PENB訊號,使轉接 部2 3之副夾具2 3丨的真空吸附機構再度動作,確認在副 夾具2 3 ]上沒有晶圓 W後,再度將A E N B 2訊號切換爲 H i g h狀態,將此訊號送訊給R G V 3。 如第7圖所示般,RGV3依據High狀態之AENB2訊 號,一面使手臂機構3 4之下手臂3 4】(保持已經卸載之 晶圓W )由晶圓針測器2往RGV3避開,一面使手臂機構 3 4下降。手臂機構3 4下降,上手臂34 1對於副夾具2 3 1 交付晶圓W後,使Ρ ΕΝ B 2訊號由L 〇 w狀態切換爲H i g h 狀態,將此訊號送訊給晶圓針測器2。 晶圓針測器 2依據 H i g h狀態之 P E N B 2訊號,將 AENB訊號、AENB2訊號及L_REQ訊號由High狀態切換 爲Low狀態,將這些訊號送訊給RGV3,通知載入結束。 在R G V 3中,依據此訊號,上手臂3 4 ]由晶圓針測器 2往RGV3避開。 之後,如第7圖所示般,RGV3使COMPT訊號成爲 H i gh狀態,送訊給晶圓針測器2,通知手臂之避開。 依據此通知,晶圓針測器2使READY訊號成爲Low 狀態,送訊給R G V 3。 RGV3依據Low狀態之READY訊號,將CS_0訊號 ' CS_]訊號' VALID訊號及COMP 丁訊號之全部切換爲 Low狀態,結束晶圆W之卸載作業及載入作業。 -29- (25) 1344440 如以上說明般,如依據本實施形態:藉由透過P 1 0通 訊介面Π A、1 1 Β之光通訊,因應晶圆針測器2之檢查狀 況,以程序控制轉接部2 3及手臂機構3 4,可不用使手臂 機構3 4 —度由晶圖針測器2避開而連續進行晶圓W之卸 載及載入。藉此,可更縮短搬運距離、搬運時間而提高搬 運效率,甚而可縮短週轉時間以提高生產效率。 接著,一面參考第8圖〜第]2圖,一面說明可縮短 晶圓針測器2與R G V 3之間的通訊時間之搬運方法。在第
8圖〜第1 2圖所示之搬運方法中,由R G V 3對於晶圓針 測器2之複數的程序控制訊號的送訊係一次進行故·可以 縮短通訊時間。此通訊模式係定義爲跳躍模式。 第S圖之時序圖係對應載入晶圓 W之情形。在此情 形下,一開始R G V 3與晶圓針測器2之間的P I 0通訊時, RGV3將CS_0訊號、TR_REQ訊號、BUSY訊號及PENB 訊號分別同時設爲High狀態,送訊給晶圆針測器2,通 知載入晶圓W之旨意後,送訊VALID訊號。藉此,載入 模式變成有效。 RGV3如將PENB2訊號以外之CS — 0訊號、TR_REQ 訊號、B U S Y訊號及Ρ ΕΝ B訊號全部同時送訊時,這些訊 號在晶圆針測器2成爲有效。藉此,R G V 3可不等待對於 來自晶圆針測器2之各訊號的響應訊號之同訊,而載入晶 圓W,通訊時間例如每一次之載入可以縮短94 0m秒以上 c 晶圓針測器2 —收訊V A L I D訊號,貝lj C S _ 0訊號、 -30 - (26) (26)1344440 丁 R — R E Q訊號、B U S Y訊號及P E N B訊號之全部在晶圆針 測器2成爲有效。而且,晶IH針測器2 —收訊VALID訊 號,則如第S圖所示般,轉接部2 3的副夾具2 3 ]之真空 吸附機構動作,之後,晶圆針測器 2使 Α ΕΝ B訊號、 AENB2訊號、READY訊號及L-REQ訊號之全部同時成爲 High狀態,送訊給RGV3。 在R G V 3中,藉此,手臂機構3 4由R G V 3進出晶圓 針測器2的轉接部2 3上,下降,對於轉接部2 3之副夾具 2 3 1交接晶圓 W。在晶圆 W之交接結束後,R G V 3將 PENB2訊誘設爲H】gh狀態:送訊給晶圓針測器2。 晶圓針測器 2依據 High狀態之 PENB2訊號,將 ΛΕΝΒ訊號、AENB2訊號、READY訊號及L — REQ訊號全 部切換爲L 〇 w狀態,將這些訊號送訊給R G V 3,通知載入 結朿。在R G V 3中,依據此訊號,手臂機構3 4由轉接部 2 3往R G V 3避開。 之後,R G V 3如第8圖所示般,使C ◦ Μ P T訊號成爲 H i gh狀態,送訊給晶圓針測器2,通知手臂之避開。 依據此通知,晶圓針測器2使READ Y訊號成爲Low 狀態,送訊給RG V3。 RGV3依據Low狀態之READY訊號,將CS_0訊號 、VALID訊號及COMPT訊號之全部切換爲Low狀態,結 束晶圆W之載入作業。 如以上說明般,如依據本實施形態,在本申請人於日 本專利特開2 0 0 2 - 2】7 2 6 3號公報所提出之被處理體的搬運 (27) (27)1344440 方法中’在由R G V 3對於晶圆針測器2載入晶圓W之情 形’藉由使用藉由跳躍模式之通訊,可縮短RGV3與晶圆 針測器2之間的通訊時間,提高通訊效率,進而縮短週轉 時間可以提高生產效率。 另外’第9圖之時序圖係對應卸載晶圓W之情形。 在此跳躍模式之情形,RGV3與晶圓針測器2之間的P】〇 通訊一開始時,RGV3將 CS—]訊號' TR_REQ訊號' BUS Y訊號及penB訊號訊號分別同時設爲High狀態,送 訊給晶圓針測器2,通知卸載晶圓 W之旨意後,送訊 V A U D訊號。藉此,¢(]載模式成爲有效。 與前述之載入的情形相同,R G V 3 —將P E N B 2訊號以 外之CS—]訊號、TR_REQ訊號、BUSY訊號及PENB訊號 全部同時送訊給晶圓針測器2時,這些訊號在晶圖針測器 2變成有效。藉此’ RGV3不用等待對於來自晶圓針測器 2之各訊號的響應訊號之通訊,可以卸載晶圓…。 即晶圓針測器2 —收訊V A L】D訊號,C S _ ]訊號、 TR — REQ訊號、BUSY訊號及PENB訊號之全部成爲有效 °而且’晶圓針測器2 —收訊V A LID訊號,如第9圖所 示般’轉接部2 3的副夾具2 3 ]在其之上升位置解除真空 吸附機構,成爲可以卸載之狀態,之後,晶圓針測器2將 AENB訊號、AENB2訊號、READ Y訊號及U-REQ訊號全 部同時設爲High狀態,送訊給RGV3。 在R G V 3中’藉此,手臂機搆3 4由R G V 3進出晶圓 針測器2之轉接部2 3上,上升,由轉接部2 3的副夾具 -32 - (28) (28)1344440 2 3】取得晶圆W。在晶圆W之取得後,r G V 3將P E N B 2 訊號設爲H i g h狀態,送訊給晶圓針測器2。 晶(11針測器2依據H i g h狀態之p E n B 2訊號,使轉接 部2 3之副夾具2 3 1的真空吸附機構動作,檢測副夾具 2 3 1上之晶圓W的有無’一確認沒有晶圓\V,將a E N B訊 號' AENB2訊號及U_REQ訊號全部切換爲L〇w狀態,將 适些訊號送訊給R G V 3,通知卸載結束。在r g V 3中,依 據這些訊號’手臂機搆3 4由2 3往R G V 3避開。 之後’如第9圖所示般,R G V 3將P E N B 2訊號由 Η】g h狀態切換爲L 〇 w狀態之同時,將c 〇 Μ P T訊號切換爲 H i g h狀態,送訊給晶圆針測器2,通知手臂之避開。 晶!S丨針測器2使R E A D Y訊號成爲l 〇 w狀態,送訊給 RGV3 » RGV3依據Low狀態之rEaDY訊號,將cs_l訊號 、V A LI D訊號及C Ο Μ P T訊號之全部切換爲L ◦你狀態,結 束晶圓W之卸載作業。 如以上說明般,如依據本實施形態,在本申請人於日 本專利特開2 002 -2 】 7 2 63號公報所提出之被處理體的搬運 方法中,在由晶圓針測器2對於RGV3卸載晶圓w之情 形,藉由使用藉由跳躍模式之通訊’可縮短RGV3與晶圓 針測器2之間的通訊時間’提高通訊效率,進而縮短週轉 時間可以提高生產效率。 另外,如第]〇圖所示般’跳躍模式也可以使用在連 續載入晶圓w之情形。在此情形下’可以使用CON T訊 (29) 1344440
號,藉由連續進行第8圖所示之搬運方法而實行。另外, 此跳躍模式在如第】1圖所示般,連續卸載、載入晶圆W 之情形,或如第1 2圖所示般,在同時卸載、載入晶圓W 之情形也可以使用。如依據這些之搬運方法,藉由透過 P10通訊介面 ΠΑ、ΠΒ之跳躍模式之光通訊,因應晶圓 針測器2之稼動狀況,藉由以更短之通訊時間而程序控制 轉接部2 3及手臂機構3 4,可由R G V 3對於晶圓針測器2 連續載入二片之晶圆W。藉此,可縮短藉由R G V 3之搬運 距離、搬運時間,提高搬運效率,甚而縮短週轉時間而提 高生產效率。 另外,在前述各實施形態中,雖就在R G V 3與晶圓針 測器2之間載入、卸載晶圓 W之情形而做說明,伹是, 前述各實施形態的搬運方法也可以使用在其他的半導體處 理設備之搬運、例如,如第1 3圖〜第1 5圖所示般,在 R G V 3與貯存器]0之間的搬運。
第]3圖係顯示對於貯存器連續載入晶圓之情形的時 序圖,第]4圖係顯示對於貯存器連續卸載、載入晶圆之 情形的時序圖,第]5圖係顯示對於貯存器連續卸載、卸 載晶圓之情形的時序圖。另外,第]A圖、第4圖雖未圖 示出,但是,在貯存器也設置與晶圓針測器2同樣之PI 0 通訊介面,在此P I 〇通訊介面與R G V 3之P I 0通訊介面之 間進行以下之通訊。 如第]3圖之時序圖所示般,在R G V 3與貯存器之間 ,開始藉由P1 0通訊介面之PI 0通訊。首先,如第]3圖 -34 - (30) 1344440 所示般,RG V3對於貯存器】0送訊Hlgh狀態之CS_0訊 號後,送訊H i g h狀態之V A L I D訊號。藉此,載入模式成 爲有效。 貯存器1 0 ___ ··收訊V A L 1 D訊號,如第1 3圖所示般, 放開貯存器1 〇之桿:成爲可載入後,使L_REQ訊號成爲 Η ! g h狀態,送訊給R G V 3,通知可以載入。
如第1 3圖所示般,RG V3 —收訊 L —REQ訊號,使 TR_REQ訊號成爲High狀態,送訊給貯存器1 0,對於貯 存器〗〇通知可搬運晶圓W之旨意。 CS —1訊號一收訊TR — REQ訊號’使READ Y訊號成爲 H i g h狀態,送訊給R G V 3,對R G V 3通知貯存器1 0可以 存取。 R G V 3 —由晶圆針測器2收訊R E A D Y訊號,如第]3 圖所示般,使BUSY訊號成爲High狀態,送訊給貯存器 】〇,對於貯存器1 〇通知開始晶圓W之搬運的旨意。另外 ,R G V 3在B U S Y訊號之送訊的同時,使C Ο N T訊號成爲 H i g h狀態,送訊給貯存器1 0,對於貯存器1 0通知爲連續 搬運模式之旨意。 貯存器〗〇 —收訊B U S Y訊號而認識搬運開始時,使 AENB訊號成爲High狀態,送訊給RGV3,通知手臂機構 34可以存取。AENB訊號在貯存器]0由RGV3收訊High 狀態之B U S Y訊號時,由貯存器1 0送訊給R G V 3。 RGV3 —收訊High狀態之AENB訊號時,如第1 3圖 所示般,手臂機構3 4進出貯存器1 0的載體內之同時, -35 - (31) 1344440 RG V3對於貯存器I 0送訊PENB訊號。 貯存器1〇依據Hlgh狀態之PENB訊號,使AENB2 訊號成爲Hlgh狀態,將此High狀態之AENB2訊號送訊 給 RGV3。 R G V 3依據來自貯存器】0之H i g h狀態的A E N B 2訊 號,手臂機構3 4結束下降動作,在將晶圓W交付給貯存 器]〇之緩衝器B內之時間點,使PEN B2訊號成爲High 狀態,送訊給貯存器】〇,通知交接結束。
貯存器1 0依據High狀態之PENB2訊號,將AENB 訊號、AENB2訊號及L-REQ訊號之全部切換爲Low狀態 ,將這些訊號送訊給R G V 3 :通知晶圓W之載入結束之旨
音 C 在R G V 3中,依據此通知,手臂機構3 4由貯存器]0 往RGV3避開。手臂機構34 —避開,RG V3將TR_REQ訊 號、BUSY訊號、PENB訊號、PENB2訊號訊號及CONT 訊號都切換爲 Low狀態之同時,將 COMPT訊號切換爲 H i gh狀態,將個別之訊號送訊給貯存器1 0,通知手臂機 構3 4已經避開之旨意。 依據此通知,貯存器]〇係如第1 3圖所示般,使 READY訊號成爲Low狀態,送訊給RGV3,通知第一片 之晶圓W的搬運作業已經結束之同時,將COMPT訊號切 換爲Low狀態,結束第一片之晶圓W的搬運作業。 接著,RGV3依據CONT訊號,由緩衝器B取出第二 片之晶圓 W,開始下一載入工程。即在R G V 3與貯存器 -36 - (32) (32)1344440 ]〇之間,以與載入第一片之晶圓W時相同的程序,進行 通訊,將第二片之晶圓W由R G V 3載入貯存器1 0。 如以上說明般,如依據本實施形態=藉由透過RGV3 與貯存器】〇間之P ] 〇通訊介面的光通訊,以程序控制貯 存器】〇及手臂機構3 4,可以由R G V 3對於貯存器】0連 續載入二片之晶圓W。藉此,可以縮短藉由R G V 3之搬運 距離、搬運時間,可以提高搬運效率,甚而可以縮短週轉 時間而提高生產效率。 接著,說明在R G V 3與貯存器1 0之間連續進行卸載 、載入之情形。在此情形下,如第]4圖闭示般:首先, 在進行晶圓W之卸載後,進行晶圓W之載入。在進行晶 圓W之卸載的情形,如第]4圖所示般,開始RGV3與貯 存器1 〇之間的P I 〇通訊。 RGV3對於貯存器]0送訊High狀態之..CS_1訊號後 ,送訊VALID訊號。藉此,卸載模式變成有效。 貯存器〗〇 —收訊V A L I D訊號時,如第]4圖所示般 ,放開貯存器1 〇之桿,成爲可以卸載後,使U_REQ訊號 成爲High狀態,送訊給RGV3,通知卸載晶圓W之旨意 〇 RGV3如第]4圖所示般,依據 U_REQ訊號,使 TR —REQ訊號成爲High狀態,送訊給貯存器1 0,對於貯 存器】〇通知晶圓W之搬運成爲可能。 貯存器]0依據TR_REQ訊號,使READY訊號成爲 High狀態,送訊給RGV3,對RGV3通知可以存取。 -37 - (33) 1344440 RGV3 —收訊 READY訊號時,使 BUSY訊號成爲 H >gh狀態之同時,使CONT訊號成爲High狀態,將個別 之訊號送訊給貯存器】〇。藉此,變成貯存器1 〇及R G V 3 連續進行卸載及載入之連續搬運模式。 貯存器]〇如第1 4圖所示般,依據 High狀態之 BUSY訊號,使AENB訊號成爲Hlgh狀態,送訊給RGV3 ,通知可以卸載之旨意。 依據此通知,在RGV3中,手臂機構34進出貯存器
1 〇之載體內。另外· RGV3使PENB訊號成爲High狀態 :送訊給貯存器】通知可以節載之旨S。 貯存器1 〇依據PENB訊號,使AENB2訊號成爲High 狀態,送訊給R G V 3,對R G V 3通知可以卸載。 在RGV3中,依據High狀態之AENB2訊號,手臂機 構3 4上升,由貯存器]0之載體內卸載晶圓W。藉由手臂 機構34之晶圓W的卸載一結束時,RGV3使PENB2訊號 成爲Hi gh狀態,送訊給貯存器】0,對貯存器]0通知已 經卸載晶圓W之旨意。 如第 ]4圖所示般,貯存器I 0依據 H i gh狀態之 PENB2訊號,使AENB訊號、AENB2訊號及U_REQ訊號 之全部成爲 Low狀態,將個別之訊號送訊給 RGV3,對 RGV3通知晶圓W之卸載的確認結束。 依據此通知,在R GV 3中,手臂機構3 4由貯存器]〇 往R G V 3避開。 R G V 3在手臂機構3 4 —避開時,如第】4圖所示般, -38- (34) (34)1344440 使TR —REQ訊號、BUSY訊號、PENB言K號及ΡΕΝΒ2訊號 都成爲Low狀態之同時,使COMPT訊號成爲High狀態 ,將這些訊號送訊給貯存器1 0,對貯存器1 0通知手臂機 構3 4之避開。 依據此通知,貯存器】〇使READY訊號成爲Low狀 態,送訊給RGV3 » 依據此訊號,R G V 3使C S __ 1訊號' V A L】D訊號切換 爲L 〇 w狀態,結束晶圓W之卸載作業。另外,已經卸載 之晶圓W被收容在R· G V 3之緩衝器B內。 接著:RG V3依據CONT訊號,由緩衝器B取出一片 之晶圓W,開始對於貯存器1 0之載入工程。在此情形, 與第I 3圖所示之載入相同的程序得以實施。 如以上說明般,如依據本實施形態,藉由透過R G V 3 與貯存器]〇之間的P I 〇通訊介面的光通訊,以程序控制 貯存器1 〇及手臂機構3 4,可以連續進行R G V 3與貯存器 1 〇之間的晶圓W之交換。藉此,可以縮短藉由RGV3之 搬運距離、搬運時間,可以提高搬運效率,甚而可以縮短 週轉時間而提高生產效率。 另外,依據第1 5圖所示之時序圖,R G V 3可由貯存 器】〇連續卸載晶圓W。 另外,本發明並不受限於前述各實施形態,可以因應 需要而適當做設計變更。例如,本實施形態之晶圓針測器 2可只在載入室加上簡單之變更,與習知相同,可以載體 單位實施檢查。另外,在前述各賀施形態中,半導體處理 -39- (35) 1344440 設備雖舉晶圓針測器2及貯存器]0爲例而做說明,但是 ,本發明可以廣泛使用在對晶圓等之被處理體施以特定處 理之處理裝置等之半導體處理設備。另外,在前述各實施 形態中,雖未談及晶圆尺寸,但是,即使是相同之尺寸( 例如,3 0 0 m m )之情形,不同尺寸(例如,3 0 0 m m與 2 0 0 m m )複數混合存在之情形,都可以使用本發明。
另外,以上說明之各搬運方法,實際上係透過軟體( 程式)所控制。控制各搬運方法之軟體一般係記憶在內藏 或連接於前述硬體要素之其一的電腦可讀取之記憶部(記 億媒體:#照第]六圖)。軟體匯集記憶在前述硬體要素 之其中一種的形態外,也可採用軟體分散記憶在複數之硬 體要素,於控制時協同動作之形態。 【圖式簡單說明】 第1 A圖係顯示本發明之被處理體的搬運系統之一實 施形態的槪略圖。 第]B圖係顯示RGV之構造槪略圖。 第2 A圖係槪略地顯示在晶圓針測器與R G V之間交接 晶圓之狀態的平面圖。 第2 B圖係顯示第2 A圖之重要部位的剖面圖。 第3圖係說明在晶圓針測器設定假想探針卡之情形的 晶圓之交接用的說明圖。 第4圖係顯示第1圖所示之搬運系統的P1 0通訊所使 用之PI◦通訊介面之構造圖。 -40 - (36) (36)1344440 第5圖係本發明之被處理體的搬運方法之一實施形態 所使用的光通訊之時序圖。 第6圖係本發明之被處理體的搬運方法之其他的實施 + 形態所使用的光通訊之時序圖。 * 第7圖係本發明之被處理體的搬運方法之進而其他的 實施形態所使用的光通訊之時序圖。 第8圖係本發明之被處理體的搬運方法之進而其他的 實施形態所使用的光通訊之時序圖。 第9圖係本發明之被處理體的搬運方法之進而其他的 ® 實施形態所使用的光通訊之時序圖。 第1 〇圖係本發明之被處理體的搬運方法之進而其他 的實施形態所使用的光通訊之時序圖。 第 Π圖係本發明之被處理體的搬運方法之進而其他 的實施形態所使用的光通訊之時序圖。 第〗2圖係本發明之被處理體的搬運方法之進而其他 的實施形態所使用的光通訊之時序圖。 第1 3圖係本發明之被處理體的搬運方法之進而其他 的實施形態所使用的光通訊之時序圖。 第1 4圖係本發明之被處理體的搬運方法之進而其他 的實施形態所使用的光通訊之時序圖。 第】5圖係本發明之被處理體的搬運方法之進而其他 的實施形態所使用的光通訊之時序圖。 ^ 【主要元件符號說明〕 -41 - (37)1344440 ] 主 電 腦 2 晶 圓 針 測 OU 3 白 動 搬 運 裝 置 4 搬 運 控 制 裝 置 5 群 控 制 αρ 6 測 試 機 7 測 試 機 主 機 8 印 r-yr 裝 置 9 印 字 +匕 ί曰 示 裝 置 i 0 貯 存 器 2 1 載 入 室 22 晶 圓 針 測 □ Π 益 室 23 轉 接 部 24 手 臂 機 構 25 副 夾 具 26 晶 圓 夾 具 2 7 校 正 機 構 2 8 探 針 卡 3 1 裝 置 本 體 3 2 緩 衝 器 載 置 部 η ^ J J 映 射 感 測 □ α 3 4 手 臂 機 構
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Claims (1)
1344440 十、申請專利範圍 第093128259號專利申請案 中文申請專利範圍修正本 民國99年10月20曰修正 1·—種被處理體的搬運方法,是針對利用特徵爲:具 備有,具有第1交接機構,及第1光耦合並列I/O通訊介 面之半導體處理裝置,及 具有第2交接機構,及第2光耦合並列I/O通訊介面 之自動搬運裝置; 前述第1交接機構與前述第2交接機構係相互之間可 各一片地連續交接被處理體, 前述第1光耦合並列I/O通訊介面與前述第2光耦合 並列I/O通訊介面係相互之間可送收訊控制前述第1交接 機構或前述第2交接機構之控制訊號的光訊號之被處理體 的搬運系統的被處理體的搬運方法,其特徵爲具備: 在前述第1交接機構與前述第2交接機構之間,可連 續地各一片交接複數的被處理體之情形,藉由前述第1光 耦合並列I/O通訊介面與前述第2光耦合並列I/O通訊介 面之間的光通訊,進行在前述自動搬運裝置與前述半導體 處理裝置之間可連續交接通知之連續交接通知工程,及 在前述第1交接機構與前述第2交接機構之間,被處 理體各一片地連續交接之連續交接工程。 在通訊指令具備跳動模式。 1344440 2 .如申請專利範圍第1項所記載之被處理體的搬運 法’其中’進而具備:在前述連續交接工程開始之際, 由前述第1光耦合並列I/O通訊介面與前述第2光耦合 列I/O通訊介面之間的光通訊,由前述自動搬運裝置對 述半導體處理裝置進行交接開始通知之交接開始通知工 ,及 在前述交接開始通知工程之後,依據前述第1交接 構之被處理體的有無,確認前述第2交接機構可否存取 述第1交接機構之存取確認工程,及 藉由前述第1光耦合並列I/O通訊介面與前述第2 耦合並列I/O通訊介面之間的光通訊,前述存取確認工 之結果由前述半導體處理裝置被通知給前述自動搬運裝 之存取確認通知工程,及 在前述存取確認通知工程之後,依據前述存取確認 程之結果,前述第2交接機構存取前述第1交接機構之 取工程。 3 .如申請專利範圍第2項所記載之被處理體的搬運 法’其中,在前述連續交接通知工程中,變成進行由前 自動搬運裝置對前述半導體處理裝置做可連續交接通知 前述連續交接通知工程與前述交接開始通知工程係 整而略微同時進行。 4.如申請專利範圍第2項或第3項所記載之被處理 的搬運方法,其中,進而具備:在前述存取工程之後, 據前述第1交接機構之被處理體的有無,確認前述第2 方 藉 並 刖 程 機 -X,*- 刖 光 程 置 工 存 方 述 y 菓 體 依 交 1344440 接機構是否可由前述第1交接機構避開之避開確認工程’ 及 藉由前述第1光耦合並列I/O通訊介面與前述第2光 耦合並列I/O通訊介面之光通訊,前述避開確認工程之結 果由前述半導體處理裝置被通知給前述自動搬運裝置之避 開確認通知工程,及 在前述避開確認通知工程之後,依據前述避開確認工 程之結果,前述第2交接機構由前述第1交接機構避開之 避開工程,及 在前述避開工程之後,藉由前述第1光耦合並列I/O 通訊介面與前述第2光耦合並列I/O通訊介面之間的光通 訊,進行由前述自動搬運裝置對前述半導體處理裝置做交 接結束通知之交接結束通知工程。 5 .如申請專利範圍第1項所記載之被處理體的搬運方 法,其中,在前述連續交接工程中,重複由前述第2交接 機構對於前述第1交接機構交接被處理體的工程。 6 .如申請專利範圍第1項所記載之被處理體的搬運方 法,其中,在前述連續交接工程中,連續進行前述第2交 接機構由前述第1交接機構取得被處理體之工程,及由前 述第2交接機構對於前述第1交接機構交付別的被處理體 之工程。 7.如申請專利範圍第1項所記載之被處理體的搬運方 法,其中’在前述連續交接工程中,同時進行前述第2交 接機構由前述第〗交接機構取得被處理體之工程,及由前 -3- 1344440 述第2交接機構對於前述第1交接機構交付別的被處理體 之工程。
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Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4698775A (en) * | 1985-05-17 | 1987-10-06 | Flexible Manufacturing Systems, Inc. | Self-contained mobile reprogrammable automation device |
US4789294A (en) * | 1985-08-30 | 1988-12-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Wafer handling apparatus and method |
JPH06120316A (ja) * | 1992-08-21 | 1994-04-28 | Fujitsu Ltd | 部品の試験方法 |
JPH0697262A (ja) * | 1992-09-11 | 1994-04-08 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体ウエハ搬送装置 |
JP3275390B2 (ja) * | 1992-10-06 | 2002-04-15 | 神鋼電機株式会社 | 可搬式密閉コンテナ流通式の自動搬送システム |
US5527390A (en) * | 1993-03-19 | 1996-06-18 | Tokyo Electron Kabushiki | Treatment system including a plurality of treatment apparatus |
JP2969034B2 (ja) * | 1993-06-18 | 1999-11-02 | 東京エレクトロン株式会社 | 搬送方法および搬送装置 |
JP3563108B2 (ja) * | 1994-05-27 | 2004-09-08 | 株式会社アドバンテスト | Icテストハンドラのデバイス搬送機構 |
WO1996029607A1 (fr) * | 1995-03-18 | 1996-09-26 | Tokyo Electron Limited | Procede et appareil de controle d'un substrat |
US5765444A (en) * | 1995-07-10 | 1998-06-16 | Kensington Laboratories, Inc. | Dual end effector, multiple link robot arm system with corner reacharound and extended reach capabilities |
KR100272252B1 (ko) * | 1997-04-17 | 2000-11-15 | 윤종용 | 웨이퍼카세트반송방법 |
JP3917777B2 (ja) * | 1999-04-12 | 2007-05-23 | 村田機械株式会社 | 光データ伝送装置 |
JP2001121461A (ja) * | 1999-10-26 | 2001-05-08 | Denso Corp | ロボットシステム |
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KR100856587B1 (ko) * | 2000-12-27 | 2008-09-03 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 자동 반송차 |
KR100640105B1 (ko) * | 2001-04-19 | 2006-10-30 | 무라타 기카이 가부시키가이샤 | 무인운반차, 무인운반차시스템 및 웨이퍼운반방법 |
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US7153079B2 (en) * | 2001-09-18 | 2006-12-26 | Murata Kikai Kabushiki Kaisha | Automated guided vehicle |
JP4201564B2 (ja) * | 2001-12-03 | 2008-12-24 | 日東電工株式会社 | 半導体ウエハ搬送方法およびこれを用いた半導体ウエハ搬送装置 |
TWI256372B (en) * | 2001-12-27 | 2006-06-11 | Tokyo Electron Ltd | Carrier system of polishing processing body and conveying method of polishing processing body |
JP4450664B2 (ja) * | 2003-06-02 | 2010-04-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び基板搬送方法 |
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