JP2003152052A - 搬送装置、半導体製造装置および搬送方法 - Google Patents

搬送装置、半導体製造装置および搬送方法

Info

Publication number
JP2003152052A
JP2003152052A JP2001344921A JP2001344921A JP2003152052A JP 2003152052 A JP2003152052 A JP 2003152052A JP 2001344921 A JP2001344921 A JP 2001344921A JP 2001344921 A JP2001344921 A JP 2001344921A JP 2003152052 A JP2003152052 A JP 2003152052A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
substrate
arm
image data
analysis
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001344921A
Other languages
English (en)
Inventor
Tomoaki Muramatsu
智明 村松
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Semiconductor Leading Edge Technologies Inc
Original Assignee
Semiconductor Leading Edge Technologies Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Semiconductor Leading Edge Technologies Inc filed Critical Semiconductor Leading Edge Technologies Inc
Priority to JP2001344921A priority Critical patent/JP2003152052A/ja
Publication of JP2003152052A publication Critical patent/JP2003152052A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Manipulator (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ウェハの搬送をより確実に行う搬送装置、こ
れを用いた半導体製造装置および搬送方法を提供する。 【解決手段】 アーム3で保持されたウェハ10を複数
のCCDカメラ7により立体的に撮像する。撮像された
ウェハ10の画像データに基づいて、アーム3上のウェ
ハ10の位置および傾きを解析する。その解析結果に基
づいて、アーム3を伸縮および回転移動させてウェハ1
0の搬送を行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明が属する技術分野】本発明は、半導体製造装置に
係り、特にウェハを搬送する搬送装置に関する。
【0002】
【従来の技術】レジスト塗布装置や現像装置等の半導体
製造装置において、アーム上にウェハを保持し、そのア
ームを回転並びに伸縮動作させることによりウェハの搬
送を行う搬送装置が用いられている。近年、ウェハの搬
送をより確実に行うため、図8に示すように、ウェハ1
0の有無を検知するウェハ有無センサ6がアーム30に
設けられている搬送装置が提案されている。アーム30
に設けられたウェハガイド4の内側に収まったウェハ1
0を、ウェハ有無センサ6が検知することにより、アー
ム30上にウェハ10が有るか否かが判別される。
【0003】しかし、図9に示すように、ウェハ10が
ウェハガイド4の内側に正常に収まっていない場合、例
えば、図9(a)に示すように、ウェハ10がスライド
してウェハガイド4側面に引っ掛かり傾いている場合
や、図9(b)に示すように、ウェハ10がウェハガイ
ド4の上面に載り上げている場合であっても、ウェハ1
0がウェハ有無センサ6の光軸6aを遮ることにより、
ウェハ10がアーム30上の正常位置に収まっていると
認識されてしまう可能性があった(後述)。図9におい
て、Aはウェハの正常な位置、Bはウェハの正常でない
位置を示している。
【0004】次に、図10を参照して、従来の搬送装置
によるウェハ搬送処理について説明する。この搬送処理
は、例えば処理部(「処理ユニット」ともいう)内に保
持された処理済みウェハを、アームで取りにいく場合の
処理である。先ず、ウェハが載っていない空のアーム3
0が伸びて処理部内に入る(ステップS41)。次に、
アーム30がさらに伸びて、リフトピン等により上方に
持ち上げられたウェハ10裏面の下方に入り込む。そし
て、アーム30が、例えば数十ミリメートル上昇する
(ステップS42)。これにより、アーム30上にウェ
ハ10が移載され保持される。次に、アーム30が縮む
(ステップS43)。これにより、ウェハ10が処理部
から搬出される。
【0005】そして、ウェハ有無センサ6がON(アク
ティブ)であるか否かを判別する(ステップS44)。
ここで、ウェハ有無センサ6がONである場合、すなわ
ちアーム30上のウェハ10が検知された場合(ステッ
プS44“YES”)は、そのまま継続してウェハ10
の搬送を行う。一方、ウェハ有無センサ6がOFFであ
る場合、すなわちアーム30上のウェハ10が検知され
なかった場合(ステップS44“NO”)は、アラーム
「アーム上ウェハ無し」を発報し(ステップS45)、
以後の搬送をストップして、オペレータの操作待ちの状
態となる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
搬送装置および搬送方法では、アーム30上のウェハ1
0の有無だけをウェハ有無センサ6によって検知してい
たため、図9のようにウェハ10がアーム30に正常に
載っていない状態でも搬送は継続して行われてしまう。
この状態でアーム30が移動した場合、ウェハ10がア
ーム30から落下してしまい、ウェハ10が割れてしま
う可能性があった。
【0007】また、熱処理(昇温、降温)を行う熱処理装
置は、装置外部から装置内(処理部内)のウェハ10の
状態を確認する手段が設けられていない。従って、装置
内でのウェハ10の有無の検出、あるいは処理部内の所
定位置にウェハが正常に保持されているかなどを確認す
ることができない。ウェハ10の姿勢が正常でない場
合、例えばウェハ10が傾いている場合やウェハ10が
上方にシフトしている場合に、アーム30が処理部内に
入ると、ウェハ10の取り損ねや、ウェハ割れを生じる
可能性がある。
【0008】従って、処理部からウェハ10を搬出した
際に、搬送アームに正常にウェハが載っていることを確
認する必要がある。また、処理部内の搬出を控えたウェ
ハの状態を確認し、搬出しても問題無いことを確認する
必要がある。
【0009】本発明は、上記従来の課題を解決するため
になされたもので、ウェハの搬送をより確実に行う搬送
装置、これを用いた半導体製造装置および搬送方法を提
供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決する為の手段】請求項1の発明に係る搬送
装置は、半導体製造装置で用いられる搬送装置であっ
て、基板を保持し、伸縮および回転移動可能なアーム
と、前記アームで保持された前記基板を立体的に撮像す
る撮像部と、前記撮像部によって撮像された前記基板の
画像データに基づいて、前記アーム上の前記基板の位置
および傾きを解析する解析部と、前記解析部の解析結果
に基づいて、前記アームを駆動制御する制御部と、を備
えたことを特徴とするものである。
【0011】請求項2の発明に係る搬送装置は、請求項
1に記載の搬送装置において、前記アーム上の正しい位
置に且つ水平に保持された基板の画像データを予め記録
する記録部を更に備え、前記解析部は、前記記録部に記
録された画像データと、前記撮像部によって撮像された
画像データとを比較することによって、前記基板の位置
および傾きを解析することを特徴とするものである。
【0012】請求項3の発明に係る搬送装置は、請求項
1又は2に記載の搬送装置において、前記撮像部は、前
記基板を側方から撮像する第1のカメラと、前記基板を
上方から撮像する第2のカメラと、前記第1のカメラで
撮像された画像データと、前記第2のカメラで撮像され
た画像データとを取り込み、前記解析部に出力するカメ
ラ制御部と、を有することを特徴とするものである。
【0013】請求項4の発明に係る搬送装置は、請求項
3に記載の搬送装置において、前記第1のカメラは、前
記半導体製造装置の処理部内で保持された基板の側面を
更に撮像し、前記解析部は、前記処理部内で保持された
前記基板の傾きを更に解析することを特徴とするもので
ある。
【0014】請求項5の発明に係る搬送装置は、請求項
1から4の何れかに記載の搬送装置において、前記アー
ム上に保持される前記基板の有無を検知するセンサを更
に備えたことを特徴とするものである。
【0015】請求項6の発明に係る半導体製造装置は、
請求項1から5の何れかに記載の搬送装置を備えたこと
を特徴とするものである。
【0016】請求項7の発明に係る搬送方法は、半導体
製造装置内での基板の搬送方法であって、処理部で所定
の処理が施された前記基板をアーム上に移載して、前記
処理部から前記基板を搬出する工程と、前記基板を搬出
した後、前記アーム上の前記基板を立体的に撮像する第
1の撮像工程と、前記第1の撮像工程で撮像された前記
基板の画像データに基づいて、前記アーム上の前記基板
の位置および傾きを解析する第1の解析工程と、を含
み、前記第1の解析工程の解析結果に基づいて、前記ア
ームを駆動制御することを特徴とするものである。
【0017】請求項8の発明に係る搬送方法は、請求項
7に記載の搬送方法において、前記第1の解析工程に先
立って、前記アーム上の正しい位置に且つ水平に保持さ
れた基板の画像データを記録する工程を更に含み、前記
第1の解析工程は、前記記録された画像データと、前記
第1の撮像工程で撮像された画像データとを比較するこ
とによって、前記基板の位置および傾きを解析すること
を特徴とするものである。
【0018】請求項9の発明に係る搬送方法は、請求項
7又は8に記載の搬送方法において、前記基板を搬出す
る工程に先立って、前記処理部内で保持された前記基板
を側方から撮像する第2の撮像工程と、前記第2の撮像
工程で撮像された前記基板の画像データに基づいて、前
記処理部内の前記基板の位置および傾きを解析する第2
の解析工程と、を更に含み、前記第2の解析工程の解析
結果に基づいて、前記アームを駆動制御することを特徴
とするものである。
【0019】請求項10の発明に係る搬送方法は、請求
項9に記載の搬送方法において、前記第2の解析工程に
先立って、前記処理部内に水平に保持された基板の画像
データを記録する工程を更に含み、前記第2の解析工程
は、前記記録された画像データと、前記第2の撮像工程
で撮像された画像データとを比較することによって、前
記基板の位置および傾きを解析することを特徴とするも
のである。
【0020】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。図中、同一または相当する
部分には同一の符号を付してその説明を簡略化ないし省
略することがある。 実施の形態1.図1は、本発明の実施の形態1による搬
送装置を説明するための図である。図2は、搬送装置に
設けられたウェハ監視機構を説明するためのブロック図
である。図1および図2において、1は基台、2(2
a,2b)はアーム3(3a,3b)を回転させるため
の主軸、3は主軸2を介して回転し、伸縮・上下動可能
なアームであって、U字型の形状を有するアームを示し
ている。また、4はアーム3に設けられたウェハガイド
(「エッジガイド」ともいう)、5はウェハガイド4裏
面に固定され、ウェハ10を支持する支持部(支持バ
ー)、6はアーム3の根元付近に設けられ、ウェハ10
が光軸を遮るか否かによりウェハ10の有無を検知する
ウェハ有無センサ、7はウェハ10を立体的に撮像する
撮像部としてのCCDカメラ、8はウェハ10上方から
ウェハ10を撮像するCCDカメラ7を固定する固定軸
を示している。CCDカメラ7は、アーム3上に保持さ
れたウェハ10を側方から撮像する第1のカメラとして
のCCDカメラと、ウェハ10を上方から撮像する第2
のカメラとしてのCCDカメラとからなる。ウェハ10
を側方から撮像するCCDカメラ7は、アーム3の先端
に設けられており、ウェハ10を上方から撮像するCC
Dカメラ7は、固定軸8に設けられている。
【0021】近年、レジスト塗布装置や現像装置等に用
いられる搬送装置は、2本以上のアーム3を備えてい
る。図1において、上方に配置されたアーム3aは、図
示しない処理部(「処理ユニット」ともいう)からウェ
ハ10を搬出するためのアームであり、下方に配置され
たアーム3bは、処理部にウェハ10を搬入するための
アームである。一般的に、アーム3bにはこれから処理
を行うウェハ10が載せられ、アーム3aにはウェハ1
0が載せられていない(空の)状態で、ウェハ搬送が開
始される(後述)。
【0022】また、11はモジュールコントローラ、1
2はメインコントローラ、13はメインオペレーション
パネル、14は画像記録部、15はCCDカメラコント
ローラを示している。
【0023】モジュールコントローラ11は、メインコ
ントローラ12と、画像記録部14と、CCDカメラコ
ントローラ15と、ウェハ有無センサ6とに接続されて
いる。モジュールコントローラ11は、ウェハ有無セン
サ6から入力される信号によりウェハ10の有無を判別
する。また、モジュールコントローラ11は、CCDカ
メラコントローラ15から入力された画像データと、画
像記録部14から読み出した画像データとを比較するこ
とによって、アーム3の正常位置にウェハ10が載って
いるか否かを判別する。具体的には、モジュールコント
ローラ11は、図3(a)に示すように、2つの画像デ
ータが一致する場合、すなわちウェハ10がアーム3上
の正しい位置に且つ水平に保持されている場合には、
「搬送可信号」をメインコントローラ12に出力する。
また、2つの画像データが一致しない場合、すなわちウ
ェハ10が傾いている場合[図3(b)参照]やウェハ
10が上方にシフトしている場合[図3(c)参照]に
は、「搬送不可信号」をメインコントローラ12に出力
する。
【0024】メインコントローラ12は、モジュールコ
ントローラ11と、メインオペレーションパネル13と
に接続されている。メインコントローラ12は、モジュ
ールコントローラ11から「搬送可信号」が入力される
と、アーム3を回転又は伸縮・上下動作させてウェハ搬
送を行う。また、モジュールコントローラ11から「搬
送不可信号」が入力されると、アーム3を停止させて、
メインオペレーションパネル13に各種のアラーム(後
述)を発報し、オペレータ(作業者)のアシストを要求
する。
【0025】メインオペレーションパネル13は、メイ
ンコントローラ12に接続されている。メインオペレー
ションパネル13は、メインコントローラ12から入力
される各種アラームを表示し、警告音を発する。
【0026】画像記録部14は、モジュールコントロー
ラ11に接続されている。画像記録部14は、アーム3
上の正しい位置にウェハ10が載った状態で、CCDカ
メラ7により撮像されたウェハ10の画像データを予め
記録しておくためのものである。ここで、記録された画
像データは、ウェハ10を側方から撮像した画像データ
と、ウェハ10を上方から撮像した画像データとからな
り、立体的な画像データである。
【0027】CCDカメラコントローラ15は、複数の
CCDカメラ7と、モジュールコントローラ11とに接
続されている。CCDカメラコントローラ15は、複数
のCCDカメラ7により撮像された画像データを取り込
み、その画像データをモジュールコントローラ11に出
力する。
【0028】次に、図4および図5を参照して、上記搬
送装置による搬送処理(以下、「第1搬送処理」とい
う)について説明する。第1搬送処理は、熱処理装置以
外の例えばレジスト塗布装置や現像装置等のような半導
体製造装置の処理部(図示省略)内にあるウェハを、搬
送装置のアームで取りにいく場合の処理である。先ず、
ウェハが載っていない空のアーム3が伸びて処理部内に
入る(ステップS11)。次に、アーム3がさらに伸び
て、リフトピン等により持ち上げられたウェハ10の裏
面の下方に入り込む。そして、アーム3が、例えば数十
ミリメートル上昇する(ステップS12)。これによ
り、アーム3上にウェハ10が移載され保持される。こ
の時、ウェハ10は、その外周よりわずか外側の位置に
設置された数箇所のウェハガイド(エッジガイド)4の
側壁に接触せず、そのウェハガイド4の下方にあるアー
ム内側(中央)に向いて突き出した支持部5上に載置さ
れる。ウェハ10の位置が少しずれた場合には、ウェハ
ガイド4の側壁に接触して調芯されることで、ウェハガ
イド4の内側にしっかりと納まり支持部5上に載置され
る。次に、アーム3が縮む(ステップS13)。これに
より、ウェハ10が処理部から搬出される。
【0029】そして、ウェハ有無センサ6がON(アク
ティブ)であるか否かを、モジュールコントローラ11
で判別する(ステップS14)。ここで、ウェハ有無セ
ンサ6がONである場合、すなわちアーム3上のウェハ
10が検知された場合(ステップS14“Yes”)、
モジュールコントローラ11の指示により、CCDカメ
ラコントローラ15はCCDカメラ7で撮像された画像
データを取り込み(ステップS15)、その画像データ
をモジュールコントローラ11に出力する。モジュール
コントローラ(解析部)11は、CCDカメラコントロ
ーラ15から入力された画像データと、画像記録部14
から読み込んだ正常位置にあるウェハ10の画像データ
とが一致するか否かを判定(解析)する(ステップS1
6)。
【0030】ステップS16の判定で、2つの画像デー
タが一致すると判定された場合(ステップS17“Ye
s”)には、モジュールコントローラ11は、ウェハ1
0がアーム3上の正しい位置に且つ水平に保持されてい
ると認識し(図3(a)参照)、メインコントローラ1
2に「搬送可信号」を出力する。メインコントローラ1
2は、アーム3を回転又は伸縮・上下動作させて、継続
してウェハ搬送を行う。また、2つの画像が一致しない
と判定された場合(ステップS17“No”)には、モ
ジュールコントローラ11は、ウェハ10が傾いている
状態(図3(b)参照)であるか、ウェハ10が上方に
シフトしている状態(図3(c)参照)であると認識
し、メインコントローラ12に「搬送不可信号(アーム
上ウェハ位置不良信号)」を出力する。メインコントロ
ーラ12は、アーム3の動作を停止するとともに、メイ
ンオペレーションパネル13にアラーム「アーム上ウェ
ハ位置不良」を発報して(ステップS18)、オペレー
タのアシストを要求する。
【0031】一方、ステップS14において、ウェハ有
無センサ6がOFFである場合、すなわちアーム3上の
ウェハ10がウェハ有無センサ6により検知されない場
合(ステップS14“No”)は、ステップS19〜ス
テップS21の処理を行う。ここで、ステップS19〜
ステップS21の内容は、上述したステップS15〜ス
テップS17と同様であるので説明を省略する。
【0032】そして、ステップS20の判定で、2つの
画像データが一致すると判定された場合(ステップS2
1“Yes”)、モジュールコントローラ11は、ウェ
ハ10が存在するがウェハ有無センサ6が故障して検知
しないと認識し、メインコントローラ12に「搬送不可
信号(ウェハセンサ不良信号)」を出力する。メインコ
ントローラ12は、アーム10の動作を停止するととも
に、メインオペレーションパネル13にアラーム「ウェ
ハセンサ不良」を発報して(ステップS22)、オペレ
ータのアシストを要求する。また、2つの画像が一致し
ないと判定された場合(ステップS21“No”)に
は、モジュールコントローラ11は、アーム3がウェハ
10を取り損なったと認識し、メインコントローラ12
に「搬送不可信号(アーム上ウェハ無し信号)」を出力
する。メインコントローラ12は、アーム3の動作を停
止するとともに、メインオペレーションパネル13にア
ラーム「アーム上ウェハ無し」を発報して(ステップS
23)、オペレータのアシストを要求する。
【0033】以上説明したように、本実施の形態1で
は、ウェハ有無センサ6による判定に加え、CCDカメ
ラ7により撮影したウェハ10の画像データと、画像記
録部14に記録しておいたウェハ10の画像データとを
比較して、ウェハ10がアーム3の正しい位置に且つ水
平に保持されているかの判定を行なうようにした。かか
る判定において、ウェハ有無センサ6の論理がアクティ
ブで、かつ比較する2つの画像データが一致すれば、ウ
ェハ10はアーム3に正常に載っていると認識され、ウ
ェハ搬送が継続して行われる。また、ウェハ有無センサ
6はアクティブであるが、2つの画像データとが一致し
ない場合は、ウェハ10がアーム3のウェハガイド4内
に正常に収まっていないと判断して、モジュールコント
ローラ11はウェハハンドリングが正常に完了しなかっ
たことをメインコントローラ12に伝え、ウェハ搬送を
停止する。すなわち、複数のCCDカメラ7でウェハ1
0を立体的に撮像することにより、ウェハ有無センサ6
だけでは検知できないウェハ10の位置・傾き等の姿勢
を検知することができる。そして、ウェハ10が傾いて
いる場合や上方にシフトしている場合には、ウェハ10
の搬送を停止するため、従来発生していたようなウェハ
の落下やそれに伴うウェハ割れを防止することができ
る。すなわち、従来のウェハ有無センサ6の誤検知とな
る要因を補うことができ、確実にウェハ10のハンドリ
ングを行うことができる。このため、確実にウェハの搬
送を行うことができる。
【0034】また、ウェハ有無センサ6によりウェハが
検知しないが、比較する2つの画像データが一致すれ
ば、ウェハ有無センサ6の不良を認識することができ
る。この場合も、ウェハ搬送が停止されるため、確実に
ウェハ搬送を行うことができる。
【0035】なお、本実施の形態1では、ウェハ10を
上方から撮像するCCDカメラ7を固定軸8に固定して
いるが、これに限らず、アーム3の根元付近に固定して
もよい。これにより、アーム3の可動範囲においてウェ
ハ10を立体的に撮像することが可能となる。
【0036】また、ウェハ有無センサ6をアーム3の根
元付近に設けているが、ウェハ有無センサ6をアーム3
の先端付近に設けてもよい。また、本実施の形態1で
は、ウェハ有無センサ6による判定と、画像データ比較
による判定とを併用しているが、画像データ比較による
判定のみを実行してもよい。
【0037】また、アーム3の形状は、本実施の形態1
のようなU字型に限られず、ブレード型であってもよ
い。また、アーム3の本数は2本に限らず、アーム3を
3本以上有する搬送装置であってもよい。
【0038】実施の形態2.本発明の実施の形態2によ
る搬送装置は、前述した実施の形態1による搬送装置と
概略同一であるから、ここでは図示並びにその詳細な説
明を省略する。なお、実施の形態1で用いた参照符号
を、以下の説明でそのまま用いることとする。
【0039】本実施の形態2において、アーム3の先端
に設けられたCCDカメラ7は、アーム3上に保持され
たウェハ10を側方から撮像するだけでなく、処理部内
に保持されたウェハ10を側方から撮像するものである
(後述)。画像記録部14は、アーム3上の正しい位置
に且つ水平ウェハ10が載った状態で、CCDカメラ7
により撮像されたウェハ10の画像データ(実施の形態
1参照)と、処理部内の正しい位置に且つ水平にウェハ
10が保持された状態で、CCDカメラ7により撮像さ
れたウェハ10の画像データと、を予め記録しておくた
めのものである。
【0040】モジュールコントローラ11は、実施の形
態1における制御に加えて、CCDカメラコントローラ
15から入力された画像データと、画像記録部14から
読み出した画像データとを比較することによって、処理
部内の正しい位置に且つ水平にウェハ10が保持されて
いるか否かを判別する。具体的には、モジュールコント
ローラ11は、図6(a)に示すように、2つの画像デ
ータが一致する場合、すなわち処理部内の正しい位置に
且つ水平にウェハ10が保持されている場合には、「搬
送可信号」をメインコントローラ12に出力する。ま
た、2つの画像データが一致しない場合、すなわちウェ
ハ10が傾いている場合[図6(b)参照]やウェハ1
0が上方にシフトしている場合[図6(c)参照]に
は、「搬送不可信号」をメインコントローラ12に出力
する。
【0041】図7を参照して、本実施の形態2による搬
送処理(以下、「第2搬送処理」という)について説明
する。第2搬送処理は、外部から処理部内のウェハの配
置状態が確認困難である熱処理装置等の半導体製造装置
において、上記処理部内に保持された処理済ウェハを、
搬送装置のアームで取りにいく場合の処理である。先
ず、ウェハ10が載っていない空のアーム3が、処理部
の入口近傍まで伸びる(ステップS31)。次に、アー
ム3先端に設けられたCCDカメラ7により、処理部内
でリフトピン等により持ち上げられて保持されたウェハ
10を側方から撮像する。そして、モジュールコントロ
ーラ11の指示により、CCDカメラコントローラ15
はCCDカメラ7で撮像された画像データを取り込み
(ステップS32)、その画像データをモジュールコン
トローラ11に出力する。モジュールコントローラ(解
析部)11は、CCDカメラコントローラ15から入力
された画像データと、画像記録部14から読み込んだ正
常位置にあるウェハ10の画像データとが一致するか否
かを判定(解析)する(ステップS33)。
【0042】ステップS33の判定で、2つの画像デー
タが一致すると判定された場合(ステップS34“Ye
s”)には、モジュールコントローラ11は、ウェハ1
0が処理部(処理ユニット)内の正しい位置に且つ水平
に保持されていると認識し(図6(a)参照)、メイン
コントローラ12に「搬送可信号」を出力する。メイン
コントローラ12は、アーム3を伸ばし、前述した「第
1搬送処理」(実施の形態1参照)を行う。また、2つ
の画像が一致しないと判定された場合(ステップS34
“No”)には、モジュールコントローラ11は、ウェ
ハ10が傾いている状態(図6(b)参照)であるか、
ウェハ10が上方にシフトしている状態(図6(c)参
照)であると認識し、メインコントローラ12に「搬送
不可信号(ユニット内ウェハ位置不良信号)」を出力す
る。メインコントローラ12は、アーム3を縮ませる
(ステップS35)。そして、メインコントローラ12
は、メインオペレーションパネル13にアラーム「ユニ
ット内ウェハ位置不良」を発報して(ステップS3
6)、オペレータのアシストを要求する。
【0043】以上説明したように、本実施の形態2で
は、外部からウェハ状態が確認困難である処理部にウェ
ハを取りに行く場合、先ず処理部に保持されたウェハ1
0を側方から撮像し、その撮像した画像データと、予め
画像記録部14に記録しておいた正常位置にあるウェハ
10の画像データとを比較することにより、ウェハ10
が処理室内の正しい位置に且つ水平に保持されているか
否かの判定を行うこととした。すなわち、複数のCCD
カメラ7でウェハ10を立体的に撮像することにより、
ウェハ有無センサ6だけでは検知できないウェハ10の
傾き等の姿勢を検知することができる。そして、ウェハ
10が傾いている場合や上方にシフトしている場合に
は、ウェハ10の搬送を停止するため、従来発生したよ
うなウェハ10の取り損ないやウェハ割れを未然に防止
することができる。すなわち、従来のウェハ有無センサ
6の誤検知となる要因を補うことができ、確実にウェハ
10のハンドリングを行うことができる。従って、確実
にウェハの搬送を行うことができる。
【0044】
【発明の効果】本発明によれば、ウェハの搬送をより確
実に行う搬送装置、これを用いた半導体製造装置および
搬送方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施の形態1による搬送装置を説明
するための図である。
【図2】 本発明の実施の形態1による搬送装置に設け
られたウェハ監視機構を説明するためのブロック図であ
る。
【図3】 本発明の実施の形態1において、画像記録部
に記録された画像データと、CCDカメラで撮像された
画像データとを比較した結果を示す図である。
【図4】 本発明の実施の形態1による搬送処理を説明
するためのフローチャートである(その1)。
【図5】 本発明の実施の形態1による搬送処理を説明
するためのフローチャートである(その2)。
【図6】 本発明の実施の形態2において、画像記録部
に記録された画像データと、CCDカメラで撮像された
画像データとを比較した結果を示す図である。
【図7】 本発明の実施の形態2による搬送処理を説明
するためのフローチャートである。
【図8】 従来の搬送装置において、アームに設けられ
たウェハ有無センサを説明するための上面図である。
【図9】 従来の搬送装置において、ウェハ有無センサ
の不具合を説明するための上面図である。
【図10】 従来の搬送処理を説明するためのフローチ
ャートである。
【符号の説明】
1 基台、 2 主軸、 3 アーム、 4 ウェハガ
イド、 5 支持部、6 ウェハ有無センサ、 7 撮
像部(CCDカメラ)、 8 固定軸、 10 基板
(ウェハ)、 11 モジュールコントローラ、 12
メインコントローラ、 13 メインオペレーション
パネル、 14 画像記録部、 15CCDカメラコン
トローラ。
フロントページの続き Fターム(参考) 3C007 AS24 BS06 CT04 CU02 KS04 KT03 KT05 KT06 KX05 MT04 NS13 5F031 CA02 FA01 FA12 GA36 GA47 GA50 JA04 JA17 JA22 JA27 JA30 JA40 MA26 MA27 PA02

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体製造装置で用いられる搬送装置で
    あって、 基板を保持し、伸縮および回転移動可能なアームと、 前記アームで保持された前記基板を立体的に撮像する撮
    像部と、 前記撮像部によって撮像された前記基板の画像データに
    基づいて、前記アーム上の前記基板の位置および傾きを
    解析する解析部と、 前記解析部の解析結果に基づいて、前記アームを駆動制
    御する制御部と、 を備えたことを特徴とする搬送装置。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の搬送装置において、 前記アーム上の正しい位置に且つ水平に保持された基板
    の画像データを記録する記録部を更に備え、 前記解析部は、前記記録部に記録された画像データと、
    前記撮像部によって撮像された画像データとを比較する
    ことによって、前記基板の位置および傾きを解析するこ
    とを特徴とする搬送装置。
  3. 【請求項3】 請求項1又は2に記載の搬送装置におい
    て、前記撮像部は、 前記基板を側方から撮像する第1のカメラと、 前記基板を上方から撮像する第2のカメラと、 前記第1のカメラで撮像された画像データと、前記第2
    のカメラで撮像された画像データとを取り込み、前記解
    析部に出力するカメラ制御部と、 を有することを特徴とする搬送装置。
  4. 【請求項4】 請求項3に記載の搬送装置において、 前記第1のカメラは、前記半導体製造装置の処理部内で
    保持された基板の側面を更に撮像し、 前記解析部は、前記処理部内で保持された前記基板の傾
    きを更に解析することを特徴とする搬送装置。
  5. 【請求項5】 請求項1から4の何れかに記載の搬送装
    置において、 前記アーム上に保持される前記基板の有無を検知するセ
    ンサを更に備えたことを特徴とする搬送装置。
  6. 【請求項6】 請求項1から5の何れかに記載の搬送装
    置を備えたことを特徴とする半導体製造装置。
  7. 【請求項7】 半導体製造装置内での基板の搬送方法で
    あって、 処理部で所定の処理が施された前記基板をアーム上に移
    載して、前記処理部から前記基板を搬出する工程と、 前記基板を搬出した後、前記アーム上の前記基板を立体
    的に撮像する第1の撮像工程と、 前記第1の撮像工程で撮像された前記基板の画像データ
    に基づいて、前記アーム上の前記基板の位置および傾き
    を解析する第1の解析工程と、を含み、 前記第1の解析工程の解析結果に基づいて、前記アーム
    を駆動制御することを特徴とする搬送方法。
  8. 【請求項8】 請求項7に記載の搬送方法において、 前記第1の解析工程に先立って、前記アーム上の正しい
    位置に且つ水平に保持された基板の画像データを記録す
    る工程を更に含み、 前記第1の解析工程は、前記記録された画像データと、
    前記第1の撮像工程で撮像された画像データとを比較す
    ることによって、前記基板の位置および傾きを解析する
    ことを特徴とする搬送方法。
  9. 【請求項9】 請求項7又は8に記載の搬送方法におい
    て、 前記基板を搬出する工程に先立って、前記処理部内で保
    持された前記基板を側方から撮像する第2の撮像工程
    と、 前記第2の撮像工程で撮像された前記基板の画像データ
    に基づいて、前記処理部内の前記基板の位置および傾き
    を解析する第2の解析工程と、 を更に含み、 前記第2の解析工程の解析結果に基づいて、前記アーム
    を駆動制御することを特徴とする搬送方法。
  10. 【請求項10】 請求項9に記載の搬送方法において、 前記第2の解析工程に先立って、前記処理部内に水平に
    保持された基板の画像データを記録する工程を更に含
    み、 前記第2の解析工程は、前記記録された画像データと、
    前記第2の撮像工程で撮像された画像データとを比較す
    ることによって、前記基板の位置および傾きを解析する
    ことを特徴とする搬送方法。
JP2001344921A 2001-11-09 2001-11-09 搬送装置、半導体製造装置および搬送方法 Pending JP2003152052A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001344921A JP2003152052A (ja) 2001-11-09 2001-11-09 搬送装置、半導体製造装置および搬送方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001344921A JP2003152052A (ja) 2001-11-09 2001-11-09 搬送装置、半導体製造装置および搬送方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003152052A true JP2003152052A (ja) 2003-05-23

Family

ID=19158365

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001344921A Pending JP2003152052A (ja) 2001-11-09 2001-11-09 搬送装置、半導体製造装置および搬送方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003152052A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100513401B1 (ko) * 2003-07-28 2005-09-09 삼성전자주식회사 반도체 웨이퍼 이송용 로봇 및 이를 이용한 웨이퍼 정렬방법
KR101191034B1 (ko) * 2009-08-19 2012-10-12 세메스 주식회사 모니터링 시스템 및 그 방법
JP2016025293A (ja) * 2014-07-24 2016-02-08 株式会社Screenホールディングス 基板保持検査方法および基板処理装置
WO2018168962A1 (ja) * 2017-03-16 2018-09-20 川崎重工業株式会社 基板搬送装置
JP2018160691A (ja) * 2018-06-26 2018-10-11 株式会社Screenホールディングス 基板保持検査方法および基板処理装置

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100513401B1 (ko) * 2003-07-28 2005-09-09 삼성전자주식회사 반도체 웨이퍼 이송용 로봇 및 이를 이용한 웨이퍼 정렬방법
KR101191034B1 (ko) * 2009-08-19 2012-10-12 세메스 주식회사 모니터링 시스템 및 그 방법
JP2016025293A (ja) * 2014-07-24 2016-02-08 株式会社Screenホールディングス 基板保持検査方法および基板処理装置
WO2018168962A1 (ja) * 2017-03-16 2018-09-20 川崎重工業株式会社 基板搬送装置
TWI673147B (zh) * 2017-03-16 2019-10-01 日商川崎重工業股份有限公司 基板搬送裝置及基板搬送裝置之運轉方法
CN110383453A (zh) * 2017-03-16 2019-10-25 川崎重工业株式会社 基板搬送装置
KR20190125436A (ko) * 2017-03-16 2019-11-06 카와사키 주코교 카부시키 카이샤 기판 반송 장치
KR102195817B1 (ko) 2017-03-16 2020-12-28 카와사키 주코교 카부시키 카이샤 기판 반송 장치
CN110383453B (zh) * 2017-03-16 2022-10-14 川崎重工业株式会社 基板搬送装置
JP2018160691A (ja) * 2018-06-26 2018-10-11 株式会社Screenホールディングス 基板保持検査方法および基板処理装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5058836B2 (ja) 処理装置、処理方法、被処理体の認識方法および記憶媒体
TWI333678B (ja)
WO2002045154A1 (fr) Robot de transfert et procédé d'inspection de substrat mince
TW201616597A (zh) 基板運送裝置、基板運送方法及記錄有用來實行該基板運送方法的程式之記錄媒體
TWI579953B (zh) 基板處理裝置及基板運送方法
TW201138007A (en) Substrate processing apparatus and method
JP5452349B2 (ja) 被処理体の搬送方法、被処理体の搬送装置、及び、プログラム
TW201448087A (zh) 基板運送裝置、基板運送方法及記憶媒體
TWI425590B (zh) 基板處理裝置及其基板搬送方法
JP7349240B2 (ja) 基板倉庫及び基板検査方法
JP2017140682A (ja) 装置
JP2005170544A (ja) 位置教示装置及びそれを備えた搬送システム
JP6377918B2 (ja) 基板損傷検出装置、その基板損傷検出装置を備えた基板搬送ロボット及び基板損傷検出方法
JPH11198068A (ja) 資材搬送装置及びこれを利用した資材搬送方法
JPH07153818A (ja) 半導体ウエハ認識装置
US7747343B2 (en) Substrate processing apparatus and substrate housing method
JP4357619B2 (ja) マルチチャンバシステム
JP2012038922A (ja) 基板搬送装置、基板搬送方法及びその基板搬送方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体
JP4342923B2 (ja) 基板処理装置および基板処理方法
JP2002002909A (ja) ストッカ用ロボットの教示確認方法
JP2003152052A (ja) 搬送装置、半導体製造装置および搬送方法
CN111788668A (zh) 基板搬运装置以及基板搬运方法
JP2001015580A (ja) ウェハカセット監視装置
EP2346073B1 (en) Prealigner
CN114783924A (zh) 晶圆搬运设备、晶圆搬运控制方法、电气设备及存储介质

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20050215

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050322

A521 Written amendment

Effective date: 20050426

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

A02 Decision of refusal

Effective date: 20050920

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20051019