TWI326157B - - Google Patents

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TWI326157B
TWI326157B TW094133560A TW94133560A TWI326157B TW I326157 B TWI326157 B TW I326157B TW 094133560 A TW094133560 A TW 094133560A TW 94133560 A TW94133560 A TW 94133560A TW I326157 B TWI326157 B TW I326157B
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Kazumasa Kohama
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Description

1326157 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於 MMIC (Monolith Microwave Integrated Circuit,單晶微波積體電路)之隨附靜電保護元件之高頻積 體電路,更詳細而言,係關於於高頻MMIC之輸入或輸出部 設置靜電保護元件,以實施靜電放電(ESD: Electric Static Discharge,除靜電)保護。 【先前技術】 於行動電話等中,使用800 MHz至2.3 GHz頻帶之高頻信 號進行通信。由於該頻率較高,故於選定使用放大發送信 號功率之功率放大器(PA)、放大接收信號之低雜訊放大器 (LNA)以及信號切換開關(SW)等裝置時,重視高頻特性, 使用GaAs等化合物半導體替代通常使用之Si半導體之情形 較多。 使用GaAs等化合物半導體之高頻積體電路,一般而言, 具有優良之高頻特性,但是ESD(靜電放電)極弱之情形較 多。其原因之一在於,其中所使用之各裝置本身,為提高 高頻特性,ESD等之雜訊極弱。又,於使用保護元件之情 形下,常因操作頻率較高,無法避免寄生電容造成之惡劣 影響,故導致無法獲取充分對策。 圖4A表示隨附先前之ESD保護元件之ESD保護電路40之 電路構成例。於1/〇(輸出入)端子42與GNG(接地)之間,連 接有ESD對策用二極體43,若係正DC(直流)偏壓,或者具 有該二極體43之正向閾值電壓(Vf)以下之RF振幅的RF信 103970-970912.doc 丄 \則°亥一極體43表現為較高阻抗,其不影響電路特性。 方面若將如ESD之較大電壓振幅之雜訊施加於1/〇(輪 出入)端子42,則超過保護二極體43之反向崩潰電壓(vb), 由此雜訊被引入GND,故可避免對電路内部(高頻電路41) 之損壞。 圖犯表示二極體之電壓一電流特性。橫軸表示施加於二 極體43之電磨,縱轴表示流經該二極體43之電流值。自該 圖顯然可知,於施加正向電壓時,電流自vf(正方向值閾值 ^壓)流動,又於施加反向電壓時,直至Vb(崩潰電壓)為止 歲乎無電流流動。然而,施加反向電壓超過Vb時,電流急 劇/爪動。其結果為二極體43之電阻(Δν/ΔΙ)變小。 於Si基板上設入保護二極體時,二極體之正極或負極可 於低電阻之基板主體側取出。另一方面,於GaAs基板上設 入如圖4A之一極體43時’因GaAs基板本身為高電阻,必須 於基板表面取出二極體之正極與負極之雙方,故構造變得 複雜’且難以發揮作為保護元件之能力。再者,為構成二 極體,使用PN接面(接合)、蕭基接面等,但該接面基本上 並非对ESD等,故難以獲得高性能ESD元件。 此外’該接面部分具有較大寄生電容,故易給高頻特性 帶來惡劣影響。 關於不具有保護元件之其他先前例之高頻積體電路5〇, 於圖5所示。圖5中’於高頻電路51之輸入端子1/〇 52連接有 DPET1C (Depletion型場效電晶體;空乏型場效電晶體)53 之汲極’其源極連接於電容器C50 (5 5)之一方端子,電容器 103970-970912.doc 1326157 C50之他方端子連接於GND(接地)。又,閘極經由電阻54連 接於控制端子(CTL3)。 此處,省略構成DFET1C (5 3)之直流偏壓之電阻,僅圖示 而頻(交流)信號之相關電路。 自CTL3經由電阻54,將基準電壓施加於DFET1C (53)之 閘極,使其執行打開/關閉動作,以作為開關而發揮作用。 將特定電壓施加於該CTL3端子,使DFET1C (53)為打開 狀態時,即使自I/O輸入端子52輸入高頻信號,因其經由 DFET1C之汲極一源極與電容器C50流動,故於高頻電路51 中未輸入南頻信號。 其次,將DFET 1C設為關閉狀態,將輸入信號供給高頻電 路5 1。於此狀態下,例如於I/O輸入端子52施加高壓雜訊或 者高壓脈衝,因D場效電晶體(DFET1C) 53通常為關閉狀 態,故DFET 1C之輸出阻抗較高,無法使脈衝電流急劇流動 於電容器C50,而是被輸入高頻電路51之輸入或輸出,其結 果破壞高頻電路51之内部元件。 下述例示,於高頻電路61之輸入端子或輸出端子設置保 護元件,用以改善圖5電路之例。圖6表示圖5所示之高頻積 體電路50添加保護二極體之其他先前例。於圖6中,於高頻 電路61之輸入端子I/O 62連接有D場效電晶體(DFET1D ;空 乏型場效電晶體)63之汲極,其源極連接於電容器C60 (67) 之一方端子,電容器C60之他方端子連接於GND。源極再連 接於二極體65之陰極,陽極連接於二極體66之陽極。二極 體66之陰極連接於GND。又D場效電晶體63之閘極經由電阻 103970-970912.doc 1326157 64連接於控制器5 (CTL5)。 將基準電壓經由電阻64,自CTL5施加於D場效電晶體63 之閘極。 於D場效電晶體63之源極與GND之間設有如下保護元 件:使用2個二極體65、66,該二極體之陽極共同連接,於 兩端配置陰極,並將一方之陰極連接於D場效電晶體1D63 之源極,將他方之陰極連接於GND。該保護元件之電氣輸 出入特性為:正向及反向輸入電壓小於電壓Vb+Vf之絕對 值時,電流不流動,成為高電阻,而大於Vb+Vf之絕對值 時,電流急劇流動,成為低電阻。 當輸入來自輸出入端子I/O (62)之高壓雜訊或者高壓脈 衝時,因D場效電晶體1D63處於浮動狀態,故汲極一源極 之間成為導通狀態。當所輸入之電壓高於二極體65、66合 計之财壓時,如上所述,二極體65、66產生崩潰,其合成 電阻值自高阻抗變為低阻抗。其結果,經由形成低電阻電 流通路之二極體65、66而對GND放電,故雜訊或者高壓脈 衝不會施加於高頻電路61。 然而,於該隨附保護二極體之高頻積體電路之例中,與 圖4同樣地,於Ga As基板上設入二極體65、66時,因Ga As 基板本身為高電阻,必須於基板表面取出二極體之正極與 負極之兩方,故構造變得複雜,又,亦難以發揮作為保護 元件之能力。再者,為構成二極體,使用PN接面、蕭基接 面等,但該接面基本上並非耐ESD等,故難以獲得高性能 ESD元件。 103970-970912.doc 1326157 再者,該接面部分具有較大寄生電容,故易給高頻特性 帶來惡劣影響。 【專利文獻1】特開平6_13862號公報 【專利文獻2】特表2000-510653號公報 [發明所欲解決之問題] 如上所述,一般地,GaAs高頻積體電路於ESD方面較弱, 其對策亦較為ϋ難。另—方面’以攜帶電話為代表之消費 用途中使用GaAs高頻積體電路之㈣亦增乡,業者期望實
現-種GaAs高頻積體電路,其當然應具有優良之高頻性 能,並且ESD耐壓亦較大。 本發明係鑒於上述課題開發而成者,其目的在於提供一 種iw附保濩兀件之高頻電路,其使用esd保護能力較高之 疋件’以使優良之高頻特性與較高之esd耐塵並存。 【發明内容】 本發明具有:高頻電路
具有輸出入端子(I/O (12)); 二及增強型場效電晶體’其於化合物半導體基板上至少 一部分與上述高頻電路形成為—體’冑出人端子之一方端 子(没極)連接於上述高頻電路之輸出人端子,他方端子(源 極)連接於第一基準電位(電源或接地),間極經由電阻連接 於第二基準電位(接地)。 :發明具有:高頻電路’其具有輸出入端子;空乏型場 ':體,其於化合物半導體基板上,至少一部分與上述 ,.+- ^ ^ 构】®入端子之—方端子連接於 Ή入端子’閘極經由第_電阻連接於第二基準電 103970-970912.doc 1326157
=罢增強型場效電晶體,其形成於化合物半導體基板上, -置於上述高頻電路’第二輸出入端子之一方端子連接於 :述空乏型場效電晶體之上述第一輸出入端子之他方端 ,第二輸出入端子之他方端子連接於第一基準電位,閘 極經由第二電阻連接於上述第一基準電位;以及第一電容 器,其連接上述增強型場效電晶體之第二輸入端子之一方 端子與上述第-基準電位之間。本發明具有:外部端子; 具有輸出入端子之高頻電路;第一電容器其連接上述外 部端子與上述高頻電路之輸出入端子之間;以及增強型場 效電晶體,其形成於化合物半導體基板上,設置於上述高 ㈣路’輪出入端子之一方端子連接於上述外部端子,他 方端子連接於上述高頻電路之輸出入端子之間,閘極經由 電阻連接於第一基準電位。 β本發明於高頻電路之輸出入端子具有增強型場效電晶體 (場效電曰曰體),當自外部輸入雜訊或者高虔脈衝時,使增強 型場效電晶體執行崩潰動作,降低其阻抗,藉此使雜訊或 者高歷:脈衝放電。 本發明具有:化合物半導體基m型場效電晶體, 其氣作於上述化合物半導體基板上;高頻電路,其製作於 t述化合物半導體基板上,一部分具有上述空乏型場效電 晶體;輸出入端子;增強型場效電晶體,其製作於上述化 。物半導體基板上,將汲極或源極連接於上述高頻電路, 而將未連接於上述高頻電路之源極或汲極連接於上述輸出 入端子;第一電位,其低於上述高頻電路與上述增強型場 103970-970912.doc 1326157 效電晶體之間之電位,以及電阻,其製作於上述化合物半 導體基板上,連接於上述增強型場效電晶體之閘極與上述 第一電位之間。 上述空乏型場效電晶體亦可具有複數個串聯之空乏型場 效電晶體而成。 本發明具有:化合物半導體基板;場效電晶體,其製作 於上述化合物半導體基板上;高頻電路,其製作於上述化 合物半導體基板上,一部分具有上述場效電晶體;增強型 場效電晶體,其製作於上述化合物半導體基板上,將汲極 或源極連接於上述高頻電路,而將未連接於上述高頻電路 之源極或汲極接地;以及電阻,其製作於上述化合物半導 體基板上,連接於上述增強型場效電晶體之閘極與接地之 間,且進一步具有電容器,其製作於上述化合物半導體基 板上’並聯於上述場效電晶體之汲極與源極之間。 上述場效電晶體的部分亦可具有複數個串聯之場效電晶 體而成。 本發明具有:化合物半導體基板;第一場效電晶體,其 製作於上述化合物半導體基板上;高頻電路,其製作於上 述化合物半導體基板上,一部分具有上述第一場效電晶 體,開關用第二場效電晶體,其製作於上述化合物半導體 基板上’將汲極或源極連接於上述高頻電路,第一控制信 號,其用以控制上述第二場效電晶體,第一電阻,其一方 連接於上述第二場效電晶體之閘極’對他方施加上述第一 控制彳s號;增強型場效電晶體,其將汲極或源極連接於上 103970-970912.doc 1326157 述第二場效電晶體之未連接於上述高頻電路之汲極或源 極,將未連接於上述第二場效電晶體之側之汲極或源極接 地,以及第二電阻,其製作於上述化合物半導體基板上, 連接於上述增強型場效電晶體之閘極與上述接地之間;上 述增強型場效電晶體部分可具有複數個串聯之增強型場效 電晶體。[發明之效果] 本發明之隨附靜電保護元件之高頻電路,於將E場效電晶 體(增強型場效電晶體)作為保護元件而使用時,其構造與高 頻電路中使用之D場效電晶體(空乏型場效電晶體)或者e場 效電晶體相同,或大致相同,故於GaAs上設入製程時,可 添加最小限度之步驟而製作。又,如同二極體型保護元件, ESD荨雜訊未通過接面,故保護元件本身之能力與耐塵優 良。再者’原本其與南頻電路内所使用之場效電晶體係同 樣之構造,故寄生電容較小,給本來電路所帶來之惡劣影 響亦較小。 【實施方式】 圖1表示隨附靜電保護元件之高頻積體電路(電路)之實施 形態例。於圖1A中’輸出入端子"。12連接於高頻電路^, 且連接於E場效電晶體(增強型場效電晶體)丨(13)之汲極。源 極連接於GND(接地)’且閘極經由電阻ri (14)連接於GND。 該E場效電晶體(EFET1) 13,其與高頻電路η之元件,例 如:接收信號用RF放大器之場效電晶體;mix等;或者發 送4§號用場效電晶體等形成於同一基板上。 圖1B表示E場效電晶體13之閘極為〇v時,源極接地之£場 103970-970912.doc 1326157 效電晶體之電氣特性。橫軸表示Vg(閘極一源極間之電 壓),縱軸表示汲極電流Ids。當Vg為Vp(夾止電壓)以下時, 電流不流動,其為高阻抗,當Vg為vp以上時,汲極電流Ids 開始流動’結果成為低阻抗。 另一方面,於Vds施加負電壓,小於崩潰電壓(Vb)時汲 極電k不ί;||_動,其為南阻抗狀態β然而,當負電壓大於Vb 之絕對值時,汲極電流Ids開始急劇流動,其成為低阻抗。 E場效電晶體13係增強(Enhancement,增強)型,其閑極 經由電阻R1 (14)偏壓於GND,故為關閉狀態。因此,於1/〇 端子12正偏壓時,或者輸入小振幅RF信號時,E場效電晶 體1本身表現為高阻抗。 另一方面,當如同ESD之電壓振幅較大之雜訊等進入 時’該雜sfl位準超過E場效電晶體1 3之耐壓,e場效電晶體 13成為低阻抗狀態’而使雜訊引入gnd,故不會對高頻電 路11内部造成破壞。於將E場效電晶體作為保護元件而使用 時’該E場效電晶體13之構造’其與高頻電路丨丨中所使用之 D場效電晶體或者E場效電晶體相同,或大致相同,故於 GaAs上設入製程中,可添加最小限度之步驟而製作。又, 如同二極體型保護元件,ESD等雜訊未通過接面,故保護 元件本身之能力與耐壓優良。再者,原本其與高頻電路内 所使用之場效電晶體為同樣構造,故寄生電容較小,給本 來電路所帶來之惡劣影響亦較小。 至此’對咼頻電路Π之輸入端子側加以說明,但亦同樣 地適用於輸出端子側。再者,增強型場效電晶體或空乏型 103970-970912.doc 1326157 場效電晶體可由MESFET、閘極接合型FET以及HEMT等而 構成。 亦可使前述高頻積體電路進一步具備並聯連接於該Ε場 效電晶體13的輸出入端子間之電容器。 亦可使Ε場效電晶體為藉由複數個Ε場效電晶體連接而成 者。 圖2表示隨附靜電保護元件之高頻積體電路20之其他實 施形態例。於圖2中,於高頻電路2 1之輸入端子I/O 22連接 D場效電晶體(DFET1A ;空乏型場效電晶體)23之汲極,其 閘極連接於電阻24之一方端子,他方端子連接於控制端子 (CTL1)。又,源極連接於Ε場效電晶體(EFET1A ;增強場效 電晶體)25之汲極,Ε場效電晶體之源極連接於GND,又閘 極亦經由電阻R1 (26)連接於GND。Ε場效電晶體25之汲極 連接於電容器C20之一方端子,他方端子連接於GND。 該Ε場效電晶體25與高頻電路21之元件、例如接收信號用 RF放大器之場效電晶體、MIX等、或者發送信號用場效電 晶體等形成於同一基板上。 此處,省略D場效電晶體23之DC偏壓,僅圖示高頻電路。 D場效電晶體23係藉由將控制信號施加於CTL1,而打開/ 關閉之信號切換用開關電晶體。又,藉由高頻旁路用C20 (27)與E場效電晶體25,D場效電晶體23直流隔離GND電 位,將D場效電晶體23設定為適當偏壓。 經由電阻R21將控制信號(電壓)供給D場效電晶體23之閘 極時,D場效電晶體23成為ON動作狀態,自輸入端子I/O 22 103970-970912.doc • 14- 1326157 所輸入之高頻信號’其通過D場效電晶體23之汲極_源極, 並經由電容β C20 (27)而於接地流動。其結果,高頻輸入作 號未輸入高頻電路21。即,作為開關用電體之d場效電晶體 23打開時,該高頻積體電路20為關閉之狀態,高頻電路21 中無信號輸入。 其次說明:開關用電晶體之D場效電晶體23於關閉狀態 下,當高頻積體電路20為打開狀態時,將信號輸入高頻電 路21,此時’自輸入端子I/O 22輸入高壓雜訊或高壓脈衝時 之動作。 即’高頻電路21處於動作狀態時,自外部經由輸入端子 I/O 22施加向壓雜訊或高壓脈衝,此情形下,於未自ctl 1 施加控制電壓之狀態時,D場效電晶體23之閘極成為浮動狀 態’但將尚壓施加於沒極之狀癌時則導通,故高廢施加於Ε 場效電晶體25。當該施加電壓為Ε場效電晶體25之耐壓以上 時’即當為崩潰電壓以上時,汲極一源極間之電阻急劇減 小,自輸入端子I/O 22輸入之高壓雜訊或高壓脈衝所產生之 電荷(電流)’經由該Ε場效電晶體25而引入GND。 其結果’因ifj壓雜訊或商壓脈衝並未流動於高頻電路 2 1,而是經由開關用電晶體之D場效電晶體23與靜電保護用 電晶體之E場效電晶體25,而流動於GND。因此,設置於高 頻電路21内之電晶體之主動元件或電容器等被動元件未遭 破壞。 並且,自輸入端子1/0 22輸入通常之輪入信號時,D場效 電晶體23為關閉狀態,且保護元件場效電晶體25亦為關 103970-970912.doc 1326157
A r ' 第094133560號專利申請案 '中文說明書替換頁(98年12月) 閉(未崩潰)狀態,故該等阻抗高於先前之保護二極體,因此 於高頻電路2 1之輸入側不會使高頻特性劣化,而可維持更 優良之頻率特性,其優於先前使用二極體作為保護元件之 南頻積體電路。 至此,對高頻電路21之輸入端子側加以說明,但亦可同 樣適用於輸出端子側。再者,增強型場效電晶體或空乏型 場效電晶體,可以MESFET、閘極接合型FET、HEMT等而 構成。 亦可使上述高頻積體電路進一步具有第二電容器,該第 二電容器並聯於上述D場效電晶體或E場效電晶體之輸出 入端子之間。 亦可使上述E場效電晶體為藉以複數個E場效電晶體連接 而成者。 圖3表示使用EFET1B (34)作為保護元件之高頻積體電路 3 0之其他實施形態例。於圖3中,輸出入端子I/O 32連接於 電容器C30 (33)之一方端子,該電容器C30 (33)之他方端子 連接於高頻電路31之輸入或輸出端子。又,於輸出入端子 1/03 2連接有E場效電晶體(EFET1B) 34之源極(或汲極),於 電容器C30 (33)之他方之端子連接汲極(或源極)。此外閘極 經由電阻R31(35)連接於GND。 該E場效電晶體34與高頻電路3 1之元件、例如接收信號用 RF放大器之場效電晶體、MIX等、或者發送信號用場效電 晶體等形成於同一基板上。 連接於輸出入端子I/O 32與高頻電路31之輸出入之間的 103970-981230.DOC -16- 1326157 電容器C30 (33)之作用在於,例如隔離積體電路内部之高頻 電路31與I/O端子(3 2)外之偏壓(例如I/O (32)外側偏壓於 GND)。通常,GaAs上所製作之電容耐ESD性較弱,於輸入 ESD時,較多是該電容器C3 0 (3 3)先於内部而遭受破壞。另 一方面,於該例中,將E場效電晶體34並聯於電容器C30, 藉由電阻R31(3 5)將其閘極端子偏壓於GND,故E場效電晶 體34保持關閉狀態,高頻電路(3 1)側則可施加適當之偏壓。 於通常動作中,自輸入端子I/O 32輸入高頻信號時,該信 號經由電容器C30 (33)而輸入高頻電路31。作為該保護元件 之E場效電晶體34於關閉時,輸出入阻抗較高,又寄生電容 亦小,故高頻電路3 1輸入或輸出之高頻特性取決於電容器 C30 (33)之電容值。 其次,當自I/O端子32輸入高壓雜訊或高壓脈衝,使施加 於E場效電晶體34之電壓為崩潰電壓以上時’源極一汲極之 間成為低阻抗,故高壓雜訊或高壓脈衝通過E場效電晶體34 而不通過電容器C30 (33)。 因此,可防止破壞電容器C3 0 (3 3)。ESD,其於該電容器 C30 (33)與E場效電晶體34之部分,一部分經反射,進而於 高頻電路(31)内部採取對策等,可防止ESD破壞。 至此,對於高頻電路3 1之輸入端子侧加以說明,但亦可 同樣適用於輸出端子側。進而,增強型場效電晶體或空乏 型場效電晶體可藉以MESFET、閘極接合型FET、HEMT等 構成。 此外,作為其他實施形態例,於圖3中,可於電容器C30 103970-970912.doc 1326157 、 第094133560號專利申請案 ‘中文說明書替換頁(98年12月) - (33)與高頻電路31之間,例如設置圖1或圖2所示之ESD保護 — 電路,不僅可保護電容器C30 (33),更可保護上述高頻電路 31 ° 亦可使上述高頻積體電路進一步具有第二電容器,該第 二電容器並聯於上述E場效電晶體之輸出入端子之間。 亦可使上述E電晶體為藉由複數個E場效電晶體連接而成 者。 以此,於圖1至圖3之實施形態例中,將用於ESD之保護 元件,例如與高頻電路積體電路之一部分形成於同一 GaAs 基板上,減少GaAs高頻積體電路之製造過程中之添加步 驟,並設置較高ESD保護能力,且非常簡單之E場效電晶體 型保護元件,藉此可實現先前難以實現之優良高頻特性與 較高ESD耐壓之並存。 表1表示ESD之測定結果。作為ESD評價方法,具有機械 模式(Machine Model)與人體模式(Human Body Model)等。 φ 機械模式係由電子工業會標準EIA/JESD 22-Α115-Α等而將 其標準化,並將帶有靜電之機械裝置接觸元件之引線端子 等時產生之靜電應力模式化。 又,人體模式係由例如電子工業會標準EIA/JESD22-A114 而將其標準化,將帶有靜電之人接觸元件之引線端子等時 產生於元件之靜電應力模式化。 ESD評價裝置包含如下部分:充電電路,其串聯直流變 壓電源與充電電阻;充電用電容器;切換開關,其設於充 電電路與放電電路之間,並選擇其中任何一方;以及放電 103970-981230.DOC -18- 1326157 電路’其蓄積於充電用電容器之電荷,經由開關而施加於 放電用電阻與被測定元件(DlJT)。 例如於人體模式之情形時,ESD評價裝置之充電電阻、 放電用電阻與充電用電容器之值,分別規定為1 ΜΩ、1.5 Ι^Ω、1〇〇 pF。 又’一般地’被測定元件於可裝卸地安裝於插口等狀態 下而被測定。 評價方法,其將直流變壓電源設定為測定(充電)電壓,切 換開關將其連接於充電電阻側,並對充電用電容器充電。 其次’切換開關將其連接於放電電阻,將蓄積於充電用電 容器之電荷經由放電用電阻施加於被測定元件。與此同 時,檢查被測定元件之電氣特性之劣化。使用微型電腦等 自動地對直流變壓電源之電壓任意改變充電電壓,進行同 樣之測疋’並以所獲得之結果為基礎進行演算處理,檢查 被測定元件隨著施加電壓之劣化狀況。 下述,隨著保護元件之有無對ESD強度加以比較。圖5所 示先前例之無保護元件的高頻積體電路,對應於本發明之 圖2之實施例的向頻積體電路,成為無ESd保護用E場效電 晶體25之結構。圖6係使用二極體型保護元件之例。圖2、5、 6之任一者皆係使用GaAs場效電晶體之開關微波積 體電路),表示分別以機械模式(300 pF,〇Ω之條件)與人體 帶電模式(100 PF,1500 Ω之條件)對各MMIC進行ESD破壞 強度試驗之結果。 表1表示:對於電路構成相同且無保護二極體之圖隨 I03970-970912.doc -19· 1326157 附保護二極體之圖6;繼而隨附場效電晶體保護元件之高頻 積體電路之實施形態例的圖2,機械模式(Machine Model) 與人體模式(Human Body Model)之測定結果0 於機械模式時,圖5所示之無保護元件之高頻積體電路的 ESD強度為150 v,圖6所示之隨附二極體保護元件之高頻 積體電路的ESD強度為200 V、250 V,圖2所示之隨附E場 效電晶體保護元件之高頻積體電路為3〇〇 V。 即,獲得如下結果‘·隨附E場效電晶體保護元件之高頻積 體電路與無保護二極體時相比,具有約2倍之ESD強度,又 即使與隨附二極體保護時相比,ESD強度亦較高,為5〇至 100 V以上。 又,於人體帶電模式時,圖5所示之無保護元件之高頻積 體電路的ESD強度為50〇¥與1〇〇〇¥,圖6所示之隨附二極體 保護元件之高頻積體電路的ESD強度為1〇〇〇 v、i5〇〇 v,圖 2所不之隨附E場效電晶體保護元件之高頻積體電路為丨5〇〇 V與2000 V。其結果如下:隨附E場效電晶體保護元件之高 頻積體電路與無保護二極體之高頻積體電路相比,具有約2 至3倍之ESD強度,又即使與隨附二極體保護之高頻積體電 路相比,ESD強度亦較高,約為i 5倍以上。 顯然,本發明中圖2之電路,將圖6之二極體保護元件型 以及圖5之無保護元件之情形相比,可確認其具有較高之 ESD耐壓,以及其優越性。 103970-9709I2.doc •20- 1326157 [表i] ESD強度實驗結果
E場效電晶體型 保護元件 圖2之例 無保護元件 圖5之例 二極體型保護 元件 圖6之例 機械模式 GND基準+施加 300 V 150 V 200 V 機械模式 GND基準+施加 300 V 150 V 250 V 人體帶電模式 GND基準+施加 1500 V 500 V 1000 V 人體帶電模式 GND基準+施加 2000 V 1000 V 1500 V 以此,本高頻積體電路於高頻積體電路之輸出入端子具 有增強型場效電晶體,當自外部輸入雜訊或高壓脈衝時, 使增強型場效電晶體執行崩潰動作,降低其阻抗,藉此使 雜訊或高壓脈衝放電。 不僅增強型,即使使用空乏型場效電晶體亦可保護高頻 電路之DC耦合電容器。再者藉由組合該等元件,而可提高 高頻電路之輸入或輸出之ESD強度。 又,將作為保護元件之增強型場效電晶體與至少高頻電 路之一部分形成於同一 GaAs基板,由此可簡化結構。又, 其與接面二極體保護元件相比,亦可減小寄生電容,故可 提高ESD耐壓,並且亦可維持優良之高頻特性。 [產業上之可利用性] 103970-970912.doc 21 1326157 本發明之高頻積體電路可於高頻MMIC之輸入或輸出部 設置靜電保護元件,以提高靜電放電(ESD ·· Electric static Discharge)保護,故可適用於高頻無線通信裝置之前端。 【圖式簡單說明】 圖1A、1B係表示本發明之隨附靜電保護元件之高頻積體 電路的整體電路構成之電路圖。 圖2係表示本發明之隨附靜電保護元件之高頻積體電路 的整體電路構成之電路圖。 φ 圖3係表示本發明之隨附靜電保護元件之高頻積體電路 的整體電路構成之電路圖。 圖4A、4B係表示先前例之使用保護二極體之隨附靜電保 °蔓元件的南頻積體電路的整體電路構成之電路圖。 圖5係表示先前例之無靜電保護元件之高頻積體電路的 整體電路構成之電路圖。 圖6係表示先前例之使用複數個二極體之具有靜電保護 元件的高頻積體電路的整體電路構成之電路圖。 • 【主要元件符號說明】 10,20 ’ 30,40,60 隨附靜電保護元件之高頻積體電路 11 ’ 21 ’ 31 ’ 41,51 ’ 61 高頻電路 12 , 22 ’ 42 , 52 , 62 13 , 25 , 24 23 , 53 , 63 21 ’ 31 ’ 54 , 64 27 , 33 ’ 55 , 67 輸出入端子(外部端子) E場效電晶體(增強型場效電晶體) D場效電晶體(空乏型場效電晶體) 電阻 電容器 43,65 ’ 66 Diode(二極體) 103970-970912.doc -22·

Claims (1)

1326157 —, 第094133560號專利申請案 '中文申請專利範圍替換本(98年12月) - 十、申請專利範圍: - 1. 一種高頻積體電路,其包含: 高頻電路,其包含輸出入端子;以及 增強型場效電晶體,其於化合物半導體基板上至少一 部分與上述高頻電路一體地形成,輸出入端子之一方端 子連接於上述高頻電路之輸出入端子,他方端子連接於 第一基準電位,閘極經由電阻連接於第二基準電位。 2. 如請求項1之南頻積體電路’其中上述南頻積體電路進而 ® 包含電容器,該電容器並聯於上述增強型場效電晶體之 輸出入端子之間。 3. 如請求項1之高頻積體電路,其中上述化合物半導體基板 為包含GaAs之基板。 4. 如請求項1之高頻積體電路,其中上述增強型場效電晶體 為 HEMT。 5. 如請求項1之高頻積體電路,其中上述增強型場效電晶體 ^ 藉以複數個增強型場效電晶體而連接。 6. 一種高頻積體電路,其包含: 高頻電路,其包含輸出入端子; 空乏型場效電晶體,其於化合物半導體基板上至少一 部分與上述高頻電路一體地形成,其源極或汲極之一方 端子連接於上述輸出入端子,閘極介以第一電阻連接於 控制電壓; 增強型場效電晶體,其形成於化合物半導體基板上, 設置於上述高頻電路,其源極或汲極之一方端子連接於 103970-981230.DOC 1326157 上述空乏型場效電晶體之上述源極或汲極之他方端子, 其源極或汲極之他方端子連接於第一基準電位,閘極經 由第二電阻連接於上述第一基準電位;以及 第一電容器,其連接於上述增強型場效電晶體之源極 或汲極之一方端子與上述第一基準電位之間。 7. 如請求項6之高頻積體電路,其中上述高頻積體電路進而 包含第二電容器,該第二電容器並聯於上述空乏型場效 電晶體或上述增強型場效電晶體之輸出入端子之間。 8. 如請求項6之高頻積體電路,其中上述化合物半導體基板 為包含GaAs之基板。 9. 如請求項6之向頻積體電路’其中上述增強型場效電晶體 為 HEMT。 1 0.如請求項6之高頻積體電路,其中上述增強型場效電晶體 藉以複數個增強型場效電晶體而連接。 11. 一種高頻積體電路,其包含: 外部端子; 高頻電路,其包含輸出入端子; 第一電容器,其連接於上述外部端子與上述高頻電路 之輸出入端子之間;以及 增強型場效電晶體,其形成於化合物半導體基板上, 設置於上述高頻電路,輸出入端子之一方端子連接於上 述外部端子,他方端子連接於上述高頻電路之輸出入端 子,閘極經由電阻連接於第一基準電位。 12. 如請求項11之高頻積體電路,其中上述高頻積體電路進 103970-981230.DOC 1326157 而包含第二電容器,該電容 晶體之輸出入端子之間。 13·如請求項11之高頻積體電路 板為包含GaAs之基板》 14.如請求項11之高頻積體電路 體為HEMT。 器並聯於上述增強型場效電 ’其中上述化合物半導體基 ’其中上述增強型場效電晶 15.如請求項11之高頻積體雷 m从 路,其中上述增強型場效電晶
-猎:複數個增強型場效電晶體而連接。 16· —種高頻積體電路,其包含: 化合物半導體基板; 空乏Μ效f晶體’其製作於上述化合物半導體基板 , η頻電路,其製作於上述化合物半導體基板上,一部 为包含上述空乏型場效電晶體; 輸出入端子; 增強型場效電晶體,其製作於上述化合物半導體基板 上’將㈣或源極連接於上述高頻電路,而將未連接於 上述高頻電路之源極或沒極連接於上述輸出人端子;以 電阻,其製作於上述化合物半導體基板上,連接於上 述增強型場效電晶體之間極與第—電位之間,該第一電 位低於上述高頻電路與上述增強型場效電晶體之間之電 .如請求項16之高頻積體電路,其中上述化合物半導體係 103970-981230.DOC 1326157 GaAs。 18. 如請求項16之高頻積體電路,其中上述高頻積體電路進 而包含電容器,其製作於上述化合物半導體基板上,並 聯於上述增強型場效電晶體之汲極與源極之間。 19. 如請求項16之高頻積體電路,其中上述空乏型場效電晶 體與上述增強型場效電晶體,係閘極接合型閘極場效電 晶體。 20. 如請求項16之高頻積體電路,其中上述空乏型場效電晶 體與上述增強型場效電晶體,係MES場效電晶體。 2 1,如請求項1 6之高頻積體電路,其中上述空乏型場效電晶 體與上述增強型場效電晶體係HEMT。 22. 如請求項16之高頻積體電路,其中上述空乏型場效電晶 體包含複數個串聯之空乏型場效電晶體。 23. —種高頻積體電路,其包含: 化合物半導體基板; 場效電晶體,其製作於上述化合物半導體基板上; 高頻電路,其製作於上述化合物半導體基板上,一部 分包含上述場效電晶體; 增強型場效電晶體,其製作於上述化合物半導體基板 上,將汲極或源極連接於上述高頻電路,而將未連接於 上述高頻電路之源極或汲極接地;以及 電阻,其製作於上述化合物半導體基板上,連接於上 述增強型場效電晶體之閘極與接地之間。 24. 如請求項23之高頻積體電路,其中上述場效電晶體係增 103970-981230.DOC 1326157 強型場效電晶體或空乏型場效電晶體。 25. 如請求項23之高頻積體電路,其中上述化合物半導體係 GaAs 〇 26. 如請求項23之高頻積體電路,其中上述高頻積體電路進 而包含電容器,其製作於上述化合物半導體基板上,並 聯於上述場效電晶體之汲極與源極之間。 27. 如請求項23之高頻積體電路,其中上述場效電晶體與增 強型場效電晶體係閘極接合型場效電晶體。 28. 如請求項23之高頻積體電路,其中上述場效電晶體與增 強型場效電晶體係MES場效電晶體。 29. 如請求項23之高頻積體電路,其中上述場效電晶體與增 強型場效電晶體係HEMT。 3 0.如請求項23之高頻積體電路,其中上述場效電晶體部分 包含複數個串聯之場效電晶體。 31. —種高頻積體電路,其包含: 化合物半導體基板; 第一場效電晶體,其製作於上述化合物半導體基板上; 高頻電路,其製作於上述化合物半導體基板上,一部 分包含上述第一場效電晶體; 開關用第二場效電晶體,其製作於上述化合物半導體 基板上,將汲極或源極連接於上述高頻電路; 第一控制信號,其用以控制上述第二場效電晶體; 第一電阻,其一方連接於上述第二場效電晶體之閘 極,對他方施加上述第一控制信號; 103970*981230.DOC 1326157 增強型場效電晶體,其將汲極或源極連接於上述第二 場效電晶體之未連接於上述高頻電路之汲極或源極,將 未連接於上述第二場效電晶體之側之汲極或源極接地; 以及 第二電阻,其製作於上述化合物半導體基板上,連接 於上述增強型場效電晶體之閘極與上述接地之間。 3 2.如請求項31之高頻積體電路,其中上述第一與第二場效 電晶體係空乏型場效電晶體或增強型場效電晶體。 3 3.如請求項3 1之高頻積體電路,其中上述化合物半導體係 GaAs。 3 4.如請求項31之高頻積體電路,其中上述高頻積體電路進 而包含電容器,其製作於上述化合物半導體基板上,且 並聯於上述增強型場效電晶體之汲極與源極之間。 3 5.如請求項3 1之高頻積體電路,其中上述第一場效電晶體 與增強型場效電晶體係閘極接合型場效電晶體。 3 6.如請求項3 1之高頻積體電路,其中上述第一場效電晶體 與增強型場效電晶體係MES場效電晶體。 3 7.如請求項3 1之高頻積體電路,其中上述第一場效電晶體 與增強型場效電晶體係HEMT。 3 8.如請求項3 1之高頻積體電路,其中上述增強型場效電晶 體部分包含複數個串聯之增強型場效電晶體。 103970-981230.DOC
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