TWI320028B - - Google Patents
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- Catalysts (AREA)
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004217655A JP4011566B2 (ja) | 2003-07-25 | 2004-07-26 | シリカゾル及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW200604097A TW200604097A (en) | 2006-02-01 |
| TWI320028B true TWI320028B (enExample) | 2010-02-01 |
Family
ID=35786010
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW094101169A TW200604097A (en) | 2004-07-26 | 2005-01-14 | Silica sol and manufacturing method therefor |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20070237701A1 (enExample) |
| TW (1) | TW200604097A (enExample) |
| WO (1) | WO2006011252A1 (enExample) |
Families Citing this family (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008123373A1 (ja) * | 2007-03-27 | 2008-10-16 | Fuso Chemical Co., Ltd. | コロイダルシリカ及びその製造方法 |
| KR100945198B1 (ko) | 2007-11-22 | 2010-03-03 | 한국전기연구원 | 유기용제형 실리카 졸 및 그 제조방법 |
| CN102164853B (zh) * | 2008-09-26 | 2014-12-31 | 扶桑化学工业株式会社 | 含有具有弯曲结构和/或分支结构的二氧化硅二次颗粒的胶体二氧化硅及其制造方法 |
| EP2440328B1 (en) * | 2009-06-12 | 2016-08-17 | Albemarle Europe Sprl. | Sapo molecular sieve catalysts and their preparation and uses |
| JP2011171689A (ja) | 2009-07-07 | 2011-09-01 | Kao Corp | シリコンウエハ用研磨液組成物 |
| US9249028B2 (en) | 2010-02-08 | 2016-02-02 | Momentive Performance Materials Inc. | Method for making high purity metal oxide particles and materials made thereof |
| US8197782B2 (en) | 2010-02-08 | 2012-06-12 | Momentive Performance Materials | Method for making high purity metal oxide particles and materials made thereof |
| WO2013085574A1 (en) | 2011-07-29 | 2013-06-13 | Momentive Performance Materials, Inc. | Method for making high purity metal oxide particles and materials made thereof |
| WO2013035742A1 (ja) * | 2011-09-05 | 2013-03-14 | 日産化学工業株式会社 | 精製された珪酸アルカリ水溶液及びシリカゾルの製造方法 |
| TWI681929B (zh) * | 2011-12-28 | 2020-01-11 | 日揮觸媒化成股份有限公司 | 高純度氧化矽溶膠及其製造方法 |
| KR102205327B1 (ko) * | 2013-06-10 | 2021-01-19 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | 실리카 졸 및 실리카 졸의 제조 방법 |
| EP3330223A4 (en) * | 2015-07-31 | 2018-08-01 | Fujimi Incorporated | Method for producing silica sol |
| JP6854683B2 (ja) | 2017-03-30 | 2021-04-07 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | シリカゾルの製造方法 |
| WO2019098257A1 (ja) | 2017-11-16 | 2019-05-23 | 日揮触媒化成株式会社 | シリカ粒子の分散液及びその製造方法 |
| WO2019189610A1 (ja) * | 2018-03-30 | 2019-10-03 | 日揮触媒化成株式会社 | シリカ粒子分散液、研磨組成物及びシリカ粒子分散液の製造方法 |
| JP2024530709A (ja) | 2021-08-19 | 2024-08-23 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | シリカ粒子を製造するための方法、かかる方法によって製造されるシリカ粒子、かかるシリカ粒子の組成物および使用 |
| JP7782174B2 (ja) * | 2021-09-15 | 2025-12-09 | 三菱ケミカル株式会社 | シリカゾルの製造方法、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 |
| JP7782173B2 (ja) * | 2021-09-15 | 2025-12-09 | 三菱ケミカル株式会社 | シリカゾルの製造方法、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 |
| CN114195154A (zh) * | 2021-12-27 | 2022-03-18 | 于向真 | 一种以水玻璃生产硅溶胶的制备方法 |
| CN114479973B (zh) * | 2022-01-14 | 2023-06-30 | 安徽理工大学 | 一种利用新型无机纳米环保材料提高松散厚煤层强度的方法 |
| CN115404008A (zh) * | 2022-07-29 | 2022-11-29 | 深圳市永霖科技有限公司 | 一种含碱性基团的硅晶圆边缘抛光液 |
| CN115893428A (zh) * | 2022-12-30 | 2023-04-04 | 苏州西丽卡电子材料有限公司 | 一种超高纯二氧化硅溶胶的浓缩方法 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3673104A (en) * | 1969-04-28 | 1972-06-27 | Nalco Chemical Co | Method of preparing silica sols containing large particle size silica |
| US4054536A (en) * | 1974-12-23 | 1977-10-18 | Nalco Chemical Company | Preparation of aqueous silica sols free of alkali metal oxides |
| JPS6374911A (ja) * | 1986-09-19 | 1988-04-05 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 微細球状シリカの製造法 |
| US5230833A (en) * | 1989-06-09 | 1993-07-27 | Nalco Chemical Company | Low sodium, low metals silica polishing slurries |
| US5102763A (en) * | 1990-03-19 | 1992-04-07 | Xerox Corporation | Toner compositions containing colored silica particles |
| JP2001002411A (ja) * | 1999-06-15 | 2001-01-09 | Asahi Denka Kogyo Kk | 水性シリカゾルの製造方法 |
| US6569908B2 (en) * | 2000-01-19 | 2003-05-27 | Oji Paper Co., Ltd. | Dispersion of silica particle agglomerates and process for producing the same |
| US7347986B2 (en) * | 2001-09-14 | 2008-03-25 | Showa Denko K.K. | Silica-coated mixed crystal oxide particle, production process thereof and cosmetic material using the same |
| US6652612B2 (en) * | 2001-11-15 | 2003-11-25 | Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. | Silica particles for polishing and a polishing agent |
| KR100487194B1 (ko) * | 2002-06-27 | 2005-05-03 | 삼성전자주식회사 | 콜로이드계 실리카 조성물 및 그 제조방법 |
| JP4130614B2 (ja) * | 2003-06-18 | 2008-08-06 | 株式会社東芝 | 半導体装置の製造方法 |
| JP4566645B2 (ja) * | 2003-07-25 | 2010-10-20 | 扶桑化学工業株式会社 | シリカゾル及びその製造方法 |
-
2005
- 2005-01-14 TW TW094101169A patent/TW200604097A/zh not_active IP Right Cessation
- 2005-01-18 WO PCT/JP2005/000551 patent/WO2006011252A1/ja not_active Ceased
- 2005-01-18 US US11/632,936 patent/US20070237701A1/en not_active Abandoned
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20070237701A1 (en) | 2007-10-11 |
| WO2006011252A1 (ja) | 2006-02-02 |
| TW200604097A (en) | 2006-02-01 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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