TWI320028B - - Google Patents

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TWI320028B
TWI320028B TW094101169A TW94101169A TWI320028B TW I320028 B TWI320028 B TW I320028B TW 094101169 A TW094101169 A TW 094101169A TW 94101169 A TW94101169 A TW 94101169A TW I320028 B TWI320028 B TW I320028B
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Yoshiaki Tomoda
Keiji Toyama
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    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/14Colloidal silica, e.g. dispersions, gels, sols
    • C01B33/141Preparation of hydrosols or aqueous dispersions

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Description

1320028 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種矽溶膠及其製造方法,其目的在於可以較 佳地採用被要求須要高純度之電子材料或矽晶圓等的研磨材等之 素材,而且,凝膠的穩定性優越,矽濃度容易具有高濃度化,並 能夠調製成與溶性玻璃所製造之矽溶膠同等以上的石夕濃度。 【先前技術】 先前’作為矽溶膠之製造方法’係由所謂溶性玻璃之梦酸鹽 溶液作成初始原料之製造方法為眾所皆知(參考專利文獻1) ^該製 鲁 造方法,係以矽酸鹽溶液在陽離子交換樹脂處理,藉由納離子作 為起始離子作取出除去,以提升初始原料的純度後,以提供石夕溶 膠的製造。 然而,該製造方法,藉由離子交換而具有高純度化仍有些限 疋的’尤其被要求使用在電子材料用途上之鈉等之驗性金屬和 銅•鎳·紹等的金屬雜質的含有量要求達到lppm程度以下是非常 困難的。 t 作為可以獲得高純度矽溶膠之其他的方法,其藉由乙基矽酸 鹽等的高純度烷氧基矽烷的加水分解之製造方法為眾所皆知(參 考專利文獻2及3)。 但是,按照先前所皆知的烷氧基矽烷的加水分解之矽溶膠 中,由於未反應的烷氧基矽烷較容易殘留,因而對矽溶膠的保存 安定性較為不佳’糾,料高濃度化雜為雜。總之該傾 1320028 向,於反應速度上,卿基魏鹽作比較,乙基㈣鹽亦顯著出 反應較慢。 • 又,由院氧基魏的加水分解所獲得之石夕溶膠,為了具有高 :純度職抗鋪子較少下,使得轉毅安定性。·,赠度 .提升同時’雜膠的黏度亦—邊提升,另—邊容易形成凝膠化, 使得赠度的高濃度化㈣_。_,從絲基魏的加水分 解賴得切轉,與從雜鱗簡得雜膠作錄,較一般 的⑦濃度為低,形成對製品的經龜的損失。 〔專利文獻1〕 曰本專利特開昭第61-158810號公報 〔專利文獻2〕 曰本專利特開昭第63-74911號公報 〔專利文獻3〕 曰本專利特開平第6-316407號公報 •【發明内容】 【發明之揭示】 (發明所欲解決之課題) 本發明所欲解決之課題,係提供一種即使從烧氧基雜的加 $解·狀瓣,綱㈣姻蚊刪,嘛 高濃度化’並能齡㈣整從概_賴造之雜膠 :以上的術,並且,_蝴嶋制時之納等的 、雜⑽含有量所要求的㈣輯下^_及其製造方法。 1320028 (解決課題之手段) j· 本發明係為了解決上述課題所發明而成的,於申請專利範圍 第1項相關之發明,係有關於一種穩定的矽溶膠之製造方法,其 • 特徵為包3 . (a)、將能夠加水分解的石夕化合物進行加水分解及重 *縮合予以製造石夕溶膠之第-步驟;以及⑹、將第-步驟所獲得 之如轉應絲彳t在—定赠度以下進行親並且將魏膠中 的分散劑及驗性催化劑在水中置換,使pH成為6. 〇〜9, 〇之第二 _步驟。 一 々於申明專利|&圍帛2項相關之發明,係有關於申請專利範圍 第1項所獲付安定的水置換石夕溶膠中添加驗,使pH成為7. 〇以上 之後予以濃縮’或-面將pH調製成為7. Q以上而—面予以濃縮。 圍第項侧之㈣,細1於如申請專利範 ^俩記載切轉賴造枝,其巾,上猶為氨。
圍第4項蝴之發明,财如申請專利範 圍弟3項所把载之石夕溶膠的製造方法, 的石夕化合物為四甲A基魏。 、加水分解 於申請專利範圍第5項相關之 圍幻或2項所記載之館膠的製造方法你請專利範 分解的视合物物μ基魏。 ’、,上植夠加水 於申請專利範圍第6項相關之發 圍第3項所記载之石夕溶膠的製造方法,复:有關於如申請專利範 “ r,於上述第一步驟所 1320028 獲㈣溶膠中的分散劑為甲醇。 圍第7項獄翻,蝴杨申請專利範 項所δ己载之魏膠的製造方法, 獲得石夕溶膠中的分散劑為曱醇。、以步驟所 圍第111專利範圍第8項相關之發明,係有關於如申請專利範 ^項所記載之魏膠的製造方法,其中,於 獲得石夕溶种齡散 屬
於u利賴第9項細之判,係錢於-種梦溶膠, 其為石夕微粒子分散於料職者,其舰為解微粒子的平均二 米子直彳:為10〜i〇〇()nm,二她子的平均粒子直縣—次粒子 的平均粒子紐的L 5〜3. G倍,麵肺含有量為ippm以下, 梦濃度為10〜50重量%。 【發明之效果】 根據如中請專利細第1《2項中所述,能夠製造具有安定 性很優越_轉’即财濃度較高下並無增加了黏度和凝膠 化’可以製造出具有長期保存安定性很優越的矽溶膠。 有關於申請專利範圍第3項之發明,係依照作為鹼性催化劑 所使用的氨’由於揮發性較高可以能夠容易去除,並且矽溶膠的 pH可以能夠維持中性。 有關於申請專利範圍第4及5項之發明’係依照作為加水分 解可能的矽化合物所利用四甲氧基矽烷,與其他的矽化合物相較 1320028 其反應速度較快,因此未反應物較難存留,可以提高生產性,亦 可以容易獲得安定的矽溶膠。 有關於中請專利範圍第6至8項之發明,伸溶劑,可以依 .據所利用曱醇等的加水分解可能财化合物的加水分解所產生之 乙醇和同種類的乙醇’形成了溶劑的回收較容易以及容易再使 用,在經濟性的面上是很優越。 有關於中請專利範圍第9項之發明,由於溶膠的安定性很優 •越’ ♦濃度容胃冑濃度化m麟調紐雜賴所製造之 石夕溶膠和同等以上的矽濃度。 【實施方式】 【發明之最佳實施形態】 以下,詳細敘述有關本發明之矽溶膠及其製造方法。 有關本發明之石夕溶膠的製造方法,其特徵為含有:(幻、將加 水分解可能的雜合物進行加水分解及飾合予以製妙溶膠之 %第-步驟’⑹、將第-步驟所獲得之石夕溶膠對應其粒經在—定石夕 濃度以下進行濃雜歸溶財的分制紐性催倾於水中置 換,使pH成為6. 0〜9. 0,pH7. 〇〜8. 〇為最佳之第二步驟。 再者’於(a)及⑹的步驟中所獲得之安定的水置換矽溶膠添 加鹼性’其特徵為使pH成為7. 〇以上之後予以濃縮,或一面將= 調製成為7. 0以上而一面予以濃縮。 有關本發明之♦轉的製造方法的第_步驟,係為⑷、將加 1320028 水分解可能的魏合物進行加水分解及重縮好崎細溶膠之 步驟。 f ^ 、將加水为解可能的;5夕化合物進行加水分解•重縮合予以製造 :砂溶膠之方法’係無特別限定,例如,可以以加水分解可能的二 化合物(以下,謂稱矽化合物)藉由溶膠凝膠法調製矽溶膠之方 為例。 " 該溶膠凝膠法,係以金屬的有機化合物溶液作為初始原料, 馨藉由溶液中的化合物的加水水解•重縮合,其溶液内溶解金屬的 氧化物或是水氧化物的微粒子作成溶膠,再進行反應可以獲得作 成凝膠化之非晶質凝膠之方法。具體的,在水的存在下、及溶劑 中,藉由矽化合化物的加水水解·重縮合,可以能夠獲得矽溶膠。 作為矽化合物’以四曱氧基矽烷、四乙氧基矽烷、四丙氧基 矽烷、四異丙氧基矽烷等為舉例。 又’將石夕化合物部分的加水分解所獲得低縮合物也可以能夠 適合作為石夕化合物的使用。 該矽化合物,係可以只用一種作單獨的使用,也可以二種以 上的矽化合物混合使用。 特別於本發明中,係因為反應速度為較快,未反應物則較不 易殘留,因而生產性則可以能夠提高,因此可以容易獲得安定的 矽溶膠,以使用四甲氧基矽烷為最佳。 該矽化合物,係在含有水份之溶劑中作加水分解•重縮合作 1320028 成石夕溶膠。 ;· 作為所使用的溶劑,係可以舉例有曱醇、乙醇、 醇、乙二醇、而祕-龄! 1 样/、丙 酮類,乙酸乙醋等_類為例。 _ 丁嗣專的 特別於本發明中’係個酒精類為佳而使用㈣、 =料最佳。該理由係,如後面所述在水置換時, 餾可以容易和水作置換。 …‘- 7,作為_ ’其採職岭化合物的加水分解所產生酒 、、、月5種__為最I _藉由魏合物的加水分解所產生 酒精和__酒精,可以容易單進行溶_回收和再利用。 溶南/容劑可以在獨下只使用—種的,也可以使舰合二種以上的 其使用的溶_量’係無任何特獅限定,相當於所使用的 =料1莫耳的5〜50莫耳。該理由係,如果未滿5莫耳情形時, 谷易和原料财化合物失去相溶性,另外如使用超過5q莫耳時, 形成製造效率變為極低等情形都不佳。 又水的量係無任何特別的限定,相當於所使用的原料1莫 耳的2〜15莫耳。 ^使用之水董,係會對所形成的矽微粒子的粒徑給與影響 的。右水的量相賴增加的話,石夕微粒子的粒徑可以形成變大。 右水的量姉的減少酶,錢粒子的錄可以形颜小。因此, 1320028 藉由水和溶_比可峰意膽賴奸的粒徑。 > 又洛劑係可以添加驗性催化劑。 作為驗性催化劑’係可以使用先前習知的驗性催化劑,但為 了極力減低金屬雜質的混人,可以以乙二胺、二亞乙基三胺、三 乙烯四胺、氨、尿素、乙醇胺、四甲基氫氧化氨等為例。 特別在本發明’具有優越催化制,同時具有高的揮發性, 可以使後面步驟上容易去除,而使用氨為最佳。
使用驗性催化解,該㈣量,係無任何制的限定,相各 於所使用的原料i莫耳的〇. 〇5〜2莫耳〇 " 又’依照鹼性催化劑的添加,其反應溶_ PH,係以㈣ 〜11為佳,最佳為pH調整成8. 5〜10. 5。 又 有機/谷劑和水,如與催化劑無法相溶時, 面活性劑形成均勻的微粒。 亦可以添加界 雜t 溶射之雜合物财麵 '齡侧,係將
化知合錄„加溶劑,則〜⑽。C,在《〜耽的條件下為最 二此’触料糖之雜賴㈣錢行加水分解. ,村喊賴,且可峨縣有大小-致賴粒子之 石夕溶膠。 彻將定的雜膝之製造方法的第二步驟,係 =、將第-步驟所獲得之鄕職其粒徑在—綱度以下 订福且_謝_細輪·水懷,使 ⑧ 12 1320028 油成為6· G〜9· G,ΡΗ作成7· G〜8. G為最佳之步驟。 在第-步驟巾所獲得魏膠的濃縮並在水巾置換之方法,/ :、、、任何特別的限定,可以举出—邊雜膠的液量保持—定另二 邊滴下德贼是水份進行加鮮減驗作置換之方法為例〜 此時’該置換操作,係以液溫及塔頂溫抑置換,水到達彿^為 止時進行置換操作為最佳m賴度町不進行水置換 時’根據未反應物而增加黏性、凝集,終於形成沉殺性凝膠。再 者矽洛膠的pH為6. 0〜9. 0,最佳係以形成pH7· 〇〜8. 〇的中性 領域為止進行置換。 藉由石夕溶膠中的分散劑及驗性催化劑在水中置換,石夕溶勝的 pH能夠在中性領域調整同時,在石夕溶膠中能夠去除所含有的未反 應物’而可以能夠獲得長_穩定的碎溶膠。 在該步驟上所使用的水’為了極力降低金屬雜質的混入,而 使用純水或是超純水為最佳。 >辰縮石夕濃度’係為60%以下,最佳為5〇%以下,更佳為40 %以下。再者,其質量上係無下限的,但是在生產性的方面以高 漠度為較有利《>濃、縮濃度較高時,變歧集物輯加與高點度’ 形成操作性、作業性變為不佳。 再者’有關石夕粒徑和濃縮濃度之間最佳關係如以下所示之。 1)、於第1步驟所獲得矽溶膠的X為5. 〇〜7.5未滿的情形 Y1 = 6X-12 · 5 Ύ2 = 6Χ-15 1320028 2)、於第1步驟所獲得石夕溶膠的χ為7. $〜35的情形 Υ1 = 〇 * 6Χ+28 Ύ2 = 〇 - 45X+27 X:用「(一次粒子直學)x (—次粒子直徑)^ (二次粒子直徑)」之 :式予以計算其粒徑指數。 Y1:按照粒徑指數之濃縮濃度 Y2:按照粒徑指數之最佳濃縮濃度(%)。 有關本發明的高濃度矽之矽溶膠的製造方法,係可由第二步 ⑩驟所獲得穩定水置換之石夕溶膠添加驗,使pH成為7· 〇以上之後予 以辰縮,或一面將pH調製成為7.0以上而一面予以濃縮之步驟。 在第二步驟將獲得矽溶膠的pH調整為7. 0以上之方法係無特 別的限L,該雜膠可以能夠以—邊添加鹼,-邊石夕溶膠 的pH調整成驗性之方法作為舉例。 石夕溶膠所添加祕,係無特別的限定,可以以乙二胺、二亞 三乙烯四胺'氨'尿素、乙醇胺、四甲基錄化氨、 擊驗金屬鹽、驗土金屬鹽等為例。 作為鹼金屬鹽,係可以以鐘、納嘴、麵、絶、訪為例。作 為鹼驗土金屬鹽,係以皱、約、鎂、錄、鋇、鐳等為例。 .】在本發s上’由於較㈣揮發性,在往後步驟上能夠容 易除去,以使用氨為最佳。 ^,濃縮PU為7. 〇以上的魏_方法,係無_的限定, 縮夕溶膠亦可以制通常的方法,例如,可⑽加熱濃縮法, 1320028 膜濃縮法等為例。 ;· 藉由加熱濃縮法要將雜膠濃縮,可在傾下,或是在減屢 下將矽溶膠加勢濃縮即可。 藉由膜濃縮法將石夕溶膠濃縮,以能夠過滤石夕微粒子之超微孔 過濾法的膜分離為最佳。 超微孔過翻酬度分子量,係無制的限定,其產生之粒 子直徑必需選用合適刻度分子量。 構成超微孔過_的材質,係無特別的限可以以多楓、 聚*丙稀腈、燒結金屬、陶兗、碳精棒等為例。超微孔過遽膜的的 形怨,係無特別的限定,可以以螺旋形型、管筒狀型 等為例。 ,又’猶壓力,係無铜的限定,可以奴在所儀的超微 孔過遽膜的使用壓力以下即可。 再者於本發明中’按照必要性,將第二步驟中所獲得之水 置換_轉’可以在紐錢膠化和増加雜的程度下作麵 濃縮之後’添加鹼而再濃縮。 :本發明之:濃度石夕之吻的製造方法,係根據溶劑置 Η在^膠中3有雜質例如除去了未反應物等之後, 矽〉谷膠的pH經鹼性調整而濃縮 〜.^ ^ L 奋膠’即使矽溶膠的濃度變得 尚,也不產生石夕微粒子的凝集和 出色高赠度之麵膠。姆化等情形,能夠獲得穩定性 1320028 根據. .以上說明的製造方法所麟之本翻,係切溶膠中人 有石夕微粒子大小統一整齊球狀的微粒子,該平均_ ^粒子直〜 10〜1000pm,最佳為 2〇〜300nm 有關本發明之高濃度石夕的石夕溶膠中所含有的金屬雜質馨 如 ’ Al,Ca,B,Ba,Co,Cr,Cu,Fe,Mg,Mn,Na,Ni,昨,
Ti ’ Zn ’ Zr ’ U,Th等的金屬雜質之共計的含有量係可以調整1'為 lppm以下。
有關本發明之高濃度歡雜膠_濃度,係為ig〜5〇重量 %、最佳為30〜50重量%,該石夕溶膠的pH係為6· 〇〜9. 〇,邱最^ 為 7.0〜8.0。 有關本發明之高濃度奴魏膠中的雜粒子,即使石夕濃度 為高濃度,二次粒子的平均粒子餘是—妹子的平均粒子直徑 的3倍以下最佳為L 5〜2. 5倍,亦不易產生石夕微粒子的凝集和 凝膠化,及具有優缝娜存且穩定性出色的高濃度_雜膠。 〔實施例〕 以下’作為本發明之實施例,係以實施例卜7及比較例卜? 為基礎予〜細’但’本發明並無被上述此等實施例所限定。 (反應步驟) 首先’由純水、26%氨水、τ醇所作成的混合液,(以下,稱 為摻入液I )。 於此,闕於摻入液I中的純水之重量%,可將實施例卜7及 1320028 比較例1〜7之全實施例調整成為15%。 iz 又,關於氨濃度的重量%,可將實施例1〜5及比較例1〜5調 整成為0. 6重量% ’而實施例6及比較例6調整成1. 〇重量%,實 施例7及比較例7則調整成2. 〇重量%。 在摻入液I中,一邊保持液溫2〇t:,將由四甲氧基矽烷、曱 醇所成的混合液(以下,稱為摻入液Π),經30分以一定速度下注 入,取得矽溶膠。 有關摻入液Π的組成,其四曱氧基矽烧和曱醇的容量比為3: φ 1 ’而掺入液I和摻入液Π的容量比則調整成9 : 1。 (濃縮步驟1) 按照上述反應步驟所得矽溶膠,藉由加熱蒸餾到達一定濃度 予以濃縮。 於此,有關濃縮後的矽濃度(%),可將實施例丨〜5及比較例3 〜5調整成為15%。 其他,作為變更條件’亦將實施例6、7各自調整為28%、38 # % ’而比較例1、2則各自調整為22%,25%,比較例6、7亦各 自調整為40%,53%。其結果如表丨中表示。 (水置換步驟) 按照上述濃縮步驟所獲得生成液中將純水滴入,並一邊保持 同樣容量以上,一邊依據加熱蒸餾置換濃縮液中的曱醇,氨和水。 再者,有關比較例4,在水置換中添加醋酸,調整酸性。 ⑧ 1320028
水置換後的各實施例的pH,係如表1所示。 〔表1〕 液I之組成 反應條件 濃縮1 水置換 腸濃 Μ濃 反應溫 範例 度 度 度 液Π注 終了時 (重量 (重量 入時間 濃度 完成時 %) %) (0〇 (分) (%) pH 實施例 1 0.6 15 20 30 15 7.4 實施例 2 0.6 15 20 30 15 8.5 實施例 3 0.6 15 20 30 15 6.8 實施例 4 0.6 15 20 30 15 7.5 實施例 5 0.6 15 20 30 15 7.5 比較例 1 0.6 15 20 30 22 7.4 比較例 2 0.6 15 20 30 25 7.5
18 ⑧
(濃維步驟2) ----- 20 30 — 15 9.6 ----- 20 30 15 5.3 ----- 20 30 15 7.4 20 30 28 7.5 ------ 20 30 40 7.5 20 30 38 7.6 20 30 53 — 7.5 ^辰縮方法,除了實施例4〜5,根據常壓蒸餾進行的。 實把例4係根據減墨蒸顧’實施例5係根據用刻度分子量 50000之超微孔過濾膜進行過濾 ,並進行濃縮。 濃縮中,將上述水置換步驟後的液中,添加26%氮水,將PH 調整為7.0〜10. 〇。 备進行調整 另外,僅對有關的比較例5 ’其# i 1320028 根據上述濃縮步驟,最後的矽濃度00可獲得在實施例丨〜5 及比較例1〜5為35%,實施例6及比較例6為40%,而實施例7 及比較例7為45%的石夕溶聲。 • (試驗例1 ;物性值的測定) 可以測定上述所調製的實施例1〜7'比較例1〜7的高純度石夕 溶膠中的石夕微粒子的一次粒子直徑、二次粒子直徑、pH、石夕濃度、 金屬雜質的濃度。 • 其結果在表2及表5中有記載。 一次粒子直徑係根據下面式1(數1)所算出的。 二次粒子直徑係根據光子相關技術測量。 矽濃度係矽溶膠在乾固後,並用800°C燒熱下’算出剩餘量。 【數1】 一次粒子直徑(nm)=__2Ί9Ί BET比表面積(m2/g) %【表2】 ⑧ 實施例 1 實施例 2 實施例 6 實施例 7 一次粒子直徑(處理後) (nm) 14 14 38 ^ 110 一次粒子直徑(處理後) (nm) 38 38 80 170 1320028
矽濃度 (處理後) (wt%) 35 35 40 45 PH 7.5 7.7 7.5 7.7 Na (ppm) 0.1以下 0.1以下 0. 1以下 0.1以下 K (ppm) 0.1以下 0.1以下 0.1以下 0.1以下 Fe (ppm) 0.1以下 0.1以下 0.1以下 0.1以下 A1 (ppm) 0.1以下 0.1以下 0.1以下 0.1以下 Ca (ppm) 0.1以下 0.1以下 0.1以下 0.1以下 Mg (ppm) 0.1以下 0.1以下 0.1以下 0.1以下 Ti (ppm) 0.1以下 0.1以下 0. 1以下 0.1以下 Zn (ppm) 0.1以下 0.1以下 0.1以下 0.1以下 Ni (ppm) 0. 01 以 0.01 以 0. 01 以 0.01 以 下 下 下 下 Cr (ppm) 0. 01 以 0.01 以 0.01 以 0.01 以 下 下 下 下 Cu (ppm) 0. 01 以 0.01 以 0.01 以 0.01 以 下 下 下 下 Pb (ppm) 0. 01 以 0.01 以 0.01 以 0.01 以 下 下 下 下 1320028 '【表3】
實施例 3 實施例 4 實施例 5 一次粒子直徑(處理後) (nm) 14 14 14 二次粒子直徑(處理後) (nm) 37 38 37 矽濃度 (處理後) (wt%) 35 35 35 pH 7.4 7.4 7.6 【表4】
比較例 1 比較例 2 比較例 3 比較例 4 一次粒子直徑(處理後) (nm) 15 ※ 14 ※ 二次粒子直徑(處理後) (nm) 62 ※ 49 ※ 矽濃度 (處理後) (wt%) 35 35 35 35 pH 7.5 7.6 7.5 7.4 ※發生大量的凝集沉澱物
22 ⑧ 1320028 【表5】 比較例 比較例 比較例 5 6 7 一次粒子直徑(處理後) (nm) 14 ※ ※ 二次粒子直徑(處理後) (nm) 58 ※ 矽濃度 (處理後) (wt%) 35 40 45 pH 6.7 7.4 7.8 ※發生大量的凝集沉澱物 實施例1〜7各試料係如表2及表3的結果所示一樣,濃縮處 理後,而大出的凝集係未被確認出的。另一方面,比較例的試料, 係如表4及表5的結果絲示—樣,濃祕理後被辆出石夕微粒 子的凝集。 (試驗例2 ’根據pH變化之二次粒子直徑的變化) 實施例1所得到矽濃度35%之矽溶膠,在常壓下,一邊加熱 蒸館’一邊將純水保持一定容量滴下,並根據pH的變化予以確認 一次粒子直徑的粒徑變化。其結果如第一圖所記載。 根據第一圖中所示的圖表格,可以明白確定矽溶膠的pH為 7. 0以下’二次粒子直徑成為增大,但是,矽溶膠的pH為7. 0以 1320028 ^,:以確認二次粒子直徑是無變化的。從該結果,其雜膠 路]G以下的中陡附近,其销粒子的穩定性則很壞,容易 石夕微粒子的難’另—方面,赠膠的pH為以上的中性 集 〜驗性附近,賴奸的穩較高,不料發生雜粒子的凝 〇 【圖式簡單說明】 圖 第-圖係顯示由實施例i所獲得之錄膠的pH和二次粒徑的關係
【主要元件符號說明】 關係獲得之砂溶膠的一徑的
⑧ 24

Claims (1)

1320028 十、申請專利範圍: L-種穩定的魏膠之製造方法,其特徵為包含: ⑷、將-種«概如水麵秘化合減行加水分解及重縮 口種或夕種抑化合物選自於由四?氧基《規、四乙氧 基雜、四丙氧基魏及四異丙氧基魏所組成之族群,予 以製造砍溶膠之第―步驟;以及 ⑹、將第-步驟所獲得之赠膠對應妹徑在—定赠度以 H農縮並且卿溶膠中的分散劑及驗性催化劑在水中置 使pH成為6.0〜9.0之第二步驟。 、 2. 如申請專利範圍第;[項之石々、、六卿 W項之〜膠之製造方法,其中,於 驟所獲得細水置卿溶膠中添加驗,使ρΗ·7.^步 後予以濃縮,或—面將ρΗ_錢以以上而― 3. 如申糊|_丨項之卿之製造方法,射,步ς。 八峨濃度编懈〜⑽(Α)所〜 Α式(Α)為矽粒杻和濃縮濃度之關係, X:用「(-次粒子魅)χ(—次粒子直二次粒子直 十 予以計算其粒徑指數, 之式 γ:按照粒徑指數之濃縮濃度⑻;其中 § 1) 於步㈣所獲得侧的X為5. 〇〜7. 5未滿的情 6Χ-1 2. 5, 2) Χ於+ 步2Γ。)所獲得雜膠的Χ為7. 5〜35的情形,則U〇. 6 25 ··, 11 1320028 2)於步驟(a)所獲得矽溶膠的X為7. 5〜35的情形,則Y S 〇. 6 X+ 2 8。 ' 4.如申請專利範圍第1或2項之矽溶膠之製造方法,其中,上述 ; 鹼為氨。 • 5.如申請專利範圍第3項之矽溶膠之製造方法,其中,上述鹼為 氨。 6. 如申請專利範圍第1或2項之矽溶膠之製造方法,其中,於上 述第一步驟所獲得矽溶膠中的分散劑為甲醇。 7. 如申請專利範圍第3項之矽溶膠的製造方法,其中,於上述第 一步驟所獲得矽溶膠中的分散劑為曱醇。 8. —種矽溶膠,其為矽微粒子分散於水中所成者,其特徵為該矽 微粒子的平均二次粒子直徑為10〜lOOOnm,二次粒子的平均粒 子直徑為一次粒子的平均粒子直徑的1.5〜3.0倍,金屬雜質含 有量為lppm以下,石夕濃度為10〜50重量%。 26
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Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101641288B (zh) * 2007-03-27 2013-07-03 扶桑化学工业株式会社 胶态二氧化硅及其制造方法
KR100945198B1 (ko) 2007-11-22 2010-03-03 한국전기연구원 유기용제형 실리카 졸 및 그 제조방법
KR101626179B1 (ko) * 2008-09-26 2016-05-31 후소카가쿠코교 가부시키가이샤 굴곡 구조 및/또는 분지 구조를 갖는 실리카 이차 입자를 함유하는 콜로이달 실리카 및 그의 제조 방법
US9492818B2 (en) * 2009-06-12 2016-11-15 Albemarle Europe Sprl SAPO molecular sieve catalysts and their preparation and uses
JP2011171689A (ja) 2009-07-07 2011-09-01 Kao Corp シリコンウエハ用研磨液組成物
US9249028B2 (en) 2010-02-08 2016-02-02 Momentive Performance Materials Inc. Method for making high purity metal oxide particles and materials made thereof
US8197782B2 (en) 2010-02-08 2012-06-12 Momentive Performance Materials Method for making high purity metal oxide particles and materials made thereof
BR112014002156A2 (pt) 2011-07-29 2017-02-21 Momentive Performance Mat Inc método para preparar partículas de óxidos de metais de alta pureza e materiais feitos delas
KR101967697B1 (ko) * 2011-09-05 2019-04-11 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 정제된 규산알칼리 수용액 및 실리카졸의 제조방법
TWI681929B (zh) * 2011-12-28 2020-01-11 日揮觸媒化成股份有限公司 高純度氧化矽溶膠及其製造方法
WO2014199903A1 (ja) * 2013-06-10 2014-12-18 日産化学工業株式会社 シリカゾル及びシリカゾルの製造方法
WO2017022552A1 (ja) 2015-07-31 2017-02-09 株式会社フジミインコーポレーテッド シリカゾルの製造方法
US11427730B2 (en) 2017-11-16 2022-08-30 Jgc Catalysts And Chemicals Ltd. Dispersion liquid of silica particles and production method therefor
JP7213234B2 (ja) 2018-03-30 2023-01-26 日揮触媒化成株式会社 シリカ粒子分散液、研磨組成物及びシリカ粒子分散液の製造方法
WO2023020906A1 (en) 2021-08-19 2023-02-23 Merck Patent Gmbh Method for producing silica particles, silica particles produced by such method, compositions and uses of such silica particles
CN114195154A (zh) * 2021-12-27 2022-03-18 于向真 一种以水玻璃生产硅溶胶的制备方法
CN114479973B (zh) * 2022-01-14 2023-06-30 安徽理工大学 一种利用新型无机纳米环保材料提高松散厚煤层强度的方法
CN115404008A (zh) * 2022-07-29 2022-11-29 深圳市永霖科技有限公司 一种含碱性基团的硅晶圆边缘抛光液

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3673104A (en) * 1969-04-28 1972-06-27 Nalco Chemical Co Method of preparing silica sols containing large particle size silica
US4054536A (en) * 1974-12-23 1977-10-18 Nalco Chemical Company Preparation of aqueous silica sols free of alkali metal oxides
JPS6374911A (ja) * 1986-09-19 1988-04-05 Shin Etsu Chem Co Ltd 微細球状シリカの製造法
US5230833A (en) * 1989-06-09 1993-07-27 Nalco Chemical Company Low sodium, low metals silica polishing slurries
US5102763A (en) * 1990-03-19 1992-04-07 Xerox Corporation Toner compositions containing colored silica particles
JP2001002411A (ja) * 1999-06-15 2001-01-09 Asahi Denka Kogyo Kk 水性シリカゾルの製造方法
US6569908B2 (en) * 2000-01-19 2003-05-27 Oji Paper Co., Ltd. Dispersion of silica particle agglomerates and process for producing the same
US7347986B2 (en) * 2001-09-14 2008-03-25 Showa Denko K.K. Silica-coated mixed crystal oxide particle, production process thereof and cosmetic material using the same
TWI247795B (en) * 2001-11-15 2006-01-21 Catalysts & Chem Ind Co Silica particles for polishing and a polishing agent
KR100487194B1 (ko) * 2002-06-27 2005-05-03 삼성전자주식회사 콜로이드계 실리카 조성물 및 그 제조방법
JP4130614B2 (ja) * 2003-06-18 2008-08-06 株式会社東芝 半導体装置の製造方法
JP4566645B2 (ja) * 2003-07-25 2010-10-20 扶桑化学工業株式会社 シリカゾル及びその製造方法

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