TWI307503B - Optical recording medium, method for manufacturing the same and target used for sputtering process - Google Patents

Optical recording medium, method for manufacturing the same and target used for sputtering process Download PDF

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TWI307503B
TWI307503B TW093106982A TW93106982A TWI307503B TW I307503 B TWI307503 B TW I307503B TW 093106982 A TW093106982 A TW 093106982A TW 93106982 A TW93106982 A TW 93106982A TW I307503 B TWI307503 B TW I307503B
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Yasuo Hosoda
Ayumi Mitsumori
Megumi Sato
Masataka Yamaguchi
Tetsuya Iida
Hiroyasu Inoue
Koji Mishima
Masaki Aoshima
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Tdk Corp
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Description

1307503 (1) 玖、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種光記錄媒體、光記錄媒體 法，及用於濺擊程序之標靶，尤指一種包含由會 境產生最小影響之材料所做之記錄層的光記錄媒 製造這種光記錄媒體的方法，以及用於濺擊程序 此濺擊程序致使光記錄媒體之記錄層能夠係由會 境產生最小影響之材料所做的。 【先前技術】 光記錄媒體，例如CD，DVD等等，已被廣 爲用來記錄數位資料的記錄媒體，這些光記錄媒 槪略分成不能夠寫入或重寫資料之光記錄媒體（ 光記錄媒體），例如CD-ROM及DVD-ROM ;能 料但不能夠重寫資料之光記錄媒體（僅寫一次型 體），例如CD-R及DVD-R ;及能夠重寫資料之 體（資料可重寫型光記錄媒體），例如CD-RW RW 〇 資料一般使用在ROM型光記錄媒體之製程 基板中的預坑而被記錄在ROM型光記錄媒體中 寫資料型光記錄媒體中，相位改變材料一般被用 的材料，並且利用藉由相位改變材料之相位改變 特性上的改變來記錄資料。 另一方面’在僅寫一次型光記錄媒體中， 之製造方 對全球環 體，一種 之標靶， 對全球環 泛使用做 體可以被 ROM型 夠寫入資 光記錄媒 光記錄媒 及 DVD- 中形成於 ，而在重 作記錄層 所產生之 f機染料 -5- (2) 1307503 (例如花青染料，花青染料或偶氮染料）一般被用作記錄 層的材料，並且利用藉由有機染料之化學變化所產生之光 學特性上的改變來記錄資料，而此改變可以伴隨著物理變 形。 不像記錄在資料可重寫型光記錄媒體中的資料，記錄 在僅寫一次型光記錄媒體中的資料不能夠被拭除及重寫， 這意謂著記錄在僅寫一次型光記錄媒體中的資料不能夠被 僞造’使得僅寫一次型光記錄媒體在必須防止記錄在光記 錄媒體中之資料被僞造的情況中係有用的。 但是’因爲當暴露於日光等等時，會使有機染料變 差，所以在有機染料被用作記錄層之材料的情況中，難以 改善長時間的儲存可靠度。因此，想要改善僅寫一次型光 記錄媒體之長時間的儲存可靠度，以形成有別於有機染料 之材料的記錄層。 如同在日本專利申請公告案第62-2 04442號中所揭示 者’已知包含由無機材料所做之二記錄層的光記錄媒體做 爲其記錄層係由不同於有機染料之材料所做之光記錄媒體 的例子。 但是，用來形成在日本專利申請公告案第62-204442 號中所揭示之光記錄媒體之記錄層的無機材料包含會對環 境產生嚴重影響之材料，使得在日本專利申請公告案第 62-204442號中所揭示之光記錄媒體並不滿足保護全球環 境的要求。 (3) 1307503 【發明內容】 因此，本發明之目的在於提供一種光記錄媒體’其包 含由會對全球環境產生最小影響之材料所做的記錄層。 本發明之另一目的在於提供一種光記錄媒體之製造方 法，而此光記錄媒體包含由會對全球環境產生最小影響之 材料所做的記錄層。 本發明之又一目的在於提供一種用於濺擊程序之標 靶’其能夠形成會對全球環境產生最小影響之材料之光記 錄媒體的記錄層。 本發明之上面及其他目的能夠藉由一光記錄媒體來予 以達成，此光記錄媒體包含一含有由通式： (TixMlH) yM2i-y所表示之合金的記錄層，其中，元素 Ml爲Si或AI，元素M2爲和元素Ml不同的元素，X係 等於或大於0.3且等於或小於0.8，而y係等於或大於 0.75且等於或小於1。 因爲在記錄層中所含的Ti，Si及A1各者爲地球上最 普通之元素的其中一種，並且僅會對全球環境產生非常小 的影響，所以包含含有一合金之記錄層的光記錄媒體能夠 降低對全球環境所產生的影響，而此合金含有藉由本發明 所提供之這樣的元素。 依據本發明，當雷射光束被投射於光記錄媒體的記錄 層上時，此記錄層中所含之做爲主成分的合金係熔化於記 錄層之照射以雷射光束的區域，並且當熔化的合金被固化 時，此合金的相位改變，藉以記錄資料於記錄層中。 -7- (4) 1307503 在本發明中’定義記錄層中所含之合金中之Ti及元 素Ml (亦即’ Si或A1 )的含量之x必須等於或大於〇.3 且等於或小於0 · 8，發現到在X小於〇. 3或χ超過〇 8的 情況中’不可能獲得到具有高的C/N比之再生訊號，並且 再生訊號的抖動及資料的串音變得更糟。 在由本發明之發明者所完成的進一步硏究中，發現至|| 光記錄媒體的記錄特性隨著元素M2之含量的減少而改 善’並且當y係等於1時，換言之，當記錄層係由Ti與 Si之合金或Ti與A1之合金所構成時，光記錄媒體的記錄 特性變得最好。 在本發明中，爲了取得具有更高之C/N比的再生訊 號，並且更有效地抑制資料的串音，X較佳等於或大於 0.4且等於或小於0.6，而且X等於約0.5係特佳的。 在本發明中，在上述通式中之元素M2係較佳選自包 含Si，A1及Fe之群組中。 因爲在合金中所含之做爲選項成分的Si’ A1及Fe各 者爲地球上最普通之元素的其中一種’並且僅會對全球環 境產生非常小的影響’所以包含含有一合金做爲主成分之 記錄層的光記錄媒體能夠降低對全球環境所產生的影響， 而此合金含有這樣的元素。 在本發明的較佳態樣中’光記錄媒體另包含一電介質 層於記錄層的至少一側上。 依據本發明之此較佳態樣’因爲記錄層係受到電介質 層物理及化學性地保護’所以能夠長1日寺期地有效防止所冒己 -8- (5) 1307503 錄之資料的變差。 在本發明的另一較佳態樣中，光記錄媒體另包 介質層於記錄層的相反側上。 本發明之發明者進一步精力充沛地尋求完成上 他目的之硏究，結果，發現到當藉由濺擊程序，其 有由通式：（Ti^Mln) y，M2,-y，所表示之合金的 形成光記錄媒體的記錄層時，其中，元素Μ1爲 Α1，元素M2爲和元素Ml不同的元素，xM系等於 0.37且等於或小於0.85，而yM系等於或大於〇·75 或小於1，有可能形成含有由通式：（TixMh-χ) 所表示之合金的記錄層，其中，元素Ml爲Si或 素M2爲和元素Ml不同的元素，X係等於或大於〇 於或小於0.8，而y係等於或大於0.75且等於或小 因此，本發明之上述及其他目的也能夠藉由使 擊程序之標靶來予以達成，此標靶含有由； (Tix，Ml h，）^^12^，所表示之合金的標靶來形成 媒體的記錄層時，其中，元素Ml爲Si或Al，3 爲和元素Ml不同的元素，X’係等於或大於〇·37且 小於0.85，而y’係等於或大於0.75且等於或小於 依據本發明之此態樣’有可能製造一光記錄媒 能夠再生高的C/N比及低的抖動之訊號’能夠有效 資料的串音，並且具有改善之記錄靈敏度。 在本發明中，在上述通式中之元素Μ 2係較佳 含S i，A1及F e之群組中。 含一電 述及其 使用含 標靶來 S i或 或大於 且等於 y Μ 2 1 - y A1，元 .3且等 於1 ° 用於濺 I式: 光記錄 ，素M2 等於或 〇 體，其 地抑制 選自包 -9- (6) 1307503 本發明之上述及其他目的也能夠藉由光記錄媒體之製 造方法來予以達成，此方法包含一藉由灘擊程序，其使用 含有由通式：y，M2】.y，所表示之合金的標靶 來形成光記錄媒體的記錄層之步驟，其中，元素Ml爲Si 或A1，元素M2爲和元素Ml不同的元素，X’係等於或大 於0.37且等於或小於0.85，而y’係等於或大於〇·75且等 於或小於1。 依據本發明，有可能製造一光記錄媒體，其能夠再生 高的C/N比及低的抖動之訊號，能夠有效地抑制資料的串 音，並且具有改善之記錄靈敏度。 本發明之上面及其他目的將會從參照伴隨之圖形所做 成的說明而變得明顯。 【實施方式】 圖1係一示意局部切割立體圖，顯示爲本發明之一較 佳實施例的光記錄媒體，且圖2爲一顯示由圖1之Α所 表示的示意放大剖面圖。 如圖1所示，依據此實施例之光記錄媒體10被形成 爲碟形，且具有約120 nm的外徑及約1 .2 nm的厚度。 依據此實施例之光記錄媒體1 〇被建構成僅寫一次型 光記錄媒體，且如圖2所示，其包含一支撐基板11、一 形成於支撐基板1 1之表面上的反射層1 2、一形成於反射 層12之表面上的第二電介質層13、一形成於第二電介質 層13之表面上的記錄層14、一形成於記錄層14之表面 -10- (7) 1307503 上的第一電介質層15、及一形成於第一電介質層i5之表 面上的光透射層1 6。 在此實施例中’如圖2所示’具有38〇 nm到45〇 nm 之波長的雷射光束L被投射於由光透射層〗6之—表面所 構成的光入射平面1 6 a上’藉以記錄資料於光記錄媒體 1 0中或者自光記錄媒體1 0中再生資料。 支撐基板1 1用作一支撐物，用以確保爲光記錄媒體 1 〇所需要的機械強度及約1 ·2 nm的厚度。 沒有特別限定被用來形成支撐基板1 1的材料，只要 支撐基板1 1能夠用作光記錄媒體1 0的支撐物。支撐基申及 1 1能夠是由玻璃、陶瓷、樹脂等等所形成的，在這些材 料中，樹脂較佳被用來形成支撐基板11，這是因爲樹月旨 能夠很容易被定形。適合用來形成支撐基板11之樹脂@ 示例包含聚碳酸酯樹脂、聚烯樹脂、丙烯酸樹脂、環氧樹 脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂、矽酮樹 脂、含氟聚合物、丙烯腈丁二烯苯乙烯樹脂、尿烷樹脂等 等，在這些樹脂中，從容易處理、光學特性等等的觀點來 看，聚碳酸酯樹脂係最適合用來形成基板11。並且在此 實施例中，支撐基板1 1係由聚碳酸酯樹脂所形成的。在 此實施例中，因爲經由位於和支撐基板〗1相向之光入射 平面1 6 a來投射雷射光束L，所以支撐基板】】不需要具 有光透射特性。 如圖2所示，凹槽（grooves) 11a及平地（lands) 1 1 b係交替且螺旋地形成於支撐基板Π的表面上’以便 -11 - (8) 1307503 從一在支撐基板Π之中央附近的部位延伸向其外圍，或 者從支撐基板11的外圍延伸向一在其中央附近的部位， 凹槽Ua及/或平地lib當作用於雷射光束L之導軌用。 凹槽1 1 a的深度並未被特別限定，而且較佳被設定爲 1 0 nm到40 nm ’凹槽1 1 a的間距並未被特別限定，而且 較佳被設定爲〇 . 2 μ m到0.4 μ m。 反射層12用來反射經過光透射層16而進入之雷射光 束L，以便使其自光透射層1 6發射。 被用來形成反射層1 2的材料未被特別限定，只要他 能夠反射雷射光束L，且反射層12可以是由Mg，Al， Ti，Cr，Fe > Co’ Ni，Cu，Zn，Ge，Ag，Pt，Au 等等來 予以形成的，在這些材料中，較佳由具有高反射特性之金 屬材料（例如，Al，Au，Ag，Cu )或含有這些材料的至 少其中一者之合金（例如，Ag與Cu之合金）來形成反射 層12。 反射層12也用來藉由多重干涉效應而增加記錄區域 之反射係數與未記錄區域之反射係數間的差異，藉以獲得 到較高的再生訊號（C/N比）。 雖然反射層〗2的厚度並未被特別限定，但是較佳係 從5 nm到3 00 nm，更佳係從20 nm到200 nm。 在反射層1 2的厚度係薄於5 nm的情況中，難以用所 想要的方式反射雷射光束L，另一方面，在反射層12的 厚度超過3 0 0 η ηι的情況中’反射層1 2的表面平滑度變得 更差，並且形成反射層12要花費更長的時間，因此，降 -12- 1307503 低了光記錄媒體1 〇的生產率。 第一電介質層15及第二電介質層13用來保護記錄層 I4’藉由第一電介質層15及第二電介質層13，能夠在長 的時間期間防止所記錄之資料的變差。 用來形成第一電介質層]5及第二電介質層13的材料 並未被特別限定，只要他在雷射光束L的波長範圍中是透 明的’並且第一電介質層15及第二電介質層13可以是由 含有氧化物、硫化物、氮化物或其組合（舉例來說）之電 介質材料當做主成分來予以形成的。爲了防止支撐基板 1 1寺％因受熱而變形，並改善用來保護保護記錄層〗4之 第電力質層15及第二電介質層13的特性，第—電介質 層15及第二電介質層13較佳係由A1，Si，Ce，Ti， Z η ’ T 3, ^卞」7 之氧化物、硫化物、氮化物或碳化物來予以 形成的，例如，Δ ΑΙ2〇3 ’ AIN ， ZnO ， ZnS ， GeN ， GeCrN ,
Ce〇 ’ Ce〇2 ， Si〇 ，： Ti〇2 > SiAl〇N (。 物）’LaSi〇N(T 、L a 2 O 或者其混合物。
Si〇2，Si3N4，SiC，La203，TaO，
Si〇2，Al2〇3，Si3N4 與 AIN 的混合
Si〇2與Si3N4的混合物）等等， 弟〜電介莺層 電介質材料或不间 一電介質層】5 有包含多層電介質
、增】5及第二電介質層13可以是由相同的 、间的電介質材料來予以形成的。況且，第 及第二電介質層13的至少其中—者可以具 '質膜的多層結構。 及第二電介質層13也當作增加在資 光記錄媒體1 0之光學特性上的差異 -13- (10) 1307503 用’而因此’第一電介質層15及第二電介質層13較佳係 由在雷射光束L的波長範圍中具有高折射率η的材料來予 以形成的。此外’因爲當雷射光束L被投射於光記錄媒體 1 0上，且資料即將被記錄於其中，記錄靈敏度隨著在第 一電介質層15及第二電介質層13中所吸收之能量的變大 而變低’所以第一電介質層15及第二電介質層13較佳係 由在雷射光束L的波長範圍中具有低消光係數k的材料來 予以形成的。 鑒於上述’第一·電介質層15及第二電介質層13特佳 係由其莫耳（mole)比爲80: 20之ZnS與Si02的混合物 來予以形成的。 雖然第一電介質層15及第二電介質層13的厚度並未 被特別限定，但是較佳係從3 n m到2 0 0 n m。如果第一電 介質層1 5或第二電介質層13係薄於3 nm，則難以獲得 上述優點，另一方面，如果第一電介質層15或第二電介 質層13係厚於200 nm ’則要花長時間來形成第一電介質 層15及第二電介質層13，因此使光記錄媒體1〇的生產 率下降，並且由於出現在第一電介質層15及/或第二電介 質層13中的應力而在第一電介質層]5及/或第二電介質 層中可能產生裂縫。 記錄層〗4係適合用來形成記錄記號及記錄資料於其 中β 在此實施例中，記錄層1 4含有一由通式： (TixMlhX) yM2】.y所表示之合金，其中，元素Ml爲Si -14 - (11) 1307503 或A ：!，元素Μ 2爲和元素Μ 1不同的元素，χ係等於 於0 · 3且等於或小於〇 . 8 ’而y係等於或大於〇 _ 7 5且 或小於1。 光ifi錄媒體1 0的記錄特性隨著元素μ 2之含量 少而改善’並且當y係等於1時，換言之，當記錄丨 係由·η與Si之合金或Ti與A1之合金所構成時，光 媒體的記錄特性變得最好。 但是’界定合金中之Ti與Si或Ti與A1之含量 必須等於或大於0.3且等於或小於〇 . 8，在χ小於〇 . 3 超過〇 _ 8的情況中，不可能獲得到具有高的c /Ν比之 訊號’並且再生訊號的抖動及資料的串音變得更糟。 爲了獲得具有更高的C/N比之再生訊號，並且 效地抑制資料的串音’ X較佳等於或大於〇 · 4且等於 於0.6 ’而且X等於約0.5係特佳的。 較佳地，在上述通式中之元素M2係選自包含Si 及Fe之群組中。 因爲在記錄層14中所含之合金中所含之做爲不 缺之成分的Ti’ Si及A】各者及在合金中所含之做爲 成分的Si’ A1及Fe各者爲地球上最普通之元素的其 種’並且僅會對全球環境產生非常小的影響，所以包 含有如此之元素的合金之記錄層的光記錄媒體能夠降 全球環境所產生的影響，而此合金含有這樣的元素。 隨著記錄層14之厚度的增加，記錄靈敏度變 差’而且因爲記錄層I4中所吸引之雷射光束L的 或大 等於 的減 I 1 4 I己錄 的X 或X 再生 更有 或小 ，A1 可或 選項 中一' 含一 低對 得更 量增 -15- (12) 1307503 加，所以反射係數下降。因此，較佳使記錄層更薄，以便 防止記錄靈敏度變得更差，以及防止反射係數下降，但 是，在記錄層1 4的厚度太薄的情況中，在以雷射光束l 之照射前與照射後間之反射係數上的改變小，使得不能夠 獲得具有高強度（C/N比）之再生訊號。況且，變得難以 控制記錄層1 4的厚度。 因此，較佳形成記錄層1 4而具有3 n m到4 0 n m的厚 度，且更佳形成記錄層14而具有5 nm到30nm的厚度。 光透射層16用來透射雷射光束L，並且較佳具有 ΙΟμηι到300μιη的厚度。更佳地，光透射層16具有50μιη 到1 50μιη的厚度。 雖然被用來形成光透射層1 6的材料並未被特別限 定，但是在光透射層1 6係藉由旋塗程序等等來予以形成 的情況中，較佳使用可紫外線硬化樹脂、可電子束硬化樹 脂等等。更佳地，光透射層1 6係由丙烯酸可紫外線硬化 樹脂或環氧可紫外線硬化樹脂來予以形成的。 光透射層1 6係可以藉由將由可透光樹脂所做的薄片 使用黏著劑而黏貼於第一電介質層15之表面來予以形成 的。 具有上述組態之光記錄媒體1 〇，舉例來說，能夠以 下面的方式來予以製造。 首先藉由噴射模製程序，使用模壓機來製造具有凹槽 ]]a及平地〗lb於其表面上之支撐基板11。 反射層〗2然後被形成在形成有凹槽Π a及平地Π b -16- (13) 1307503 之基板1 1的表面上。 反射層1 2係能夠藉由氣相生長程序，使用含有用來 形成反射層I 2之元素的化學類來予以形成的，氣相生長 程序的示例包含真空沉積程序、濺鍍程序等等。但是，較 佳使用職鍍程序來形成反射層1 2。 第二電介質層1 3然後被形成於反射層1 2的表面上。 第二電介質層13也能夠係藉由氣相生長程序，使用 含有用來形成第二電介質層13之元素的化學類來予以形 成的’氣相生長程序的示例包含真空沉積程序、濺鍍程序 等等。但是’較佳使用濺鍍程序來形成第二電介質層 13° 記錄層14然後被形成於第二電介質層13上。 記錄層1 4能夠係藉由氣相生長程序，使用含有至少 Ti與Si及A1之其中一者的合金來予以形成的，氣相生長 程序的示例包含真空沉積程序、濺鍍程序等等。但是，較 佳使用濺鍍程序來形成第二電介質層13。 本發明之發明者實施一種硏究，其導致和藉由濺鍍程 序’使用含有一含有至少Ti與Si及A1之其中一者的合 金之標靶來形成光記錄媒體]0之記錄層1 4相關的發現。 明確地說，發明者發現到，當標靶含有由通式： (T i χ ’ Μ 1 1 · x，）y ’ Μ 2 1 - y ’所表示之合金時，其中，x，係等於 或大於〇_37且等於或小於0.85，而y，係等於或大於0.75 且等於或小於1，一含有由上述通式： (TixMl ^ ) yM21〇,所表示之合金的記錄層】4能夠被形 -17- (14) 1307503 成。 舉例來說’藉由混合Ti粉末與Si及A1之其中一者 的粉末’並且烘烤所混合之粉末來形成這樣的標靶。 第一電介質層15然後被形成於記錄層14上，第一電 介質層】5也能夠係藉由氣相生長程序，使用含有用來形 成第一電介質層15之元素的化學類來予以形成的。 最後’光透射層16被形成於第一電介質層15上，光 透射層】6之形成能夠藉由，舉例來說，將可調整到適當 黏滯性之丙烯酸可紫外線硬化樹脂或環氧可紫外線硬化樹 脂藉由旋塗法而塗敷於第二電介質層15的表面上，以形 成一塗敷層’並且以紫外線來照射塗敷層以使此塗敷層硬 化。 因此，光記錄媒體1 0被製造。 在資料即將被記錄於具有上述組態之光記錄媒體10 中的情況中，其功率被調變之雷射光束L經由光透射層 16而被投射於記錄層14上，而同時光記錄媒體】0正被 轉動著。 爲了以高記錄密度來記錄資料，較佳經由具有0.7或 0.7以上之數値孔徑N A的目鏡（未顯然出）來投射一具 有45 0 nm或更短之波長λ的雷射光束L於光記錄媒體10 上，且；I /ΝΑ等於或小於640 nm係更佳的。 在此實施例中，具有405 nm之波長λ的雷射光束L 經由具有0.8 5之數値孔徑ΝΑ的目鏡而被投射於光記錄 媒體上。 18- (15) 1307503 結果，包含在記錄層中當做主成分之合金被熔化於記 錄餍1 4之以雷射光束L來予以照射的區域處，並且當熔 化之合金固化時，其相位改變，藉此，記錄記號被形成且 資料被記錄於光記錄媒體1 0的記錄層1 4中。
另一方面，在記錄於光記錄媒體的記錄層14中之 資料即將被再生的情況中，具有預定功率之雷射光束L經 由光透射層16而被投射於記錄層14上，而同時光記錄媒 體1〇正被轉動著，並且由記錄層14所反射之雷射光束L 的量被偵測到，藉此，記錄於光記錄媒體1 0的記錄層1 4 中之資料被再生。
圖3到圖6各者爲一顯示在記錄資料於光記錄媒體 之記錄層14中的情況中，用來調變雷射光束L功率之 脈波圖案波形的圖形，其中，圖3顯示被用在記錄2T訊 號之情況中的脈波圖案，圖4顯示被用在記錄3 T訊號之 情況中的脈波圖案，圖5顯示.被用在記錄4 T訊號之情況 中的脈波圖案，及圖6顯示被用在記錄5T訊號到8T訊 號其中一者之情況中的隨機訊號。 如圖3到圖6所示，雷射光束L之功率被調變於兩個 位準之間’記錄功率Pw及底部功率Pb，其中，Pw> P b ° 當設定爲記錄功率Pw之雷射光束L被投射於記錄層 1 4上時’記錄功率Pw被設定爲能夠熔化並改變光記錄媒 體1〇之記錄層14中所含之合金的相位之高位準。另一方 面’底部功率Pb被設定爲非常低的位準，其中，在以被 -19 - 14 (16) 1307503 設定爲底部功率pb之雷射光束L照射的期間’記錄層 之藉由以被設定爲記錄功率P w之雷射光束L照射來予 加熱的區域能夠被冷卻。 如圖3所示’在記錄2T訊號於光記錄媒體10之記 層〗4內的情況中，雷射光束L的功率被調變而在時 11 1時從底部功率Pb增加到記錄功率Pw ’並且在經過 定的時間周期tt〇P之後’於時間tl2時從記錄功率Pw 少到底部功率Pb。 因此，在記錄2T訊號於光記錄媒體1〇之L0資訊 錄層2 0或L1資訊記錄層3 〇內的情況中’具有等於記 功率P w之位準的脈波數目被設定爲1。 另一方面，如圖4所示，在記錄3 T訊號於光記錄 體1 〇之記錄層1 4內的情況中’雷射光束L的功率被調 而使得在時間12 1時從底部功率P b增加到記錄功率P w 在經過預定的時間周期11。p之後’於時間12 2時從記錄 率P w減少到底部功率P b ’在經過預定的時間周期1。f f 後，於時間12 3時從底部功率Pb增加到記錄功率P w ’ 且在經過預定的時間周期Ip之後’於時間t24時從記 功率Pw減少到底部功率Pb。 因此，在記錄3 T訊號於光記錄媒體1 0之記錄層 內的情況中，各自具有等於記錄功率F*w之位準的脈波 目被設定爲2。 此外，如圖5所示’在記錄4 T訊號於光記錄媒體 之記錄層]4內的情況中’雷射光束L的功率被調變而 以 錄 間 預 減 記 錄 媒 變 5 功 之 並 錄 14 數 10 使 -20- (17) 1307503 得在時間t3 1時從底部功率Pb增加到記錄功率Pw ’在經 過預定的時間周期tt(5p之後，於時間t32時從記錄功率 Pw減少到底部功率Pb ’在經過預定的時間周期之 後，於時間13 3時從底部功率Pb增加到記錄功率P w ’在 經過預定的時間周期t1 m p之後’知時間1 3 4時從5己錄功率 Pw減少到底部功率Pb ’在經過預定的時間周期Uff之 後，於時間t3 5時從底部功率pb增加到記錄功率P w ’並 且在經過預定的時間周期tlp之後’於時間t3 6時從記錄 功率Pw減少到底部功率Pb ° 因此，在記錄4T訊號於光記錄媒體1〇之記錄層14 內的情況中’各自具有等於記錄功率P w之位準的脈波數 目被設定爲3。 況且，如圖6所示，在記錄5T訊號到8T訊號於光 記錄媒體1〇之記錄層14內的情況中’雷射光束L的功率 被調變而使得在時間t4 1時從底部功率Pb增加到記錄功 率Pw，在時間周期tt〇p、ttmp、tip期間被保持在記錄功率 Pw，在時間周期tQff期間被保持在底部功率Pb，並且在 時間以8時從記錄功率Pw減少到底部功率Pb。 因此，在記錄5 T訊號到8 T訊號於光記錄媒體1 0之 記錄層14內的情況中，各自具有等於記錄功率Pw之位 準的脈波數目被設定爲4到7。 當以被設定爲記錄功率Pw之雷射光束L照射記錄層 ]4時’在記錄層1 4中所含之做爲主成分的合金被熔化於 記錄層]4之以雷射光束L來予以照射的區域處，並且當 -21 - (18) 1307503 記錄層1 4係以被設定爲底部功率Pb之雷射光束L來予以 照射時，使所熔化之合金固化，並且改變合金的相位’藉 此，形成記錄標記，並且記錄資料於記錄層1 4中。 因爲相對於記錄層1 4之以此方式來形成記錄標記之 區域與沒有形成記錄標記之區域（亦即，空白區域）之雷 射光束L的反射係數顯著的不同，所以能夠利用在形成有 記錄標記之區域與空白區域間之反射係數上的差異來再生 記錄於記錄層】4中之資料。 記錄標記的長度和記錄標記與相鄰之記錄標記間之空 白區域的長度構成記錄於記錄層1 4中之資料，記錄標記 及空白區域被形成，以便具有一等於T之整數倍的長度， 其中，T爲對應於參考時鐘之一周期的長度。在使用1，7 RLL調變碼的情況中，形成具有2T到8T之長度的記錄 標記及空白區域。 依據此實施例，因爲光記錄媒體1 〇之記錄層1 4含有 一由通式：（TixMl】.，）所表示的合金，其中，元 素Ml爲Si或A1，元素M2爲和元素Ml不同的元素，X 係等於或大於0 _ 3且等於或小於0.8，而y係等於或大於 0.75且等於或小於1，並且因爲被包含做爲記錄層〗4中 所含之合金中不可或缺成分的Ti，Si及A1及在合金中所 含之做爲選項成分的Si，A1及Fe各者爲地球上最普通之 元素的其中一種，並且僅會對全球環境產生非常小的影 響’所以包含含有一合金之記錄層的光記錄媒體1 0能夠 顯著地降低對全球環境所產生的影響，而此合金含有這樣 -22- (19) 1307503 的元素。 此外’依據此實施例，因爲被包含做爲記錄層1 4中 所含之合金中不可或缺成分之丁丨及“或Ti及A]的含量 被決定而使得X係等於或大於〇. 3且等於或小於〇 . 8，所 以有可能再生具有高的C/N比及減小之抖動的訊號，並且 有效地抑制資料的串音。 圖7係一示意剖面圖，顯示爲本發明之另一較佳實施 例的光記錄媒體。 如圖7所示，依據此實施例之光記錄媒體3 〇包含一 支撐基板3 1、一透明中間層3 2 ' —光透射層（保護層） 33、一形成於支撐基板3 1與透明中間層32之間的L0資 訊記錄層4 0 '及一形成於透明層3 2與光透射層3 3之間 的L1資訊記錄層50。 L0資訊記錄層40和L1資訊記錄層50爲其中記錄有 資料的資訊記錄層，亦即，依據此實施例之光記錄媒體 3 0包含兩個資訊記錄層。 L0資訊記錄層40構成遠離光入射層33a之資訊記錄 層，並且係藉由從支撐基板3 1側算起來層疊一反射層 41、一第四電介質層42、一 L0記錄層43、及一第三電介 質層44來予以構成的。 另一方面，L1資訊記錄層50構成接近光入射層33a 之資訊記錄層，並且係藉由從支撐基板31側算起來層疊 一反射層51、一第二電介質層52、一 L1記錄層53、及 一第一電介質層54來予以構成的。 -23- (20) 1307503 支撐基板31用作一支撐物，用以確保爲光記錄媒體 3 〇所需要之機械強度及約1 · 2 nm的厚度，並且係以和圖 1及圖2所示之光記錄媒體丨〇之支撐基板n相同的方式 來予以形成的。 如圖7所示’凹槽3 1 a及平地3 1 b係交替且螺旋地形 成於支撐基板3 1的表面上，以便具有類似於圖1及圖2 所示之光記錄媒體1 〇之深度及間距的深度及間距，當資 料即將被記錄於L0資訊記錄層40中或者當即將自L0資 訊記錄層40中再生資料時，凹槽31a及/或平地31b當作 用於雷射光束L之導軌用。 透明中間層3 2用來使L0資訊記錄層40與L1資訊 記錄層5 0隔開一段物理及光學上足夠的距離。 如圖7所示，凹槽3 2 a及平地3 2 b係交替且螺旋地形 成於透明中間層3 2的表面上，當資料即將被記錄於l 1資 訊記錄層5 0中或者當即將自L 1資訊記錄層5 0中再生資 料時，形成於透明中間層3 2之表面上的凹槽3 1 a及/或平 地3】b當作用於雷射光束L之導軌用。 凹槽32a之深度及凹槽32a之間距能夠被設定爲實際 上和形成於支撐基板3 1表面上之凹槽3 1 a的深度及間距 相同。 較佳形成透明中間層32以便具有5μιη到50μηι之厚 度’並且更佳形成透明中間層32以便具有ι〇μΐΏ到40μΐΏ 之厚度。 用來形成透明中間層3 2之材料並未被特別限定，並 -24- (21) 1307503 且紫外線可硬化丙烯酸樹脂較佳被用來形成透明中間層 32 〇 當資料即將被記錄於L 0資訊層4 0中並且在L 0資訊 層40中所記錄之資料即將被再生時，因爲雷射光束L通 過透明中間層3 2，所以透明中間層3 2必須具有足夠高的 光透射比。 較佳藉由2P程序，使用沖模具來形成透明中間層 3 2 ’但是，也可以藉由其他程序來形成透明中間層3 2。 光透射層33用作傳送雷射光束L之用，並且光入射 平面33a係藉由其表面的其中一者來予以構成的。 以和圖1及圖2所示之光記錄媒體1 0之光透射層1 6 相同的方式來形成光透射層3 3。 在L0資訊層40中所包含之L0記錄層43含有一由 上述通式：（TixMl^) 所表示的合金。 同樣地，在L1資訊層50中所包含之L1記錄層53 含有一由上述通式：（TixMln) yM2i.ym表示的合金。 在L0資訊層40中所包含之反射層41及在L1資訊 餍50中所包含之反射層51各者係以和圖1及圖2所示之 光;記錄媒體1 〇之反射層1 2相同的方式來予以形成的。 在L0資訊層4〇中所包含之第四電介質層42及第三 竃介質層44及在L1資訊層50中所包含之第二電介質層 52及第一電介質層54各者係以和圖1及圖2所示之光記 鋒媒體〗〇之第一電介質層15及第二電介質層13相同的 方式來予以形成的。 -25- (22) 1307503 在L0資訊層40中所包含之反射層41、第四電介 層42、L0記錄層43及第三電介質層44及在L1資訊 50中所包含之反射層51、第二電介質層52、L1記錄 5 3及第一電介質層5 4各者能夠藉由氣相生長程序，使 含有用來形成它之元素的化學類來予以形成的。氣相生 程序之舉例說明的例子包含濺鍍程序、真空沉積程序 等，而且，較佳使用濺鍍程序來形成它們。 當資料即將被記錄於包含在光記錄媒體30之L0資 層40中的L0記錄層43內時，係設定爲記錄功率Pw 雷射光束L經由光透射層33而被聚焦於L0記錄層 上。結果，在L0記錄層43中所包含之做爲主成分的合 被熔化於L0記錄層43之以雷射光束L照射的區域， 且當雷射光束L被設定爲底部功率Pb時，使所熔化之 金固化，並且改變合金的相位，藉此，形成記錄標記， 且記錄資料於L0記錄層43中。 另一方面，當資料即將被記錄於包含在光記錄媒 30之L1資訊層50中的L1記錄層53內時，係設定爲 錄功率Pw之雷射光束L經由光透射層3 3而被聚焦於 記錄層5 3上。結果，在L1記錄層5 3中所包含之做爲 成分的合金被熔化於L1記錄層5 3之以雷射光束L照 的區域，並且當雷射光束L被設定爲底部功率Pb時’ 所熔化之合金固化，並且改變合金的相位，藉此，形成 錄標記，並且記錄資料於L1記錄層5 3中。 當記錄於包含在光記錄媒體3 0之L 0資訊層4 0中 質 層 層 用 長 等 訊 之 43 金 並 合 並 體 記 L1 主 射 使 記 的 -26- (23) 1307503 L 0記錄層4 3內之資料即將被再生時，係設定爲再生功率 之雷射光束L經由光透射層3 3而被聚焦於L0記錄層4 3 上，並且偵測到由L 0記錄層4 3所反射之雷射光束L的 量。 另一方面，當記錄於包含在光記錄媒體30之L1資訊 層5 0中的L1記錄層5 3內之資料即將被再生時’係設定 爲再生功率之雷射光束L經由光透射層33而被聚焦於Ll 記錄層5 3上，並且偵測到由L1記錄層5 3所反射之雷射 光束L的量。 依據此實施例，L 0記錄層4 3及L 1記錄層5 3各自含 有一由通式：（TixMln) 所表示的合金，其中， 元素Ml爲Si或A1，元素M2爲和元素Ml不同的元素， X係等於或大於0.3且等於或小於〇. 8，而y係等於或大 於0.75且等於或小於1，並且因爲被包含做爲記錄層14 中所含之合金中不可或缺成分的Ti，Si及A1及在合金中 所含之做爲選項成分的Si，A1及Fe各者爲地球上最普通 之元素的其中一種，並且僅會對全球環境產生非常小的影 響，所以包含含有一合金之記錄層的光記錄媒體1 〇能夠 顯著地降低對全球環境所產生的影響，而此合金含有這樣 的元素。 此外，依據此實施例，因爲被包含做爲L0記錄層43 及L1記錄層53各者中所含之合金中不可或缺成分之Ti 及Si或Ti及A1的含量被決定而使得X係等於或大於0.3 且等於或小於0.8，所以有可能再生具有高的C/N比及減 -27- (24) 1307503 小之抖動的訊號，並且有效地抑制資料的串音。 工作例及比較例 在下文中，將提出工作例，以便進一步使本發明的優 點淸楚。 工作例1 依照下面的方式來製造光記錄媒體樣品# 1 - 1。 具有1·1 nm之厚度及120 nm之直徑並且其表面上形 成有凹槽及平地的聚碳酸醋基板首先藉由噴射模製程序而 被製造，使得軌道間距（凹槽間距）等於0.3 2 μιη。 然後，聚碳酸酯基板被設置於濺鍍裝置上，並且使用 灘鍍程序，由一含有Ag’ Pd及Cu之合金所組成且具有 1 00 nm之厚度的反射層、一含有ZnS與Si02之混合物且 具有25 nm之厚度的第二電介質層 '一含有由組成式： TixSii.x所表不之合金且具有10 nm之厚度的記錄層、及 一含有ZnS與Si02之混合物且具有20 nm之厚度的第一 電介質層依序被形成於聚碳酸酯基板之形成有凹槽及平地 的表面上。 在第一電介質層及第二電介質層中所含之ZnS與 Si〇2之混合物的莫耳（mole)比爲80: 20。 此外，在記錄層中所含之合金的組成被決定，而使得 組成式：TixSi].x中之X的値係等於0.2 ( 20 atomic% )。 此外，其表面上形成有反射層、第二電介質層、記錄 -28- (25) !3〇75〇3 層 '及第一電介質層的聚碳酸酯基板被設置於一旋塗裝置 上’並且第一電介質層係使用旋塗法而以一樹脂溶液來予 以塗敷以形成一塗敷層，而此樹脂溶液係藉由使丙烯酸可 紫外線硬化樹脂溶解於一溶劑中來予以製備的，並且以紫 外線來照射塗敷層，藉以使丙烯酸可紫外線硬化樹脂硬 化’以形成具有ΙΟΟμιη之厚度的光透射層。 因此，光記錄媒體樣品# 1 -1被製造。 此外，依照和光記錄媒體樣品# 1 -1相同的方式來製 造光記錄媒體樣品#1-2到#1-5，除了組成式：TixSi^x中 之x的値被逐步增加到1 ( 1 00 atomic% )以形成記錄層以 外。 光記錄媒體樣品#1-1到#1-5各者被設置在由Pulstec industrial Co.，Ltd.所製造之光記錄媒體評估裝置 “DDU 1 0 00”（產品名稱）中，並且一具有4 05 nm之波長 的雷射光束（其功率係依據圖3所示之脈波圖案來予以調 變的）使用具有〇 8 5之數値孔徑的目鏡經過光透射層而 被聚焦於記錄層上，且同時以5 · 3 m / s e c的線性速度來轉 動各樣品，藉以用1，7 RLL調變碼的形式來記錄包含2T 訊號到8T訊號之隨機訊號於其中。 雷射光束的記錄功率被設定爲7.0 mW，而同時雷射 光束的底部功率被固定爲〇. 1 mW。 然後，光記錄媒體樣品# 1 -1到# 1 · 5各者被設置在上 述光記錄媒體評估裝置中，並且一具有4 05 nm之波長的 雷射光束使用具有〇 · 8 5之數値孔徑的目鏡經過光透射層 -29- (26) 1307503 而被聚焦於記錄層上，且同時以5 _3 m/sec的線性速度來 轉動各樣品，藉以再生記錄層中所記錄之訊號，並且測量 所再生之訊號的時鐘抖動，雷射光束的再生功率被設定爲 0.35 mW。 使用時間間隔分析器來測量所再生之訊號的擾動σ ， 並且時鐘抖動被計算做爲σ /Tw，其中，Tw爲一個時鐘周 期。 此外，類似於上面，隨機訊號被記錄於光記錄媒體樣 品# 1 - 1到# 1 - 5各者中，而同時以0.2 m W的增量來增加雷 射光束的記錄功率到達1 〇 · 〇 mW，藉以類似於上面，自各 樣品再生隨機訊號，並且測量所再生之訊號的時鐘抖動。 從這樣所測量到之時鐘抖動中來決定最低的時鐘抖 動，並且最低之再生訊號之時鐘抖動處的記錄功率被決定 當作是雷射光束的最佳記錄功率。 然後，光記錄媒體樣品#1-1到#1-5各者被設置在上 述光記錄媒體評估裝置中，並且呈1，7 RLL調變碼的形 式之2T訊號以和記錄隨機訊號於各樣品之記錄層中之方 式相同的方式而被記錄於各樣品之記錄層中，除了雷射光 束的記錄功率被設定爲最佳的記錄功率以外。
此外，光記錄媒體樣品-1到#] - 5各者被設置在上 述光記錄媒體評估裝置中，並且以和自各樣品之記錄層中 再生隨機訊號之方式相同的方式，在各樣品之記錄層中所 記錄的2T訊號被再生，藉以測量所再生之訊號的C/N -30- (27) 1307503 測量的結果被顯示於圖8中。 然後，光記錄媒體樣品#1-1到#1-5各者被設置在上 述光記錄媒體評估裝置中’並且呈1 ’ 7 RLL調變碼的形 式之8 T訊號以和記錄隨機訊號於各樣品之記錄層中之方 式相同的方式而被記錄於各樣品之記錄層中’除了雷射光 束的記錄功率被設定爲最佳的記錄功率以外。
此外，光記錄媒體樣品#卜1到#1-5各者被設置在上 述光記錄媒體評估裝置中，並且以和自各樣品之記錄層中 再生隨機訊號之方式相同的方式’在各樣品之記錄層中所 記錄的8 T訊號被再生，藉以測量所再生之訊號的C/N 測量的結果被顯示於圖8中。 如圖8所示，發現到在組成式：TixSh-χ中之X的値 係等於 0.3 ( 3 0 a t 〇 m i c % )到 0.8 ( 8 0 a t o m i c °/〇 )的情況 中，藉由再生2 T訊號所獲得到之訊號的C/N比係等於或 高於40 dB，並且藉由再生8T訊號所獲得到之訊號的 C/N比係等於或高於45 dB，而且各樣品能夠被實際使用 做爲光記錄媒體。 此外，發現到在組成式：TixSh.x中之X的値爲0.4 (4 0 a t o m i c % )到 0 · 6 ( 6 0 a t 〇 m i c % )的情況中，藉由再 生2 T訊號所獲得到之訊號的C/N比及藉由再生8 T訊號 所獲得到之訊號的C/Ν比兩者變得更高，並且X的値爲約 0.5 ( 50 atomic% )的情況中，藉由再生2Τ訊號所獲得到 之訊號的C /N比及藉由再生8 T訊號所獲得到之訊號的 -31 - (28) 1307503 C/N比兩者變成最大値 工作例2 以和工作例1相同的方式’包含呈1 ’ 7 R L L調變碼 形式之2 T訊號到8 T訊號的隨機訊號藉由將雷射光束的 記錄功率設定爲最佳記錄功率而被記錄於光記錄媒體樣口％ # 1 - 1到# 1 - 5各者中。然後’從光記錄媒體樣品# 1 - 1到#卜 5各者中再生這樣所記錄之隨機訊號，並且測量所再生之 訊號的時鐘抖動。 測量的結果被顯示於圖9中。 在圖9中，曲線A1顯示獲得自位於軌道（沒有資料 被再生於其中）間之軌道之再生訊號的時鐘抖動（單一抖 動），並且曲線A2顯示獲得自位於軌道（資料被記錄於 其中）間之軌道之再生訊號的時鐘抖動（相互抖動）。 如圖9所示，發現到在組成式：中之X的値 係小於0.3 ( 3〇 atomic% )的情況中，單一抖動及相互抖 動兩者皆高。進一步發現到在組成式：中之X的 値爲 〇 4 ( 4 0 a t 〇 m i c % )到 〇 _ 6 ( 6 0 a 10 m i C % )的情況中， 在單一抖動與相互抖動間之値的差異小’並且在x的値爲 約 0.5 ( 50 atomic% )的情況中，在單一抖動與相互抖動 間之値的差異非常地小。 因此，發現到爲了改進光記錄媒體的串音特性，較佳 決定記錄層中所含之合金的組成而使得組成式：T i x S i;. x 中之 x 的値爲 0.4 ( 4 0 a t o m i c % )到 0 · 6 ( 6 0 a t o m i c % )， -32- (29) 1307503 並且特別較佳決定記錄層中所含之合金的組成而使得 式：TixSi^x中之X的値爲約0.5。 工作例3 除了形成含有由組成式：（Ti〇.5Si〇.5 ) yAh.y所 之合金的記錄層以外，依照和工作例1相同之方式來 光記錄媒體樣品#3-1。 在記錄層中所含之合金的組成被決定而使得組成 (Ti〇.5Si〇.5 ) yAh-y 中之 y 的値係等於 0.67 atomic% ) 〇 此外，依照和光記錄媒體樣品#3-1相同的方式 造光記錄媒體樣品#3-2 到#3-4，除了組成3 (Ti0.5Si〇.5 ) yAl!.y中之 y的値被逐步增加到1 ( atomic%)以形成記錄層以外。 此外’光記錄媒體樣品#3 - 1到#3 -4各者被設置 述之光記錄媒體評估裝置中，並且依照和工作例1相 方式，使用其記錄功率被設定爲7.0 mW的雷射光束 含呈1 ’ 7 RLL調變碼形式之2T訊號到8T訊號的隨 號被記錄於光記錄媒體樣品#3-1到#3-4各者中。然 依照和工作例1相同的方式，從光記錄媒體樣品#3 -#3-4各者中再生這樣所記錄之隨機訊號，並且測量 生之訊號的時鐘抖動。 此外’類似於上面，隨機訊號被記錄於光記錄媒 品# 3 · 1到# 3 - 4各者中，而同時以〇 . 2 m W的增量來增 組成 表示 製造 式： (67 來製 100 在上 同的 ，包 機訊 後， 1到 所再 體樣 加雷 -33- (30) 1307503 射光束的記錄功率到達I 〇.〇 mW，藉以類似於上面， 樣品再生隨機訊號，並且測量所再生之訊號的時鐘抖 從這樣所測量到之時鐘抖動中來決定最低的時 動，並且最低之再生訊號之時鐘抖動處的記錄功率被 當作是雷射光束的最佳記錄功率。 此外，使用其記錄功率被設定爲最佳記錄功率的 光束，以和記錄隨機訊號於各樣品之記錄層中之方式 的方式，2T訊號被記錄於光記錄媒體樣品#3-1到#3· 者中。 然後，以和自各樣品之記錄層中再生隨機訊號之 相同的方式，使用其功率被設定爲最佳記錄功率的雷 記錄之2T訊號自光記錄媒體樣品#3-1到#3-4各者中 生，藉以測量所再生之訊號的C/N比。 測量的結果被顯示於圖1 〇中。 此外，光記錄媒體樣品#3-1到#3-4各者被設置 述光記錄媒體評估裝置中，並且呈1，7 RLL調變碼 式之8T訊號以和記錄2T訊號於各樣品之記錄層中 式相同的方式，使用其功率被設定爲最佳記錄功率之 光束而被記錄於光記錄媒體樣品#3_1到#3_4各者中。 然後，以和自各樣品之記錄層中再生2T訊號之 相同的方式，使用其功率被設定爲最佳記錄功率之雷 束所記錄的8T訊號被再生自光記錄媒體樣品#3-1到 各者中，藉以測量所再生之訊號的C./N比。 測量的結果被顯示於圖]〇中。 自各 動。 鐘抖 決定 雷射 相同 •4各 方式 射所 被再 在上 的形 之方 雷射 方式 射光 #3-4 -34- (31) 1307503 如圖1 0所示，發現到在組成式：（T i ο . 5 s i G . 5 ) y A 1 1 - y 中之 y 的値爲 0.75 ( 75 atomic% )到 1 ( 1 00 atomic% )的 情況中，藉由再生2T訊號所獲得到之訊號的C/N比及藉 由再生8T訊號所獲得到之訊號的C/N比兩者實際上係恆 定的，並且在組成式：（TiQ.5SiQ.5 ) yAh.y中之y的値係 小於〇 _ 7 5 ( 7 5 at 〇 m i c % )的情況中，藉由再生2 T訊號所 獲得到之訊號的C/N比及藉由再生8T訊號所獲得到之訊 號的C/N比兩者係非常地低。 因此，發現到在組成式：（Ti〇.5Si〇.5 ) yAh-y中之y 的値係等於或大於0.7 5 ( 7 5 a t o m i c % )的情況中，所再生 之訊號的C/N比幾乎不受在合金中所含之任何的A1所影 工作例4 以和工作例3相同的方式，包含呈1，7 RLL調變碼 形式之2T訊號到8T訊號的隨機訊號藉由將雷射光束的 記錄功率設定爲最佳記錄功率而被記錄於光記錄媒體樣品 #3-1到#3-4各者中。然後，從光記錄媒體樣品#3-1到ΜΑ 各者中 再生這 樣所記 錄之隨 機訊號 ，並且 測量所 再生之 iJl 5虎的時鐘抖動。 測量的結果被顯示於圖1 1中。 在圖1 1中，曲線B1顯示獲得自位於軌道（沒有資 料被再生於其中）間之軌道之再生訊號的時鐘抖動（單一 抖動），並且曲線B2顯示獲得自位於軌道（資料被記錄 -35- (32) 1307503 於其中）間之軌道之再生訊號的時鐘抖動（相互抖動）。 如圖1 1所示，發現到在組成式：（Tio.sSioj ) yAlh, 中之 y 的値爲 〇·75 ( 75 atomic%)至!J 1 ( 100 atomic%)的 情況中，單一抖動及相互抖動兩者實際上係恆定的，並且 在組成式：（Ti〇.5Si〇.5 ) yAh.y中之y的値係小於〇.75 (7 5 a t o m i c % )的情況中，在單一抖動及相互抖動非常地 局。 因此，發現到在組成式：（Ti〇.5Si〇.5) yAh-y中之y 的値係等於或大於ο _ 7 5 ( 7 5 a t o m i c % )的情況中，所再生 之訊號的單一抖動及相互抖動幾乎不受在合金中所含之任 何的A1所影響。 工作例5 除了形成含有由組成式：TixSh—x所表示之合金的記 錄層及具有35 nm之厚度的第一電介質層以外，依照和工 作例1相同之方式來製造光記錄媒體樣品# 5 -1。 在記錄層中所含之合金的組成被決定而使得組成式： TixSii-x 中之 X 的値係等於 0_15 ( 15 atomic%)。 此外，依照和光記錄媒體樣品# 5 -1相同的方式來製 造光記錄媒體樣品# 5 - 2到# 5 · 5，除了組成式：τ j χ s i】_ x中 之x的値被逐步增加到1 ( ] 〇〇 atomic% )以形成記錄層以 外。 然後’光記錄媒體樣品#5-1到#5-5各者被設置在上 述光記錄媒體評估裝置中，並且依照和工作例1相同的方 -36- (33) 1307503 式’使用其記錄功率被設定爲7. 〇 mW的雷射光束，記錄 層上’包含呈1 ’ 7 RLL調變碼形式之2T訊號到8T訊號 的隨機訊號被記錄於光記錄媒體樣品#5·]到#5-5各者 中。然後’從光記錄媒體樣品#5-1到#5-5各者中再生-這 樣所記錄之隨機訊號，並且測量所再生之訊號的時鐘抖 動。 此外’類似於上面，隨機訊號被記錄於光記錄媒體樣 品#5-1到#5-5各者中，而同時以〇.2 mW的增量來增加雷 射光束的記錄功率到達1 0.0 mW，藉以類似於上面，自各 樣品再生隨機訊號，並且測量所再生之訊號的時鐘抖動。 從這樣所測量到之時鐘抖動中來決定最低的時鐘抖 動，並且最低之再生訊號之時鐘抖動處的記錄功率被決定 當作是雷射光束的最佳記錄功率。 此外，使用其記錄功率被設定爲最佳記錄功率的雷射 光束，以和記錄隨機訊號於各樣品之記錄層中之方式相同 的方式，2T訊號被記錄於光記錄媒體樣品#5-1到#5-5各 者中。 然後，以和自各樣品之記錄層中再生隨機訊號之方式 相同的方式，使用其功率被設定爲最佳記錄功率的雷射所 記錄之2T訊號自光記錄媒體樣品#5-1到#5-5各者中被再 生，藉以測量所再生之訊號的C/N比。 測量的結果被顯示於圖〗2中。 此外，光記錄媒體樣品# 5 · 1到# 5 - 5各者被設置在上 述光記錄媒體評估裝置中’並且呈】’ 7 RLL調變碼的形 -37- (34) 1307503 式之8 T訊號以和記錄隨機訊號於各樣品之記錄層中之方 式相同的方式’使用其記錄功率被設定爲最佳記錄功率之 雷射光束而被記錄於光記錄媒體樣品#5-1到#5-5各者 中。 然後，以和自各樣品之記錄層中再生隨機訊號之方式 相同的方式’使用其功率被設定爲最佳記錄功率之雷射所 記錄的8 Τ訊號被再生自光記錄媒體樣品# 5 - 1到# 5 - 5各者 中，藉以測量所再生之訊號的C/N比。 測量的結果被顯示於圖1 2中。 如圖1 2所示，發現到在組成式：Ti x S i】· χ中之X的値 爲 0.3 ( 30 atomic% )到 0.8 ( 80 atomic% )的情況中，藉 由再生2T訊號所獲得到之訊號的C/N比係等於或高於40 dB，並且藉由再生8 T訊號所獲得到之訊號的C/N比係等 於或高於45 dB，而且各樣品能夠被實際使用做爲光記錄 媒體。 此外，發現到在組成式：TixSh-x中之X的値爲0.4 (40 atomic% )到 0 · 6 ( 6 0 at o m i c % )的情況中，藉由再 生2 T訊號所獲得到之訊號的C/N比及藉由再生8 T訊號 所獲得到之訊號的C/N比兩者變得更高，並且X的値爲約 0_5 ( 50 atomic% )的情況中，藉由再生2T訊號所獲得到 之訊號的C/N比及藉由再生8T訊號所獲得到之訊號的 C/N比兩者變成最大値。 工作例6 -38- (35) 1307503 以和工作例5相同的方式’包含呈1 ’ 7 R L L調變碼 形式之2 T訊號到8 Τ訊號的隨機訊號藉由將雷射光束的 記錄功率設定爲最佳記錄功率而被記錄於光記錄媒體樣品 # 5 -1到# 5 - 5各者中。然後，從光記錄媒體樣品# 5 -1到# 5 -5各者中再生這樣所記錄之隨機訊號，並且測量所再生之 訊號的時鐘抖動。 測量的結果被顯示於圖1 3中。 在圖13中，曲線C1顯示獲得自位於軌道（沒有資 料被再生於其中）間之軌道之再生訊號的時鐘抖動（單一 抖動），並且曲線c 2顯示獲得自位於軌道（資料被記錄 於其中）間之軌道之再生訊號的時鐘抖動（相互抖動）。 如圖1 3所示，發現到在組成式：Ti x S i! -χ中之X的値 係低於〇 . 3 ( 3 0 at 〇 m i c % )的情況中，單一抖動及相互抖 動兩者係非常地高，並且在組成式：TixSh.x中之X的値 係等於或高於0 · 4 ( 4 0 at 0 m i c % )以及等於或低於〇 6 ( 6 〇 atomic% )的情況中’在單一抖動與相互抖動間之値的差 異小。進一步發現到在X的値爲約0,5 ( 5 〇 a t 〇 m i c % )的 情況中’在單一抖動與相互抖動間之値的差異非常地小。 因此’發現到爲了改進光記錄媒體的串音特性，較佳 決定記錄餍中所含之合金的組成而使得組成式：TixS 中之 x 的値爲 0.4 ( 40 atomic%)到 0.6 ( 60 atomic%)， 並且特別較佳決定記錄層中所含之合金的組成而使得組成 式：T i x S i, _ x中之X的値爲約〇 . 5。 -39- (36) 1307503 工作例7 除了形成含有由組成式：（Tio.sAlo.s ) ySh.y所表示 之合金的記錄層以外’依照和工作例1相同之方式來製造 光記錄媒體樣品#7-1 ° 在記錄層中所含之合金的組成被決定而使得組成式： (Ti〇.5Al〇.5 ) ySil-y 中之 y 的値係等於 0.67(67 atomic% ) 。 此外，依照和光記錄媒體樣品# 7 - 1相同的方式來製 造光記錄媒體樣品#7_2 及#7-3 ，除了組成式： (T i 〇 . 5 S i 〇. 5 ) y A1, · y中之 y的値被逐步增加到 1 ( 1 〇 〇 a t o m i c % )以形成記錄層以外。 然後，光記錄媒體樣品# 7 -1到# 7 - 3各者被設置在上 述之光記錄媒體評估裝置中，並且依照和工作例1相同的 方式，使用其記錄功率被設定爲7.0 mW的雷射光束，包 含呈1，7 RLL調變碼形式之2T訊號到8T訊號的隨機訊 號被記錄於光記錄媒體樣品#7-1到#7-3各者中。然後， 從光記錄媒體樣品#7-1到#7-3各者中再生這樣所記錄之 隨機訊號，並且測量所再生之訊號的時鐘抖動。 此外，類似於上面，隨機訊號被記錄於光記錄媒體樣 品#7-1到#7-3各者中，而同時以0.2 mW的增量來增加雷 射光束的記錄功率到達1 0.0 m W，藉以類似於上面，自各 樣品再生隨機訊號，並且測量所再生之訊號的時鐘抖動。 從這樣所測量到之時鐘抖動中來決定最低的時鐘抖 動’並且最低之再生訊號之時鐘抖動處的記錄功率被決定 -40- (37) 1307503 當作是雷射光束的最佳記錄功率。 此外，使用其記錄功率被設定爲最佳記錄功率的 光束，以和記錄隨機訊號於各樣品之記錄層中之方式 的方式，2T訊號被記錄於光記錄媒體樣品#7-1到#7 者中。 然後，以和自各樣品之記錄層中再生隨機訊號之 相同的方式，使用其功率被設定爲最佳記錄功率的雷 記錄之2T訊號自光記錄媒體樣品#7-1到#7-3各者中 生，藉以測量所再生之訊號的C/N比。 測量的結果被顯示於圖1 4中。 此外，光記錄媒體樣品#7-1到#7-3各者被設置 述光記錄媒體評估裝置中，並且呈1，7 RLL調變碼 式之8 T訊號以和記錄隨機訊號於各樣品之記錄層中 式相同的方式，使用其功率被設定爲最佳記錄功率之 光束而被記錄於光記錄媒體樣品#7-1到#7-3各者中。 然後，以和自各樣品之記錄層中再生隨機訊號之 相同的方式，使用其功率被設定爲最佳記錄功率之雷 束所記錄的8T訊號被再生自光記錄媒體樣品#7-1到 各者中，藉以測量所再生之訊號的C/N比。 測量的結果被顯示於圖1 4中。 如圖14所示，發現到在組成式：（TiQ.5AlG.5 ) y 中之 y 的値爲 0.7 5 ( 7 5 atomic% )到 1 ( 1 00 atomic% 情況中，藉由再生2T訊號所獲得到之訊號的C/N比 由再生8T訊號所獲得到之訊號的C/N比兩者隨著y 雷射 相同 3各 方式 射所 被再 在上 的形 之方 雷射 方式 射光 #7-3 S i 1. y )的 及藉 値的 -41 - (38) 1307503 減小而稍微地減小，但是，藉由再生2 T訊號所獲得到之 訊號的C/N比實際上係等於或高於40 dB，並且藉由再生 8T訊號所獲得到之訊號的C/N比實際上係等於或高於50 dB。 另一方面，發現到在組成式：（Ti〇.5Al().5 ) ySi^y中 之y的値係小於0.75 ( 7 5 atomic% )的情況中，藉由再生 2T訊號所獲得到之訊號的C/N比及藉由再生8T訊號所獲 得到之訊號的C/N比兩者隨著y値的減小而減小。 因此，發現到在組成式：（Tio.sAlo.s ) ySh.y中之y 的値係等於或大於0.7 5 ( 7 5 atomic% )的情況中，所再生 之訊號的C/N比並不受在合金中所含之任何的A1非常大 的影響。 工作例8 以和工作例7相同的方式，包含呈1，7 RLL調變碼 形式之2 T訊號到8 T訊號的隨機訊號藉由將雷射光束的 記錄功率設定爲最佳記錄功率而被記錄於光記錄媒體樣品 #7-1到#7_3各者中。然後，從光記錄媒體樣品#7-1到#7· 3各者中再生這樣所記錄之隨機訊號，並且測量所再生之 訊號的時鐘抖動。 測量的結果被顯示於圖I 5中。 在圖1 5中，曲線D1顯示獲得自位於軌道（沒有資 料被再生於其中）間之軌道之再生訊號的時鐘抖動（單一 抖動），並且曲線D 2顯示獲得自位於軌道（資料被記錄 -42- (39) 1307503 於其中）間之軌道之再生訊號的時鐘抖動（相互抖動）。 如圖1 5所示，發現到在組成式：（T i g . 5 A1 〇. 5 ) y S i I - y 中之 y 的値爲 0.75 (75 atomic%)到 1 ( 100 atomic%)的 情況中，y値的減小伴隨著單一抖動及相互抖動兩者的稍 微增加，但是沒有觀察到單一抖動及相互抖動兩者的顯著 增力口。 相反地，發現到在組成式：（Ti〇.5Al〇.5 ) ySh.y中之 y 的値係小於 0 . 7 5 ( 7 5 a t 〇 m i c % )到 1 ( 1 0 0 a t 〇 m i c % )的 情況中，y値的減小伴隨著單一抖動及相互抖動兩者的急 遽增加。 因此，發現到在組成式：（T i 〇 . 5 A 1 〇 . 5 ) y S i】-y中之y 的値係等於或大於0.7 5 ( 7 5 atomic% )的情況中，所再生 之訊號的單一抖動及相互抖動並不受在合金中所含之任何 的S i非常大的影響。 已經參照特定實施例及工作例來顯示及說明本發明， 但是，應該注意到本發明絕非受限於所敘述之配置的詳細 內容，而是可以在不違離所附加之申請專利範圍的範疇下 做成改變及修正。 舉例來說’在圖1及圖2所示之光記錄媒體10中， 雖然記錄層14被夾在第二電介質層23與第一電介質層 15之間，但是僅第二電介質層23與第一電介質層15其 中一者可以被形成而和記錄層1 4相鄰。同樣地，在圖7 所示之光記錄媒體30中，L0資訊記錄層40和L1資訊記 錄層50各自可以包含一單一電介質層。 -43 - (40) 1307503 況且，雖然在圖1及圖2所示之光記錄媒體1 0包含 支撐基板11上的反射層12’但是在記錄層14之形成有 記錄標記的區域與空白區域間之反射係數上的差異很大的 情況中，反射層1 2可以被省略。 此外，在上述實施例中，雖然反射層12、反射層 41、反射層51各者被構成爲單一層，但是反射層12、反 射層4 1、反射層5 1各者可以具有多層結構。 除此之外，在圖7所示之實施例中，雖然L1資訊記 錄層50包含一反射層51’但是因爲當雷射光束L被投射 於L0資訊記錄層40上時，雷射光束L通過L1資訊記錄 層50，所以L1資訊記錄層50可以不設置有任何反射 層，或者非常薄的反射層，以便增加L1資訊記錄層5 0的 透光性。 況且，雖然光記錄媒體〗〇包含單一記錄層14做爲圖 I及圖2所示之實施例中的資訊記錄層，以及光記錄媒體 30包含圖7所示之實施例中的L0資訊記錄層40及L1資 訊記錄層5 0，但是，光記錄媒體可以包含三個或三個以 上的資訊記錄層。 此外，在圖1所示之實施例中，光記錄媒體1 0包含 光透射層16，並且被建構而使得雷射光束L經由光透射 層16而被投射於記錄層14上，並且在圖7所示之實施例 中，光記錄媒體30包含光透射層33，並且被建構而使得 雷射光束L經由光透射層3 3而被投射於L1資訊記錄層 50或L0資訊記錄層40上。但是，本發明並非僅限於具 -44 - (41) 1307503 有這樣的組態之光記錄媒體，並且此光記錄媒體可以包含 一由可透光材料所做的基板，並且被建構而使得雷射光束 L經由此基板而被投射於記錄層1 4、L 1資訊記錄層5 0或 L0資訊記錄層40上。 依據本發明，有可能提供一光記錄媒體，其包含一由 對全球環境產生最小影響之材料所做的記錄層。 此外，依據本發明，有可能提供一光記錄媒體之製造 方法，而光記錄媒體包含一由對全球環境產生最小影響之 材料所做的記錄層。 此外，依據本發明，有可能提供一用於濺擊程序之標 靶，其能夠形成一對全球環境產生最小影響之材料之光記 錄媒體的記錄層。 [圖式簡單說明】 圖1係一示意局部切割立體圖，顯示爲本發明之一較 佳實施例的光記錄媒體。 圖2係一放大示意剖面圖，顯示由圖1之A所表示 之光記錄媒體的部分。 圖3係一圖形，顯示在記錄2 T訊號於圖1及圖2所 示之光記錄媒體之記錄層中的情況中，用來調變雷射光束 功率之脈波串列圖案的波形。 圖4係一圖形，顯示在記錄3 T訊號於圖1及圖2所 示之光記錄媒體之記錄層中的情況中，用來調變雷射光束 功率之脈波串列圖案的波形。 -45- (42) 1307503 圖5係一圖形，顯示在記錄4T訊號於圖1及圖2所 示之光記錄媒體之記錄層中的情況中，用來調變雷射光束 功率之脈波串列圖案的波形。 圖6係一圖形，顯示在記錄5Τ訊號到8Τ訊號其中 一者於圖〗及圖2所示之光記錄媒體之記錄層中的情況 中，用來調變雷射光束功率之脈波串列圖案的波形。 圖7係一示意剖面圖，顯示爲本發明之另一較佳實施 例的光記錄媒體。 圖8係一圖表，顯示再生自光記錄媒體樣品# 1 -1到 #1-5各者之訊號的C/N比怎麼樣隨著X的値而改變。 圖9係一圖表，顯示再生自光記錄媒體樣品# 1 -1到 # 1 - 5各者之訊號的單一抖動及交互抖動怎麼樣隨著X的 値而改變。 圖10係一圖表，顯不再生自光記錄媒體樣品#3-1到 # 3-4各者之訊號的C/N比怎麼樣隨著y的値而改變。 圖1 1係一圖表，顯示再生自光記錄媒體樣品# 3 · 1到 #3-4各者之訊號的單一抖動及交互抖動怎麼樣隨著y的 値而改變。 圖1 2係一圖表，顯示再生自光記錄媒體樣品# 5 _ 1到 # 5 - 5各者之訊號的C /N比怎麼樣隨著X的値而改變。 圖1 3係一圖表，顯示再生自光記錄媒體樣品# 5 - 1到 #5-5各者之訊號的單一抖動及交互抖動怎麼樣隨著X的 値而改變。 圖14係一圖表’顯不再生自光記錄媒體樣品#7-1到 -46 - (43) 1307503 #7-3各者之訊號的C/N比怎麼樣隨著y的値而改變。 圖1 5係一圖表，顯示再生自光記錄媒體樣品#7-1到 #7-3各者之訊號的單一抖動及交互抖動怎麼樣隨著y的 値而改變。 【符號說明】 10, 3 0 光 記 錄 媒 體 11， 3 1 支 撐 基 板 12, 41 - 5 1 反 射 層 13, 5 2 第 二 電 介 質 層 14 記錄層 15, 54 第 — 電 介 質 層 16, 3 3 光 透 射 層 1 6 a ，3 3a 光 入 射 平 面 3 2 透明 1中 間 層 40 L 0資訊記錄層 42 第四電介質層 43 L0記錄層 44 第三電介質層 5 0 L 1資訊記錄層 5 3 L 1記錄層 11a ，31a， 32a 凹槽 lib ，31b， 32b 平地 L 雷身寸光束 -47 -

Claims (1)

1307503 (1) 拾、申請專利範圍 】· 一種光記錄媒體，包含一含有由通式： (丁 “Mlh) yM2i.y所表示之合金的記錄層，其中，元素 M1爲Si或A1，元素M2爲和元素Μ】不同的元素，X係 等於或大於〇 · 3且等於或小於〇.8 ’而y係等於或大於 〇·75且等於或小於1。 2. 如申請專利範圍第1項之光記錄媒體’其中’兀 素M2係選自包含Si，AI及Fe之群組中。 3. 如申請專利範圍第1項之光記錄媒體，其中’ x 係等於或大於0 _ 4且等於或小於〇 · 6。 4. 如申請專利範圍第2項之光記錄媒體’其中’ X 係等於或大於0.4且等於或小於〇 · 6。 5. 如申請專利範圍第1項之光記錄媒體’另包含一 電介質層於記錄層的至少一側上。 6. 如申請專利範圍第2項之光記錄媒體，另包含一 電介質層於記錄層的至少一側上。 7. 如申請專利範圍第’3項之光記錄媒體，另包含一 電介質層於記錄層的至少一側上。 8. 如申請專利範圍第1項之光記錄媒體，另包含電 介質層於記錄層的相反側上。 9. 如申請專利範圍第2項之光記錄媒體，另包含電 介質層於記錄層的相反側上。 10. 如申請專利範圍第3項之光記錄媒體，另包含電 介質層於記錄層的相反側上。 -48- (2) 1307503 11. 一種光記錄媒體之製造方法，其包含一藉由濺擊 程序，使用一含有由通式：（Tix，Ml n ) 所表示 之合金的標紀來形成光記錄媒體的記錄層之步驟，其中， 元素Ml爲Si或A1’元素M2爲和元素Ml不同的元素， x，係等於或大於0.37且等於或小於0.85，而y’係等於或 大於0 · 7 5且等於或小於1。
12. 如申請專利範圍第1 1項之光記錄媒體之製造方 法，其中，元素M2係選自包含Si，A1及Fe之群組中。 13. 如申請專利範圍第1〗項之光記錄媒體之製造方 法，其中，X係等於或大於0·4且等於或小於0.6。 1 4 .如申請專利範圍第1 2項之光記錄媒體之製造方 法，其中，X係等於或大於0 · 4且等於或小於0 · 6。 15. —種使用於濺擊程序之標靶，該標靶含有一由通 式：（Τίχ’ΜΙ^ ) ，所表示之合金，其中’元素
M1爲Si或Al ’元素M2爲和元素Ml不同的元素’ ^係 等於或大於〇.37且等於或小於0.85 ’而y’係等於或大於 0.75且等於或小於1 ° i 6.如申請專利範圍第1 5項之使用於濺擊程序之標 其中，元素M2係選自包含Si，A】及Fe之群組中。 牟C 〆、 1 7 .如申請專利範圍第1 5項之使用於濺擊程序之標 革巴，其中’ x係等於或大於0·4且等於或小於0·6 ° J 8 .如申請專利範圍第1 6項之使用於濺擊程序之標 革巴，其中，x係等於或大於0_4且等於或小於0·6 ° -49 -
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