TWI300168B - Device for aligning substrate with mask and method using the same - Google Patents

Description

1300168 九、發明說明： 【相關申請案之交互參考】 本發明案主張韓國專利φ这电& ^ 寻j甲明案第2005-0000947號之優 先權與權益，該韓國專利申誇查 号列T明案弟2005-0000947號申請於 2005年1月5日’該案在此合俱 # ϋ 口 1汗，以作為所有在此提出的 目的之參考。 【發明所屬之技術領域】 本發明案相關於基板以及一遮光罩，並1更特別的是， 相關於-種用以將基板與—遮光單對準之設備與使用該種 設備的方法。 【先前技術】 平面顯示器具有一種「電致發光」顯示器的形式，電 致毛光顯不裔可以分類為無機（in〇rganic )電致發光顯示 器或是有機（organic)電致發光顯示器，依照使用作為放 射層的材料而定。有機電致發光顯示器正是目前吸引人的 種類，因為其可由低電壓所驅動，且其本身具有較輕的重 量，厚度也較薄，視角也較廣，並且具有快速的反應時間。 一種習知的有機電致發光顯示器包含一有機電致發光 έ又備，其具有一陽極，一有機材料層，以及一陰極，該陽 極，有機材料層以及陰極係堆疊在一基板上。有機材料層 包含一有機放射層，其由孔與電子重組放射出可見光。進 一步’為傳輸該孔與該電子至該放射層，且為增強放射效 13〇〇168 “子入射層與一電子傳輸層可以被放置於陰極與有機 方欠射pq 、， 9 θ ，並且一孔入射層與一孔傳輸層可以放置於陽 極與有機放射層之間。 ^具有此種組態的有機電致發光設備可以由一物理性蒸 气儿％方法所製造，例如一真空沉積方法，一離子電鍍方 或疋一濺鍍方法，或是利用氣體反應之化學蒸汽沉積 去真空沉積方法已經被廣泛的使用，利用將一有機材 料於直办 tb 朴

、-、二洛發以將一有機氣態材料沉積於基板上。此猶 的直办、、 、一二沉積方法係利用一溢出室以將有機氣態材料蒸發於 基板上的直办6 i …二至中，因此可以形成有機電致發光 機材料層。 , 一叩近來基板的尺寸已經被放大，以用於製造大尺寸的顯 7、 兔展種積系統，以將有機材料層沉積在較 大的基板上’丨中該溢出室將從真空室中垂直的移除，並 且溢出有機氣態材料。 此種/儿積系統包括一驅動軸以垂直的移除噴射器，並 且該驅動轴藉著-驅動機構而繞著-軸旋轉。當該驅動軸 係繞者該轴旋轉時，該喷射器係垂直的移除，肖由將有機 材料蒸發，而溢出密封的有機氣態材料。 進一步， 程中間下陷， 罩的垂直對準 為了預防一大型基板在溢出有機氣態材料過 可以使用一種在固定狀態下將基板對準遮光 系統。 U ’需要一種用於精確的移 u 口旮thj各又1菏，其係、 應用方、垂直對準系、统，以及利用該垂直對準系統的對準方 7 1300168 法。 【發明内容】 種用以將基板與一遮光罩對準之設 器施加至垂直對準系統以及利用該垂直 本發明案的甘y

部份内容可由锐：寺徵將會由下列的說明所提出，並且 案而獲得教示曰而顯得明顯’或是可以由實施本發明 本發明索：- 備，其包將—基板對準—遮光罩的設 使用的部^第二=該遮光罩係位於該基板尚未 用的背.、 遮光罩，其置放於該遮光罩尚未使 ^ 4知，一感測單元，當該A 載物台對準該遮光“田°亥基板係措由-驅動單元與- 第二對、用以感測第一對準遮光罩相對於 一對準遮光罩的位置；

本發明案提供 備，藉由移除噴射 對準系統之方法。 的序向過程n對準^ 早用以控制實施 的以及 、私，以在由感測單元所感測到 ㈣及由_單元所決定的原則下，重複該對準過程。 本發明案揭示一種方法， ^ 設備與-遮光罩，盆包括…將一基板對準-放射 上且μ 〃包括將具有第-對準遮光軍之基板裝 上八有弟二對準記號之遮光罩 栌讲笙將弟一對準遮光罩以幾乎 起過弟一對準記號的方式對準，於 二對準記號之間感測一對準，，、先罩以及第 Β . 才旱錯命，從該遮光罩上拆卸該基 板亚且調整基板與遮光罩的相 s ^ ^ 0相對位置，以減少根據預定的 準則而言不能接受的對準錯誤。 8 1300168 【實施方式】 本ι明案係餐考所附圖式而在以下更完整的敘述，其 :不本發明案之實施例。然而本發明案可以用不同形式 • t T現’並且所提出的實施例不應被視為侷限本發明，而 是提供以使得本發明之揭露完整，並且會完整傳達本發明 案之範嘴予本領域中習知技術者。在圖式中，各層與各區 域的尺寸與相對大小為了清楚之故而被放大。 第1圖顯示根據本發明案之一實施例的對準設備，以 將基板對準-發光設備以及一遮光罩。第2圖A與第2圖 B ^示一基板的前視圖以及—托盤，其係根據本發明案之 一貫施例。第2 ® C顯示-對準遮光罩的放大視圖，該對 φ 準遮光罩係於第2圖A的基板以及第2圖B的托盤之間。 第3圖顯示一對準設備的方塊圖’其係根據本發明案之一 實施例。 根據本發明案之一實施例的對準設備丨〇〇，其用於將 基板對準一放射设備和一遮光罩，該對準設備丨〇〇包含以 下··一對準記號110，其包含一基板記號112以及遮光罩 δ己號1 14，该兩種記號係施加於基板1 〇2的尚未使用部份 1 02a以及一遮光罩1 04之尚未使用的部份1 〇4a，該施加的 狀恶係處於一種站立的狀態；一感測單元1 3 〇，其當基板 9 1300168 102由一支撐物106所支撐，並且以一驅動單元l〇8而對 準遮光罩104時用以照相，以判斷基板102與遮光罩1〇4 上的對準記號112與114是否彼此重疊；以及一控制單一 140,用以決定基板記號112與遮光罩記號114是否根據 感測資料而精確地對準，並且控制驅動單元丨〇8以及—載 物台109以精確地調整基板1〇2。 如第1圖所顯示者，感測單元130包含一照相機i32 • 以對標記於基板102與遮光罩104上的基板記號112以及 遮光罩記號114進行照相，當基板1〇2係附加至遮光罩1〇4 時’基板記號112與遮光罩記號114是彼此對準的。 如在第2圖A，第2圖B，以及第2圖C上所顯示者， 對準記號110係標記於基板1 〇2以及遮光罩丨〇4的邊緣上。 如同所顯示的，對準記號110包括具有直徑約為〇·3毫米 的一基板記號112，該基板記號112係使用作為一對準點； 並包括具有直徑約為1毫米的一遮光罩記號114，該遮光 _罩記號1 14係使用作為一參考點。因此，在基板1〇2與遮 光罩1 04之間的校準錯誤可以經由計算基板記號丨丨2相對 於遮光罩記號114的位置而獲得。例如，當遮光罩記號i工4 的中心點係對準基板記號丨丨2的中心點，則校準錯誤為 「〇」。在此，對準點與參考點為了方便之故分別定義為 基板記號與遮光罩記號。 照相機132係以不論驅動.單元1〇8與載物台1〇9如何 移動都固定的方式固定，並且其置放位置係對應對準記號 110，位於基板102與遮光罩104的照相範圍之内。 10 1300168 驅動單元108驅動基板i〇2以便往前移動以及往後移 動並且以便在垂直方向與水平方向上精確的調整載物台 109。 ° 控制單元140包含一讀取器142，其處理從照相機132 處接收的影像資料，並且決定基板1〇2以及遮光罩1〇4之 間的對準錯誤是否為可接受。控制單元14〇進一步包含一 控制器144,其控制驅動單元1〇8以及載物台1〇9以基於

所決定的對準錯誤而操作。 :當讀取器142決定在基板102與遮光罩1〇4之間的對 準錯誤是不可接受的，控制器144控制驅動單元1〇8以從 遮光罩104處移除基板1〇2，並且控制載物台1〇9藉由重 :置放基1〇2於補償的位置而根據對準錯誤而調整。然 後’控制3 144控制驅動單元⑽以於補償位置對準基板 102與遮光罩1〇4。 在將基板102於補償位置處對準遮光罩1〇4之後照

:機132再次對對準記號11G取相，並且讀取H 142再次 1定對準錯誤。如果對準錯誤再次為不可接受者，控制器 而it制驅動早凡108以及載物$ 1〇9以針對新對準錯誤 又 > ，並且對準基板102以及遮光罩104。 之門當讀取器142決定在基板102與遮光罩⑽ 的對準錯誤為可接受的話，Μ完 板1。2對準遮光罩104時可以實施預定的製輕；，基 施例=亦揭不—種方法，其利用根據本發明案之-實 準設備以對準基板與遮鮮，在以下參照第4圖 11 1300168 而說明。 請參考第4圖，在操作步驟S1處，基板1〇2靠近遮 光罩1〇4而移動一段距離，例如大約3μη^在操作步驟s2〜 基板1〇2係附加至遮光罩1〇4,而在基板1〇2與遮光罩ι〇4 之間的對準記t i i 〇係被感測。當對準錯誤在操作步驟^ 時不被接受，在操作步驟S3處該對準錯誤係被補償，其 中基板1〇2係與遮光| 104處分開，並且整個操作回到操 作步驟S1處，其中基板102靠近遮光罩1〇4而移動一段 距離’例如大％ 3μιη，落於先前針對感測的對準錯誤而二 正的位置處。相反的，當對準錯誤在操作步驟s2處係屬 可接受者，於操作步驟S4處則完成基板1〇2與遮光罩1〇4 之間的對準作業。 在基板102對準遮光| 104之對準作業完成後，預定 的製程可以實施。 以下將針對對準作業再作更詳細的敘述。 對準設備_之驅動單A⑽將基板1()2驅動至靠近 遮光罩H)4之位置，並且載物自1〇9調整基板ι〇2以對準 遮光罩104。 當基板1 02與遮光罩1 〇4姑& m、、住+ 疋早U4彼此對準時，遮光罩記號114 與基板記號1 1 2幾近於對準的鞀疮 丁平的矛王度，然後照相機1 32對遮 光罩記號114與基板記號112取相 ^ ^ 並且碩取器142決定 在基板102與遮光罩1〇4之間的對準錯誤。 /讀取器142根據預定的準則判定對準錯誤係屬不可 接受時，驅動單元108驅動基板1〇2至與遮光I刚分開 12 1300168 的一位置處，並且載物台109藉由將基板102重新定位於 該補償位置而補償該對準錯誤。 因此，基板1〇2係在與遮光罩丨〇4分開的定位點被調 整。然後驅動單元1G8移動基板1G2以靠近遮光罩104於 大約3μιη的距離。 方面，當根據先前感測的資料以及補償所作出 的對準錯誤屬可以接受的話，就完成了基板1〇2與遮光罩 之間的對準作業。接下來，預定的製程可以施加在對 準遮光罩104的基板1〇2上。 如以上所述，根據本發明案之一實施例，感測基板以 罩之間的對準錯誤以決絲據觀準則而言，該對 ’錯块是否可接受。當對準錯誤為屬不可接受時，對於基 =與遮光罩之間的對準作業一直重複直到該對準錯誤達二 的程度為止。因此’該基板可以精確的對準該遮 :罩’因而可以顯著的減少因為不可接受的 致的缺陷。 叩等 :於熟知技術者而言’在不背離本案之精神或是範噚 宰、蓋：Γ案中可作不同的修改以及變異。因此，本發明 内：：發明案之所附申請專利範圍與其等效範圍的範 之内所作的修改與變異。 團式簡單說明 所附圖式係提供本發明案進_步 本說明書並且構成本說明書的一部份且合併於 1切闡述本發明案之實 13 1300168 她例解#本發明案之實施例，並且與本說明書之敕 述一併作為解釋本發明案之原則。 第1圖根據本發明案之一實施例的一對準設備，以將 一基板對準一發射設備以及一遮光罩。 第2A圖以及第2B圖顯示一基板以及一托盤的前視 圖，其係根據本發明案之一實施例。 弟 2C 圖顯不一斜 ifc m 、 y 对+遲先罩的放大視圖，該對準遮光

罩係位於如第2 A圖以；3笛〇 η 口 乂及弟2Β圖所顯示的基板以及該托盤 之間。 "—目^不4對準⑤備之—方塊圖，其係根據本發明 案之一貫施例。 第4圖顯示經由該對準設備用以對準該基板以及該遮 "軍之-流程圖’其係根據本發明案之—實施例。 【主要元件符號說明】 100對準設備 10 2基板 l〇2a基板102未使用的部份 104遮光罩 l〇4a遮光罩尚未使用的部份 106支撐物 108驅動單元 109載物台 110對準記號 14 1300168 112基板記號 114遮光罩記號 130感測單元 132照相機 140控制單元 142讀取器 144控制器

Claims (1)

1300168 十、申請專利範圍： 1.種用以對準基板與遮光罩之設備，其包含： 一驅動單元； 一载物台； 感測單70，在當驅動單元以及該載物台對準 與遗、Φ ® i x签板 _ 日守，用以感測第一對準遮光罩相對於第二對準逾 光罩的位置； 知 技制單70，其根據由感測單元所感測並且決定 料而重複一對準過程； 、、 乂 〃中邊第一對準遮光罩係位於基板中尚未使用的部 ^以及该第二對準遮光罩係位於該遮光罩之尚未使用的 部份。 的 *2·如申請專利範圍第丨項之設備，其中在當基板對準 遮光罩時，該第一對準遮光罩與第二對準遮光罩係以同心 圓的方式對準。 3·如申請專利範圍第2項之設備，其中該感測單元包 含一照相機，用以將第一對準遮光罩相對於第二對準記號 之位置取相。 4·如申請專利範圍第3項之設備，其中該照相機係以 對應第一對準遮光罩與第二對準遮光罩的位置置放，並且 置放位置係位於取相的範圍内。 5 ·如申請專利範圍第1項之設備，其中該控制單元包 含： 一讀取器，用以反映從感測單元接收的資料，並且用 16 1300168 =定—在基板與遮光軍之間的對準錯誤是否可被接受; 取哭的η ’用以控制驅動單元以及載物台，來根據讀 取时的預疋結果操作。 剖^如^請專利範圍帛5項之設備，其中該控制單元控 」早兀以及該載物台將基板與遮光罩相隔開，並且杏 項取器決㈣對準錯誤是不可接受時補償㈣準錯誤。田 7·如申請專利範圍第3項 甘士 — ^ 含： 示J貝之5又備，其中該控制單元包 —一讀取H’以反映從職測單元接收到的資料，並決 定在基板與，之間的對準錯誤是否為可接受；並且、 工制态，以控制該驅動單元以及該載物台，以根據 讀取器的預定結果以操作。 8.如申請專利範圍第7項之設備，其中該控制單元押 修二動單元與該载物台將基板與遮光罩相隔開，以； 視取益决疋Θ對準錯誤為不可接受時補償對準錯誤。 9·種用於將基板對準—發光設備與— 法，其包含： 夂万 將基板與第-對準遮光罩―起置放㈣近第 號之一遮光罩； 干 將第一對準遮光罩對準於鄰近第—對準記號； “感測在第一對準遮光罩與第二對準記號之間的對準錯 誤；以及 將基板從遮光罩拆卸下並且調整基板與遮光罩之相對 17 1300168 位置，以減少不可接受的對準錯誤。 10·如申請專利範圍第9項之方法，其中該調整步驟包 含： 移動該基板以對準遮光罩。 11 ·如申請專利範圍第9項之方法，其中該調整步驟包 含： 移動該遮光罩以對準基板。 十一、圖式： 如次頁

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