TWI300088B - Composition for film formation, method of film formation, and silica-based film - Google Patents

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l3〇〇〇88

I發明係關於一種薄膜形成用組成物 :月係關於一種可形成具低吸水性及2· ’且有用作為半導體裝置等等中之層 石基塗膜的薄膜形成用組成物。 之說明 。更特定言之， 1以下之介電常 間絕緣薄膜材料 本 之 今為止經常將利用真空方法諸如CVD形成之矽石 薄1膜2。薄Λ V作為半導體裝置及其他裝置中之層間絕緣 枯、^年來，為形成更均勻的層間絕緣薄膜，而使用包 水解產物作為主成份，且被稱為SQG(旋塗玻 :中朝二Λ塗膜。再者，由於在半導體裝^ ^ 有：體之趨勢的結已發展出-種包括聚

镇瞪為成 且具有低介電常數之稱為有機S〇G /專膜的層間絕緣薄膜。 &尤其，隨半導體裝置及其類似物中之積體程度或多層構 進/一步進展，而需要在導體之間之較佳的電絕緣，及 ^而須要具較低介電常數及較低吸水性的層間絕緣薄膜 關，達成低介電常數之材料，已有人提出一種包括經由 、元氧石夕烧在氨之存在下縮合而製得之微細顆粒及烧氧石夕 ，之部分水解作用之鹼性產物之混合物的組成物（參見曰 本公開專利第26 30 45/1 9 93及3 1 5 31 9/ 1 993號），及一種經 由使聚烷氧矽烷之鹼性水解產物在氨之存在下縮合而製得 之塗布流體（參見日本公開專利第34〇219/1999及

1300088 五、發明說明（2) 340 220 / 1 999號）。然而，由於 因而由此等方法製得之材:，應產物之不穩定的性質， 1以下之介電常數顯著地不、缚。膜性質諸如低吸水性及2· 於工業製造。 ：二。因此，此等材料不適合 發明之概述 本發明之一目的為提供一種 用組成物。更特定言之，1 于、則述問題的薄膜形成 共目的係I /it α 吸水性及2· 1以下之低介電常數，文捉彳/、一種可產生具低 及其類似物中之層間絕緣薄膜之且有用作為半導體裝置 組成物。 基塗膜的薄膜形成用 本發明之另一目的為提供一 膜。 、種由此組成物製成之矽石基 本發明提供-種薄膜形成用組成物，复 (Α)經由使選自由以下化學式（ 二匕括· 亦稱為「化合物（1 )」）、由以下化風=二之化合物（以下 物（以下亦稱為「化合物（2))、式（2)所表示之化合 示之化合物（以下亦稱為「化合 1下化學式（3 )所表 少一矽烷化合物在鹼性催化劑及水二所組成之群之至 製得之水解及縮合之產物， 仔在下水解及縮合而

RaSiCOR1 Va 其中R代表氫原子、氟原子、或 （1) 價有機基團；及a為1或2之整數，、有機基團；R1代表單

Si (OR2)4 其中R2代表單價有機基團， （2) 第.7頁 C:\2D_C0DE\91-06\91105721.ptd 1300088 五、發明說明（3) R3b(R40)3_bSHR7)d_Si(0R”3cR6c (3) 其中㈣可相同或不同’且各代表單價有機基團 可相同或不同，且各為〇至2之數目；R7代表氧原子 ίο、或^^(似-表示之基團’其中n為1至6之整數；則 (Β)可與成份（Α)相容或可分散於成份（Α)中，且且 25 0至450 °C之沸點或分解溫度的化合 八 (C)有機溶劑。 ^及 本發明更提供一種薄膜形成之方法，豆 — 膜：ir”物塗布至基材，然後再將：成之塗ί力:熱缚 石基丄明再提供一種利用前述之薄膜形成之方法製得之矽 發明_之詳細說明 本舍明中之水解及縮合之產物（ 至⑻所組成之群之至少一者產自由化 合物的混合物，或传/水解者二解產物及水解產物之縮 飞係札水解產物及縮合物之任一者。 物⑴至(3)中之之所水右解產物中含於構成成份(Α)之化合 等基團經水解，或1中可為其中僅有其中-個該 物。 /、中兩者以上經水解，或可為其混合 (3)成之= : =構成成份(Α)之化合物⑴至 物。然而，在本發明= 解產物之石夕烧醇基而形成之產 ^ 不而所有的矽烷醇基皆經縮合。換 1300088 五、發明說明（4) 二之此處所使用之術語「縮合物」係指包括，例如，其 Μ A二°τ 列之矽垸醇基經縮合之縮合物或縮合度不同之 和百合物的混合物。 水解及端人+ + ， 、、’ 口之產物（A )係經由在特定之鹼性化合物之存 下’水解及縮合選自由化合物（丨）至（3 )所組成之群之至 少一矽烷化合物而製得。 化合物（1 ): 4匕學 € Γ 1、Φ 4 μ 之以R及R1表示之單價有機基團的例子包括

ΐ ί基、烯丙基、及縮水甘油基。在化學式（1)中，R 為早仏有機基團較佳’烷基或苯基更佳。 7 Ϊ基以ί有1至5個碳原子較佳，及其之例子包括曱基、 為：中：土二Ϊ 丁基。此等烷基可為直鏈或分支鏈，且可 為二中之一或多個氫原子經例如 烷基。 ⑴中，芳基之例子包括苯基蔡基、甲苯 土 乙本基、虱笨基、溴苯基、及氣。 以化學式(1 )表示之化合物的明： 二甲惫石々松、- 〜丁 〇扣 ^一一 二乙氧矽烷、三正丙氧矽烷、三異丙氧矽 5、111乳石夕院、三—第二丁氧矽貌、三-第三丁氧石夕 二烷、氟三曱氧矽烷、氟三乙氧矽烷、氟三正 丙氧石夕烧、說三異丙氧石夕烧、敗三 烧、氣三_第 二；rur第三丁議、及氣三苯氧石夕烧； 甲基二:乳矽烷、甲基三乙氧矽烷、甲基三正丙氧矽 院、甲基三異丙氧石夕炫、甲基三正丁氧石夕烧、曱基三-第

第9頁 1300088 五、發明說明（5) 二丁氧矽烷、曱基三-第三丁氧矽烷、甲基— 乙基三甲氧矽烷、乙基三乙氧矽烷、乙基本氣矽烷、 乙基三異丙氧矽烷、乙基三正丁氧石夕烧、乙正丙氧矽烷、 氧矽烷、乙基三-第三丁氧矽烷、乙基三笨I基石三:第二丁 基二甲乳石夕烧、乙稀基三乙氧石夕烧、乙稀義一燒、乙細 烷、乙烯基三異丙氧矽烷、乙烯基三正丁 &广正内氧矽 三-第二丁氧矽烷、乙烯基三—第三丁氧矽烷矽烷、乙烯基 氧矽烷、正丙基三曱氧矽烷、正丙基三乙^石、乙烯基三苯 三正丙氧矽烷、正丙基三異丙氧矽烷、正二I燒、正丙基 炫、正丙基三-第二丁氧矽烧、正丙基三〜第=一正丁氧石夕 正丙基三笨氧矽烷、異丙基三甲氧矽烷、異ς =氧矽烷、 烷、異丙基三正丙氧矽烷、異丙基三異丙氧ς三乙氧矽 三正丁氧矽烷、異丙基三-第二丁 、元、異丙基 丁氧矽烷、異丙基三苯氧矽烷、正丁 '丙基三-第三 基三乙她、正丁基三正丙氧石夕炫、砂燒、正丁 烷、正丁基三正丁氧矽烷、正丁基三_ 土〃二異丙氧矽 丁基三-第三丁氧石夕燒、正丁基 石夕燒、正 甲氧石夕⑥'第r 丁基三乙氧石夕⑥ -第二丁基三 烧、第二丁基三異丙氣石夕烧、第二丁：三；；f丙氧石夕 二丁基三-第二丁氧砂⑨、第二第 矽烷、第 二丁基三苯氧#、第三 —院、第 氧矽烷、第三丁基三正兩_ ^ ^ ^ 弟二丁基三乙 烧、第三丁基三正丁氧石夕厂，一第=I基三異丙氧石夕 烷、第三丁基三-第三丁广、#二丁基二-第二丁氧矽 丁乳石夕烧、第三丁基三苯氧石夕燒、 C:\2D-CODE\91-06\91105721.ptd 第10頁 1300088 五、發明說明（6) ------ 二：氧…苯基三乙氧石夕&、苯基三正丙讀、 本基二異丙乳矽烷、苯基三正丁氣矽烷、苯基三-第二丁 苯基三-第三丁議、笨基三苯論、乙稀 J二曱乳石夕烧、乙稀基三乙氧石夕燒、[胺丙基三甲氧矽 胺丙基三乙氧石夕烧、"水甘油氧基丙基三甲氧 功Γ縮水甘油氧基丙基三乙氧矽烷、”三氧丙基三 甲巩矽烷、及7-三氟丙基三乙氧矽烷；及 二甲基二甲氧矽烷、〕曱基二乙氧矽烷、二曱基二正丙 氧：烷、二甲基二異丙氧矽烷、^甲基二正丁氧矽烷、二 甲ir第二丁氧石夕烧、二甲基二~第三丁氧石夕烧、二甲基 一t乳矽烷、二乙基二甲氧矽烷、二乙基二乙氧矽烷、二 ^基二正丙氧矽烷、二乙基二異内氧矽烷、二乙基二正丁 :矽烷、二乙基二-第二丁氧矽烷、二乙基二一第三丁氧矽 烷；：乙基二苯氧矽烷、二正丙基二曱氧矽烷、二正丙基 二乳錢、二正丙基：正丙氧砂炫、二正丙基二異丙氧 基二/ 丁氧石夕烧、二正丙基二-第二丁氧石夕 里：三丁氧石夕烧、二正丙基二苯氧石夕烧、 丁氧 二正 二異 ί烧、二異丙基二乙氧石夕…異丙基二 氧夕烷、一異丙基二異丙氧矽烷、二異丙某二 石夕烧、二異丙基二-第二丁氧石夕燒、二異丙基二土_1 乳 矽j、二^丙基二苯氧矽烷、二正丁基二甲氧矽烷、 石夕 丁基二乙氧矽烷、二正丁基二正丙氧矽烷、二正 丙氧矽烷、二正丁基二正丁氧矽烷、二正丁基二—第土二 氧矽烷、二正丁基二—第三丁氧矽烷、二正丁基二笨^

C:\2D-OODE\92-06\91105721.ptd 第11頁 1300088 五、發明說明（7) 烷、二-第二丁基二曱氧矽烷、二-第二丁基二乙氧矽烷、 二-第二丁基二正丙氧矽烷、二-第二丁基二異丙氧矽烷、 二-第二丁基二正丁氧矽烷、二-第二丁基二-第二丁氧矽 烷、二_第二丁基二-第三丁氧矽烷、二-第二丁基二苯氧 矽烷、二-第三丁基二甲氧矽烷、二-第三丁基二乙氧矽 烷、二_第三丁基二正丙氧矽烷、二-第三丁基二異丙氧矽 烷、二-第三丁基二正丁氧矽烷、二-第三丁基二-第二丁 氧石夕烧、二-第三丁基三-第三丁氧石夕烧、二-第三丁基二 苯氧矽烷、二苯基二曱氧矽烷、二苯基二乙氧矽烷、二苯 基二正丙氧矽烷、二苯基二異丙氧矽烷、二苯基二正丁氧 矽烷、二苯基二-第二丁氧矽烷、二苯基二-第三丁氧矽 烷、二苯基二苯氧矽烷、及二乙烯基三甲氧矽烷。 化合物（1 )之較佳例子包括曱基三曱氧矽烷、曱基三乙 氧石夕烧、曱基三正丙氧石夕烧、曱基三異丙氧石夕烧、乙基三 曱氧矽烷、乙基三乙氧矽烷、乙烯基三曱氧矽烷、乙烯基 三乙氧矽烷、苯基三甲氧矽烷、苯基三乙氧矽烷、二曱基 二曱氧矽烷、二曱基二乙氧矽烷、二乙基二曱氧矽烷、二 乙基二乙氧矽烷、二苯基二甲氧矽烷、及二苯基二乙氧矽 該等化合物可單獨或以其兩者以上之組合使用。 化合物（2 ): 化學式（2 )中之以R2表示之單價有機基團的例子包括如 以上關於化學式（1 )所列舉之相同的單價有機基團。 以化學式（2 )表示之化合物的例子包括四曱氧矽烷、四

C:\2D-CODE\91-06\91105721.ptd 第12頁 1300088 五、發明說明（8) 乙氧矽烷、四正丙氧矽烷、四異丙氧矽烷、四正丁氧矽 烷、四-第二丁氧矽烷、四-第三丁氧矽烷、及四苯氧矽 烷。 化合物（3 ): 化學式（3)中之以R3至R6表示之單價有機基團的例子包括 如以上關於化學式（1 )所列舉之相同的單價有機基團。 其中R7為氧原子之以化學式（3)表示之化合物的例子包 括六曱氧二矽氧烷、六乙氧二矽氧烷、六苯氧二矽氧烷、 1，1，1，3,3 -五曱氧-3-曱基二矽氧烷、 1，1，1，3,3 -五乙氧-3-曱基二矽氧烷、 1，1，1，3,3 -五苯氧-3_甲基二石夕氧烧、 1，1，1，3,3 -五曱氧-3-乙基二矽氧烷、 1，1，1，3，3 -五乙氧-3-乙基二碎氧烧、 1，1，1，3，3_五苯氧-3-乙基二石夕氧烧、 1，1，1，3，3 -五曱氧-3 -苯基二石夕氧烧、 1，1，1，3，3-五乙氧-3-苯基二石夕氧烧、 1，1，1，3,3 -五苯氧-3 -苯基二矽氧烷、 1，1，3，3 -四曱氧-1，3_二曱基二石夕氧烧、 1，1，3，3 -四乙氧-1,3 -二曱基二石夕氧烧、 1，1，3，3_四苯氧-1，3-二曱基二石夕氧烧、 1，1，3，3 -四甲氧-1，3 -二乙基二石夕氧烧、 1，1，3，3 -四乙氧-1，3_二乙基二石夕氧烧、 1，1，3，3-四苯氧-1，3_二乙基二石夕氧烧、 1，1，3, 3 -四曱氧-1,3-二苯基二矽氧烷、

C:\2D-C0DE\91-06\9110572I.ptd 第13頁 1300088 五、發明說明（9) 1，1，3，3 -四乙氧-1，3 -二苯基二石夕氧烧、 1，1，3，3 -四苯氧-1，3 -二苯基二石夕氧烧、 1，1，3-三曱氧-1，3，3 -三曱基二石夕氧烧、 1，1，3-三乙氧-1，3，3 -三曱基二石夕氧烧、 1，1，3 -三苯氧-1，3，3 -三曱基二石夕氧烧、 1，1，3_三曱氧-1，3，3 -三乙基二石夕氧烧、 1，1，3-三乙氧3，3 -三乙基二石夕氧烧、 1，1,3-三苯氧-1，3，3_三乙基二石夕氧烧、 1，1，3 -三曱氧-1，3，3 -三苯基二石夕氧烧、 1，1，3*·三乙氧-1，3，3 -三苯基二石夕氧院、 1，1，3-三苯氧-1，3，3 -三苯基二石夕氧烧、 1.3 -二甲氧-1，1，3, 3 -四曱基二矽氧烷、 1，3 -二乙氧-1，1，3，3 -四甲基二石夕氧烧、 1，3 -二苯氧-1，1，3，3 -四曱基二石夕氧烧、 1.3 -二曱氧_1，1，3，3 -四乙基二石夕氧烧、 1，3-二乙氧-1，1，3，3-四乙基二碎氧烧、 1，3-二苯氧-1，1，3，3-四乙基二石夕氧烧、 1，3 -二甲氧-1，1，3,3 -四苯基二矽氧烷、 1，3-二乙氧_1，1，3，3-四苯基二石夕氧烧、及 1，3-二苯氧-1，1，3,3-四苯基二矽氧烷。 該等化合物之較佳者為六曱氧二矽氧烷、六乙氧二矽氧 烧、 1，1，3, 3-四曱氧-1,3 -二曱基二矽氧烷、 1，1，3，3 -四乙氧-1,3 -二曱基二石夕氧烧、

C:\2D-OODE\91-O6\91105721.ptd 第14頁 1300088 五、發明說明（ίο) 1，1，3,3 -四曱氧-1，3-二苯基二矽氧烷、 1.3 -二曱氧-1,1，3, 3 -四甲基二矽氧烷、 1.3 -二乙氧-1，1，3，3 -四甲基二石夕氧烧、 1，3 -二甲氧-1,1，3, 3-四苯基二矽氧烷、及 1，3-二乙氧-1，1，3,3-四苯基二矽氧烷。 其中d為0之以化學式（3)表示之化合物的例子包括六曱 氧二矽烷、六乙氧二矽烷、六苯氧二矽烷、 1，1，1，2，2 -五曱氧-2-甲基二石夕烧、 1，1，1，2，2 -五乙氧-2-曱基二碎烧、 1，1，1，2,2 -五苯氧-2-甲基二矽烷、 1，1，1，2，2 -五曱氧-2-乙基二石夕烧、 1，1，1，2，2 -五乙氧-2-乙基二石夕烧、 1，1，1，2,2 -五苯氧-2-乙基二矽烷、 1，1，1，2,2 -五曱氧-2-苯基二矽烷、 1，1，1，2，2 -五乙氧-2-苯基二石夕烧、 1，1，1，2，2-五苯氧-2-苯基二石夕烧、 1，1，2, 2 -四曱氧-1，2 -二曱基二矽烷、 1，1，2，2 -四乙氧-1，2 -二曱基二石夕烧、 1，1，2, 2 -四苯氧-1，2 -二甲基二矽烷、 1，1，2, 2 -四曱氧-1,2 -二乙基二矽烷、 1，1，2, 2 -四乙氧-1，2 -二乙基二矽烷、 1，1，2,2 -四苯氧-1，2-二乙基二矽烷、 1，1，2, 2 -四甲氧- 1,2 -二苯基二矽烷、 1，1，2，2 -四乙氧-1,2 -二苯基二矽烧、

C:\2D-CODE\91-06\91105721.ptd 第15頁 1300088 五、發明說明（11) 1，1，2，2 -四苯氧-1,2 -二苯基二石夕烧、 1，1,2-三曱氧_1，2，2 -三曱基二石夕烧、 1，1,2-三乙氧-1,2，三曱基二石夕烧、 1，1，2 -三苯氧-1,2，2 -三甲基二石夕烧、 1，1,2 -三曱氧-1,2，2 -三乙基二石夕烧、 1，1,2 -三乙氧-1，2，2 -三乙基二石夕烧、 1，1，2 -三苯氧_1，2，2 -三乙基二石夕烧、 1，1,2 -三曱氧-1，2，2 -三苯基二石夕烧、 1，1，2 -三乙氧-1，2，2 -三苯基二石夕烧、 1，1，2-三苯氧-1，2，2 -三苯基二石夕烧、 1，2 -二曱氧-1,1，2, 2-四曱基二矽烷、 1，2 -二乙氧-1，1，2, 2 -四甲基二矽烷、 1.2 -二苯氧-1，1，2, 2 -四曱基二矽烷、 1，2_二曱氧-1，1，2,2-四乙基二矽烷、 1.2 -二乙氧-1，1，2，2 -四乙基二碎烧、 1，2-二苯氧-1，1，2,2-四乙基二矽烷、 1，2-二甲氧-1，1，2,2-四苯基二矽烷、 1，2-二乙氧-1，1，2，2-四苯基二石夕烧、及 1，2-二苯氧-1，1，2,2-四苯基二矽烷。 該等化合物之較佳者為六曱氧二矽烷、六乙氧二矽烷、 1，1，2，2 -四曱氧-1，2 -二曱基二石夕烧、 1，1，2，2 -四乙氧-1，2 -二曱基二石夕烧、 1，1，2, 2 -四曱氧-1，2 -二苯基二矽烷、 1，2-二曱氧-1，1，2,2-四曱基二矽烷、

C:\2D-CODE\91-06\91105721.ptd 第16頁 1300088 五、發明說明（12) 1，2-二乙氧-1，1，2,2-四甲基二矽烷、 式（3 )表示之化 1，2-二甲氧-ι，ι，2, 2-四苯基二矽烷、及 1，2_二乙氧~1，1，2,2-四苯基二矽烷。 其中R?為以一（CH2)n -表示之基團之以化學 合物的例子包括雙（三曱氧矽烷基）甲烷、 雙（三乙氧矽烷基）甲烷、 雙（三正丙氧矽烷基）曱烷、 雙（三異丙氧矽烷基）曱烷、 雙（三正丁氧矽烷基）甲烷、 雙（二-第二丁氧矽烷基）甲烧、 雙（三—第三丁氧矽烷基）曱烷、 1，2-雙（三曱氧矽烷基）乙烷、 1，2-雙（三乙氧矽烷基）乙烷、 1，2 -雙（三正丙氧矽烷基）乙烷、 1，2 -雙（三異丙氧矽烷基）乙烷、 1，2-雙（三正丁氧矽烷基）乙烷、 1，2_雙（三-第二丁氧矽烷基）乙烷、 1，2_雙（三-第三丁氧矽烷基）乙烷、 烷 烷 1-（二曱氧曱矽烷基）一卜（三曱氧矽烷基）曱 1 -（二乙氧曱矽烷基）一卜（三乙氧矽烷基）曱… 1-（二正丙氧甲矽烷基）一卜（三正丙氧矽烷基）甲炫、 1 -（二異丙氧曱矽烷基）一;1一（三異丙氧矽烷基）曱烷、 1 -（二正丁氧曱矽烷基三正丁氧矽烷基）曱烷、 1 -（二-第二丁氧曱矽烷基）一 三-第二丁氧矽烷美

C:\2D-C0DE\91-06\9ll05721.ptd 第17頁 1300088 五、發明說明（13) 烷、 卜（二-第三丁氧曱矽烷基）-卜（三-第三丁氧矽烧基）曱 烷、 1 -（二曱氧曱矽烷基）-2 -（三曱氧矽烷基）乙烷、 卜（二乙氧曱矽烷基）-2_(三乙氧矽烷基）乙烷、 1 -（二正丙氧曱矽烷基）_2-(三正丙氧矽烷基）乙烷、 1 -（二異丙氧甲石夕烧基）-2-(三異丙乳石夕烧基）乙烧、 1-(二正丁氧甲石夕烧基）-2-（三正丁乳石夕烧基）乙烧、 1 -（二-第二丁氧曱矽烷基）-2-（三-第二丁氧矽烷基）乙 烷、 1 -（二-第三丁氧曱石夕烧基）-2-(三-第二丁氧石夕烧基）乙 烷、 雙（二曱氧曱矽烷基）曱烷、 雙（二乙氧曱矽烷基）曱烷、 雙（二正丙氧甲矽烷基）甲烷、 雙（二異丙氧甲矽烷基）曱烧、 雙（二正丁氧甲矽烷基）甲烷、 雙（二-第二丁氧甲矽烷基）曱烷、 雙（二-第三丁氧甲矽烷基）甲烧、 1，2 -雙（二曱氧曱矽炫基）乙烧、 1，2-雙（二乙氧甲矽炫基）乙烧、 1，2-雙（二正丙氧甲矽烧基）乙烧、 1，2-雙（二異丙氧甲石夕烧基）乙院、 1，2 -雙（二正丁氧甲石夕烧基）乙炫、

1300088 五、發明說明（14) 1，2 -雙（二-第二丁氧曱矽烷基）乙烷、 1，2 -雙（二-第三丁氧曱矽烷基）乙烷、 1，2-雙（三曱氧矽烷基）苯、 1，2-雙（三乙氧矽烷基）苯、 1，2 -雙（三正丙氧矽烷基）苯、 1，2-雙（三異丙氧矽烷基）苯、 1，2 -雙（三正丁氧矽烷基）苯、 1.2 -雙（三-第二丁氧矽烷基）苯、 1，2 -雙（三-第三丁氧石夕烧基）苯、 1，3-雙（三曱氧矽烷基）苯、 1，3 -雙（三乙氧矽烷基）苯、 1.3 -雙（三正丙氧矽烷基）苯、 1，3-雙（三異丙氧矽烷基）苯、 1，3 -雙（三正丁氧矽烷基）苯、 1，3 -雙（三-第二丁氧矽烷基）苯、 1，3 -雙（三-第三丁氧石夕烧基）苯、 1，4-雙（三曱氧矽烷基）苯、 1，4_雙（三乙氧矽烷基）苯、 1，4 -雙（三正丙氧矽烷基）苯、 1，4-雙（三異丙氧矽烷基）苯、 1，4 -雙（三正·丁氧矽烷基）苯、 1，4 -雙（三-第二丁氧石夕烧基）苯、及 1.4 -雙（三-第三丁氧矽烷基）苯。 該等化合物之較佳者為雙（三甲氧矽烷基）曱烷、

C:\2D-C0DE\91-06\91105721.ptd 第19頁 I3〇〇〇88 五 、發明說明（15) 雙（三乙氧石夕烧基）曱烧、 1，2〜雙（三曱氧矽烷基）乙烷、 i，2—雙（三乙氧矽烷基）乙烷、 1〜（二甲氧曱矽烷基）- 1-(三曱氧矽烷基）曱烷、 二乙氧曱矽烷基）-1-（三乙氧矽烷基）曱烷、 1 一（二甲氧甲矽烷基）-2-(三曱氧矽烷基）乙烷、 卜（二乙氧曱矽烷基）-2-(三乙氧矽烷基）乙烷、 雙（二甲氧甲矽烷基）曱烷、 雙（二乙氧曱矽烷基）甲烷、 卜2-雙（二甲氧甲矽烷基）乙烷、 2一雙（二乙氧曱矽烷基）乙烷、 2- 雙（三甲氧矽烷基）笨、 2一雙（三乙氧矽烷基）苯、 3- 雙（三曱氧矽烷基）苯、 3一雙（三乙氧矽烷基）笨、 4 -雙（三曱氧矽烷基）苯、及 4一雙（三乙氧矽烷基）苯。 在本發明，前述之化合物（1)、（2)、及（3)可單獨或以 ”兩者以上之組合使用’以構成成份（A)。 入：將選自由化合物⑴至(3)所組成之群之至少一矽烷化 :2水解及縮合時’對每莫耳之選自化合物⑴至⑺之 n，物，水係以自多於20莫耳至150莫耳之量 ，旦自多於20莫耳至13〇莫耳更佳。在將水以2G莫耳= 里加入之情況中，生成之組成物會產生具不良耐龜裂性 第20頁 C:\2D-CBDE\91-〇6\91105721.ptd 1300088

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該等鹼性催化劑可單獨或以其兩者以上之組合 4對每莫耳之包含於化合物（1)至（3)中之Ri〇-、R2〇_、 Γο_Γ二-Ϊ團之總量’㈣催化劑之使用量-般係自 苴且审杜〇莫耳，自0. 0 0 0 0 5至5莫耳較佳，自〇. 〇〇1至1 2更佳’自0.01至0.5莫耳最佳。只要特定的鹼性化人 m在該範圍内之量使用’則在反應過程中較不易發。生 ^合物沈殿或膠凝。 生 以利用GPC(折射率、黏度、或光散射）方法測得之迴 半徑計之如此製得之水解及縮合之產物（A)的迴轉半巧 Γ最至井50宅Λ?交佳’自8至40毫微米更佳，自9至2°毫微 最仫田水解及縮合之產物具有自5至50毫微米之迴韓 半徑時，組成物可產生介電常數及機械強度尤其優異 石基膜。 、 7 如此製得之水解及縮合之產物（A)的特徵在於為非顆 粒，因此而具有對基材的優異塗布性。水解及縮合之 (A)不為顆粒的事實可透過利用，例如，穿透式 鏡（TEM)的檢查而確定。 ^ ^ 在成份（A)中，以完全水解及縮合之產物計之衍生自各 化a物之水解及縮合之產物的比例如下。以衍生自化合物 (1 )至（3 )之所有水解及縮合之產物之總和計，衍生自化人 物（2)之水解及縮合之產物的含量一般係自5至7 5重量百八 比，以自10至70重量百分比較佳，自15至7〇重量百分比^ 佳。以衍生自化合物（1)至（3)之所有水解及縮合之產物之 總和計’衍生自化合物（1)及化合物（3)或衍生自任一者之

1300088 五、發明說明（18) 水解及縮合之產物的含量一般係自95至25重量百分比 自90至30重量百分比較佳，自85至30重量百分比^佳’ $ 以衍生自化合物（1)至（3)之所有水解及縮合之產物她^ 計之衍生自化合物（2)之水解及縮合之產物的含旦〜和 75重量百分比時，則製得之塗膜具有高彈性里’、自5至 的介電常數。 辑數及異常低 此處所使用之術語「完全水解及縮合之產物 於化合物（1 )、（ 2 )、吱（W φ夕仏女Μ⑴Λ 」係才日包含 及R50-基團皆經水解成為s · ΩΗ苴 .,^ ^ ^ Κ 〇-、 氧烷結構之產物。 ％ 口形成矽 成份（Α)係至少一化合物（丨）及至少一化 水解及縮合之產物較佳，Λ Μ , ^ J兩者之 由於此成份（A )將可賦予掣搭夕 組成物較佳的儲存安定性。 卞衣侍之 在製造水解及縮合% , Λ、 (3)所組成之群之至少—石夕）=，使選自由化合物（1)至 存在下水解及縮 >，以致= 化/二在特定驗性化合物之 5至50毫微米之迴轉半_夺生枯成之水解及縮合之產物具有自 以下較佳。 二心佳。將生成組成物之pH調整至7 pH調整技術之例子包括· (1) 加入pH調節劑； (2) 在常壓或減壓下將特 除； 符疋的鹼性化合物自組成物餾 (3) 使氣體諸如氮或氬發 的驗性化合物自組成物移^進入組成物中’因而將特定

C:\2D-00DE\9I-06\91105721.ptd 第23頁 1300088 五、發明說明（19) (4 )利用離子交換樹脂將特定的鹼性化合物自組成物移 除；及 (5 )經由卒取或洗滌將特定的鹼性化合物自系統移除。 5亥專技術可單獨或以其兩者以上之組合使用。 ρ Η调節劑之例子包括無機酸及有機酸。 無機酸之例子包括氫氯酸、硝酸、硫酸、氫氟酸、磷 酸、硼酸、及草酸。 有機酸之例子包括醋酸、丙酸、丁酸、戊酸、己酸、庚 酸、辛酸、壬酸、癸酸、草酸、順丁烯二酸、曱基丙二 酸、己二酸、癸二酸、五倍子酸、丁酸、苯六曱酸、花生 油酸、莽草酸、2-乙基己酸、油酸、硬脂酸、亞麻仁油 酸、次亞麻仁油酸、水楊酸、苯甲酸、對胺基苯曱酸、對 曱苯1酸、苯磺酸、單氯乙酸、二氣乙酸、三氣乙酸、三 I乙酸、曱酸、丙二酸、磺酸、酞酸、反丁烯二酸、擰檬 酸、酒石酸、琥珀酸、伊康酸、中康酸、檸康酸、蘋果 酸、戍一酸水解產物、順丁烯二酸酐水解產物、及酞酸酐 水解產物。 該等化合物可單獨或以其兩者以上之組合使用。 使>用此一pH調節劑，以將組成物之#調整至7以下，以1 交Λ。包括將水解及縮合之產物之迴轉半徑調整至自5 同和Γ ί米、，然後再利用邱調節劑將其之pH調整至在該範 之則述方法產生製得之組成物具有改良 性的效果。 凡辟存女疋 PH凋即劑係以經適當選擇的量使用，以致組成物之pH成

91105721.ptd 第24頁 1300088 五、發明說明（20) 為在該範圍内之值。 在合成使用於本發明之水解產物聚合物時，可使用選自 由醇溶劑、酮溶劑、醯胺溶劑、酯溶劑、及非質子性溶劑 所組成之群之至少一者作為反應溶劑。 醇溶劑之例子包括單羥醇諸如曱醇、乙醇、正丙醇、異 丙醇、正丁醇、異丁醇、第二丁醇、第三丁醇、正戊醇、 異戊醇、2-曱基丁醇、第二戊醇、第三戊醇、3 -曱氧丁 醇、正己醇、2_曱基戊醇、第二己醇、2-乙基丁醇、第二 庚醇、3-庚醇、正辛醇、2-乙基己醇、第二辛醇、正壬 醇、2, 6 -二曱基-4-庚醇、正癸醇、第二-十一醇、三甲基 壬醇、第二-十四醇、第二-十七醇、酚、環己醇、曱基環 己醇、3，3，5 -三曱基環己醇、苯甲醇、及二丙酮醇； 多羥醇諸如乙二醇、1,2-丙二醇、1,3 - 丁二醇、2, 4 -戊 二醇、2-曱基-2,4 -戊二醇、2, 5_己二醇、2, 4 -庚二醇、 2-乙基-1，3-己二醇、二乙二醇、二丙二醇、三乙二醇、 及三丙二醇；及 多羥醇之部分醚，諸如乙二醇單曱醚、乙二醇單乙醚、 乙二醇單丙醚、乙二醇單丁醚、乙二醇單己醚、乙二醇單 苯醚、乙二醇單-2 -乙基丁基醚、二乙二醇單甲醚、二乙 二醇單乙醚、二乙二醇單丙醚、二乙二醇單丁醚、二乙二 醇單己醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、丙二醇單丙 醚、丙二醇單丁醚、二丙二醇單曱醚、二丙二醇單乙醚、 及二丙二醇單丙醚。 該等醇溶劑可單獨或以其兩者以上之組合使用。

C:\2D-OODE\91-06\91105721.ptd 第25頁 1300088 五、發明說明（21) 酮溶劑之例子包括丙酮、曱基乙基酮、曱基正丙基酮、 曱基正丁基酮、二乙基酮、曱基異丁基酮、曱基正戊基 酮、乙基正丁基酮、曱基正己基酮、二異丁基酮、三曱基 壬酮、環己酮、2 -己酮、曱基環己酮、2，4 -戊二酮、丙酮 基丙酮、苯乙酮、及ft酮。其之例子更包括；5 -二酮諸如 乙醯丙酮、2，4-己二酮、2, 4-庚二酮、3, 5-庚二酮、2，4-辛二嗣、3，5 -辛二嗣、2，4_壬二酉同、3，5 -壬二酉同、5-甲基 -2，4-己二酉同、2，2，6，6 -四曱基-3，5 -庚二嗣、及1，1，1，5, 5，5 -六氟-2，4 -庚二酮。 該等酮溶劑可單獨或以其兩者以上之組合使用。 醯胺溶劑之例子包括曱醯胺、N -甲基曱醯胺、N，N -二曱 基曱醯胺、N _乙基甲醯胺、N，N -二乙基曱醯胺、乙醯胺、 N-曱基乙醯胺、N，N -二曱基乙醯胺、N-乙基乙醯胺、N，N-二乙基乙醯胺、N -曱基丙醯胺、N -甲基吼咯啶酮、N -甲醯 基嗎啉、N-甲醯基六氫咄啶、N-曱醯基咄咯啶、N-乙醯基 嗎琳、N -乙醯基六氫ϋ比σ定、及N -乙酸基π比咯σ定。 該等醯胺溶劑可單獨或以其兩者以上之組合使用。 酯溶劑之例子包括碳酸二乙酯、碳酸乙二酯、碳酸丙二 酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、Τ - 丁内酉旨、7 -戊内酉旨、乙酸 正丙酯、乙酸異丙酯、乙酸正丁酯、乙酸異丁酯、乙酸第 二丁酯、乙酸正戊酯、乙酸第二戊酯、乙酸3 -甲氧丁酯、 乙酸曱基戊酯、乙酸2-乙基丁酯、乙酸2-乙基己酯、乙酸 苯甲酯、乙酸環己酯、乙酸甲基環己酯、乙酸正壬酯、乙 醯乙酸曱酯、乙醯乙酸乙酿、乙二醇單曱醚乙酸酯、乙二

C:\2D-C0DE\91-06\91105721.ptd 第26頁 1300088 五、發明說明（22) 醇單乙醚乙酸酯、二乙二醇單曱醚乙酸酯、二乙二醇單乙 醚乙酸酯、二乙二醇單正丁醚乙酸酯、丙二醇單甲醚乙酸 酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單丙醚乙酸酯、丙二醇 單丁醚乙酸酯、二丙二醇單曱醚乙酸酯、二丙二醇單乙醚 乙酸酯、二乙酸乙二醇酯、乙酸曱氧三乙二醇酯、丙酸乙 酯、丙酸正丁酯、丙酸異戊酯、草酸二乙酯、草酸二正丁 酿、乳酸曱S旨、乳酸乙酯、乳酸正丁酯、乳酸正戊酯、丙 二酸二乙酯、酞酸二甲酯、及酞酸二乙酯。 該等酯溶劑可單獨或以其兩者以上之組合使用。 非質子性溶劑之例子包括乙腈、二曱亞颯、Ν，Ν，Ν’，Ν’ -四乙基磺醯二胺、六甲基磷三醯胺、Ν -曱基嗎啉酮、Ν -曱 基ρ比洛、Ν -乙基吼洛、Ν -曱基-△3 - ϋ比咯琳、Ν -曱基六氫 ρ比咬、Ν -乙基六氫吼咬、Ν，Ν -二甲基六氫吼ϋ井、Ν -曱基口米 唑、Ν-曱基-4 -六氫吼啶酮、Ν-曱基-2 -六氫咄啶酮、Ν-曱 基-2 -咣咯啶酮、1，3 -二甲基-2 -咪唑啶酮、及1，3 -二甲基 四氫- 2(lH)-p密17定酮。 在合成使用於本發明之聚合物時的反應溫度一般係自0 至1 0 0 °C，以自1 5至9 0 °C較佳。 成份（B ) 使用於本發明之可與成份（A )相容或可分散於成份（A ) 中，且具有自2 5 0至45 0 °C之沸點或分解溫度之化合物的例 子包括（1)具有聚（氧化伸烷基）結構之化合物，（2)(曱基） 丙烯酸酯聚合物，（3)乙烯醯胺聚合物，（4)芳族乙烯基聚 合物，（5 )枝狀體（d e n d r i m e r )，（ 6 )親油性化合物及分散

C:\2D-CODE\91-06\91105721.ptd 第27頁 1300088 五、發明說明（23) 劑之組合，（7 )超細顆粒，及（8 )具有糖鏈結構之化合物。 在本發明，沸點或分解溫度係指在1大氣壓下測得之 值。 (1 )具有聚（氧化伸烷基）結構之化合物 聚（氧化伸烷基）結構之例子包括聚（氧化乙烯）結構、聚 (氧化丙烯）結構、聚（氧化四亞甲基）結構、及聚（氧化丁 稀）結構。 化合物之明確例子包括醚型化合物諸如聚氧伸乙基烷基 峻、聚氧伸乙基烷苯基醚、聚氧伸乙基固醇醚、聚氧伸乙 基羊毛脂衍生物、烷基酚福馬林縮合物之環氧乙烷衍生 物、聚氧伸乙基/聚氧伸丙基嵌段共聚物、及聚氧伸乙基 /聚氧伸丙基烷基醚；醚-酯型化合物諸如聚氧伸乙基甘 油脂肪酸酿、聚氧伸乙基脫水山梨糖醇脂肪酸酯、聚氧伸 乙基山梨糖醇脂肪酸酯、及聚氧伸乙基脂肪酸烷醇醯胺硫 酉^鹽；及喊-酯型化合物諸如聚乙二醇脂肪酸酯、乙二醇 月曰=酸醋、脂肪酸單甘油酯、聚甘油脂肪酸酯、脫水山梨 糖知脂肪酸g旨、丙二醇脂肪酸酯、及蔗糖脂肪酸酯。 幸乂佳，成份（B )為聚氧伸烷基嵌段共聚物諸如聚氧伸乙 基〈，氧伸丙基嵌段共聚物。 聚氧伸乙基/聚氧伸丙基嵌段共聚物之例子包括具有以 下之任一嵌段結構的化合物；

第28頁 1300088 五、發明說明（24) 目；m為10至99之數目；及1為〇至90之數目 (2 )(曱基）丙烯酸酯聚合物 可使用於本發明之構成丙烯酸系聚合物之丙稀酸及甲基 丙稀酸S旨的例子包括丙烯酸烷酯、曱基丙稀酸烧酯、丙烯 酸烧氧烧S旨、及甲基丙稀-g变烧氧烧醋。 丙烯 化合物 丙稀酸 酯、及 基具有 基丙烯 甲基丙 酯、曱 酯之例 烯酸烧 酸乙氧 酸烷酯 ，諸如 異丙酉旨 丙稀酸 1至6個 酸乙酯 稀酸正 基丙烯 子包括 氧烷酯 乙酉旨。 之例子包括 丙烤酸曱酯 、丙烯酸正 己酯。甲基 碳原子的化 、甲基丙烯 丁酯、曱基 酸戊酯、及 丙烯酸曱氧 之例子包括 其中之烷基 、丙烯酸乙 丁酯、丙烯 丙烯酸烷酯 合物，諸如 酸正丙酯、 丙烯酸異丁 甲基丙烯酸 曱酯及丙稀 曱基丙烯酸 具有1至6個 、丙烯酸 酸異丁酯、 之例子包括 甲基内烯酸 甲基丙烯酸 @ '曱基丙 己鲳。丙烯 酉复乙氧乙酯 T氣曱酯及 碳原子的 正丙酯、 丙烯酸戊 其中之烷 甲Θ旨、曱 異丙酯、 烯酸丁 酸烷氧烷 。甲基丙 甲基丙烯 甲基丙烯酸乙酯 其中較佳者為曱基丙烯酸烷酯。使用 甲基丙烯酸異丁酯等等為特佳。 使用於本發明之丙烯酸系聚合物係經一 單體與具有烷氧矽烷基之單體共聚合而形成者個該等 具有烧氧矽烷基之單體的例子包括甲基丙 氧矽烷基）丙酯、甲基丙烯酸3_(三乙氧矽烷基）丙酯:I 基丙烯酸3-[參（甲氧乙氧）矽烷基]丙酯、甲基丙烯酸 3-（甲基二甲氧矽烷基）丙酯、及甲基丙烯酸3一（甲爲- 土 Zj

1300088 五、發明說明（25) 氧矽烷基）丙酯。 在此一丙烯酸系聚合物中，以構成丙烯酸系聚合物之所 有單體單元計，衍生自具有烷氧矽烷基之單體之單元的量 一般係自0 · 5至1 0莫耳百分比，以自1至7莫耳百分比較 佳0 使用於本發明之丙烯酸系聚合物可包含至多4 0莫耳百分 比之衍生自除丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、及含烷氧石夕烧某 之單體外之一或多個自由基可聚合單體的共單體單元。 自由基可聚合單體的例子包括不飽和羧酸諸如内稀酸及 甲基丙烯酸’不飽和醯胺諸如N，N-二甲基丙烯醯胺及N N_ 二曱基曱基丙烯醯胺’不飽和腈諸如丙烯腈，不飽和嗣諸 如甲基乙烯基酮，及芳族化合物諸如笨乙稀及α 一 乙烯。 T基本 在本發明’ 6烯酸系聚合物具有對標準聚苯 一般自uoum’ooo之數目平均分子d传 2 0，0 0 0 較佳。 ，〇 0 0 至 (3 )乙烯醯胺聚合物 乙烯醯胺聚合物之例子包括聚（N7…* (N-乙烯基咣咯啶酮）、聚(2-甲基、2乙广胺）、聚 二甲基丙浠醢胺）。 2,吐琳卜及聚(N，N_ (4)芳族乙稀基聚合物 聚曱基笨乙 芳族乙烯基聚合物之例子包括聚笨乙_ 烯、及聚-甲基苯乙烯。 ' (5)枝狀體

1300088 五、發明說明（26) 枝狀體之例子包括辛基醚枝狀體、苯基乙炔枝狀體、 胺枝狀體、及聚醯胺枝狀鮮。妙；& & + ^ ^ , /文校狀版。然而，由可熱分解性的觀點 來看，聚胺枝狀體為較佳。 (6 )親油性化合物及分散劑之組合 親油性化合物當單獨#用主廿& 命A、A , Λ、4… 蜀使用時並無法於寬廣的比例範圍内 人成伤（）相谷。然而，當在分散劑之存在 =匕ίΪΠ寬廣的比例範圍内與成份⑴相容。因此 St::使匕親油性化合物之例子包括聚_旨諸 酯、酞酸 酯 如酞酸二癸酯、酞酸 一十三酯、偏苯三甲酸失/9 咐叹一—τ 一阳、职趿二 癸醋、偏苯三甲酸三:二乙基己9基)醋、偏苯三甲酸三 酉旨、偏苯三甲酸四^十；;S曰、广2，—4, 5一苯四，酸四丁 烷二酸雙（2-乙基己美护1’2,4,5-本四甲酸四辛醋、十二 等親油性化合物相容t二十二烷二酸雙癸醋。可與此 醇、月桂醇、癸醇、政劑的例子包括高碳醇諸如辛 久十一 S孚。 作為分散劑之此一古* 〇.1至1〇倍（以重量酵可以親油性化合物之量之自 ⑺超細顆粒 十)的夏使用。 超細顆粒係邊經由選 度、攪拌速率等等扣2擇或调整乳化劑種類、乳化劑濃 作用製得之具有粒直徑，邊透過一般的乳液聚合 粒。顆粒可使用交^:破米以下之顆粒直徑的聚合物顆 烯基化合物及（甲義\ :體於顆粒直徑調整，由包括芳族乙 得。 ^ 烯酸酯化合物之一或多種單體製

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五、發明說明（27) (8 )具有糖鏈結構之化合物 播具!，ί結構之化合物的例子包括環糊精、蔗糖酿、寡 糖、葡词糖、果糖、甘露糖醇、澱粉糖、D—山 葡萄糖、黃酸樹膠、科德蘭（curdlan)、澱粉聚'入物、浚 (pu^luian)、環直鏈殿粉、異構化糖、麥芽糖醇σ、醋 維素、纖維素、m甲基纖維素、m乙基纖維素、經丙^ 維素、曱基纖維素、乙基經乙基纖維素、叛甲 f 殼糖、及聚葡萄胺糖。 、截、准素、 在本發明，使用具有氧化伸烷基結構（1)或丙 合物（2)之化合物作為成份（B)較佳。使用具有化伸 結構（1)之化合物更佳。 1甲況暴 對每1 0 0份重量之成份（A )(以完全水解及縮合之產物 計），成份（B)之使用量一般係自5〇至25〇份重量，以自5〇 至200份重量較佳，自5〇至15〇份重量更佳。當成份^)之 比例低於5 0份重量時，會有無法製得具2 · 1以下之介電常 數之塗膜的情況發生。另一方面，超過2 5 〇份重量之其之 比例會在塗膜形成中造成減損的塗布性。 有機溶劑（C ) 使用於本發明之溶劑的例子包括如可使用於製造成份 (A)之聚合作用中之相同的有機溶劑。其中較佳者為以下 式（4 )表示之溶劑： R8O(R10〇)eR9 (4) 其中R8及R9各分別代表氫原子或選自由具1至4個碳原子之 烷基及CH3C0_所組成之群之單價有機基團；rig代表伸烷

91105721.ptd 第32頁 1300088 五、發明說明（28) 基；及e為1或2之整數。 有機溶劑的明確例子包括乙二醇單曱醚、乙二醇單乙 醚、乙二醇單丙醚、乙二醇單丁醚、乙二醇二曱醚、乙二 醇二乙醚、乙二醇二丙醚、乙二醇二丁醚、乙二醇單甲醚 乙酸酯、乙二醇單乙醚乙酸酯、乙二醇單丙醚乙酸酯、乙 二醇單丁醚乙酸酯、丙二醇單曱醚、丙二醇單乙醚、丙二 醇單丙醚、丙二醇單丁醚、丙二醇二曱醚、丙二醇二乙 醚、丙二醇二丙醚、丙二醇二丁醚、丙二醇單甲醚乙酸 酷、丙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單丙醚乙酸酯、丙二醇 單丁醚乙酸酯、二丙二醇單甲醚、二丙二醇單乙醚、二丙 二醇單丙醚、二丙二醇單丁醚、二丙二醇二曱醚、二丙二 醇二乙醚、二丙二醇二丙醚、二丙二醇二丁 _、二丙二醇 單曱醚乙酸酯、二丙二醇單乙醚乙酸酯、二丙二醇單丙醚 乙酸酯、及二丙二醇單乙醚乙酸酯。特佳者為丙二醇單烷 基醚及丙二醇單烷基醚乙酸酯。 該等溶劑可單獨或以其兩者以上之組合使用。 其他添加劑 可將諸如膠態矽石、膠態氧化鋁、表面活性劑、矽烷偶 合劑、自由基產生劑、及三氮稀化合物之成份加至於本發 明中製得之薄膜形成用組成物中。 膠態矽石係包含，例如，任何前述之親水性有機溶劑及 分散於其中之高純度矽酸酐的分散物。其具有一般自5至 3 0毫微米，以自1 0至2 0毫微米較佳之平均顆粒直徑，及一 般約自1 0至4 0重量百分比之固體濃度。膠態矽石之例子包

C:\2D-00DE\91-06\91105721.ptd 第33頁 1300088 五、發明說明（29) 括Nissan Chemical Industries，Ltd.製造之曱醇石夕石溶 膠及異丙醇石夕石溶膠，及Catalysts & Chemicals Industries Co·，Ltd.製造之Oscal。 膠態氧化銘之例子包括Nissan Chemical Industries, Ltd.製造之Alumina Sol 52 0、100、及2 0 0，及Kawaken Fine Chemicals Co.，Ltd.製造之 Alumina Clear Sol 及

Alumina Sol 10 及132 。 表面活性劑之例子包括非離子性表面活性劑、陰離子表 面活性劑、陽離子表面活性劑、及兩性表面活性劑，且更 包括氟化學表面活性劑、聚矽氧表面活性劑、聚（氧化伸 烷基）表面活性劑、及聚（曱基）丙烯酸酯表面活性劑。其 中車父佳者為氟化學表面活性劑及聚石夕氧表面活性劑。 氣化學表面活性劑為包括在選自端鏈、主鏈、及側鏈之 至少一位置中具有氟烷基或氟伸烷基之化合物的表面活性 劑。其例子包括U1，2,2_四氟辛基丨，^，^四氟丙基醚、 1，1，2, 2-四氟辛基己基醚、八乙二醇二（丨」，2 2-四 基）醚、六乙二醇l l2,2,夂3_六氟戊基醚、’又丙二醇二

(ϋ2广：5工基)鱗、六丙二醇二°，1，2,2,3,3-六Z ΐί 十％王=二广黃酸納、μ，2,2,8,8,9,9，10，10-=亂十一烷、1，1，2, 2, 3, 3-六氟癸烷、μ_[3_全 —胺基丙基]- Ν，Ν’ -二甲基一 Ν-羧亞甲铵甜” 技、 si ^ θβ a - ^ 菜驗、全氟烧石黃 =胺丙^基二曱鉍鹽、全氟烷基_N_乙磺醯基甘胺酸越、雔 (N-全鼠辛磺醯基—N—乙胺乙基）磷酸酯、蠢二= 基磷酸酯。 久早全亂烷基乙

C:\2D-OODE\91-O6\91105721.ptd 第34頁 1300088 五、發明說明（30) 此種氟化學表面活性劑之市售產物包括以下列商品名購 得之產品：Megafac F142D、F172、F173、及 F183 (Dainippon Ink & Chemicals，Inc·製造）；F-T〇p EF301 、 EF303 、及EF352(New Akita Chemical Company 製 造）；F 1 u o r a d F C - 4 3 0 及 F C - 4 3 1 (S u m i t o m o 3 M L t d ·製 造）；Asahi Guard AG710 及Surflon S-382 、 SC-101 、 SC-102、SC- 103、SC-104、SC-105、及SC-106(Asahi Glass Co·，Ltd·製造）；BM- 1 0 00 及 BM-1100(Yusho K.K 製 造）；及NBX-15(NE0S Co·，Ltd·製造）。其中特佳者為 Megafac F172 、BM_1000 、BM-1100 、及NBX-15 ° 聚矽氧表面活性劑之例子包括SH7PA、SH21PA、 SH30PA 、及ST94PA(皆由Dow Corning Toray Silicone Co·，Ltd.製造）。其中特佳者為SH28PA及SH30PA。 對每1 0 0份重量之成份（A )(以完全水解及縮合之產物 計），此一表面活性劑之使用量通常係自0 · 0 0 0 1至1 0份重 量 ° 該等表面活性劑可單獨或以其兩者以上之組合使用。 矽烷偶合劑之例子包括 2- 縮水甘油氧丙基三曱氧矽烷、 3 -胺基縮水甘油氧丙基三乙氧矽烷、 3- 曱基丙烯醯氧丙基三曱氧矽烷、 3 -縮水甘油氧丙基曱基二曱氧石夕烧、 1-曱基丙烯醯氧丙基曱基二曱氧矽烷、 3 -胺丙基三曱氧矽烷、

91105721.ptd 第35頁 1300088 五、發明說明（31) 3 -胺丙基三乙氧矽烷、 2 -胺丙基三曱氧矽烷、 2 -胺丙基三乙氧矽烷、 N -（2 -胺乙基）-3-胺丙基三曱氧矽烷、 N -（2 -胺乙基）-3-胺丙基曱基二曱氧石夕烧、 3-脈丙基三甲氧石夕烧、 3 -脲丙基三乙氧矽烷、 N-乙氧羰基-3 -胺丙基三曱氧矽烷、 N-乙氧魏基-3 -胺丙基三乙氧石夕烧、 N -三乙氧矽烷丙基三伸乙三胺、 N -三乙氧矽烷丙基三伸乙三胺、 10 -三曱氧矽烷基-1，4, 7 -三吖癸烷、 10 -三乙氧矽烷基-1，4, 7 -三吖癸烷、 9-三曱氧矽烷基_3, 6-二吖壬基乙酸酯、 9 -三乙氧矽烷基-3, 6_二吖壬基乙酸酯、 N-芊基-3 -胺丙基三甲氧矽烷、 N-芊基-3 -胺丙基三乙氧矽烷、 N-苯基-3 -胺丙基三曱氧矽烷、 N-苯基-3-胺丙基三乙氧石夕烧、 N-雙（氧伸乙基）-3-胺丙基三曱氧矽烷、及 N-雙（氧伸乙基）-3 -胺丙基三乙氧矽烷。 該等矽烷偶合劑可單獨或以其兩者以上之組合使用。 自由基產生劑之例子包括過氧化異丁醯、α，α ’ -雙（新 癸醯基過氧）二異丙苯、過氧新癸酸異丙苯酯、過氧二碳

91105721.ptd 第36頁 1300088 五、發明說明（32) 酸二正丙酯、過氧二碳酸二異丙酯、過氧新癸酸1，1，3，3 -四曱基丁酯、過氧二碳酸雙（4-第三丁基環己基）酯、過氧 新癸酸1_環己基-1-曱基乙酯、過氧二碳酸二-2 -乙氧乙 酯、過氧二碳酸二-2-乙基己酯、過氧新癸酸第三己酯、 過氧二碳酸二曱氧丁酯、過氧二碳酸二（3-曱基-3-曱氧丁 基）酯、過氧新癸酸第三丁酯、過氧化2, 4-二氯苯曱醯、 過氧三曱基乙酸第三己酯、過氧三曱基乙酸第三丁酯、過 氧化3，5，5 -三曱基己醯、過氧化辛醯、過氧化月桂醯、過 氧化硬脂醯、過氧-2_乙基己酸1，1，3, 3-四曱基丁酯、過 氧化琥珀酸、2, 5 -二曱基-2, 5 -二（2 -乙基己醯基過氧）己 烷、過氧-2-乙基己酸1~環己基-1-甲基乙酯、過氧_2-乙 基己酸第三己酯、過氧-2-乙基己酸第三丁酯、過氧化間 曱苯醯苯甲醯、過氧化苯甲醯、過氧異丁酸第三丁酯、二 -第三丁基過氧-2-甲基環己烷、1,1-雙（第三己基過. 氧）-3, 3, 5 -三曱基環己烷、1，1-雙（第三己基過氧）環己 烷、1，1_雙（第三丁基過氧）-3, 3, 5 -三曱基環己烷、1，1-雙（第三丁基過氧）環己烷、2, 2 -雙（4, 4 -二-第三丁基過氧 環己基）丙烷、1，1-雙（第三丁基過氧）環癸烷、過氧異丙 基單碳酸第三己酯、過氧順丁烯二酸第三丁酯、過氧 -3, 3, 5 -三曱基己酸第三丁酯、過氧月桂酸第三丁酯、 2,5 -二甲基-2, 5 -二（間曱苯醯過氧）己烷、過氧異丙基單 碳酸第三丁酯、過氧-2-乙基己基單碳酸第三丁酯、過氧 苯曱酸第三己酯、2, 5 -二甲基-2 ,5 -二（苯曱醯基過氧）己 烷、過氧乙酸第三丁酯、2, 2 -雙（第三丁基過氧）丁烷、過

C:\2D-CODE\91-06\91105721.ptd 第37頁 1300088 五、發明說明（33) 氧苯曱酸第三丁酯、4, 4 -雙（第三丁基過氧）戊酸正丁酯、 過氧異酞酸二-第三丁酯、α，α’-雙（第三丁基過氧）二異 丙苯、過氧化二異丙苯、2，5_二曱基-2，5 -二（第三丁基過 氧）己烧、過氧化第三丁基異丙苯、過氧化二-第三丁基、 氫過氧化對盖、2，5 -二曱基-2，5 -二（第三丁基過氧）-3 -己 炔、氫過氧化二異丙苯、過氧化第三丁基三甲基矽烷基、 氫過氧化1，1，3, 3-四曱基丁基、氫過氧化異丙苯、氫過氧 化第三己基、氫過氧化第三丁基、及2，3 -二曱基_2，3_二 苯基丁烷。 對每1 0 0份重量之聚合物，此一自由基產生劑之添加量 係自0. 1至1 0份重量較佳。 該等自由基產生劑可單獨或以其兩者以上之組合使用。 三氮烯化合物之例子包括： 1,2 -雙（3, 3 -二曱基三氮烯基）苯、 1，3 -雙（3,3 -二曱基三氮烯基）苯、 1，4 -雙（3, 3 -二曱基三氮烯基）苯、 雙（3, 3-二曱基三氮烯苯基）醚、 雙（3, 3_二曱基三氮烯苯基）甲烷、 雙（3, 3 -二曱基三氮烯苯基）石風、 雙（3, 3 -二曱基三氮烯苯基）硫、 2, 2 -雙[4-（3, 3-二曱基三氮烯苯氧基）苯基]-1，1，1，3, 3, 3 -六氟丙烧、 2, 2-雙[4 -（3, 3 -二甲基三氮烯苯氧基）苯基]丙烷、 1，3, 5-參（3, 3 -二曱基三氮烯基）苯、

C:\2D-CODE\91-06\91105721.ptd 第38頁 1300088 五、發明說明（34) 2,7 -雙（3, 3 -二曱基三氮烯基）_9,9_雙[4 -（3, 3-二甲基三 氮烯基）苯基]苐、 2, 7-雙（3, 3 -二甲基三氮烯基）-9, 9-雙[3-甲基-4-（3, 3 -二 甲基三氮烯基）苯基]苐、 2, 7-雙（3, 3 -二曱基三氮烯基）- 9, 9 -雙[3 -苯基-4-(3, 3-二 曱基三氮稀基）苯基]苐、 2，7-雙（3, 3 -二甲基三氮烯基）-9, 9 -雙[3-丙烯基-4-（3, 3-二甲基三氮稀基）苯基]苐、 2, 7-雙（3, 3 -二曱基三氮烯基）_9, 9 -雙[3-氟-4-(3, 3-二曱 基三氮烯基）苯基]苐、 2，7 -雙（3, 3 -二曱基三氮烯基）-9, 9-雙[3, 5 -二氟-4-（ 3, 3-二曱基三氮烯基）苯基]苐、及 2，7-雙（3, 3 -二曱基三氮烯基）-9, 9 -雙[3 -三氟曱基-4 -（3, 3-二曱基三氮烯基）苯基]苐。 該等三氮烯化合物可單獨或以其兩者以上之組合使用。 如此製得之本發明之組成物具有自2至3 0重量百分比較 佳之總固體濃度。其固體濃度係根據其計畫用途而適當地 調整。當組成物具有自2至30重量百分比之總固體濃度 時，組成物不僅可產生具適當厚度之塗膜，並且具有較佳 的儲存安定性。 組成物之總固體濃度係根據需求而藉由濃縮或利用有機 溶劑稀釋調整。 為將本發明之組成物塗布至諸如矽晶圓、S i 02晶圓、

SiN晶圓、SiC晶圓、SiCO晶圓、SiCN晶圓或SiOCN晶圓之

91105721.ptd 第39頁 1300088

91105721.Ptd 第40頁 1300088 五、發明說明（36) 來說’當使塗膜於127°C、2·5大氣壓、及100% RH之大氣 中靜置1小時時，利用丨R光譜術未觀察到對塗膜的水份吸 此吸水性可經由控制在製備薄膜形成用組成物時，在本 發明中使用作為化合物（1 )之四烷氧矽烷之量而調整。 本毛明之矽石基膜具有一般自2.1至1·2之介電常數，以 自2 · 1至1 · 5較佳，自2 · 1至〗· 6更佳。 如此製得之層間絕緣薄膜具有低濕氣吸收係數，且且右 2 · \以下之力電常數。因此，本發明之組成物有用於 供半導體裝置諸如LSI、系姑tqt τ\ό \ u 〇 σ 及Ι)__ΑΜ用之声間絕“：二RAM、刪Μ、R咖、 膜諸如半導體裝置 之半導體f程Ϊ 膜，使用於利用多層光阻劑 ί 多層印刷電路板用之層間絕緣薄 本ίί:Π置用之保護或絕緣薄膜之應用。 本I明將經由參照以下實施例而更詳 而，以下之說明僅顯示本發明之一般具塒例恭:。然 明瞭不應無故將本發明解釋為受限於此二明。’ Λ轭例，應 在以下的實施例及比較實、ϋ 。 所有「份」及厂百分比」係以重量’示非特別指示，否則 利用以下方法評估各種性質。^ 迴轉丰徑

在以下條件下利用凝膠滲透芦 度、或光散射測量）測量。 S uT(GPC)(折射率、點 樣品溶液：以含10 mM 予將矽烷化合物之水解 1300088

及縮合之產物稀釋至〇.2 5%之固體濃度’而製備得供 GPC(折射率、黏度、或光散射測量）用之樣品 裝置：

IfC 系統·型式 GPC - 8020，Tosoh Corp·製造 ’柱.Alpha 5000/3000 ， Tosoh Corp·製造 黏度檢測器及光散射檢測器：型式T —6〇 Dual

Meter，Viscotek Corp.製造 載體〉谷液：含10 mM LiBr之甲醇 載體供給速率：1毫升/分鐘 管柱溫度：4 0 °C 介電常數 、經由旋轉塗布將組成物樣品塗布至8英吋矽晶圓。使經 塗布基材先於電熱板上在90它下乾燥3分鐘，接著再於氮 大氣中於2 0 0 °C下乾燥3分鐘，然後於4 2 0 °C之立式爐中在 5曰0毫托爾（mTorr)之減壓下固化i小時。利用蒸氣沈^積於製 知之溥膜上形成鋁電極圖案。如此製得供介電常數測量用 之樣品。利用CV方法，利用電極HP1 645 1 B及精密LCR計 胛4284人（兩者皆係由丫〇1^〇2^111^141：一1^(^訂(1，11^製 造）在1 00仟赫（kHz)之頻率下檢測此樣品，以測定塗膜之& 介電常數。 & ' 塗膜之濕氣吸收係數 經由旋轉塗布將組成物樣品塗布至8英对石夕晶圓。使經 塗布基材先於電熱板上在90 °C下乾燥3分鐘，接著再於氮 大氣中於2 0 0 °C下乾燥3分鐘，然後於420 t之立式爐中在

1300088 五、發明說明（38) ' ' -- 5〇毫托爾之減壓下固化1小時。使製得之經塗布基材於a? C 1.5大氣壓、及100% RH之大氣中靜置i小時，然後再 於電熱板上在1〇〇。(：下加熱5分鐘。利用TDS裝（ mm型，Denshl Kagaku製造）評估此基/之置生。 4 f估條件如下。在1 °c /秒之加熱速率下將樣品自室溫 加熱至60〇。(：以測得TDS光譜，並對5〇〇毫微米之薄膜厚产 測定及計算自室溫至4 0 0它之溫度範圍之水片斷（m/z =又 18)的面積。以相同方式分析利用CV])形成於8英吋矽晶圓 上之Si〇2薄膜，以測定水片斷（M/Z = 18)之面積。以兩者之 間的面積比（組成物/CVD Si〇2)為基礎，計算樣品 吸濕性。 ^ 〇 :塗膜之吸濕性等於或低於CVD Si 02之吸濕性。 X :塗膜之吸濕性高於CVD Si02之吸濕性。 金成實施例1 將470.9克之經蒸餾乙醇、226.5克之離子交換水、及 17·2克之25 %氫氧化四甲銨水溶液引入至由石英製成之可 分離燒瓶中。將内容物攪拌，使其均質化。於此溶液中加 入44.9克之曱基三曱氧石夕烧及Μ·β克之四乙氧石夕烧之混合 物。使生成溶液邊維持於5 5艽下邊反應2小時。於此溶液 中加入50克之20%硝酸水溶液。將此混合物充分攪拌，然 後冷卻至至溫。於此溶液中加入4 〇 0克之丙二醇單丙_。 接著利用5 0 °C之蒸發器濃縮生成之溶液，直至其濃度達到 1 0 %為止（以完全水解及縮合之產物的含量計）。其後將1 〇 克之1 0%順丁烯二酸的丙二醇單丙醚溶液加至濃縮溶液。

1300088 五、發明說明（39) 如此製得反應混合物（1 )。 如此製得之縮合及其他反應之產物具有2 0 · 9毫微米之迴 轉半徑。 逢L成實施例2 將47 0· 9克之經蒸餾乙醇、22 6· 5克之離子交換水、及 1 7· 2克之25%氫氧化四曱銨水溶液引入至由石英製成之可 刀離燒瓶中。將内容物攪拌’使其均質化。於此溶液中於 2小時内加入44·9克之曱基三甲氧矽烷及68.6克之四乙氧 矽燒之混合物。使生成溶液邊維持於5 9 °C下邊反應5小 時。於此溶液中加入50克之20%硝酸水溶液。將此混合物 充义授掉’然後冷卻至室溫。於此溶液中加入4 〇 〇克之丙 二醇單丙醚。接著利用5 0 °C之蒸發器濃縮生成之溶液，直 至其濃度達到1 0 %為止（以完全水解及縮合之產物的含量 計）。其後將1 0克之1 0%順丁烯二酸的丙二醇單丙_溶液加 至濃縮溶液。如此製得反應混合物（2 )。 如此製得之縮合及其他反應之產物具有1 7 · 9毫微米之、θ 轉半徑。 〃 ^ c 金成實施例3 將47 0· 9克之經蒸餾乙醇、233· 3克之離子交換水、及 10· 4克之25%氫氧化鉀水溶液引入至由石英製成之可分離 燒瓶中。將内容物攪拌，使其均質化。於此溶液中加77入 44.9克之曱基三曱氧矽烷及68·6克之四乙氧矽烷之混合 物。使生成溶液邊維持於52 °C下邊反應2小時。於此溶2液 中加入5 0克之2 0 %硝酸水溶液。將此混合物充分攪掉，然

1300088 五、發明說明（40) 後冷卻至室溫。於此溶液中加入4 0 0克之丙二醇單丙醚。 接著利用5 0 °C之蒸發器濃縮生成之溶液，直至其濃度達到 1 0 %為止（以完全水解及縮合之產物的含量計）。其後將1 0 克之1 0 %順丁烯二酸的丙二醇單丙醚溶液加至濃縮溶液。 如此製得反應混合物（3 )。 如此製得之縮合及其他反應之產物具有24. 6毫微米之迴 轉半徑。 合成實施例4 將4 7 0. 9克之經蒸德乙醇、2 2 6 . 5克之離子交換水、及 17. 2克之25 %氫氧化四曱銨水溶液引入至由石英製成之可 分離燒瓶中。將内容物攪拌，使其均質化。於此溶液中加 入44. 9克之甲基三甲氧矽烷及68. 6克之四乙氧矽烷之混合 物。使生成溶液邊維持於5 5 °C下邊反應2小時。於此溶液 中加入5 0克之2 0 %硝酸水溶液。將此混合物充分攪拌，然 後冷卻至室溫。於此溶液中加入4 0 0克之丙二醇單乙醚。 接著利用5 0 °C之蒸發器濃縮生成之溶液，直至其濃度達到 1 0%為止（以完全水解及縮合之產物的含量計）。其後將1 0 克之1 0 %順丁烯二酸的丙二醇單乙醚溶液加至濃縮溶液。 如此製得反應混合物（4 )。 如此製得之縮合及其他反應之產物具有1 9. 9毫微米之迴 轉半徑。 比較合成實施例1 將154. 24克之曱基三曱氧矽烷、288.83克之四甲氧矽 烷、及2 5 0克之經蒸餾的丙二醇單乙醚引入至由石英製成

C: \2D-OODEWl -06\91105721 .ptd 第45頁 1300088 s------—___—^ - 五、發明說明（41) 之可分離燒瓶中。使矽烷化合物溶解於溶劑中。於此溶液 中在1小時内逐滴加入含有溶解於其中之丨〇克順丁二烯酸 之297克的離子交換水。使此溶液在50 °c下反應3小時，然 後加入4 0 0克之丙二醇單丙醚。利用5 0 °C之蒸發器濃縮生 成之溶液’直至其濃度達到2 0 %為止（以完全水解及縮人之 產物的含量計）。其後將1 0克之1 0%順丁烯二酸的丙二&單 丙_溶液加至濃縮溶液。如此製得反應混合物（5 )。 如此製得之縮合及其他反應之產物具有0 · 2毫微米之迴 轉半徑。 f施例1 於在合成實施例1中製得之反應混合物（1 )中，對混合物 (1)中之每100份之成份（A)加入120份之重量平均分子量為 2，0 0 0的聚乙二醇。將此溶液過濾通過具有〇 · 2微米開口直 徑之鐵氟龍（Tef Ion)過濾器’而得本發明之薄膜形成用組 成物。 經由旋轉塗布將製得之組成物塗布至石夕晶圓。 如此形成之塗膜具有低至2· 〇 1之極低的介電常數，且具 有不高於CVD Si02之濕氣吸收係數。 實施例2至8 根據表1所示之組成製備薄膜形成用組成物，並以與實 施例1相同之方式進行評估。所得之評估結果示於表1。

C:\2D-C0DE\91-06\91105721.ptd 第46頁 1300088 五、發明說明（42) 表1 實施 例 成份（A) 成份（B)[對每100份成份 (A)之量] 介電 常數 濕氣吸 收係數 1 反應混合物(1) 重量平均分子量爲2,000之 聚乙二醇，120份 2.0 1 〇 2 反應混合物(1) 重量平均分子量爲2,000之 聚乙二醇，150份 1.80 〇 3 反應混合物(2) PE-6 1 *，55 份 2.19 〇 4 反應混合物(2) PE-6 1 *，1 20 份 1.93 〇 5 反應混合物(2) PE-6”，150 份 1.73 〇 6 反應混合物(3) 重量平均分子量爲1，500之聚 (甲基丙烯酸異丁酯），100份 1.82 〇 7 反應混合物(3) PE-61*，150 份 1.69 〇 8 反應混合物(4) 重量平均分子量爲1，500之聚 (甲基丙烯酸己酯），100份 2.02 〇 * PE-61 :聚（氧化乙烯）嵌段/聚（氧化丙烯）嵌段/聚（氧化乙烯） 嵌段共聚物（Nupol PE61，Sanyo Chemical Industries，Ltd.製 造）

C:\2D-CODE\91-06\91105721.ptd 第47頁 1300088 五、發明說明（43) 比較f族你丨1 以與實施例1相同之方式形成及評估塗膜，除了僅使用 於合成實施例4中製得之反應混合物（4 )。 上匕較實施例2 以與實施例1相同之方式形成及評估塗膜，除了將重量 平均分子量為2，0 0 0之聚乙二醇以對混合物（5 )中之每1 〇 〇 份成份（A ) 1 2 0份之量加至於比較合成實施例1中製得之反 應混合物（5 )中。 參考實施例1 以與實施例1相同之方式形成及評估塗膜，除了將重量 平均刀子里為2，000之聚乙二醇以對混合物（4)中之每1〇〇 份成份（A ) 4 0份之量加至於合成實施例4中製得之反應混合 物（4 )中。 製得之塗膜具有低至2· 18之介電常數。然而，無法製得 具有2 · 1以下之標的介電常數的塗膜。 參考實施例2 、，以與實施例1相同之方式形成及評估塗膜，除了將重量 分子量為2, 0 0 0之聚乙二醇以對混合物 入铷由 抄品,至於合成貫施例4中製得之反應混 “勿⑷中。然而’組成物 以形成薄膜時產生許多停咬 π「且田坌不 根據本發明，可經由佶 存在下水解及/或縮合一 3 經由在鹼性催化劑及水之 (Β)可與成份（Α)相容或可=f種烷氧矽烷而製得之產物， 刀政於成份（A)中，且具有自250

C:\2D-C0DE\91-06\91105721.ptd

1300088 五、發明說明（44) 至4 5 0 °C之沸點或分解溫度的化合物，及（C )有機溶劑，作 為組成物之成份，而提供可產生具低濕氣吸收係數及2. 1 以下之介電常數之塗膜的薄膜形成用組成物（層間絕緣薄 膜之材料）。

C:\2D-C0DE\91-06\91105721.ptd 第49頁 1300088 圖式簡單說明 第50頁 C:\2D-OODE\91-06\91105721.ptd

Claims (1)

1. —年 月 六 ^91105791 、申請專利範圍 A種薄膜形成用組成物，其包括： 下化：上使選自由以下化學式⑴所表示之化合物、由以 之化合i路I所*表不之化合物、及由以下化學式（3)所表示 水之存，斤、、且成之群之至少一矽烷化合物在鹼性催化劑及 R之存在下水解及縮合而製得之水解及縮合之 # a (0R1)“ m 僧；I 1虱原子、氟原子、或單價有機基團；R1代表單 仏有機基團；及a為1或2之整數， Si(OR2 )4 其中^代表單價有機基團， （） R〉（R4〇)BSi -（R7)d-Si(OR5)3_cR6c (3) ^ R3至1^可相同或不同，且各代表單價有機基團；b及c 二相=或不同，且各為〇至2之數目；R?代表氧原子、伸苯 土、或以-(CH2)n-表示之基團，其中11為1至6之整數； 為0或1 ; p 可與成份（A)相容或可分散於成份（A)中，且具有自 2 5 0至4 5 0 C之沸點或分解溫度的化合物；及 (C)有機溶劑， 其特徵為：該水解及縮合之產物具有自5至50毫微米之 迴轉半徑。 2 ·如申請專利範圍第1項之薄膜形成用組成物，其中， 對每100份重量之成份（A)(以完全水解及縮合之產物計）， 成份（B)之量係自5 〇至2 5 0份重量。 3 ·如申請專利範圍第i項之薄膜形成用組成物，其中，

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   差號 9110571 申清專利範圍 成份（B)係具有聚（氧化 聚合物。 甲说基）、、、°構之化合物或丙烯酸系 4.如申請專利範圍 氫氧化鈉、及氫氧化# ^兀土胺、虱氧化四烷基銨、 ,^ 風乳化卸所組成之群之至少一去。 5·如申請專利範圍第丨項之薄 / 者 成份（C)包括由下式（4)、，專膜形成用組成物，其中， R8〇(Ri〇〇)eR9 表不之至少一有機溶劑： 其中R8及R9ge分別代表氫原 （4) 烷基及CHsCO-所組成之群 自由具1至4個碳原子之 基；及e為1或2之整數/早仏有機基團；P代表伸烷 6 ·如申請專利範圍第5項 成份(C)包括選自由乙二醇成用組成物’其中， 乙二醇單烷基醚乙酸酯、70 土趑、乙二醇二烷基醚、 醚、丙二醇單烷基醚乙酸酽…手早烷基醚、丙二醇二烷基 醇二烷基醚、及二丙二二酵單烷基醚、二丙二 少一者。 早坑基醚乙酸酯所組成之群之至 7· —種薄膜形成之方法， 項之薄膜形成用組成物塗布：j m請專利範圍第1 加熱。 今至基材，然後再將生成之塗層 8· —種利用如申請專利範 得之矽石基膜。 乾圍弟7項之薄膜形成之方法製 9 ·如申請專利範圍第8項之功τ * 介電常數。 、 土膜’其具有2·1以下之

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