TWI287563B - Pressure sensitive adhesive articles - Google Patents

Description

1287563 玖、發明說明 [發明所屬之技術領域] 本發明係關於感壓性黏接物品，特別是經過改善後的 感壓性黏接物品，如含離型片的感壓性黏接片（包括感壓 性黏貼標籤）和感壓性膠帶及諸如此類的物品。 [先前技術] 一般而言，備有感壓性黏接片之感壓性黏接物品具有 感壓性黏接層，而且具有離型劑層之離型片係以可移除的 方式黏接至感壓性黏接層，可以讓離型片便於操作（後文 中，由感應性黏接片（標籤）及可移除地黏接至該感應性黏 接片之離型片所組成的物品係稱為「含離型片之感壓性黏 接片」）。再者，、在感壓性膠帶等感壓性黏接物品的例子 中，該膠帶基材之背面上形成有離型劑層，而該背面乃相 對於基材上經供予感壓性黏接層之另一表面的表面。 曰 般而σ，在這種感壓性黏接物品中，感壓性黏接層 =由聚（甲基）丙稀酸醋為主的膠黏劑、天然橡膠為主的 膠黏劑’或合成橡膠為主的膠㈣，或諸如此類的物質所 構成。大多數的這種感壓膠會與具有離型劑層的離型片一 起使用’該離型劑層通常切氧㈣脂（秒氧烧化合物）。 起使用 、不過，在這種與矽氧烷樹脂製成之離型劑層 感壓性黏接物品中，會出現以下的問題。 (υ在離型劑層的表面上之書寫性 當感壓性谬帶用來黏貼硬紙板盒以進行包裝時，會遇 到-種情形，即例如地址或姓名等内容資訊會以油墨書寫 314996 5 1287563 於膠帶的表面。不過，因為膠帶表面是由矽氧垸樹脂所制 成，對於油墨具有排斥性，因此可能會發生難以書寫的情 況。 (2) 離型劑層的表面上之滑動性 當感壓性膠帶用來黏貼硬紙板盒以進行包裝時，會遇 到一種情形，即已包裝的硬紙板盒會堆疊在貨架等之上。 在這種狀態下，可能會發生堆疊的硬紙板盒因為感壓性點 接物品的離型劑層接觸已包裝的硬紙板盒而滑動。因此有 此一需求，需要降低感壓性黏接物品之離型劑層的滑動 性。 (3) 矽氧烷化合物的轉移 已知這種離型片是黏附於感壓性黏接片上，離型片之 離型劑層中所含的矽氧烷化合物如低分子量矽氧烷樹脂、 矽氧烷及/或矽膠油會轉移至感壓性黏接片的感壓性黏^ 層。其次，一般而言，離型片在製造後通常會捲成一捲， 在這種狀態下’離型片的(即為相収形成離型劑層 之離型片基材的表面之離型片基材表面）會接觸到離型劑 1’因此’離型劑層中所含有的矽氧烷化合物會轉移至離 型片的背面。當含有這種離型片的感壓性黏接片被製造出 時’含有這種離型片的感麼性黏接片也會捲成一捲。在這 種接觸之下，也已知當含有這種離型片的感壓性黏接片捲 成捲¥ ’ 14種石夕氧院化合物會被轉移至感壓性黏接片的 表面。 當某些符號或類似的文字，利用列印或熱轉印的方式 314996 6 1287563 印製於感壓性黏接片表 表面的梦氧燒化合物似乎：對;；:τ移至感壓性黏接片 影變。D 4 料會對於印墨的黏接性造成不良的 接片#面2 k種轉移的碎氧烧化合物會使得在感壓性黏 "‘‘”下—些文字的困難度增加。除此之外，當矽氧 烷化合物被轉移至離型片的 " 能會對於印製於離型 ：:广烧化合物可 影響。 之月面的文子或製圖案等造成不良 (4)當使用石夕氧貌化合物於電子儀器時造成的污染 已纟胃附有離型片之感壓性黏接片用於電子儀器 例如硬碟驅動器（HDD)、半導體裝置、繼電器及諸如 :類的I置）等被黏物時，碎氧燒化合物會被轉移至感壓 十黏接層或感壓性黏接片的表面’並逐漸氣化。之後，氣 化的石夕氧院化合物將會沉積於被黏物等的表面，並因此形 成—種微細的石夕膠層（石夕氧烧化合物層）。#此一微細的石夕 Hu形成於f子儀器’如硬碟驅動器（HDD)、半導 體裝置、繼電器等不喜歡受切化合物所污染之物時，這 種矽氧烷化合物會對於該裝置之正常的操作以及積體電路 之精密形成等造成不良影響。 尤其疋，在近幾年來，尚性能及高密度的硬碟驅動器 或半導體裝置在短時間内快速發展，一般相信，此後追尋 问性忐及向密度的趨勢將會繼續。如果這種硬碟驅動器或 半導體裝置的高性能及高密度趨勢進一步地發展，細微的 石夕氧燒化合物沉積將會對於硬碟驅動器或半導體裝置等之 功能及性能造成不良影響。 314996 7 1287563 為了避免上述可能由矽氧烷化合物造成之不良影響， 因此對於實質上不含矽氧烷化合物的離型片有需求存在， 即為實質上無矽膠的離型片。不過，當此一實質上無矽膠 的離型片與丙烯酸感壓性黏接性物質併用時，離型片自减 壓性黏接片剝離時所需之離型力會變成使用矽氧烷樹脂製 &的離型劑層時之兩倍。換句話說，這種無矽膠的離型片 在著個問題，不只是離型片自感壓性黏接層的可離型 拴降低，感壓性黏接片自被黏物表面的可移除性也降低 了 ° · [發明内容] 、/因此本發明的目的係提供一種感壓性黏接物質，幾 乎不會造成如上所述之矽氧烷化合物所引起的不良影響， 並且具有改善的可離型性，尸' 需在離型片之離型劑層和感 壓性黏接層之間的邊界處施予極小的離型力，便可以將離 型片剝離。 為了達到上述之目的，本發明乃針對包含主要由聚胺 ,甲酸酯樹脂所形成的感壓性黏接性層之感壓性黏接物 以及種離型劑層，主要由聚烯烴樹脂所構成，該離 型劑層係黏附至感麼性黏接層，#中面對感μ性黏接層之 離里片|層表面的濕潤張力根據由所定義之濕潤 張力測試法而進行測量，等於或小於33mN/公尺。‘、 此外’本發明的另一方面乃針對包含主要由聚胺基甲 酸醋樹脂所形成的感壓性黏接層之感Μ性黏接物品；以及 種❹d層主要由聚烯烴樹脂所構成，其密度等於或 314996 8 1287563 小於0‘94公克/立方公分’該離型劑層係黏附至感麼性黏 接層。 此外，本發明還另一方面針對包含主要由聚胺基甲酸 ㈣脂所形成的感壓性黏接層之感壓性黏接物品；以及一 種離3L韻’ ±要由聚烯烴樹脂所構成，其密度等於或小 於 a克/立方公分，該離型劑層係黏附至感壓性黏接 層’其中面對感壓性黏接性層之離型劑層表面的濕潤張 $ ’根據由JISK 6768所定義之濕潤張力測試法而進行測 量’等於或小於33mN/公尺。 在本么明之中，感壓性黏接物品可以是一種含離型片 之感壓性黏接片。含離型片的感壓性黏接片可包含感壓性 黏接片，該感壓性黏接片包含經供予感壓性黏接層的基 材，以及離型β，該離型片包含經供予離型劑層之離型片 基材。離型片經由其上的離型劑層可移除地黏附於感壓性 黏接片的感壓性黏接層。 在這種情形下，即使含感壓性黏接層之感麼性黏接片 包含矽氧烷化合物，較佳為該矽烷化合物的含量等於或小 於5 0 0微克/平方公尺。 其次，較佳的情形也包含，當感壓性黏接層自離型片 剝離後使用，感壓性黏接片在85<t之中3〇分鐘會產生— 種氣體’但是此-由感壓性黏接層所產生的氣體I等於或 少於20毫克/平方公尺。 此外，較佳的情形也包含，當感壓性黏接層自離型片 剝離後使用，感壓性黏接片含有氧化氮離子、氯離子'磷 314996 9 1287563 酸根離子、版離子、細碰 , 鉀離子、鈉離子及鈣離子，但是這歧 離子的總量等於或少於20毫克/平方公尺。 此外，較佳的情形也包含，感壓性黏接片的基材係由 塑膠膜或無塵紙所形成。 μ 此外，較佳的情形也包含，感壓性黏接片復包含至少 一供於基材之一或二表面之抗靜電層。 在本卷明之中’感壓性黏接物品可以是一種感壓性膠 帶：感壓性膠帶可以包含具有二表面的基材，感壓性黏接 層經供於基材的-表面，感麼性膠帶捲成—捲的形式保 存，直到使用為止。 在這種情形下’即使含感壓性黏接層之感壓性黏接片 包3矽氧烧化合#，較佳為該石夕烧化合物的含量等於或小 於500微克/平方公尺。 、' 、 其次，較佳的情形也包含，當感壓性黏接層自離 型片剝離後使用，感壓性黏接片在85。〇之中3〇分鐘會產 生-種氣體’ 是此-由感壓性黏接層所產生的氣體量等 於或少於20毫克/平方公尺。 此外，較佳的情形也包含，當感壓性膠帶係使用時， 感壓丨生膠V含有氧化氮離子 '氣離子、填酸根離子、氣離 子、鉀離子、鈉離子及鈣離子，但是這些離子的總量等於 或少於20毫克/平方公尺。 此外，較佳的情形也包含，感壓性膠帶的基材係由塑 膠膜或無塵紙所形成。 此外較佳的情形也包含，感壓性膠帶復包含至少 314996 10 1287563 供於基材之一或二表面之抗靜電層。 f 本發明的這些及其他目的、結構及優點將下以下的描 述中更加清楚地陳述，並且藉由附上的圖示更清楚地說 明。 [實施方式] 以下的詳細描述’乃關於根據本發明之感壓性黏接物 品之較佳具體例。 第1圖為根據本發明之感壓性黏接物品之第一具體例 的概略橫剖面圖示。如f 1圖所示’本發明之感壓性黏接 物品1A係形成含有離型片之感壓性黏接片，該離型片包 含由基材所構成以及供於基材21之一表面上的感壓性 黏接層22構成之感壓性黏接片2A，以及由基材31以及供 於基材31之表面上的離型劑層32構成之離型片3A，其中、 感壓性黏接層22與離型劑層32接觸，所以感壓性黏接片 2A可以自離型片3A剝離或移除。 ’一认w τ，離型劑層 烯烴樹脂所構成，將於之後 要由 ,π 後進仃评細的描述。因此，使j 本备明之感Μ性黏接物品，可以有效地 ^ 化合物所造成的不良影響發生。 矽氧4 本發明之感麼性黏接物品的一 限制，但是因Α μ从 貝卩不應用亚不會党到特另 為上述的優點，最心 合物所造成之不g旦/鄉 〜用於易党到矽氧烷w 性黏接物不“響的被點物。藉由利用本發明之❹ 性黏接物品至這種被黏物月之感屋 例如，本發明可以廡田X月之效果將更加顯著。 應用於感Μ黏接物品或諸如 Π 314996 1287563 、 此感壓性黏接物品係適於黏附於電子設備或電子 “牛’例如硬碟驅動器（HDD)、半導體裝置、繼電器及 f如此類的袭置，或是用於半導體裝置之製程的半導體製 & a備或其相關物件。這是因為在此用途中，必須避免受 到石夕氧燒化合物的污染。 ，本發明之感壓性黏接物品可依以下的形態使用，將該 感£ ϋ黏接物品之感壓性黏接層黏附於使用在半導體裝置 =同製造過程的半導體製造設備或其相關物件。此半導體 製4又備的見例包括裁切或拋光鑄塊單晶石夕之裝置、步進 機除膠V機、晶圓貼片機、晶圓控制系統、膠帶貼合機、 i外線照射裝置、運輸系統、暫時容納晶圓的盒子或匿子， 及諸如此類的物件。在此一關聯中，請注意本發明之感壓 性黏接物品並不限於直接黏附於半導體製造裝置之内側或 外側的物件。 此·外，本發明之感壓性黏接物品也可用於如上所述之 半導體製造裝置之相關物件。相關物件的實例包括對於半 導體製造裝置之生產線會造成某程度影響之不同物件，例 如使用於半‘體製造裝置之耗材及耗材的包裝、半導體製 造裝置覆盍物、檢測的儀器、空調冷氣及諸如此類的裝置。 此外，本發明之感壓性黏接物品中，感壓性黏接層主 要由聚胺基甲酸酯樹脂所形成，將於之後進行詳細的描 述。 本發明之感壓性黏接物品1A可用於不同的被黏物 上。不過，如果以分類為目的，之後的解釋將適用於以下 3J4996 12 1287563 的情況’即本發明之感遷性達技 σ f黏接物。口所黏附的被黏物係用 於不同製造過程之半導體萝生梦 〒歷衣Λ裝置，或是其相關的物件（之 後泛指為「半導體製造設備等）。 在本感麼性黏接物品（含離型片之感屡性黏接片）1Α 中’離型片3Α可以至自感麼性黏接片2α剝離在剝離之 後’感遷性黏接片2係黏附在被點物上，即為半導體 設備等。 之後，將提出關於感屢性黏接片2Α的說明。感壓性 黏接片2Α的構造包含錢性黏接層22形成於_性黏接 片2Α的基材21之上的構造。 感麼性㈣片2Α的基材21具有支持感難黏接層22 的功能’其組成包含’如塑膠膜例如聚酯Μ (例如聚對苯 二甲酸>乙二醋薄膜、聚對苯：甲酸丁二_薄膜等）、聚碳酸 酯樹脂薄膜等；由鋁或不鏽鋼製成的金屬箔；如半透明的 玻璃紙、道林紙、銅板紙、浸潰紙、合成紙、所謂的防塵 紙；或上述一或二種材質之積層體。 在些材質之中，特別適合的是感壓性黏接片2 a的 基材21係由如聚酯膜之塑膠膜所構成（例如聚對苯二甲酸 乙二醋薄膜、聚對苯二甲酸丁二自旨薄膜等）、聚丙稀薄膜； 或防塵紙，因為這種材質所產生的顆粒較少（例如，請見 JP B H06 11959)。若感壓性黏接片2A的基材21係由塑 膠膜或防塵紙所構成，在處理或使㈣，顆粒及諸如此類 的物質較Η產生n這種感壓性黏接片2A的基材 21較不容易對於要製造和使用的半導體裝置造成不良影 314996 13 1287563 響。此外’當感壓性黏接片2 A的基材2丨係由塑膠膜或防 塵紙構成時，當處理感壓性黏接物品時的裁切、擠壓或諸 如此類的動作會變得較為容易。 此外’當塑膠膜作為感壓性黏接片2A的基材2 1時， 較佳的情況為這種塑膠膜為聚對苯二甲酸乙二酯薄膜或聚 丙烯薄膜，在它們之中，其中又以聚對苯二甲酸乙二酯較 佳，因為它具有產生顆粒量較低，以及加熱時產生的氣體 量也較低的優點。 感壓性黏接片2A的基材21的厚度並未受到任何限 制4疋最好在5到200微米之間，較佳的情況為2〇至 100微米。 感晷性黏接片2 A的基材2 1表面（相對於形成感壓性 黏接層22的表面之表面)可能會需要進行印刷或打字的工 作。此外，感壓性黏接片2A的基材21表面可能會需要進 行處理，Μ改善印刷或打字（並未顯示於此圖示中）的的 黏附效果。此夕卜，感壓性黏接片2Α可以當作標籤使用。 感壓性黏接層22是由含有感壓膠作為主要成分之 壓性黏接組成物所組成。 # 在本發明之中’一種胺基曱酸乙酯為主的膠黏劑主要 用作構成感壓性黏接層22之感壓膠，。 「口 J時’在傳統的感壓性黏接物 —經普遍且廣泛地t作感壓膠使用。不過，當這— 的丙烯酸膠黏劑作為感壓膠使用日夺，如果離型二氧 樹脂之外的枓質所製成，離型片將無法順利地剝離（即 314996 14 I287563 爲要的離型力里較大）。在此關聯之下，在感壓性黏接物品 為含離型片之感壓膠（亦即含離型片的標藏）的情況中，所 而的離型力為200mN/50厘米或以下，以bOmN/SO厘米或 以下為更佳的情形。一般而言，為了達到較低的離型力， 必須使用石夕氧烧樹脂作為離型劑。 不過，使用矽氧烷樹脂作為離型片，會造成如上所述 =矽氧烷成分或諸如此類的污染之問題。此外，當使用標 籤之較薄的基材或使用標籤機的情況下，離型片最好可以 幸至易地剝離。 “此外田使用丙烯酸膠黏劑時，還會存在著一個問題， 田感C 黏接片自被黏物剝離時，部分的丙烯酸膠黏劑 仍然奴存於被黏物上。為了解決這個問題，本發明的目的， 即^藉由增加交聯劑的用量，以增加感壓膠的黏著強度， 但是這個結果會導致較差的黏著力。大部分使用丙烯酸膠 ^ H田黏接力位於8至15N/25厘米（這種膠著力屬於 中等）的範圍時，都會遇到這種問題。 深入的研究，其研究結果

一種將多元醇與聚 本發明的發明者已經進行了 發現，如果使用胺基甲酸酯膠黏 可以解決這些問題。即為，利用 314996 1287563

胺基 異氰酸酯反應，以合成聚胺基甲酸酯預聚體所得到的 月曰然後再加入胺類化合物或諸如此類的化合物至聚 甲酸醋預聚體中，進行加成反應。 在多元醇、聚酯多元醇之中、聚醚多元醇或諸如此類 的物質之中，α具有二個以上的官能基之化合物為佳。此 外，在此所使用的多元醇分子量之範圍最好為1〇〇〇至 5000, 1500至3500更佳。如果多元醇的分子樣低於1〇〇〇 以下，其反應性會變得過高，因此所得到的聚胺基甲酸酯 樹脂可能會凝膠化。另一方面，如果多元醇的分子量高於 5000以上，反應性會降低。這種多元醇可單獨使用或結合 二種以上的多元醇併用。 聚異氰酸自旨的實例包括芳香族聚異氰酸酯、脂肪族聚 異氰酸酯、芳香族脂肪族聚異氰酸酯、脂環族聚異氰酸酯 及諸如此類的化合物。這些聚異氰酸酯可單獨使用或結合 二種以上的多元醇併用。 多元醇和聚異氰酸酯應混合使得聚異氰酸酯的異氰酸 酿基相對於1莫耳當量之可與異氰酸酯基反應的活性氫之 莫耳當量大於1，如此使得所得到的胺基甲酸酯預聚體之 末端基為異氰酸酯基。多元醇和聚異氰酸酯之間合適的混 合比例依據化合物的反應性，現存的三價或較高價數之化 合物的比例’製得樹脂之使用目的及諸如此類之樹脂的目 的而變異極大。當合成在二端具有異氰酸酯基之聚異氰酸 酯時，相對於羥基或可與異氰酸基反應之官能基中所含的 活性氫之異氰酸基的當量比較佳為1 ·01至4·00，更佳為 314996 1287563 1.40 至 3.00。 具體而言，相對於100重量份之多元醇之要混合的聚 異氰酸酯的量’其範圍最好為！至3〇重量份。藉由設定相 對於100重量份之多元醇之要混合的聚異氰酸酯之量於上 述範圍，可以得到相當良好黏著強度及黏著力。如果相對 於100重量份之多元醇之要混合的聚異氰酸酯之量少於1 重ΐ份，則其黏著強度可能會降低。另一方面，如果相對 於100重量份之多元醇之要混合的聚異氰酸酯之量多於3〇 重篁份，則其黏著力可能會降低。此外，較佳的情況為相 對於1 0 0重i伤之多元醇之要混合的聚異氰酸酯之量介於 10至20重里伤。藉由設定聚異氰酸醋的量至上述之範圍 内，上述之效果會變得更加明顯。 用於合成本發明之胺基甲酸酯預聚體的晶體並不限於 任何特殊晶體，但是可列舉如包含四價的胺類化合物、有 機金屬化合物及所提到的諸如此類之化合物。但是就反應 性及衛生因素考量，尤其以二月桂酸二丁基錫、乙-乙基己 酸錫及諸如此類的化合物較佳。這些晶體可單獨使用或結 合二種以上併用。 至於使用於合成本發明之聚胺基曱酸酯預聚體的溶 劑’習知的溶劑皆可以使用。 藉由多元醇與聚異氰酸酯反應而得到胺基甲酸酯預聚 體的反應，可以利用不同的方式進行。 接下來’藉加成反應將胺類化合物或諸如此類的化合 物加成至由此得到的胺基甲酸酯預聚體而製得聚胺基甲酸 314996 1287563 酯-尿素樹脂。 在此時，胺基甲酸酯預聚體與胺類化合物（如有需要 則使用多胺類）化合的比例並不限於任何特殊的數值，適 當地依據使用的目的及標的物性能進行設定。 此外，可以加入不飽和化合物至本發明中，以胺基甲 酸酯為主的膠黏劑，便此便可以依照需要而造成改質的效 果。 例如，這種不飽和化合物可以將胺基甲酸酯-尿素樹脂 加以改質。這種不飽和化合物可以依據聚胺基甲酸酯尿素 樹脂改質的目的而適當地選擇出。 此外’本發明中所使用的感壓性膠黏劑除了聚氨基甲 酸樹脂之外’可以依照需要包含丙烯酸樹脂、聚酯樹脂、 胺基樹脂、環氧化樹脂及諸如此類的化合物。此外，本發 明中所使用的感壓膠可以包含不同的添加劑，例如增厚 劑、填充劑（例如滑石粉、碳酸鈣、二氧化鈦或諸如此類 的物質）、著色劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、消泡劑、光 安定劑或依據使用目的加入添加劑。 另一方面，以丙烯酸胺基甲酸酯為主的寡聚合物可用 於取代聚胺基曱酸樹脂。以丙烯酸胺基甲酸酯為主的募聚 合物是熱固性化合物及/或至少有二個碳-碳雙鍵之紫外線 可硬化的化合物。這種以丙烯酸胺基甲酸酯為主的募聚合 物可以藉由將異氰酸酯為末端的胺基甲酸酯預聚體，與具 有羥基的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯反應而得到（例如/丙烯 酸2-經乙酯），其中將異氰酸酯為末端的胺基甲酸酯預聚 314996 18 1287563 體之製備乃是將聚醋類或聚醋類的多元醇化合物盘 酸酷化合物（例如2,4_二異氰酸甲苯醋）進行反應。’、 —當使用以丙烯酸胺基甲酸顆為主的募聚合物： 量較佳乃介於300至30,000之間， 又住的摩巳圍為1，000 2，_之間。當感壓性黏接層由以分子量介於上述之範 :=丙料胺基甲酸酯為主的募聚合物構柄，感壓性 黏接片將有特別優良的可移除性。 感壓膠組成物可為已經過交聯處理之交聯型， 經交聯處理之未交聯型。…交聯型的更佳。當使：交 聯型時’可形成具有較佳的黏著強度之感壓性黏接層22。 :用於交聯型之感壓膠的交聯劑實例包括以環氧基為主的 合物、異氰酸酯化合物、金屬螯合物、金屬烷醇越、金 屬鹽、胺類化合物、聯氨化合物、搭化合物或諸如：類的 化合物。 如有需要，用於本發明之感壓性膠組成物可以含有各 種添加劑’如抗靜電劑、塑化劑、增黏劑、安定劑及諸如 此類的物質。 八感壓性黏接層的厚度並不限制於任何數值，但是最好 丨於5至1 〇〇微米之間。在這樣的厚度下，可以得到良好 的點附力。

^這種感壓性黏接片2A之中，最好感應性黏接片2A 可含有的矽氧烷化合物含量係少於500微克/平方公尺 或以下。 夕氧烷化合物的實例包括低分子量的矽氧烷樹脂、矽 314996 19 1287563 膠油、石夕氧烷或諸如此類的物質。 如果感壓性黏接片2A $ φ μ人士 ^ 窃丄 银5 2A之中所含有的矽氧烷化合物含 〇〇微克/平方公尺或以下，可能會自感壓性黏接片 ::出的石夕氧烧化合物將可以減至最低’如此當感壓性黏 2A黏貼至被黏物時，便可以不理會這種狀況，如此 :以有效地避免上述由石夕氧烧化合物造成之不良影響的發 生。即為’藉由使用本發明之感難黏接物品將可以避 免矽氧烷化合物自感壓性黏接片溢出的現象，而不會發生 '出的矽氧烷化合物黏附或沉積於所製造的半導體裝置表 面等上。 其次，在電子設備或例如硬碟驅動器（hdd )、半導 體裝置、繼電器等之電子零組件的製造及組裝過程中在 某些過程之中，生產製造線上的環境溫度會增加。其次， 在製造的產品中’如半導體裝置，由於其零組件產生熱而 使其溫度升高。當-般的感隸黏接片用於此種情況中， 矽氧烷化合物溢出的量會因為高溫而增加。另一方面當 本發明之感Μ性黏接物& (即為感錄黏接物品的感堡二 黏接片）’自感壓性黏接片溢出的矽氧烷化合物之量非常 低:因此，將可以有效地避免石夕氧烧化合物堆積於所製造 半導體裝置表面的現象。結果，所製造的半導體裝置中幾 乎不會發生問題，並且因此可以改善半導體裝置之可 度。 當感壓性黏接片2A的矽氧烷化合物含量為】〇〇微克/ 平方公尺或更少時，這種效果會變得更加顯著。 314996 20 1287563 其次，當感壓性黏接片2A在高溫下使用時，會有產 生氣體的情形發生。不過，如果產生的氣體量是可以，勿略 的程度，便不會產生問題。例如，事實上較佳的氣體產生 里在85C之中30分鐘為寺於或少於2〇毫克/平方八_尺 更佳的情況為5毫克/平方公尺。這種氣體通常會由感壓性 黏接片2A的任何成分產生。氣體成分的實例包括感壓1膠 之樹脂成分中的未反應單體或低分子量聚合物，例如（甲 基）丙稀酸、（甲基）丙烯酸酯或苯乙烯；溶劑如甲苯、乙 酸乙S旨、甲乙酮；及塑化劑如鄰苯二曱酸醋（鄰苯二甲： 二辛酯、鄰苯二曱酸二乙|己酯或鄰苯二甲酸二正癸酽）夂 如果從這感壓性黏接片2A所產生的氣體量降低，所:接 的物質及沉積於所製造半導體之裝置表面的物質便會減 J。在此—考量之下’當感壓性黏接片2A產生的氣體量 傾向增加使得四周的溫度升高。在製造半導體之裝置或諸 :此^的裝置中’有—種情形為運作時該設備内部的溫度 曰升南。然而’在這種情形之下，感壓性黏接片2A四周 的溫度通常為8CTC或以下。因此，有鑑氣體之產生，如果 在8 5 C的環土旁中3 0 & 4立π i i _ e 刀知所產生的氣體量為等於或少於之 F 的里’在一般的製造半導體之裝置或諸如此類的 裝置之W通使用條件下’自感壓性黏 :::::更低’如此-來’感壓性黏接…適當地 用於“I導體之裝置或諸如此類的裝置。 其次，在感壓性黏接片2 A^人 要片2A之中，所含有的氧化氮離 " ^ 根離子、氟離子、鉀離子、鈉離子及約 314996 21 1287563 雖子總置最好等於或少於2〇亳香

Ha 毛兄/干方公尺，較佳的情況 為專於或少於5毫克/平方公尺。 如果感壓性黏接片2A含 有大Ϊ的這些離子，這些離子 了此曰黏附於製造半導體之 裝置，而對該半導體裝置產生 卜氏的衫響。相反的，當這 二離子的量降至上述的值或更

乂更低打，自感壓黏性接片2A 生的離子量會降低許多n所製造的半導體裝置 或諸如此類的裝置便不容易發生這些不良的影響。 在正常的情況下，離型# 孓片3A係黏附於感壓性黏接片 ，直到使用為止。上述之减壓& 社既 心认&性黏接片2 Α及感壓性黏 ㈣22的特性乃依據離型片3A而異，尤其大幅地仰賴離 t劑層32的成分和特性。為了使感壓性黏接片μ及感壓 性黏接層22具有上述的特性，離型片3a較佳以 的方式製作形成。 離型片3A的結構中，離型劑層32形成於離型片 材31之上。 土 離型片的基材31之材質，與如前所述的感難黏接片 2A之基材21 —樣。 離型片的基材31之厚度並不限制於任何數值，但是較 佳的情形為介於5至200微米的範圍之内，更好的情形為 介於20至1〇〇微米之内。 夕· 離型劑層32主要由聚烯烴樹脂所構成。 /一聚烯烴樹脂的實例包括聚乙烯樹脂；聚丙烯樹脂；以 烯:k為主的熱塑性彈性體，如乙烯^ •烯烴共聚體；以及言 些材質的混合物。 ’ 足 314996 22 1287563 當離型劑層32係由聚丙烯樹脂構成時， 可以错由擠壓層合而形成層合結構，該離 j J層32 於紙張或薄膜上，或是形成CPP或OPp=‘32係層合 些情形中，離型劑層32的外型和 ：膜。在這 目士 个付別雙限，口面 八有所需的離型力之離型劑層皆可以使用。 、次，當離型劑層32由烯烴為主的熱 乙烯α-烯烴共聚體（乙烯·丙烯、乙烯_丁 化合物）或乙烯較高級的α _烯烴共聚體（乙—烁 娟的 如此類的化合物)所構成時，離型劑層32 ::: 合而形成層合結構，該離型劑層32係層合於：:二層 上^是離型劑層32可以藉由塗布的方式形成。在這此情 >中，離型劑層32的外型和型態並未特別受限，且: 所需之離型力的離型劑層皆可以使用。 〃 在這些材質t中，$乙稀樹脂及/或以稀㈣Μ ㈣性體是作為構成離型劑層32之離型劑的較佳材料:當 離型劑層32由這種離型劑構成時，離型劑層32便不需： 含有任何魏烧化合物，因為這财㈣化合物會對 製造的半導體裝置造成不良的影響。因此，可以避免石夕氧 烷化合物由製成於感塵性黏接物品以中的型劑層Μ轉移 至感Μ性黏接層22的環境。其次，當離型劑層32由聚乙 烯樹脂及/或以稀烴為主的熱塑性彈性體構成時，在感塵性 黏接物品1Α製造時就不需要使用任何矽氧烷樹脂，因此， 可以避免感塵性黏接物品被生產位置的矽氧烷化合物所污 染，並且因在匕可以冑免石夕氧炫化合物黏附於感屢性黏接片 314996 23 1287563 2 A之基材2 1的表面或離型片基材3 1。 其次，當離型劑層32由以烯烴為主的熱塑彈性體及/ 或聚乙烯樹脂構成時，除了上述的效果之外，還可以得到 極佳的離型性。 因此’當離型劑層32由以烯烴為主的熱塑性彈性體及 /或聚乙烯樹脂構成時，即使感壓性黏接物品ia含有矽氧 烷化合物，感壓性黏接物品1A所含有的矽氧烷化合物之 總量也可以降低至500微克/平方公尺或以下，較佳為降至 100微克/平方公尺或以下。如此便可以避免當感壓性黏接 片2A黏附於製造的半導體製造設備或諸如此類的裴置 時^夕氧燒化合物黏附或沉積於所製造的半導體裝置表 面。此外，該感壓性黏接片2A可輕易地並安全地~自離 片3A剝離。 其次，當離型劑層32由以烯烴為主的熱塑性彈性體及 /或聚乙烯樹脂構成時，以烯烴為主的熱塑性彈性體 有以下的條件。 以烯烴為主的熱塑性彈性體的實例包括乙烯_丙烯共 聚體、乙烯-辛烯共聚體或諸如此類的物質。藉由利用乙烯 一丙稀共聚體’離型片3A可以得到特別佳的離型力。至於 商業上可以取得的乙烯-丙烯共聚體，包含TAFMER系列 (Mitsui化學公司的產品）。 ’、 在本發明之中，離型劑層32應該滿足以下條件【1】 及【2】之至少—者。這可以讓離型片3A具有足夠的離型 力。 314996 24 ^87563 1】離型劑層32主要由聚烯烴所構成，具有〇 94公 /立方公分或以下的密度。 巧尤其疋，當使用以烯烴為主的熱塑性彈性體時，其密 :取好"於〇·80至0.90公克/立方公分，更佳為介於〇 86 ^ 8 A克/立方公分的範圍内。如果以烯烴為主的熱塑 2性體的密度低於上述的下限值，抗熱性傾向於降低。 方面，如果以烯烴為主的熱塑彈性體的密度高於上述 的上限值，離型力會變大。 方面 ^使用t乙細樹脂時，其密度最好介於 公克/立方公分’更佳為介於請u〇922 a克/立方公分的範圍内。如果聚乙烯樹脂上 :::值：抗熱性傾向於降低。卜方面，如果聚乙稀: 曰、密度回於上述的上限值，離型力會變大。 你、=好廷種聚乙烯樹脂是利用過渡金屬催化劑所合成， ::齊格勒—納塔(仏咖NaUa)催化劑、二茂金屬化合物 催化！^諸如此類的催化劑。尤其是利用二茂金屬化合物 成的聚乙烯樹脂，具有極佳的離型力及抗熱性。 刑制f2】根據JISK6768測量面對感壓性黏接層22之離 W g 32的表面濕潤張力等於或小於33^ν/公尺。 :::型劑施於離型片基材31上時，表面濕潤張力可以 曰由：.交離型劑層32之製造條件，如溫度，而調整。 …^上所述’本發明應滿足條件⑴及（2)之至少_者，但 疋^的情況為本發明同時滿足條件【1】及【2】。如此， 上述的效果才會變得較為顯著。 314996 25 1287563 其次，以聚烯烴為主的樹脂之平均分子量之測定，乃 根據GPC方法，其範圍最好介於15,〇〇〇至5〇〇,〇〇〇之間。 如果分子篁過小，則會發生感壓性黏接層黏接於離型劑層 32表面的物理強度降低，且當離型片因為樹脂結晶增加而 產生皺褶時，離型劑層32將從離型片基材31脫離。另一 方面，如果分子量過大，樹脂在低溫下的流動性會變得不 佳，因此使得擠壓加工時的可加工性將會降低。在這種情 形下，擠壓成型的模具會因為增加的背壓而受損，並且因 為減少的樹脂擠壓成型量降低，而無法得到所需的加工速 度。其次，某些離型劑層可能會形成若干間隙。 其次，離型劑層32可以包含其他樹脂成分或不同的添 加劑，例如塑化劑、安定劑或諸如此類的物質。 離型劑層32的厚度並不限制於任何特定的值，但是最 好介於5至50微米之間，更佳的情形為1〇至3〇微米之間。 如果離型劑層32的厚度低於上述的下限值，離型性會降 低。另一方面，如果離型劑層32的厚度超過上述的上限 值，會變得難以進一步改善其離型性，因此變得不合乎經 濟效益。 感壓性黏接物品（具有離型片的感壓性黏接片）】八是 由感壓性黏接片2A及上述之離型片3 A所構成。 如之前所述，#使感壓性黏接物品1A的感壓性黏接 片含有魏院化合物，較佳的情況為内容物等於或小於 500微克/平方公尺。在這種情況中，秒氧院化合物的實例 包括低分子量的石夕氧烧樹脂、石夕膠油、石夕氧烧化合物或、 314996 26 1287563 如此類的物質。 人’在這種感壓性黏接物品1A中，產生的〇 1微米 ^以上的顆粒量之計算，較佳的情況為每公升1〇〇個顆粒 或以下。最好的情況為每公升20個顆粒或以下。當產生的 顆粒计數等於或少於這個值，便可以適當地避免感壓性黏 接片2A所產生的粉塵或微粒對於所製造的半導體裝置造 成不良影響。 其次’關於具有上述結構的本發明之感壓性黏接物品 1A之製造方法，將提出以下的描述。 例如，先製備離型片的基材3 1，接著將離型劑施用於 離型片基材3 1，以形成離型劑層32，便可以得到離型片 3 A。這種將離型劑塗布於離型片基材3 1之方法實例，包 括擠壓層合的方法及諸如此類的技術。 在這種情形中，藉由改變施用離型劑的溫度或諸如此 類的方式，將可以調整面對感壓性黏接層22之離型劑層 32表面的濕潤張力。例如，當主要由聚烯烴樹脂所構成之 離型劑經由擠壓層合的方法施用於離型片的基材3丨時的 溫度，最好在270。(：或以下。如果擠壓層合的溫度高於27〇 °C，將會改善離型劑和離型片基材之間的黏附力，但是另 一方面’由於感壓性黏接層22所黏附之離型劑層32表面 氧化’所以面向感壓性黏接層22之離型劑層32表面的濕 潤張力會因此而增加。因此，當感壓性黏接層自離型片剝 離時，離型力會增加。 其次’再製備感壓性黏接片2A的基材2丨，然後將感 27 314996 1287563 壓性黏接成分施於感壓性黏接片2A的基材21上，以形成 感壓性黏接層22，並因此得到一張感壓性黏接片2八。將 感壓性黏接組成物施於感壓性黏接片2A的基材21上的方 法實例包括刮刀塗布、氣刀塗布、滾筒式塗布、模式塗布 或諸如此類的方法。使用於這些方法的感壓性黏接組成物 可以疋/合劑型、乳液型、熱熔型或諸如此類的形式。 之後，離型片3A係層合於所得到的感壓性黏接片2八 之上使得感壓性黏接層22接觸離型片物質層32，因此得 到感壓性黏接物品1A。 !根據這種生產方法，一種感壓性黏接物品1A可以被 製造出，而不需將離型片3A於生產過程時暴露於高溫之 中其-人，離型劑層32將不容易受到用來製造 層22的溶劑影響。 $ # 感壓性黏接物品1A可以藉由將感壓性黏接層Μ形成 於離型片3A之離型劑層32之上，然後在上面疊置感塵性 站接片2A的基材21於感壓性黏接層22之上。 第2圖為概略的橫剖面圖，展現出感壓性黏接物品 、、士二具體例。以下第二具體例的感麼性黏接物品ΐβ可 =错由將焦點集中於第—和第二具體例的差異而加以解 、睪，以及省略重疊的點而加以解釋。 ★如第2圖所示’本具體例的感壓性黏接物品1B之中， ^型劑層32形成於離型片的基材31之上，藉由純增進 作為中間層。即為在此具體例之中，離型片3 b具有 種構造，在此構造之中，黏性增進層33介於離型片的基 314996 28 1287563 材3 1及離型劑層32之間。

根據這個結構，離型片的基材3 1與離型劑層32之 的黏著力獲得改善。因此，可以避免從感壓性黏曰接片2AB 剝離離型片3B時，八爲的卜主a 士人人 刀層的仏形I生於介於離型片的基材 3!與離型劑層32之間的中介面。其次，也 離離型劑層3 2之接 _ 免田剝 感壓性㈣層上離型劑層32的—部份黏著或殘留於 脂。至於構成黏性增進層33的材質，可列舉例如聚乙稀樹 黏f生;I曰進層33的厚度並不特別受到限 範圍為…。微米，更好的範圍為1〇至3〇微：“的 的描^是關於本具體例之離型片3b的製造方式所提出 例如，離型片3]B可以蕤 ”，將構成黏性增進声33的備一個離型片的基材 3 1以形成棚孝& 、、，成木料施於此離型片的基材 =^成:個黏性增進層33,然後再將離型劑施於黏性增 的：成成離型劑層32。至於將構成黏性增進層33 的、，且成材料施於離型片的基 法。在這種情況中，黏性…3=，舉擠㈣^ 由刪合的方式依…：：33及離型劑層32可以藉 此爲叮一於離型片的基材3!上，或是這 二曰可以錯由共擠壓層合的 ° 材31上。 的方式，同時層合於離型片的基 在此具體例之中，中間屄 與離型劑…之黏著強度 f生增遠層3 3，但是中間 314996 29 1287563 層遏具有除此之外的目的。例如，中間層可以作為避免離 型劑層與離型片的基材之間的成分轉移之屏障層。其次， 離型片可以有二層或以上的中間層。 第3圖為概略的橫剖面圖，展現出感壓性黏接物品1 c 的第三具體例。後文中，第三具體例之感壓性黏接物品lc 將藉由將焦點集中於與第一和第二具體例的差異而加以解 釋，以及省略重疊的點而加以解釋。 第3圖所示’本具體例的感壓性黏接物品1 c之中， 感壓丨生黏接片2B具有抗靜電層23係介於感壓性黏接片2B 的基材2 1與感壓性黏接層22之間的結構。 根據這個結構，可以有效地避免當感壓性黏接片2b 自離5L片3 A剝離時產生的電氣化。其次即使在電壓產生 於感壓|±黏接片2B接合部分的鄰近區域產生電壓時，也 可以安全地接地。關此，必須注意的是，可將抗靜電層幻 設於感壓性黏接片2B之基材21的表面，此表面為相對於 設置感壓性黏接層22的表面之表面，或是設於感麼性黏接 片2B之基材21的各個表面。 其次，抗靜電層23最好不要含有離子（非離子）。葬 由使用非離子性抗靜電物質，可以有效地避免自抗靜電^ 產生離子…，可以避免離子轉移至所製造的半導體裝 置，結果，可以避免對於所製造的半導體裝置的不良影绝 的發生。這種抗靜電物質較佳的實例包括碳黑、以金屬： 主的傳導性填充物、以金屬氡化物為主的傳導性填充物， 以及共軛7Γ電子傳導性聚合物。 3M996 30 1287563 在此具體例之中，由抗靜 包層23所形成的中間層可 避免剝離時產生電氣化電壓 ,^ 吃i 但疋此一中間層還具有除 之外的目的。例如，中門爲7^ 、巧降此 曰^可以作為避免在感應性黏接片 的基材與感壓性黏接層之間的成分轉移的屏障層。其次， 感廢性黏接片可以有二層或以上的中間層。例#，感壓性 黏接片可以具有上述之抗靜電層及屏障層作為其中間層。 雖然本發明已根據較佳的具體例進行描述，本發明並 未受限於此。 ' 例如，本發明之感麼性黏接物品可以具有一種結構， 此結構的二感麼性霉占接層係形成於感壓性黏接片之基材的 -側’且離型片分別黏附於各感M性黏接層。藉由使用此 一結構’ τ以透過感麼性黏接片結合至不同的被黏物。在 $清況下’感壓性黏接片之基材二側的感M性黏接層可實 質上分別地為相同厚度、組成，或諸如此類的條件，或是 具有不同的厚度、組成，或諸如此類的條件。 其次，本發明之感壓性黏接物品的形式並不限制於片 狀或標籤之形式，此感壓性黏接物品也可以形成帶狀。 其•人，在上述的具體例之中，本發明之感壓性黏接物 品係形成具有離型片之感壓性黏接片，該感虔性黏接物品 係自感壓性黏接物品移除離型片，然後將感壓性黏接片黏 y於被黏物上而加以使用。不過，本發明之感壓性黏接物 品可以是一種用來黏附於被黏物上之感壓性黏接物品，而 且使感壓性黏接層及離型劑層呈互相接觸的狀態。即為， 叙月之感屢性奇占接物品可以形成一捲的形式無離型片之 314996 31 Ϊ287563 感壓性膠帶，其感壓性黏接層係設於感壓性黏接片之基材 的一表面上，且離型劑層係設於感壓性黏接片之基材的另 一表面上。 其次，在上述的具體例之中，雖然已使用不同半導體 裝置之製造過程中所用的半導體製造設備或相關物件（即 為半導體之製造設備或諸如此類的裝置）作為代表性被黏 物加以解釋但是本發明之感壓性黏接物品的實際應用並不 限制於此用途。本發明之感壓性黏接物品可以適當地用作 黏附於電子裝置或電子零件中，例如硬碟驅動器（HDD )、 半導體裝置、繼電器及諸如此類的裝置之感壓性黏接物 °σ ’或是直接黏貼於人體，例如化妝紙、美容膠布及諸如 此類的物品之感壓性黏接物品。 以下的描述，乃關於本發明之感壓性黏接物品的實際 貝知例。以下的描述將以指定的成分及數值為基礎而進 行，但不這並不表示本發明受限於這些實施例。 (實施例1 ) 一種以胺基曱酸酯為主的黏接劑，經由以下的方式合 成。 然後，將300g異佛爾酮二胺、3〇〇g甲苯、及〇.2g醋 酸酮置於燒瓶中，再將360g乙炔苯滴入燒瓶中。完成滴入 之後，在100。(：時反應3小時，然後加入360g曱苯，從而 獲得化合物（a)。然後，將257公克的聚醚多元醇『p p 一 2〇〇〇』（這是一種雙官能基的聚醚多元醇，具有2,〇〇〇的分 32 314996 1287563 子量及其OH值為56，可以自三洋化學工業股份有限公司 購得），將43公克的異佛爾酮二異氰酸酯（此為HUls JAPAN的產品），以及75公克的甲苯，及〇〇5公克作為催 化劑的二月桂酸二丁基錫加入燒瓶中。將它們逐漸加熱至 1 〇〇 C，並且反應二個小時。在根據滴定測定了殘餘物之異 氰酸根的量之後，反應混合物冷卻至4(rc，然後將公 克的乙酸乙酯加入。之後，50公克的化合物（a)以滴入 的方式加入超過1個小時。之後，將2·2公克的2_胺基-甲基-丙醇（由NAGASE公司製造）加入以結束反應，因 此而得到Micheal加成反應類型之胺基甲酸酯_尿素樹脂溶 液所彳于到的反應洛液為無色且透明，且其固體含量為5 〇 重畺/〇，其黏性為3,000cps，數量平均分子量（)為 27,000，且重量平均分子量為（Mw)為94,〇〇〇。 ‘2公克含有75〇/。的二異氰酸己二醋_三經甲基丙烧加成 物之充當硬化劑的的乙酸乙酯溶液，與1〇〇公克的合成 Michael加成反應類型之胺基曱酸酯_尿素樹脂溶液混合， 以製備感壓性黏接層的塗覆劑。利用刮刀塗布的方式將用 於感壓性黏接層的塗覆劑塗在5 〇微米厚度的聚對苯二甲 酸乙二酯膜上，使塗覆劑的乾重為25公克/平方公尺。塗 在聚對苯二甲酸乙二酯膜上的塗覆劑利用乾燥箱在not 之下進行乾燥一分鐘，並因此製造出感壓性黏接片。 其次，離型片的製造方式如下。 以無塵紙（『CLEAR PAPER』為LINTEC公司的產s， 其厚度為38微米）作為離型片的基材，藉由擠壓層合法使 314996 33 1287563 2性增進層形成於離型片的基材的其中一個表面。其次， 藉由擠壓層合法使感壓性黏接層（厚度為1 5微米）形成於 黏性增進層之上，而製造出離型片。在此連結之下，黏性 增進層係由聚乙烯形成（『L-4〇5H』此為Sumh〇m〇化學股 伤有限公司的產品，其密度為0.924公克/立方公分），且 離聖剎層係由5 0重量份的烯烴為主之熱塑彈性體，該烯烴 為主之熱塑彈性體含有乙烯_丙浠共聚物（『TAFMER p_ 2 80G』，此為Mltsui化學公司的產品其密度為〇 公 克/立方公分），以及5〇重量份的聚乙烯（『j-REX807A』， 此為JapanPoly〇lefins公司的產品，其密度為〇 9i6公克/ 立方公分）之混合物形成。需要注意的是，層合時的溫度 (即為離型劑層之組成材料的溫度）需設定為26〇它。 藉由將取得的離型片黏附於感壓性黏接片，便可製造 出感壓性黏接物品。 (實施例2 ) 以胺基甲酸酯為主的黏接劑（『CyabainST201』為 TOYO INK MFG股份有限公司的產品）、以及硬化劑 (T501B』此為TOYO INK MFG股份有限公司的產品） 以100: 1的比例進行混合，以製備出感壓性黏接層的塗覆 劑。利用刮刀塗布機將感壓性黏接層的塗覆劑係施塗至厚 度為50微米之聚對苯二曱酸乙二酯膜，使得塗覆劑的乾重 為25公克/平方公尺。被塗在聚對苯二曱酸乙二酯膜上的 塗覆劑利用乾燥箱，在11(TC之下進行乾燥一分鐘，並因 此製備感壓黏性接片。 314996 34 1287563 離型片的製造方式與實施例i的方法一 #，且所得到 =離型片被添加至感壓性黏接片，以製造出感壓性黏接物 口 〇 0 (實施例3 ) 利用與實施例2 -致的方法所製造出的感壓性黏接物 品，除了其離型劑層是由密度為〇916公克/立方公分的聚 乙烯所製成（『J-REXJH-807A』為JapanP〇ly〇lefins股份 有限公司的產品）。 (貫施例4) 利用與實施例2 —致的方法所製造出的感壓性黏接物 品，除了其離型劑層是由密度為0·912公克/立方公分的聚 =烯所製成（『EXCELLENEXCR8002』為Sumit〇m〇化學 股份有限公司的產品）。 (實施例5 ) 一種利用與實施例2 —致的方法所製造出的感壓性黏 接物品，除了其離型劑層是由密度為0·936公克/立方公分 的聚乙烯所製成（『J-REXJH-778K』為Japanp〇ly〇lefins 股份有限公司的產品）。 (貫施例6 ) 利用與實施例2 —致的方法所製造出的感壓性黏接物 品，除了其離型劑層是由密度為〇 948公克/立方公分的聚 乙烯所製成（『J-REXJH-604A』為Japanp〇ly〇lefins股份 有限公司的產品）。 (實施例7 ) 314996 35 1287563 一種利用與實施例2 —致的方法所製造出的感壓性黏 接物品’除了其離型劑層是由密度為〇 · 8 9 0公克/立方公分 的聚乙烯所製成（『SUN-ALL〇MERpHA_03A』為Sun Allomer有限公司的產品）。 (貫施例8 ) 利用與實施例2 —致的方法所製造出的感壓性黏接物 品，除了其離型劑層是由密度為0.87公克/立方公分的聚 乙烯所製成（『TAFMERP-0280G』為MiUui化學公司的 產品）。 (實施例9 ) 。利用與實施例2 -致的方法所製造出的感壓性黏接物 品’除了其離型劑層是由密度為G9⑽公克/立方公分的聚 乙稀所製成（『EXCELLEN VL⑽』為Sumit(m。化學股份 有限公司的產品）。 (貫施例1 0 ) 利用與實施例1 —致的方法所製造出的感壓性黏接 品’除了抗靜電層（乾燥厚度為：0.5微米）藉由到則 覆的方式’形成於㈣笨：甲酸乙4膜的其中一個表 上，然後感壓性黏接層藉由剎刀命 稭甶刮刀塗布法形成於抗靜電層 上。離型片的製造方式如同竇 田西、 ^ u κ軛例1，所得到的離型片〇 宜後至感壓性黏接片，以絮生中 衣k出感壓性黏接物品。 就這一點而言，黨要、、士立人 八 要/思的疋抗靜電層是由100重- 伤的氧化錫為主的傳導性埴 填充枓（『队1_』是ISHIHAR SANGYO KAISHA有限公司的產 的產⑽），以及50重量份的】 314996 36 1287563 酯相ί月旨（『VYLON 20SS』是ΤΟνηΏη \ η , 』疋ΙΟΥΟΒΟ公司的產品）形成。 (實施例11 ) 種利用與實施例2一致的方法所製造出的感麼性黏接 物品’其離型片的製造方式如同實施们1 了擠壓層合 時的溫度改設定為300°C。 (比較例1 ) 利用與實施例1 -致的方法所製造出的感壓性黏接 片，除了使用一種丙烯酸黏接劑（『PL_shin』為untec A司的產un )作為感壓性黏接層的組成材料。離型片的製 造方式如同實施例1，所得到的離型片被黏附至感壓性黏 接片’以製造出感壓性黏接物品。 (比較例2) 利用與比較例1 一致的方法所製造出的感壓性黏接 片。至於離型片，一種由矽氧烷化合物為主的離型劑 (『8LK』為LINTEC公司的產品）所構成之離型片。所得 到的離型片被黏附至感壓性黏接片，以製造出感壓性黏接 物品。 (比較例3) 利用與比較例2 —致的方法所製造出的感壓性黏接 片。其離型片的製邊方式如同實例1，除了離型劑層由聚 乙稀構成，具有〇 948公克/立方公分的密度（『j-REX640A』，此為Japan Poly〇lefins公司的產品），且掩壓 層合時的溫度改設定為320°C。所得到的離型片被黏附至 感壓性黏接片，以製造出感壓性黏接物品。 314996 37 1287563 在實施例1至卩及比較例U 3各感壓性黏接物品之 中’用來製造感壓性黏接層的樹脂種類、用來製造離型劑 層的樹脂種類及其密度，當形成離型劑層時的溫度，以及 面對感壓性黏接的離型劑層表面的濕潤張力，這些數據皆 列於表1之中。 就這-點而言，需要注意的是，離型劑層之構成材質 的密度之測量，乃依據JISK6922 i及2中定義的方法，且 面對感壓性黏接層的離型劑層表面的濕潤張力其測量乃 依據JISK6768中定義的方法。 ’ gj古實施例及比較例之感壓性黏接物兄 以下的評估是針對每種感壓性黏接物品（各感壓性黏 接物品皆製成含離型片之感壓性黏接片），其製造乃依據實 施例及比較例。 (1) 在離型劑層的書寫性 符號或諸如此類的記號書寫於離型劑層（即為與感壓 性黏接層接觸的離型片的表面）使用一種永久性麥克筆 (『m-Mckee』為Zebra公司的產品），然後利用肉眼觀察 =水有無的抵抗性。如果觀察到對墨水無排拒性，則以a 標示’如果觀察到對墨水有任何排拒性，則以b標示。 (2) 離型劑層的滑動性 各離型片之離型劑層（即為與感壓性黏接層接觸的離 型片的表面）的滑動性，依據滑動性測試法JI S P 8147 進行測里％果滑動程度等於或大於卜，則以a標示， 如果滑動程度低於i，則以B標示。就這一點而言，需要 314996 38 1287563 注意的是滑動程度如果較低，意味著離型劑層較容易滑 動。 (3) 離型力 各離型片之離型劑層的離型力，是在離型片固定於支 撐板上時進行測量，然後感壓性黏接片自離型片剝離，剝 離的方式為將感壓性黏接片以相對於離型#18〇角的方向 外拉’起始速度為〇·3公尺/分鐘。 (4) 1夕氧燒化合物的含量 各感壓性黏接物品在製備（生產）冑，被放置於平均 溫度為23。(：的且平均溼度為65%RH環境中，一共放置 天，各感壓性黏接物品切成丨〇χ丨〇公分見方的方形。之 後，將感壓性黏接片自離型片剝離，使用1〇毫升23它的 正己烷萃取感壓性黏接片3〇秒。經過萃取的正己烷在瑪竭 研缽上烘乾。利用乾燥產物和〇 〇5公克的溴化鉀造出小 塊’然後小塊中的矽氧烷化合物含量可以利用聚光束器型 FT-IR進行檢測（Perkin_E】mer公司的產品·商品名為 「PARAGON 1000」）。每單位面積感壓性黏接片的矽氧烷 化合物含量是以校正曲線的測量結果為依據（測量限值 為·· 50微克/平方公尺）而測定。 檢測值若低於測量限值，則以『ND』表示於表中。 (5)離子的含量 各感壓性黏接物品在製備（生產）後，被放置於平均 溫度為23°C的且平均溼度為65%RH環境中，一共放置3〇 314996 39 1287563 天在過了 3 0天之後，各感壓性黏接物品切成3 x 3公分 見方的方形。之後，將感壓性黏接片自離型片剝離。使用 2〇毫升的8(TC純水，萃取感壓性黏接片3〇秒。自水中取 得的氧化氮離子、氣離子、磷酸根離子、氟離子、鉀離子、 鈉離子及鈣離子的濃度則利用一層析儀進行分析及測量 (Yokokawa Electric公司的產品；商品名為「IC5〇〇」）。 每單位面積感壓性黏接片所含有的這些離子總量，是依據 所測得的結果而定（測量限值為：5微克/平方公尺）。 檢測值若低於測量限值，則以『ND』表示於表中。 (6)產生氣體的含量 各感壓性黏接物品在製備（生產）後，被放置於平均 溫度為23 °C的且平均溼度為65%rh環境中，一共放置3〇 天。在過了 30天之後，各感壓性黏接物品切成5χ 4公分 的方形。之後，將感壓性黏接片自離型片剝離。將感壓性 黏接片放置於容量50毫升的頂部空間取樣瓶。當氦氣在 85 C時以50毫升/分鐘的流速吹進空間取樣瓶3〇分鐘，流 出空間取樣瓶的氦氣則利用含冷卻至-60°C之坦尼士（tenax) 收集杰之p人氣捕捉設備收集（Nipp〇ri Bunseki Kogyo Κ·Κ· 的產品：商品名為「5890_5971Α」）。所收集到的氣體熱分 解為氣化並以GC_MS(Hewlett-Packard公司；商品名為 5890-5971A」加以分析。自每單位面積感壓性黏接片產 生的氣體量是依據所測得的結果而定（測量限值為：2〇微 克/平方公尺）。 檢測值若低於測量限值，則以『ND』表示於表中。 40 314996 1287563 (7)殘留黏接劑的程度 在各感壓性黏接片的多種樣品黏附於不同的黏接物之 後，在7(TC的溫度下放置一天。之後，將感磨性黏接片自 離型片撕除。在每個被黏物中，黏接劑殘餘的程度以肉眼 進行觀察。依據以下四項等級進行評估。 A ·在被黏物上並未發現任何黏接劑殘留 B :有一點黏接劑殘留於被黏物上 C :黏接劑被轉移至被黏物上的某些位置 D :黏接劑被完全轉移至被黏物上 (8)計算直徑01微米以上之微粒生成量 各感壓性黏接物品在製備（生產）後，被放置於平均 溫度為23°C的且平均溼度為65%RH環境中，一共放置3〇 天。在過了 30天之後，測試以下的三個項目：皺折、摩擦 彳撕扯及皺折，這是為了觀察0 ·1微米或以上之顆粒的生 成量，這項測試乃依據由SEMI (國際半導體設備及材料 自薄片材質的微粒生成量之測試方法」G67-0996 (相當 於半導體生產裝置及材料國際協會文件編號2362)。 敵折··將一張A5大小的感壓性黏接物品，以弄皺一 次1 5秒的速度進行2 〇 〇秒。 摩彳祭·準備二張A 5大小的感壓性黏接物品，且一張 感C性黏接物品的前側及另一項感壓性黏接物品的背側堆 且在起’所得到的薄板以1 0秒鐘三次的速度以手掌摩擦 200秒。 斤、 撕扯及皺折：A5大小感壓性黏接物品的四個部分（4 314996 41 1287563 然後以如同「皺折」項目 公分的間隔）每5秒撕扯一次 的檢測方式皺折18〇秒。 (9 )貼標機的合適性 使用一台貼標機MD-1 ( Lint^ \ ^ ^ ^ ^ 2 ^ ec公司的產品編號），1〇 張感壓性黏接片（標籤）在1分 女 趣山 ， 、里之内’連續地自貼； 釋出，此時觀察這些感壓性黏接片 ^ 的結果乃依據以下三項等級進行評估。 嬈不 A ·感壓性黏接片適當地自貼標機釋出 B :需要減緩自貼標機釋出的 ..t 又 才月匕使感壓性黏接μ 適當地自貼標機釋出 片 C :感壓性黏接片無法適當地自貼標機釋出 (1 〇)表面電阻率 表面電阻係數的測量乃依據具有如實施例10及比較 例2、所製造之抗靜電層的感壓性黏接物品之感壓性黏接 片。k些感壓性黏接片被放置於平均温度為23艺的且平均 溼度為65%RH環境中，一共放置24天。在過了 24天之 後各感壓性黏接物品係分別地切成丨〇χ i 〇公分見方的方 形。 之後，利用與JISK 6911 —致的測試，以表面電阻係 數檢測裝置測量感壓性黏接片之感壓性黏接層表面的表面 電阻率（Advantest公司的產品，商品名為··「R-127〇4」）。 (11)剝離時的電氣化電壓 實施例1 0及比較例2所製造出的感壓性黏接物品被放 置於平均溫度為23°C的且平均溼度為65%RH環境中，一 3】4996 42 1287563 共放置30天。在讲7 β 了 3 0天之後，各感壓性黏接物品分別 地切成1 Οχ 1 〇公公目 △刀見方的方形。然後感壓性黏接片自離型 片剝離，剝離的& k度為500公厘/分鐘。此時，從5〇厘米 的距離，在平均、、w择&μ ’、 1皿度為23 C的且平均溼度為65%rH環境 中利用電流收集電位測量裝置（Kasuga Denki K K•公司 的產〇口，商σσ名為：「KSD_6u〇」）測量各感壓性黏接片的 電位（測量限值為〇1千伏）。 评估結果顯示於表2及表3中。 如表1及表2所示，本發明的各感壓性黏接物品之中 (只她例1至1丨），所需的離型力很小，因此可以得到滿 二的離型性。其次，從感壓性黏接層轉移的矽氧烷化合物 並未測侍。其次，殘餘的黏接劑也並未發現。尤其是，具 有由等於或小於〇·94公克/立方公分之密度的聚乙烯樹脂 所製k的離型劑層之感壓性黏接物品，及面對感壓性黏接 層之離型片的表面濕潤張力為等於或小於33mN/公尺（實 施例1至5及7至1 〇 )，展現出極佳的性能和性質。 相對於這些實施例，比較例的感壓性黏接物品則顯現 出較差的性能和性質。 其次’如表3所示，經過確認得知實施例1 〇的感壓性 黏接物品相對於比較例2的感壓性黏接物品，具有較低的 表面電阻率數。實施例1 〇的感壓性黏接物品在剝離時幾乎 無電氣化電壓。 從上述所描述的結果，發現藉由使用聚胺基甲酸酯樹 月旨作為感壓性黏接層的組成材料，以及使用滿足預定的需 43 314996 1287563 層的材料時，將可以提供不易 不良影響之感壓性黏接物品， 要之聚稀烴樹脂作為離型劑 產生由矽氧烧化合物造成的 而且只需要很小的離型力，# 7 更了以將感壓性黏接片自離型 片剝離，因此具有良好的處理效率。 其’檢測結果也發現到旌> 知兄引精由使用上述之組成結構， 將可以使感壓性黏接物品具有極佳的離型# n殘㈣ 黏接劑。其次’經過4認得知這種感難黏接物品也且有 極佳的特性’組成離型劑層的樹脂並不會脫落，且剝離時 也不會產生電氣化電壓。 其次，經過破認得知因為本發明實施例之感難㈣ 物品，矽氧烷化合物轉移至感堡性黏接層的情形鮮少發 生，所以較適合使用於電子設備及電子零虹件的製造及也 裝過程，例如硬碟驅動器、半導體裝置、繼電器及諸如此 類的裝置，以及不欲為矽氧烷所污染的最終產物。 其次，在實施例i至U的感壓性黏接物品中，如表2 的評估測試得到極#的結果，如⑴離型劑層料查寫拴 。⑺離型劑層的滑動性。這表示當本發明之感虔：黏接物 品形成具有離型劑層的感壓性膠帶，這與任何實施例所得 的感壓性黏接物品之離型片的離型劑層是一致的，'言^ 壓性膠帶也展現出極佳的特性，例如離型劑層的可書寫 ，離型劑層的滑動性。因此，這種縫性膠帶也適合作 貫際應用’與具有離型片#感麼性黏接片巾之情形是一俨 種感壓性黏接 如上所述’根據本發明，將可以提供_ 314996 44 1287563 物πα且這種感壓性黏接物品將不會產生由石夕氧烧化合物 造成的不良影響，而且該感壓性黏接物品具有改質的離型 性而能在離型片的離型劑層和感壓性黏接層之間的邊界 處，施予很小的剝離力即可剝離離型片。 藉由调正感壓性黏接層中所含之聚胺基甲酸醋樹脂離 3L Μ層中所含的聚乙烯樹脂的組成、》子量、密度，及， 或藉由調整形成離型劑層的條件可以使這些效果更加顯 含：後、必/頁了解的疋’針對此一上述之具體例進行許 夕改變及補充’而不捧離如 ± 離 下巾料利範圍所^義之本 發明的乾疇及精神。 [圖式簡單說明] 第1圖為根據本發明之感壓性 的概略橫剖面圖示； 弟具體例 第2圖為根據本發明之感壓性 的概略橫剖面圖示； 您弟一具體例 及 第3圖為根據本發明之感壓 ΑΑ 4βλ rr^h ◊ i【生黏接物品之繁二且鱗Λ： 的概略橫剖面圖示； 您弟一具體合 21 32 1Α 1C 3Α 感壓性黏接紙基材 離型劑層 感麼性黏接物品 感壓性黏接物品 離型片 22 33 1Β 2Α 3Β 感壓性黏接層 黏性增進層 感慶性黏接物品 感壓性黏接片 離型片 314996 45 1287563 3A 離型片 3B 離型片 46 314996 1287563 蟀 A 衅 蛑 Cbv «bv c>v c«* 潼 宝 H-* VO οο -0 〇 U\ U) to 辩 漭 St； -6 -δ -€ -€ -« -€ 琛 鎵 泽 SM Sr 溫 器 οσ atr 爵 〇!r orr 器 §σ 钤Ο 讳ο 氺ο 诗Ο 铐ο 穿莓 ο >v 棼莓 穿審 讳 棼幕 穿莓 Ο I 3\ 1 a Ρ* » 1 a ο ο 〇 〇 Ο a Ο 審 蕃 i 審 萘 審 審 幕 裔 Ο 〇 〇 〇 〇 ο 〇 〇 o 〇 〇 ο 〇 ο 〇 VO 〇〇 v〇 〇〇 VO οο ΟΟ so v〇 VO VO ν〇 〇〇 Ό ΟΟ ►—k 〇\ 〇 1—» 〇 〇 〇 〇 ο 〇 〇 私 ΟΟ LO as Η-Λ to H—* 〇\ 1—» ΟΝ ο 1—* ΟΝ 〇 »-^ Ln Ο 〇 〇 — 〇 ο ο to Lf» h—k ο ο ΟΟ VO ►—* to o u> 私 t-n 〇 — LT» Ο ·—^ . ο ο >—► Ο >—* 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 ο ο ο ο ο ο ο ο ο 〇 〇 〇 〇 〇 〇 o o o W ο ο 〇 〇 Ο Ο ο ο ο ο Ο ο ο 〇 〇 〇 U) Ν) Κ) Κ) N) to ro Ν·) to to Κ) 〇 ΟΝ ΟΝ 〇\ 〇\ On 〇\ as On α\ Os 〇 ο ο ο 〇 ο o ο Ο ο 〇 u> Ui U) UJ U) U) U) UJ K) U) LO U) u> W0 ψί s > &鈞 強漭Λ (mN/m ) 萆淬a S聲銪筠觭 (、v λ/拎斛、v今) t S烊1卡苏 >1 赛砝逢每 47 314996 1287563 ΤΓΠ-涔窆 2 tcr涔窆一 ¾¾ fstss 聆鈇茸鸡 5i.c*^ 聆/&耸塒 0.9^00 Ρ916 ΡΟΟ70 身淬Μ苏萆恭鯓碎 (>>^/妗蚪>>今) οονο,οοο 150000 100000 320 260 1φ +泠 卡|φ迪 梦恭 夂S查许 0°藓赛 36 疠琴3 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Claims (1)

1287563 拾、申請專利範圍： 1. 一種感壓性黏接物品，包含：一感壓性黏接層，主要由 聚胺基甲酸酯樹脂所形成；以及一離型劑層，主要由聚 烯烴樹脂所形成，且該離型劑層係黏附至感壓性黏接4 層’其中面向該感壓性黏接層之離型劑層表面的濕潤張 力根據JIS K 6768所定義之濕潤張力測試法測得為等 於或小於33mN/公尺。 2· —種感壓性黏接物品，包含：一感壓性黏接層，主要由 聚胺基甲酸酯樹脂所形成；以及一離型劑層，主要由聚 烯烴樹脂所形成，其密度等於或小於〇·94公克/立方公 分，係黏附至感壓性黏接層。 3 · —種感壓性黏接物品，包含··一感壓性黏接層，主要由 聚胺基甲酸酯樹脂所形成的；以及一離型劑層，主要由 聚烯烴樹脂所形成，其密度等於或小於〇·94公克/立方 公分，係黏附至感壓性黏接層，其中面對該感壓性黏接 層之離型劑層表面的濕潤張力，根據由JISK 6768所定 義之濕潤張力測試法測得為等於或小於33mN/公尺。 4. ^申請專敎範圍第項巾任—項之錢性黏接物 〇〇其中，5亥感壓性黏接物品係含離型片之感壓性黏接 片，包含：一感壓性黏接片，包含感壓性黏接片供於其 ^之基材，以及一離型片，離型劑層供於其上之基材。 離型片透過離型劑層可移除地黏附於感壓性黏接片的 感壓性黏接層。 5·如申請專利之範圍第4項之感壓性黏接物品，其中，即 314996 5] 1287563 使a感[性黏接層之感壓性黏接物品包含石夕氧燒化合 物，，亥石夕氧烧化合物之含量亦係為等於或小於⑽微克 /平方公尺。 6.如申請專利之範圍第4項之感壓性黏接物品，其中，在 感聖1*生黏接片自維型片剝離之後使用時，感壓性黏接 片在85 C溫度之中3〇分鐘會產生氣體，但由該感壓性 黏接片所產生的氣體量係等於或少於2〇毫克/平方公 尺0

8. 9. 如申清專利之範圍第4項之感壓性黏接物品，其中，在 該感壓性黏接片自離型片剝離之後使用時，該感壓性黏 接片含有氧化氮離子、氣離子、填酸根離子、氟離子、 卸離子納離子及！弓離子，但這些離子的總量係等於或 少於20毫克/平方公尺。 … 如申請專利之範圍第4項之感壓性黏接物品，其中，該 感壓性黏接片的基材係由塑膠膜或無塵紙所形成。 如申請專利之範圍第4項之感壓性黏接物品，其中，該 感屋性黏接片復包含至少一供於基材之一或二表面上/ 之抗靜電層。 1〇々申請專利之範圍第1至3項中任-項之感麼性黏接物 /、中"亥感壓性黏接物品為感壓性膠帶，該感壓性 多3具有一表面的基材供於基材的一表面上之感 垒^ 4接層以及供於基材之另一表面上之離型劑，其 中，遠感壓性膠帶係捲成—捲的形式，直到使用為止。 U.如申請專利之範圍第則之感壓性黏接物品，其中， 3】4996 52 1287563 即使含感壓性黏接層之感壓性膠帶包含矽氧烷化人 物’該石夕氧烧化合物之含量亦係為等於或小二〇〇口微克 /平方公尺。 12. 如申請專利之範圍第10項之感壓性黏接物品，其中， 該感壓性膠帶係使用時，該感壓性黏接膠帶在Μ它溫 度之2 30分鐘可能會產生氣體，但該感壓性膠帶所產 生的氣體量係等於或少於2〇毫克/平方公尺。 13. 如申請專利之範圍第1〇項之感壓性黏接物品，其中， ”亥感I I*生膠帶係使用時，該感壓性膠帶含有氧化氮離 子、氯離子、磷酸根離子、氟離子、鉀離子、鈉離子及 鈣離子，但是這些離子的總量等於或少於2Q毫克/平方 公尺。 1 4 · 士申叫專利之範圍苐1 〇項之感壓性黏接物品，其中， 該感壓性膠帶的基材係由塑膠膜或無塵紙所形成。 15·如申請專利之範圍第1〇項之感壓性黏接物品，本感壓 性膠帶復包含至少一供於基材之一或二表面上之抗靜 電層。 53 314996