TWI280891B - Ozonization apparatus, photoresist remove apparatus, and substrate rinsing apparatus - Google Patents

Ozonization apparatus, photoresist remove apparatus, and substrate rinsing apparatus Download PDF

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TWI280891B TW090100662A TW90100662A TWI280891B TW I280891 B TWI280891 B TW I280891B TW 090100662 A TW090100662 A TW 090100662A TW 90100662 A TW90100662 A TW 90100662A TW I280891 B TWI280891 B TW I280891B
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Kazutoshi Yamazaki
Kozo Shirato
Kazuyasu Kawashima
Akira Sato
Akihiko Nagai
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Sekisui Chemical Co Ltd
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Description

經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1280891 A7
五、發明說明（/ ) [技術領域] 本發明爲關於將臭氧溶解於原料水以生成臭氧水之臭 氧水製造裝置，及將臭氧溶解於工業廢水等來進行臭氧所 提供之氧化處理之做爲臭氧淨化處理裝置等爲有用的臭氧 處理裝置。 [背景技術] 溶解臭氧所得之臭氧水，因臭氧所具有之強氧化力， 乃可發揮殺囷、脫臭、漂白等優良效果，而且臭氧隨時間 自f了为解成爲無害的氧氣（氣體），不具殘留性，因此成爲 無環保問題的殺菌、洗淨、漂白劑而受到重視。 爲了得到確實的殺菌、洗淨、漂白力，必須提高臭氧 水之臭氧濃度，但臭氧原本相對於水即屬於難溶性者，就 算刻意提高臭氧濃度，臭氧之利用效率仍會下降而造成浪 費，因此如何適當地控制臭氧濃度，對於臭氧水之製造及 使用是極爲重要的一件事。 以往的臭氧水生成裝置及臭氧淨化處理裝置，一般是 採用將臭氧（氣泡）注入水中之曝氣方式(bubbling type)，或 使用混合器(ejector)的噴射式(eject type)。 曝氣方式除了需要氣液分離槽以去除氣泡之外，尙有 曝氣之氣泡愈小則溶解速度愈快以致在氣液分液上需花相 當時間的問題。簡言之，曝氣方式不但臭氧溶於水之效率 很低，而且很難適當地控制臭氧濃度，是很不好用的方法 〇 另一方面，在半導體或液晶之製造時，於光微影製程 3 L度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱") -------------------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1280891 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制衣 Α7 Β7 五、發明說明（2 ) 中係不斷地進行去除不要之光阻劑之剝離製程。在該光阻 劑剝離製程中，有由於使用大量之化學藥品及進行高溫處 理，而對無菌室內之空調造成負擔等問題，因而在環保意 識曰益提高之情況下，取而代之的方法，使用臭氧水來剝 離光阻劑的製程乃受到矚目。 使用上述臭氧水來進行剝離光阻劑的製程中，其剝離 速度與臭氧水濃度之間之關係已被詳細探討，且已明確證 明臭氧水之高濃度化對剝離速度是非常有效的（參見1998 年3月3日發行之第8屆日本臭氧協會年度硏究演講會演 講集，第14-16頁）。 另外，半導體等的基板洗淨，以往一向使用硫酸、氨 水及鹽酸等所謂RCA法，由於造成環保問題，在近年則轉 而探討在洗淨中使用臭氧水（參見三菱電機技法， 173·Ν〇·4，1999)。 [發明摘要] 有鑑於上述事實，本發明爲之目的爲提供一種臭氧處 理裝置，能將臭氧高效率且迅速地溶解於原料水中，同日寺 能簡單而適當地控制所生成之臭氧水中之臭氧濃度。 本發明是一種臭氧處理裝置，係將臭氧與原料水以臭 氧透過膜隔離，使得臭氧通過臭氧透過膜而溶解於原料$ ’其中，臭氧透過膜爲只容許氣體通過而阻止液體透過$ 非多孔性中空管。上述臭氧透過膜之材料，可舉出氟系樹 脂或矽酮系樹脂所構成者，若爲氟系樹脂，其管厚以〇2 毫米以下爲宜，若爲砂酮系樹脂則以未滿0.1毫米爲宜。 -------------------訂--------- (請先閱讀背面之注咅？事項再填寫本頁) 4 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1280891 A7 B7 Γ---~^---- 五、發明說明（3 ) 本發明之臭氧處理裝置，以進一步具有能從原料水將 溶解氣體加以脫氣之脫氣部爲佳。 本發明之臭氧處理裝置係由：脫氣部’係自原料水將 溶解氣體脫氣；臭氧溶解部，係用以讓臭氧溶解於Ε脫氣 之原料水，來生成一次臭氧水；以及，臭氧濃度調整部， 係自前述一次臭氧水將所需量之溶解臭氧脫氣’來控制溶 解臭氧濃度，以生成二次臭氧水；所構成。上述臭氧濃度 調整部，係由：減壓容器；以及，脫氣管，其設於減壓容 器內，只容許氣體通過而阻止液體透過；所構成； 在減壓容器受減壓之狀態下使一次臭氧水流入脫氣管 內，或是在脫氣管內受減壓之狀態下對減壓容器內供給— 次臭氧水。上述脫氣管之材料，有氟系樹脂及矽酮系樹脂 所構成者。 本發明之臭氧處理裝置，以進一步具有：第1臭氧檢 測器，係用以檢測一次臭氧水之溶解臭氧濃度；以及，第 2臭氧檢測器，係用以檢測二次臭氧水之溶解臭氧濃度； 爲佳。 使用本發明之臭氧處理裝置之光阻劑去除裝置及基板 洗淨裝置亦爲本發明之一部分。 [圖式之簡單說明] 圖1爲表示本發明之臭氧處理裝置之一實施態樣之說 明圖。 圖2爲表不本發明所用臭氧溶解組件之一實施態樣之 模式圖。 5 —-----1 ——-----訂--------- C請先閱讀背面之注音？事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 1280891 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（> 圖3爲表示本發明所用臭氧溶解系統之一實施態樣之 說明圖。 圖4爲表τρ;本發明所用之光阻劑去除裝置之一實施態 樣之槪略圖。 圖5爲表示本發明之基板洗淨裝置之實施態樣之說明 圖。 圖1〜圖5中，1表示脫氣部、2表示臭氧溶解部、3 表示濃度調整部、4表示第丨臭氧檢測器、5表示第2臭氧 檢測器、6表示臭氧產生器、7表示儲存槽、8表示臭氧水 儲存槽、10表示原料水供給源(儲水槽）、η表示真空容器 、12表示脫氣用管、21表示收容容器、22表示臭氧透過 膜、31表示減壓容器、32表示脫氣管、41表示光阻劑去 除槽、42表示光阻劑積層體、43表示已去除光阻劑之蝕刻 處理後之基板、53表示臭氧加壓裝置、55表示針形閥(減 壓容器）、57表示基板洗淨室、91表示第1流量計、93表 示第2流量計、94表示臭氧檢測器、w、W，表示原料水、 OG表币臭氧、〇W表示一次臭氧水、〇w’表示二次臭氧水 〇 [發明之詳細說明] 以下對本發明詳細說明。 本發明之臭興處理裝置之貫施態樣雖以圖—今細增明 之，唯本發明不限定於圖—所示之實施態樣圆可 之變化。 圖1中所示臭氧處理裝置係以在原料水(w，)中溶解臭 6 --------------------訂--------- (請先閱讀背面之注音？事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 1280891 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（女） 氧(〇G)來生成臭氧水(0W)之臭氧溶解部2(即臭氧溶解組件） 爲基本構成’加上可易於從自來水或超純水等原料水(W)將 溶解氣體脫氣來溶解臭氧之脫氣部1、以及從上述臭氧溶 解部2所生成的一次臭氧水(0W)將所需量之溶解臭氧脫氣 俾控制臭氧濃度，藉以生成最終生成物之二次臭氧水(〇w，) 之臭氧濃度調整部3，此外更配置用以檢測上述臭氧溶解 部2所生成之一次臭氧水(0W)之溶解臭氧濃度之第1臭氧 檢測益4 ’及用以檢測上述臭氧濃度調整部3所生成之二 次臭氧水(0W’)之溶解臭氧濃度之第2臭氧檢測器5。 脫氣裝置1係自溶解有臭氧之原料水(W)將溶解氣體脫 氣以防止臭氧水中溶有臭氧以外之氣體，同時也使得臭氧 易於溶解在原料水中。 上述之原料水(W)無特別限定，舉凡自來水、離子交 換水、超純水等皆可。 上述脫氣部無特別限定，可舉出例如與眾知的真空脫 氣裝置同樣，由真空容器11、用以減壓真空容器n之內 部的真空泵(未示於圖）、設於真空容器內之使原料水(W)流 通之脫氣用管12等所構成者。 脫氣部1所用脫氣用管12，只要僅容許氣體通過而阻 止液體透過即可，未特別限定於何種裝置，例如可舉出由 氟系樹脂或砂酮系樹脂等所構成，形成爲具所需之內徑及 長度之中空管狀(管狀)者。脫氣用管12設置於真空容器11 內部，其一5而開口做爲液體入口、銜接於原料水(W)之供給 源(儲水槽)10 ’另一端開口做爲液體出口、與臭氧溶解部2 7 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱） -----------·裝--------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1280891 A7 -----------B7____ 五、發明說明（~ —- 相連通，一邊將真空容器i i內部以真空泵等做減壓控制 、一邊使_^K(w)由上謹體人口流向_氣用管12之 內部，藉lit ’由液體出口流出爲止之期間，自原料水(w)將 溶解氣體脫氣。 圖2只對臭氧溶解部2(臭氧溶解組件)放大圖示之。 臭氧溶解部2係將臭氧溶解於原料水以生成臭氧水， 具體s之則是對於已預先將溶解氣體脫氣之原料水(w，）， 使臭氧(OG)溶解其中以生成一次臭氧水(〇w)。臭氧溶解部 2(臭氧溶解組件)由··收容容器21、及收容容器21內所設 置之臭氧透過膜22(可將原料水(W，)(已預先將溶解氣體脫 氣)與由臭氧產生器6所供給之臭氧(〇g)加以隔離)等所構 成。 臭氧透過膜22，可舉出由只容許氣體通過而阻止液體 透過之膜材所構成者，其中以氟系樹脂或矽酮系樹脂等之 對於臭氧之耐蝕性及耐惡化性優良且具有可擇性地讓臭氧 通過之性質的膜材爲佳。 上述氟系樹脂，可舉出例如四氟乙烯樹脂(PTFE)、全 氟烷氧樹脂(PFA)、氟化乙烯丙烯樹脂(FEP)等之四氟乙烯 系樹脂聚合物；氟系橡膠等，上述矽酮系樹脂則可用例如 甲基矽酮橡膠。 臭氧透過膜22係將這種膜材依所需之內徑及長度做成 非多孔性中空管狀(管狀)而得，形成中空管狀之複數支之 臭氧透過膜22之兩端分別以熱融接等來接著成束’收^置方令 收容容器21內部。 8 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -----------裝--------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1280891 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（η ) 臭氧透過膜22，若用多孔性的，則在無聲放電式臭氧 產生器生成臭氧時，將難以完全防範飛散至臭氧中的金屬 不純物混入臭氧水中，但用非多孔性之膜材時則可完全地 預防。又，臭氧透過膜22，若用中空管狀的會比使用片狀 的能有較大表面積，當臭氧溶解部的體積相同時，可有更 有效率地進行處理。 若臭氧透過膜22由氟系樹脂形成時，管之厚度以 0.2mm以下較適合，而由矽酮系樹脂來做成時，管之厚度 以未滿1mm較適合。若超過上述厚度則無法得到實用的臭 氧濃度。 收容容器21之形狀並無特別的限定，呈槽狀也可，或 形成爲具有所需長度之中空管狀也可。又，收容容器21之 材質，只要是耐臭氧性優良且具備氣密性即可，不受特定 限制。例如，不鏽鋼等即可用。 臭氧透過膜22係以隔離由脫氣部1所供給之原料水 (W’)與由臭氧產生器6所供給之臭氧(OG)的方式設置在收 容容器21之內，使臭氧通過臭氧透過膜22而與原料水 (W’)接觸通過。這時，對臭氧(0G)之供給線加壓，亦即一 面將臭氧(OG)加壓，一面使其通過臭氧透過膜22乃爲所希 望的。藉由對臭氧加壓，可使更多量的臭氧高效率地溶解 於原料水中。 在臭氧溶解部2(臭氧溶解組件)中，爲了使臭氧溶解於 原料水(W，)中，可於收容容器21內設置形成中空管狀(管 狀）之臭氧透過膜22,使收容容器21內充滿或流通臭氧 9 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（21〇 X 297公釐） -------------------^--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1280891 A7 ___B7____ 五、發明說明u ) (〇G)，並讓形成中空管狀之臭氧透過膜22內充滿或流通原 料水(W’）；或是相反的，亦可使收容容器21內充滿或流通 原料水(W’），而在形成中空管狀之臭氧透過膜22內充滿或 流通臭氧(OG)。 在圖1及圖2所示之態樣，在呈大致圓筒形之收容$ 器21內收容著臭氧透過膜22，且臭氧透過膜22之一端_ 口鄰接在收容容器21之液體入口 21a，另一端開口則鄰接 在收容容器之液體出口 21b，而構成臭氧溶解組件，收容 容器21之液體入口 21a連接於脫氣部1而成爲原料水(w，) 的入口，收容容器21之液體出口 21b連接於臭氧濃度調整 部30或儲存槽7而成爲一次臭氧水(OW)之出口。 然後，在收容容器21之與液體入口 21a呈相反側之氣 體入口 21c連接臭氧產生器6，從臭氧產生器6對收容容器 21之內部供給臭氧(OG)，使得收容容器21成爲較外部胃 高壓之狀態，以該狀態，讓脫氣部1所脫氣過之原料水 (W’)由液體入口 21a往中空管狀之臭氧透過膜22之內部與 臭氧(OG)呈對流式地流通，藉此，收容容器21內之高 氧(〇G)通過中空管狀臭氧透過膜22而溶入原料水(w，)中， 由收容容器21之液體出口 21b流出爲止之期間即生成—次 臭氧水(OW)，剩餘之臭氧(OG)則經由收容容器21之氣n 出口 21d往外部排出。 又，亦可與圖1及圖2所示態樣相反地，自收容容器 21之液體入口 21a使臭氧(OG)流往中空管狀之臭氧透過膜 22之內部，並自收容容器21之氣體入口 21c流通原料水 10 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） c請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁〕 -------—訂--- ΜΨ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1280891 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（7) (W’），而使臭氧(0G)通過臭氧透過膜22後溶解於原料水 (W，)中。 臭氧產生器6無特定限制，可舉出例如讓空氣或氧氣 通過無聲放電中而產生臭氧之無聲放電式臭氧產生器或者 紫外線照射式臭氧產生器。 臭氧溶解部2所生成之一次臭氧水(〇W)之溶解臭氧濃 度，係用連接於臭氧溶解部2之第1臭氧檢測器來管理（ 監控）。一般在臭氧溶解部2所生成之一次臭氧水(〇w)之溶 解臭氧濃度，是相當的高，若是儲留於儲存槽7(也可能爲 光阻劑去除水槽41)，則亦可以濃度調整部3將溶解臭氧濃 度適當地調整，來調整臭氧水濃度。 臭氧濃度調整部3，爲自臭氧溶解部2所生成之一次 臭氧水(0W)將既定量之溶解臭氧脫氣，而調整爲最終生成 物之二次臭氧水(0W’)之溶解臭氧濃度。 上述臭氧濃度調整裝置無特定之限制，例如可用由減 壓容器31、對減壓谷器31內減壓之真空栗(未圖示）、以及 在減壓容器31內所設置之脫氣管32等所構成者。 在臭氧濃度調整部3之減壓容器31內受減壓之狀態下 ，使從臭氧溶解部2所供給之一次臭氧水(〇w)流向脫氣管 32之內部’或者在脫氣管32內受減壓之狀態下，使從臭 氧溶解部2所供給之一次臭氧水(〇w)供給於減壓容容器31 內，藉此，自臭氧溶解部2所生成之一次臭氧水(〇w)將既 定量之溶解臭氧脫氣，來調整溶解臭氧濃度，而生成所需 之臭氧濃度之二次臭氧水(0W，）。 11 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -ϋ ϋ I 1 I I _ ϋ I ·1 n ϋ ·ϋ 1 一SOJ ϋ mime (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1280891 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（/° ) 臭氧濃度調整部3所用之脫氣管32，使用只容許氣體 通而阻止液體透過之膜材所構成，其中，氟系樹脂或矽酮 系樹脂等對臭氧之耐蝕性及耐惡化性優良之膜材，使用上 極爲理想。 上述之氟系樹脂及矽酮系樹脂，可用例如於上述臭氧 透過膜所用同樣之材料。 在本發明所用之脫氣管，例如可將這些膜材形成爲具 有所需之內徑及長度之中空管狀(管狀)而得。 在圖1所示態樣，脫氣管32係設置於減壓容器31之 內部，其一端開口做爲一次臭氧水(0W)之液體入口而與臭 氧溶解部2連接，同時另一端開口做爲液體出口而連接於 臭氧水儲存槽8 ; —邊對減壓容器31之內部以真空泵等進 行減壓控制，一邊讓臭氧溶解部2所生成之一次臭氧水 (〇W)自上述之液體入口流入脫氣管32之內部，藉此，從 一次臭氧水(0W)中將既定量之溶解氣體脫氣，以調整溶解 臭氧濃度，其結果即生成所希望之臭氧濃度之二次臭氧水 (〇W，）。 臭氧濃度調整部3所生成之二次臭氧水(0W，)之溶解臭 氧濃度，係以連接於臭氧濃度調整部3之第2臭氧檢測器 5來管理（監控），但是亦可藉由對第2臭氧檢測器5與第 1臭氧檢測器4(用以監控由臭氧溶解部2所生成之一次臭 氧水(0W)之溶解臭氧濃度)進行切換之切換閥(未圖示），而 僅用一台之臭氧檢測器來管理一次臭氧水(0W)及二次臭氧 水(0W’)兩者之溶解臭氧濃度。 12 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ----------I --------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制衣 1280891 A7 B7 五、發明說明（|丨） 臭氧檢測器4及5無特定限制’可舉出例如利用紫外 線吸光光度法之連續測定式溶解臭氧監測器。 使用本發明之臭氧處理裝置，可安全而簡單地、高效 率地生成所希望濃度之臭氧水，因此可用於工廠廢水等之 臭氧處理或在各種領域之殺菌、洗淨、漂白。 此外，本發明之臭氧處理裝置，能夠迅速且精確地生 成高濃度的臭氧水，因此藉由使用本發明之臭氧處理裝置 ，則在半導體或液晶之製造之光微影製程中，，將不要之 光阻劑去除時，可以高生產效率來去除光阻劑，而且可以 製作不需要曝氣設備或氣液分離塔之小型設備之光阻劑去 除裝置。這種使用本發明之臭氧處理裝置之光阻劑去除裝 置也是本發明之一。 上述光阻劑去除裝置之一實施態樣，詳如圖4所示。 在圖4所表示之態樣中，臭氧水在臭氧溶解部2生成後， 移送到光阻劑去除槽41儲存起來。在光阻劑去除槽41所 儲存之高濃度臭氧水中浸漬光阻劑積層體42，可只去除光 阻劑層，而可僅取出經蝕刻處理過之基板43。光阻劑去除 槽41之臭氧水則再循環回到臭氧溶解部2以確保所希望之 一定濃度。 上述之光阻劑積層體之基板無特定之限制，例如在半 導體之情形意指矽晶片，在液晶顯示板則指玻璃板之材料 膜。又上述之光阻劑去除裝置中，使用臭氧水來去除光阻 劑層之方法，不限於採用圖4所示光阻劑去除槽等之批次 之循環方式，例如尙可舉出利用噴灑方式、簾狀流動 13 _本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） --------------------訂--------- M9 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1280891 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（α) (curtaimflow)等進行接觸之方法等。 又，使用本發明之臭氧處理裝置的話，來自臭氧產生 器之金屬粉等不會混入原料水中，而可得到乾淨高濃度的 臭氧水，因此使用本發明之臭氧處理裝置，可製作能洗淨 基板之基板洗淨裝置。這種使用本發明之臭氧處理裝置所 成之基板洗淨裝置也是本發明之一部分。 還有，本發明細書中所謂「洗淨」，係將在上述基板 表面所附著之塵埃、油類之污垢，以及製造電路基板時， 於基板上所形成之不要之光阻劑等去除之意。 圖5所示，爲上述基板洗淨裝置之一實施態樣。 圖5所示態樣中，以上述臭氧溶解部2(臭氧溶解組件) 爲其基本構成，並配備：用以檢測臭氧產生器6所產生之 臭氧(0G)之臭氧檢測器94、對臭氧加壓之加壓裝置53、調 整加壓狀態之針形閥55、用以檢測上述臭氧溶解部2所產 生之臭氧水(0W)之濃度之臭氧檢測器4，以及以所生成之 臭氧水來洗淨基板類之基板洗淨室57。 上述基板洗淨室57內所用洗淨方法無特定限制，例如 浸泡(dip)，噴灑皆可。 加壓裝置53，雖只要能將臭氧產生器6所產生之臭氧 (〇G)以高於常壓來加壓即可，無其他特殊限制，但使用耐 臭氧材料之加壓泵較適合。 [用以實施發明之最佳形態] 以下揭示實施例俾進一步詳細說明本發明，但本發明 並不僅限於這些實施例。 14 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ------------裝--------訂---------. (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1280891 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制衣 A7 B7 五、發明說明（G ) (參考例1)臭氧處理裝置。 製作圖3所示之臭氧處理裝置當作本發明之一實施例 〇 原料水(W)係取調整至與室溫同溫之自來水，以「愛 勒(EYELA)公司製.RP-iooo型」之泵(未圖示)使其通過第i 流量計91而流向臭氧溶解組件2之中空管狀臭氧透過膜 22內’另一方面，使用空氣做爲臭氧(0G)之原料(使用之壓 力爲0.05Mpa)。使該空氣通過第2流量計93在臭氧產生器 6(住友精密工業製，SG_C1-PSA2型)進行臭氧化，其臭氧濃 度以臭氧檢測器(理工化學社所製.〇ZR911)94監測後，供給 至臭氧溶解組件2之內部(收容容器21之內部），通過中空 管狀臭氧透過膜22而溶解於原料水(W)。所生成之臭氧水 (〇W)之臭氧濃度以臭氧檢測器4(理工化學公司製， 0ZR911)檢測之。 (實施例1) 使用圖2所示臭氧溶解組件2及圖3所示臭氧處理裝 置，以及作爲非多孔性中空管狀臭氧透過膜22之依據 AWG(美國線規)24之內徑〇.5mm0，厚0.15mm，長lm之 四氟乙烯樹脂(PTFE)製中空管(tube)500支所成束之物，將 此(500支)置入形成爲內徑3Omm0、長1000mm之聚氯乙 烯製之收容容器21內。 讓溫度調整到與室溫(20°C)同溫之自來水從臭氧溶解 組件2之液體入口 21a流入非多孔中空管狀臭氧透過膜22 內，同時對臭氧溶解組件2之氣體入口 21c，以與自來水 15 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） --------------------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1280891 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（A ) 之流向呈對流的方式供給加壓成〇.〇5MPa之濃度爲 40mg/(NL)之臭氧，以階段性地改變自來水之流速後，用臭 氧濃度檢測器(理工化學硏究所公司製0ZR911型)測定所生 成之臭氧水之臭氧之濃度，並結果表示於表1。 表1 流速mL/min 臭氧水濃度mg/L 50 3.8 100 2.4 220 1.2 550 0.8 從表1之結果可知，實施例1可獲得一般使用之臭氧 濃度一 lppm以上之濃度。 (實施例2) 除了使用內徑0.5mm4、厚0.05mm、長lm之PTFE管 之60支成束物以外，餘皆與實施例1相同條件地，測定其 臭氧濃度。結果表示於表2。 表2 流速mL/min 臭氧水濃度mg/L 56 3.4 112 1.9 220 1.0 360 0.5 從表2之結果，當管厚由〇.15mm變薄爲〇.〇5mm，則 所用管數降爲約原來之1 /10時，可得大致相同之臭氧濃度 16 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -------------------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1280891 A7 B7 五、發明說明（Hr ) ，是以臭氧溶解性能與管厚之依存性乃十分明顯。 (參考例2) 除使用內徑〇.5mm0、厚0.22mm、長lm之PTFE管之 500支成束物以外，餘皆仿實施例1相同條件，測定臭氧 濃度，結果表示於表3。 表3 流速mL/min 臭氧水濃度mg/L 50 0.6 110 0.3 220 0.2 從以上結果可知，管厚超過0.2mm時，很不易得到實 用的臭氧濃度。 (實施例3) 除使用內徑〇.5mm0、厚0.25mm、長lm之砂酮管100 支成束物做爲非多孔性中空管狀臭氧透過膜之外，餘皆仿 實施例1相同條件，測定臭氧濃度。結果表示於表4。 表4 ------------装--------訂---------. (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 流速mL/min 臭氧水濃度mg/L 150 7.1 250 5.1 330 4.6 550 3.1 由以上結果，明顯地可獲得高濃度之臭氧水。 (實施例4) 17 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 1280891 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（丨b) 除使用內徑lmm0、厚0.5mm、長lm之砂酮管30支 成束物之外，餘皆仿實施例3相同條件，測定臭氧濃度， 結果表示於表5。 表5 流速mL/min 臭氧水濃度mg/L 150 1.6 250 1.1 330 1.0 550 0.7 由以上結果，明顯地獲得高濃度之臭氧水。 (參考例3) 除了使用內徑lmm0、厚1mm、長lm之砂酮管之15 支成束物之外，餘皆仿實施例3同樣條件，測定臭氧濃度 ，結果表示於表6。 表6 流速mL/min 臭氧水濃度mg/L 150 0.5 250 0.4 330 0.3 550 0.2 從以上結果可知，若厚度爲1mm以上時，不易獲得具 實用性之臭氧濃度，且由於每單位面積之溶解效率降低， 乃不具實用性。 18 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -----------裝--------訂--------- (請先閱讀背面之注音？事項再填寫本頁) 1280891 Α7 Β7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（q) (實施例5)光阻劑去除作業。 用旋塗機(米卡薩公司製，1H-DXNII)將TFT用正型光 阻劑(東京應化工業公司製，0FPR-PR13)均一地塗布在1000 X 1000mm之方形玻璃板上，經90°C、30分鐘加熱乾燥， 積層成光阻劑層，而得到光阻劑積層體之試樣。而上述之 光阻劑層之厚度爲1.1/zm。 用所得試樣，浸漬於充滿實施例1 ' 2及參考例2所製 成之臭氧水之光阻劑去除水槽之臭氧水中30分鐘，確認光 阻劑層之去除程度。其結果是，使用實施例1、2所得之臭 氧水可將光阻劑層完全去除，但使用參考例2所得之臭氧 水則只除0.3 //m。 (實施例6) 以圖2所示臭氧溶解組件及使用同一組件之如圖5所 示之基板洗淨裝置，進行臭氧水之生成。以內徑〇.5mm0 、厚0.25mm、長度lm之矽酮管之90支成束物做爲非多孔 性中空管狀之臭氧透過膜，將已調整溫度至與室溫相同之 離子交換水以培里斯塔泵(EYELA公司製，RP-1000型)每分 鐘260mL之輸液量由臭氧溶解組件之入口（21a)供管內。 另一方面，對來自臭氧產生器(住友精密工業公司製造 ，SG-01-PSA2型）之臭氧，以臭氧濃度計(径原實業公司製 ，EG-500型）監測其氣體壓力後，以風量（H/min)流動之 ，並藉加壓泵(IWAK1社製，BA-230TN型)進行對臭氧之加 壓，接著以針形閥調整其壓力，供給至臭氧溶解組件之側 邊入口（21c)，通過上述之非多孔性臭氧透過膜，讓臭氧溶 19 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公|Γ) -----------裝--------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1280891 A7 __s----- 五、發明說明（（泛） 解於膜內之水。 以上述方式，階段性地變化臭氧壓力（計示壓力），所 得之臭氧水濃度表示於表7 ° (半導體基板污染性評價） 將所得各濃度之臭氧水，噴附於晶圓室內之6吋矽晶 上，以電漿質量分析(ICP-MS)，定性、定量地分析該晶圓 上所殘留金屬污染物，對半導體基板洗淨時之污染程度作 評定。結果列出於表7。 表7 臭氧壓力(MPa) 臭氧水濃度(mg/L) 半導體洗淨評定結果 (金屬不純物附著程度） 0.01 2.7 1011 atoms/cm2 以下 0.067 4.3 1011 atoms/cm2 以下 0.15 6.6 1011 atoms/cm2 以下 從以上結果可知，衹以來自臭氧產生器之壓力 (0.01MP)，則臭氧水濃度爲2.7mg/L，但以泵力口壓使臭氧壓 上升時，所得臭氧水濃度，如表7所示，其與臭氧壓力成 正比上升。而且半導體基板污染性評定之結果，各濃度之 臭氧水之金屬不純物附著程度皆在101° atoms/cm2以下，可 確認是與未使用之矽晶圓(空白）爲同等之程度。 (比較例1) 在實施例6，讓臭氧產生器所生成之臭氧，不通過臭 氧溶解組件，而直接與原料水接觸溶解，所得之臭氧水， 以與實施例6相同方法，評定其金屬不純物附著程度，其 20 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公愛） ---------------------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1280891 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制衣 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格 A7 B7___ 五、發明說明（〇) 結果爲1011〜10n atoms/cm1 2 3 4 5 6 7 8，很明顯地是高污染程度。 如上所述，與一般將臭氧產生器所生成的臭氧直接地 接觸於水所得之臭氧水不同，本發明中，臭氧水之獲得， 是將臭氧通過非多孔性中空管狀臭氧透過膜，然後溶解於 原料水得到臭氧水，因此完全不會含有來自臭氧產生器之 不純物，在使用臭氧水來洗淨半導體之方式中，確爲一種 十分理想的方法。 [產業上之利用領域] 由於本發明係由上述各種單元所組成，所提供之臭氧 處理裝置，其對臭氧之耐腐蝕性及耐惡化性良好，而且可 使臭氧選擇性地溶解於原料水，能以簡單的機構·設備， 安全、容易且效率高地生成所希望之臭氧水。 [符號說明] --------------------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1 脫氣部 2 臭氧溶解部 3 臭氧濃度調整部 4 第1臭氧檢測器 5 第2臭氧檢測器 6 臭氧產生器 7 儲存槽 8 臭氧儲存槽 10 原料水供給源(儲水槽） 11 真空容器 21 (210 X 297 公釐） 1280891 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（f ) 12 脫氣用管 21 收容容器 22 臭氧透過膜 31 減壓容器 32 脫氣管 41 光阻劑去除槽 42 光阻劑積層體 43 基板 53 臭氧加壓部 55 針形閥減壓容器 57 基板洗淨室 91 第1流量計 93 第2流量計 94 臭氧檢測器 W 原料水 W 原料水 0G 臭氧水 0W 一次臭氧水 〇w’二次臭氧水 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) • -1ϋ ϋ ·ϋ mmmme mmmm— in ϋ 一 口，I ϋ ϋ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐）

Claims (1)

  1. i 料年/月才日修復)正本 D8 L_______ 六、申請專利範園 1. 一種臭氧處理裝置，係以臭氧透過膜隔離原料水及 臭氧，並讓前述臭氧通過前述臭氧透過膜而溶解於前述原 料水；其特徵在於，前述臭氧透過膜爲只容許氣體通過而 阻止液體透過之由氟系樹脂或矽酮樹脂所構成之非多孔性 中空管。 2. 如申請專利範圍第1項之臭氧處理裝置，其中，臭 氧透過膜係由氟系樹脂所構成，且管厚爲0.2mm以下。 3. 如申請專利範圍第1項之臭氧處理裝置，其中，臭 氧透過膜係由矽酮樹脂所構成，且管厚未達0.1mm。 4. 如申請專利範圍第1項之臭氧處理裝置，係具有自 原料水脫除溶解氣體之脫氣部。 5. —種臭氧處理裝置，其特徵在於，具有： 脫氣部，係自原料水將溶解氣體脫氣； 臭氧溶解部，係用以讓臭氧溶解於已脫氣之原料水， 來生成一次臭氧水；以及 臭氧濃度調整部，係自前述一次臭氧水將所需量之溶 解臭氧脫氣，來控制溶解臭氧濃度，以生成二次臭氧水。 6. 如申請專利範圍第5項之臭氧處理裝置，係具有： 第1臭氧檢測器，係用以檢測一次臭氧水之溶解臭氧 濃度；以及 第2臭氧檢測器，係用以檢測二次臭氧水之溶解臭氧 濃度。 7. 如申請專利範圍第5項之臭氧處理裝置，其中，臭 氧濃度調整部係具備：減壓容器；以及，脫氣管，其設於 -----—..................------ (請先閲讀背面之注意事項再塡寫本頁) 訂： 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1280891 A8 B8 C8 ^_ . _— 六、申請專利範圍 减壓容器內’只容許氣體通過而阻止液體透過； 、 在將前述減壓容器內減壓之狀態下，讓一次臭氧水流 ________________________------ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 通於前述脫氣管內。 ^ 8·如申請專利範圍第5項之臭氧處理裝置，其中，臭 氧濃度調整部係具備··減壓容器；以及，脫氣管，其設於 減壓容器內，只容許氣體通過而阻止液體透過； 在將前述脫氣管內減壓之狀態下，對前述減壓容器供 給一次臭氧水。 .9·如申請專利範圍第7或第8項之臭氧處理裝置，其 中’脫氣管係由氟系樹脂或矽酮系樹脂所構成。 10·—種光阻劑去除裝置，具備：臭氧溶解部（將原料 水與臭氧藉由臭氧透過膜來隔離，使得臭氧通過該臭氧透 過膜而溶解於該原料水中）以及光阻劑去除槽；其特徵在 於： 該臭氧透過膜爲只容許氣體通過而阻止液體透過之由 氟系樹脂或矽酮樹脂所構成之非多孔性中空管。 11·一種基板洗淨裝置，具備：臭氧溶解部（將原料水 與臭氧藉由臭氧透過膜來隔離，使得臭氧通過該臭氧透過 膜而溶解於該原料水中)以及基板洗淨室；其特徵在於： 該臭氧透過膜爲只容許氣體通過而阻止液體透過之由 氟系樹脂或矽酮樹脂所構成之非多孔性中空管。 2 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS〉A4規格(210 X 297公變)
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