TWI274957B - Large-sized pellicle - Google Patents

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TWI274957B TW094140940A TW94140940A TWI274957B TW I274957 B TWI274957 B TW I274957B TW 094140940 A TW094140940 A TW 094140940A TW 94140940 A TW94140940 A TW 94140940A TW I274957 B TWI274957 B TW I274957B
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1274957 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 ^ ^ 30C, „ 此框體之微 【先前技術】 同時的製^持續長足的進步’曝光光罩大型化的 光對戴光又也持纟買提高。此時如果異物(微塵)附著於以 i蔽所用的曝光光罩,微塵會將光 白底變里,塵被轉卩,或造成®形變形、邊界不平整,使 產率降^、品f外觀等受損,而產生液晶面板性能及製造 光此,「曝光光罩」意涵係指液晶面板用之曝光 fPh罩otU包含+細綱,包含初_(恤咖、光罩 無塵S要ΐίίίΓί了般係在無塵室中進行,但曝光光罩在 自防護膠,保持潔淨也很_。因此’將曝光光罩表面 光源能體分開數毫米(mm)的間隔,使賴設了曝光用 護膠膜膜片的大型防護膠膜組件,以於使用 =使異物附者喊點偏移,在抗鋪也不會發生雜的方法來 防護’ f1異物不會直接附著於光罩的表面,而附著於 的圖形,'防娜膜將照射光的焦點對準吻合光罩上 纖維ίίΐ,,:,用透光性良好之由硝化纖維素、醋酸 利用丙烯酸樹脂及 ’將此等膜接著於由鋁、不銹鋼、鐵或其他金 ===膜框體的上侧面(請參考專利文獻1、2)。通常 、4痛1體的下側面,為了安祕光光罩,設置有作為黏接 :二y、 t曰曰夤氟糸树脂等形成的透明膜片 1274957
==祕函之兩w,並且具有__著 所述:般而言,將大型防護顧組件_於曝光光罩的製程如下 ί大型防郝敝件轉層之_層_,放置於曝光 的貼附治具’透過治具對曝光光罩施加負荷。於I ^者’使用大型防護膠膜組件貼附機台( 侧面_,具有能於防護膠膜框體上側面之外周部 使用如曝ίϊ罩的防護膠膜組件,雖於微影工程時 定τ &了或防雜膜則破損時,抑是被特定數量或特 上之異辨污料,便必需將此防護膠膜組件自 —iff護顧組件係與半導體之此防護軸組件她之下, Γΐϋϊ強度較高,因而剝離變得非常困難。並且現行係ί用 成之黏接劑層貼附於曝光光單,剝離時以有機溶劑 件分離χ υ裁刀具#_接歸_自曝光光罩將防護膠膜組 衫ίίΐ述方法將大型防護麵組件自曝絲罩分離時候,曝 罩的洗淨不僅極為費 的情5赠亦有無法去除污純導致高價之曝光光罩無法使用 例如已公開之申請案(專利文獻3),設計成黏接劑一部份自防 6 1274957 =膜框體外周部份向外侧突出的構造 其向框架外側方向抽出而剝離之方法。本發離時將 =護膠膜組件進行種種之檢討,但如僅 巧將破裂,或剝離後黏接劑殘渣將多量杏、“占 就型防護膠膜組件而言不必然: 美國專利第4,861,402號說明書 、"果 日本特公昭63-27707號公報曰 日本特開平9-54424號公報 【發明内容】 I8月欲解決 供上知技術的問題’其目的在於提 凝集破壞3 等且不_ ^將防雜·件自曝光光罩分離。 柩和上ίί?之完成,係藉由—種防護膠膜組件,包含·防伽腊 框體,具有上侧面與下側面,干匕3 .防雜Μ 30cm以上之圓形·防謹膠艘 ^ 上之四邊形或直徑 及,黏接層,於該防護框體上側面; 與曝光光罩,其特徵為·訪办拉^7側面,用以貼附防護膠膜框體 或曝光光罩獅時,錄接層自防護膠膜框體 發明之髮 寸不曰ι生旋集破壞之凝集破斷強度。 侧面層猎大型防護膠膜組件下 再者,亦能變減低對曝光光罩的污染, 【實施方式】 本發明提供-種防護膠膜組件,包括·· 7 1274957 (1)防護膠膜框體,具有上侧面與下侧面,為邊長30cm以上 之四邊形;防護膠膜膜片,張設於該防護膠膜框體上側面;以及黏 接層,於該防護膠膜框體下側面,用以貼附防護膠膜框體與曝光 光罩;其特徵為:該黏接層之厚度為4〇〇 以上,且該黏接層具有 將該黏接層自防護職鋪或曝光光罩娜時,不會發單破 壞之凝集破斷強度。 Λ 該等實施態樣。
於以(ί如(1)2ΐ膠臈組件,其中,該黏接層之凝集破斷強度 於以30mm/min的速度拉伸時,為2〇g/mm2以上; 劑所sr⑴或⑵之防護膠膜組件,其中,該黏接層僅由黏接 層之任一項之防護膠膜組件,射 10 > :卿膜框體3上侧面所張設之防護及於此 :護,膜片1通常介由接著層2接著於防護膠 面。同4,於防護膠膜框體3之下侧 右f體!之上側 件10對曝光光罩5贴緊之黏接層4。°又置有為將防護膠膜組 本發明者為找出大型護膠膜組件 t應具傷之要件,對各種黏接層反覆2之利制離 巿破^凝集破斷強度是重要的,而完成ί^Γ不會發生凝 八體而言,較該黏接層佳為如前述(1)所巧2 件’凝^斷強度當以30mm/min的速時^之方護,組 補破斷強度係另外製作具有矩形截面積才上。 8 1274957 ======_戰,議/min 得之凝集破斷強度传止所需最大之負荷00。所欲 算出所欲二异出。截面積係使用拉伸前之截面積, 渣的良好結果。凝隼破斷面殘餘較少黏著劑黏著殘 著層欲料強則黏 用僅Ξί接=1糾)或⑵件,使 帶所見膠帶基材(如約兩面黏著膠 等^著改^====_過氧化物 件,厚产為^接層較佳為如〇)至(3)中任-項之防護膠膜组 :大==;=;,,,厚度愈厚,-處理容許度 棚”触=^材^合狀㈣性,以厚度 為=酸==光;?;,二 光罩、光罩等提供於微影用者;。再者曝先先罩只要是補 η與!!本ί,ϋ使用之黏接層’以由矽酮樹脂形成者為佳。使用矽 名女之ΓΤ,脂係公知者’例如,記載於三田達監修「高分 子大1二丸二兔行(1994年)’473〜482頁以及此處引用之文獻。 石夕,,為讓SiG(4—η)/2%表示之合成高分子,於^^ ^姐、以曱基或笨基為代表。御峨脂具有直鏈、分支鏈 1及l因由均聚物或無規共聚物、嵌段共聚物所構成之 聚一曱基魏烧構造等重鮮位的化學構造以及交聯密度等之全 1274957 體構造,表現出各種化學以及物理特性。 甲基用之石夕酉同黏接劑係為將含有乙烯基之聚二 s;〇2(q 烧溶將由橡膠成分與_樹脂成分形成的聚石夕氧 此声夺j之黏接劑。石夕酮黏接劑能使用於-60〜25(TC如 絕ί性以’具有優良之耐熱性、耐寒性、耐藥品性、電 箄之梯用w /性。石夕嗣樹脂因橡膠成分與樹脂成分的種類及該 下偏% Γ,特性有所不同。石烟黏接劑塗抹於防護膠膜框體 U面後,如由加熱交聯反應形成交聯構造,職集破斷強度會 1 夕嗣黏接劑大致分為過氧化物硬化型以及力口成硬化型。前者 麵,後者因具有更高之雜力而較佳。加成硬化型石夕 ^占接别’不需要溶劑之預備乾燥,為黏度20,000〜70,剛^之 ,透。加成硬化型細樹脂於塗抹乾燥後,如加熱交聯, 巧可y凝集力。加成硬化型細樹脂之硬化溫度為9〇〜⑽。C, 較過氧化物硬化型矽酮樹脂之硬化溫度15〇〜18〇〇c為低。 矽酮樹脂能自信越化學工業(股)等市面販售品取得。 即便在該等 陽極化處理 於本發明防護膠膜組件使用之黏接層,在將防護膠膜框體與 曝光光罩的距餘寬絲制厚度的3〜1G倍後,藉此剝離之^ 會二此自曝光光罩分離。另外,防護膠膜框體與曝光光罩的距離 適當地拉寬後,能自防護膠膜框體外側以機械方式,也能將包夾 在防護膠膜框體與曝光光罩之間的黏接層出以去除 去除的處理,黏接層破裂的不良情形亦不會發生。 防護膠膜框體的材質,能使用例如鋁、鋁合金 (alumite)之铭、不銹鋼等。 防護膠膜框體為具有圓形帶狀壁或四邊形四侧壁之框形狀, 其截面以正方形或矩形為佳。如一邊或直徑的長度超過3〇cm,雖 10
劑層而 1274957 未有特別的限制,但以4Q〜驗m為代表。 表。防護膠膜框體的高度,雖未有特別的限制,以約卜15刪為代 的限:護膠有上側面以及下侧面,其等寬度雖未有特別 白m制,一般為5~2〇mm,較佳& 5〜1()_。 调 素系側面張職護膠膜膜片,測用之纖維 由短組件解導_讀軸__地,以能 ^及^11四氟乙稀與偏氣乙烯之共聚物、四氟乙烯與 氟單二ΐΐ聚物、四氟乙烯與具有_全氟醚基的含 以=物,物、或者是财環狀全_基的含㈣體聚合物等 >上b等膜材巾’為非晶質含氟聚合物之四氟乙烯與具 共聚物(參照日本特開平4-聰55號公報), i _基的含鮮體之聚合物(赛脫普(旭硝子股 ^性’而且即使長時間使用,林會產生光劣化現象、 降低’具紐雛,適於作為防麟膜則。 辑旱不會 對於固定防護膠膜膜片於防護膠膜框體所使用之接著....·, ’只,疋對防護膠膜框體金屬以及防護膠膜膜片具有=二 ,的接J劑能,即可適宜地使用。丙烯酸樹脂、環氧樹脂, 脂以及前述之矽酮樹脂能做為此黏接劑之例舉。 对 【實施例】 以下’提出本發明之實施例以及比較例以說明之。 並且’黏接劑凝集破斷強度之測定方法如下所示: (黏接層凝集破斷強度之測定方法) 製作黏接層厚度150//m,寬度30mm之受試試樣,使用萬能材 11 1274957 料試驗機對此試樣以3〇mm/min的速度拉伸,記錄受試試驗至破列 為止所需最大之負荷。 衣 將所付之值除以受試試樣之截面積(0.15mmx30腿=4. 5mm2),, 作為黏接劑之凝集破斷強度。 (實施例1)
將作為接著劑之矽黏接劑KR-3700(過氧化物交聯型矽酮黏接 劑’信越化學工業(股份有限公司)製)之15%曱苯溶液,使用内徑 〇·3ηπ^針頭,以塗佈機以使乾燥厚度〇 2mm且表面平滑之方式,$ 抹於尚度5· 5刪、長邊的寬度9· 0mm、短邊的寬度7· 〇mm、外周= ,^82· 0mm、外周短邊474· 0mm之表面經陽極化處理之鋁合金製防 j膠膜框體之上侧面。另一方面,於防護膠膜框體的下侧面,涂 佈相同之矽酮系黏著劑KR—3700,使寬度4腿、乾燥厚度42〇# = 之後、’於120°C加熱30分鐘,使接著劑以及黏著劑乾燥硬化。 測定上述黏接層KR-3700凝集破斷強度之結果為51g/mm2。 ΐ,度4·G卵的賽脫普CTX—S型(旭軒(股份有限公 衣丄,’作為防護膠膜膜片’藉稍早於防護膠膜框體上侧 ## $ ίίϊ接劑固定之。將由此而得的防護麵組件放置於曝 4mm 設置能對防護膠膜框體上侧面外周部份以 以70k二 口广並且經由貼附治具,對防護膠膜框體施 以70kg(686f〇、3分鐘的加壓輯曝光光罩作貼附。 =24树後’將治具插人於防護膠 讀 __。由=接 於曝光先置卜古「使以上述横桿原理將防護膠膜框體 ^ 冋、力mm’黏接層也只會伸長。將防護膠膜框體 i,b剝離之機會,從長邊側開始緩 光罩剝離。剝離後,藉由聚光檢查觀 痕跡以外,ί不^毫的污ΐ先的黏接部分,看到些微的黏接層 亦有其他除絲接層的方法。將_軸輔鱗光光罩的 12 1274957 拉寬後,以鑷子夾住伸長的黏接劑部分,向防護膠膜框 、=、劳#向拉出。於拉出約5cm處,切斷黏接層,以鑷子夾住一 狀艇護膠膜框體外周朝外側拉出。約花費30秒自上述防護 外周將黏接劑拉出完畢,便能輕易地將防護膠膜框體自 曝光光罩险去。 ^察分離後曝光光罩的結果’僅稍微殘留黏接劑貼附的痕 跡’癌認無黏接劑團塊及損傷、污染之擴大。 (實施例2) 舰用卩KR37〇〇/KR37〇1(信越化學工業(股份有限公 製作防軸合而狀黏接劑之外’與實施例1完全相同地 亦時後,與實施例1相_實施剝離,剝離後之曝光 損傷Γ污留黏接劑貼附的痕跡,癌認無黏接劑之團塊及 相較於^3700 ’KR3701中含有乙烯基之聚二甲基石夕氧位 由因而交聯密度較低。因此,於KR3700與KR37〇l之混人黏 (比較=Γ701的比例較多,則黏接劑的凝集力會降低 ^使用KR37G1之黏接劑之外,與實施例1相同地製作 防4膠Μ組件,貼附於曝光光罩。 mu l衣π 貼附24小時後,與實施例1相同地實施梟 光ΐ上。就此黏接層的情況為,到從防剝 至攸後曝光光罩的結果,於黏接劑破碎而“部分觀家 上述黏接劑KR3701之凝集破斷強度,測定的結果為齡m2。 1274957 (比較例2) 除黏接劑使用以KR3700/KR370M/1比例混合而成之黏 之外,與實施例1相同地製作防護膠膜組件,貼附於曝光光二 貼附24小時後,與實施例1相同地實施剝離,黏接層破 曝光光罩上。就此雜層的情況,到從防護膠膜框 圈為止,發生5次破碎,每次都附著在曝光光罩上。 』雕丄 上述以^3700/1^3701=1/1比例、、曰入品#味 強度,測定的結果為18g/刪2。_…而成黏接劑之凝集破斷 (比較例3) 除黏接劑厚度定為350/zm之外, 膠膜組件,貼附於曝光光罩。 共貝轭例1相同地製作防護 貼附24小時後’與實施例1相 附著於曝光光罩上。就此玛接 问地貫施剝離,黏接層破碎地 圈為止,發生2,職__框體剝離i 曝光光罩的結果,於黏接劑地二,曝光光罩上。觀察分離後 染。惟其他部份的曝光光罩表面僅=部分能觀察到黏接劑的污 確5忍無黏接劑之團塊及損傷、九仏&留黏接劑貼附的痕跡, 上述結果歸納以表!表示。乐之擴大。 14 1274957 【表1】
韌離狀態 貼附部份 貼附部份黏接劑殘 貼附部份黏接劑殘 留稍少 綱ΐ且呈ίΐ日fi非限定於上述實施態樣。上述實施態樣係舉 "二本叙明申請專利範圍所記載之技術設計實質同等 之、月匕發揮同樣作用效果者,均包含於本發明之技術範圍。 【圖式簡單說明】 圖1係顯示防護膠膜組件構成例之說明圖。 【主要元件符號說明】 1防護膠膜膜片 2接著層 3防護膠膜框體 4黏接層 5 曝光光罩 10防護膠膜組件 15

Claims (1)

1274957 十、申請專利範圍·· 其特徵為: 側面,用⑽_防護膠膜框體與曝光光罩; f黏接層之厚度係為400Μ以上;且 離時Hi接層自該防護膠膜框體或該曝光光罩剝 曰么生/旋集破壞之减集破斷強度。 凝集圍第1項广防護膠膜組件,其中該黏接層之 3 4由3〇刪/min的速度拉伸時,為2〇g/刪2以上。 僅由黏二:T第1項之防護膠膜組件,其中該黏接層係 ’其中具有邊長或 ’其中該黏接層厚 ’其中該黏接層厚 /一4.如申請專利範圍第丨項之防護膠膜組件 直徑長度為40至150cm的防護膠膜框體。 5·如申請專利範圍第1項之防護膠膜組件 度之範圍係於400至2, 000 //m之間。 6·如申請專利範圍第5項之防護膠膜組件 度之範圍係於400至800//m之間。 7.如申請專利範圍第3項之防護膠膜組件,其中該黏接層係 以含有選自於由聚謂樹脂、聚乙酸乙烯g旨樹脂、丙烯酸樹脂以 及石夕酮樹脂所組成之族群的樹脂之黏接劑所構成。 8·如申睛專利範圍第7項之防護膠膜組件,其中該黏接層係 為以橡膠成分與石夕酮樹脂成分形成之石夕酮黏接劑。 9·如申請專利範圍第8項之防護膠膜組件,其中該黏接層係 為藉由形成交聯構造而提高凝集破斷強度之石夕酮黏接劑。 ’、 10.如申睛專利範圍第1項之防護膠膜組件,其中該防護膠膜 框體具有約1至15mm之高度。 〃 夕、 11·如申請專利範圍第1項之防護膠膜組件,其中該防護膠膜 16 1274957 膜片之膜材係選自於由四氟乙烯與偏l 與六敗丙烯及偏氟乙稀之:元之共1物、四氟乙稀 _基的含氟單體之共聚有1狀有環狀全氟 物等氟系聚合物所組成之族群的聚基的含氟單體聚合 12.如申請專利範圍第^項之防護膠膜 膜膜片之膜材係為非晶質含氟聚合物之 ^ 護膠 鱗基的含氟單體之共聚物,或者是具有環:全:醚,氟 之聚合物(赛脫普(旭硝子股份有限公司製、商品名^。、3氟單體 十一、圖式 17
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