TWI270464B - Film structures and methods of making film structures - Google Patents

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TWI270464B
TWI270464B TW091134616A TW91134616A TWI270464B TW I270464 B TWI270464 B TW I270464B TW 091134616 A TW091134616 A TW 091134616A TW 91134616 A TW91134616 A TW 91134616A TW I270464 B TWI270464 B TW I270464B
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Description

0) 1270464 玖 S麵 ::::八 ^Λ-r;·. V;;--; 内容、實施方式及圖式簡單說明) (發明說明應制:㈣所叙技術躺、辅技術、
&MMM 本發明是有關於-單層或多層薄膜結構,用來包紮,綑 綁固疋,岔封,標記或調配物品,比如化學品或藥物。 尤其’本發明是有關於一具多重特性之表面的薄膜結構, 包括不同表面接觸特性’比如黏接性,可施加壓力到薄膜 結構上來控制。 先前技街 薄膜結構經由與其它物體的表面接觸,而被廣泛的使用 於不同目的。這些特性包括包紮,綑綁,固定,密封,標 記^調配化學藥劑。當操作劑與目標物的表面相互接觸時 ’薄膜結構的操作表面可以攜帶操作劑,對於目標物具有 某種操作效應。這種薄膜結構最尋常的實例之具黏接 操作劑性的薄片材料。當黏接面被加到另一物體的表面上 =,該薄片材料會黏到該物體的接觸面,形成連結。另一 =例是具有包含化學品或藥物之承載器表面的薄片材料。 當承載器表面接觸到物體的表面時,藥劑(化學品或藥物) 被調配到目標表面,以便對該表面起作用。 在上述應用中,使用者常常想要控制住在何時,何處, 如何,薄膜的那一部分,以及所需的操作效應要施加到何 種程度。傳統的薄臈結構是無法提供如此方便的特性。例 如,在膠帶,標籤以及其它使用壓感黏接劑(pSA)之物品而 將黏接劑塗佈表面黏接到目標表面上的技術中,未完全黏 接有時是一個問題。亦即,在黏接劑塗佈表面被正確的定 (2) (2)1270464 位2目標表面上之前,黏接劑與目標表面的不經意接觸會 在個或多個位置造成不完全黏接,進而妨礙到正確的定 位。此外,相同黏接劑塗佈表面中不同部分之間的不經意 接觸也會產生問題以及浪費。例如,在廣範圍應用中使用 壓感黏接劑薄片結構(包括一種基底,如薄膜或薄片以及在 八表面上形成的壓感黏接劑層),比如廣告板,裝飾品以及 在汽車,建築物與容器中的顯示應用。這種壓感黏接劑層 具有非常高的起始黏接強度,讓黏接性高度的不可控制。 在需要精確定位住該薄膜結構的地方,即使是技術純熟的 工作人員都很難在一個操作中,精確的將這 劑層黏接到所需位置上,並且從所需的位置上移 是必須的。但是用傳統的壓感性黏接劑,一旦造成起始接 觸後’便很難調適該薄膜結構的定位。 更多使用者控制所需要的另一實例是在一般用來包紮食 ^的薄膜中。大部分商化的食物包紮在調配時都不需要附 著在上面。這種不需要的特性讓薄膜的應用很難控制。、 其它人試圖克服上述缺少使用者控制的問題。例如, McGuire等人美國專利編號第5,965,235案揭示出一種具有 應用面的立體片狀材料,有複數個間隔開的立體突出物從 該應用面上向外延伸出去。該突出物是被相鄰突出物之間 立體間隔的互連網分隔開。1^(:(}111代等人所揭示的片狀結構 是設計成要阻止重疊層套到另一個上。該立體阻止套=的 片狀材料是使用立體成形結構來製造,包括被互連區間a 開的間隔立體凹洞之不定形圖案。為製造該立體阻止套2 1270464 的!:材科’一片可成形的材料被加到成形結構中,並永
久的變形成與該成形結構相容。 K PCT專利編號第wo 97/25268案 物)傳送系統,具有最夕卜面的表面特性 質(比如藥 付『玍以及用來容納物質之 間隔的立體結構。該物質具有低於最外面表面特性的古 ,使得該物質受到保護而不會被不經意的接觸到外表:: 該物質仍受到㈣,直到立體結才冓足夠編形到基本上的二 維結構,該物質進而曝露而接觸到外表面,而不須要相^ 到外表面。製造立體材料包括的步驟有將一種物質塗佈到 成形表面上,將物質塗佈層從該成形表面傳送到一片材料 上,以及在該物質是接觸到成形表面時,將該片材料在該 成形表面上形成立體結構。 類似於PCT專利編號第wo 97/25268案的立體片狀結構 被揭示於PCT專利編號第WO 98/55109案中,其中片^結 構進一步提供可選擇性起動的片狀材料,用來調配或分裝 物質(比如藥物)到目標表面上。片狀材料的應用面具有複 數個中空突出物,向外延伸出去並被窄谷區相互分隔開, 而相反面則具有複數個下陷區,對應到該中空突出物。= 物質黏接到並部分填滿免於外部接觸的位置,包括窄谷區 及/或下陷區。該片狀材料可以讓中空級數變形來選擇性的 起動,而將該物質傳送到目標表面上。
Calhoun等人的美國專利第5,240,761號揭示出一種拉伸 黏接劑層而將覆蓋住黏接劑層的密緻單層的電氣導電顆粒 分離的方法。其最後的薄膜具有可去除的底層,藉去除掉 (4) 1270464 該底層,可以用來電氣接觸到具電氣導電單元的二基底。 由於具可控制接觸特性之立體薄膜結構的重要性,需要 發,出較$昂貴1更有效的方法來製造出彡種薄獏結構, 並提供適合不同應用的另一薄膜結構。 發明内容 發明 本發明㈣中一個特點是要提供一種形成並應用具可控 制士面接觸特性之薄膜結構的方法。該方法包括:提供: ^薄膜結構’具有第_與第二主要表面,#内並包括操作 蜊,該操作劑是被薄膜結構的頂部而與薄膜結構的第一、主 要表2間隔開,該頂部是由預設的分離表面單元所定義, 而^賴結構的第_主要表面是由跨平面可分離表面單元 斤疋義,非彈性的拉伸該多層薄膜結構以便分離開可分離 表面單元跨越薄膜結構的第_主要表面,並經由相鄰已分 離開的可为離表面單元,而增加操作劑的曝露;將薄膜結 $的第主要表面加到基底表面上;以及施加壓力到薄膜 m構的第一主要表面,使得操作劑接觸到基底的結構表面。 在上述方法的實施例中,多層薄膜結構的頂部包括一層 顆粒,每個顆粒㈣義出#中一可分離表面單Λ。在上述 方法的另-實施例中,胃薄膜結構包括一頂部薄膜層,其 中該頂部薄膜層包括可分離表面單元,是由至少部分切割 掉頂部薄膜層而形成。在上述方法的另一實施例中,薄膜 組合物包括複數個突出物,從薄膜結構的連續部分延伸出 去’母個突出物都包括其中一個可分離表面單元。本發明 (5) 1270464 的另-實施例提供由上述方法所形成的薄膜結構。 觸另一特點提供另-形成並應用具可控制表面接 ^性:㈣結構的m方法包括:提供具第-主Ϊ 膜-構:ΐ要表面以及在第一主要表面底下之頂部的薄 、口 ,、中該頂部包括複數個顆粒;拉伸該薄膜纴構, 將顆粒分離開,跨越薄膜結構的第-主要表面二 =目的間隔來增加曝露出薄膜結構的中間表面 將已拉伸之缚膜結構的第一主要表面加到基底面上; 施加壓力到薄膜結構的第一 ^ 觸到基底表面。要表面上,使得中間表面接 、述方法的只例中’薄膜結構進-步包括操作劑,至 乂 β刀疋義出薄膜結構的中間表面。在該實施例的特點中 ’該藥劑包括黏接劑。在該實施例的另一特點中,曝露之 操作劑的每個部分在拉伸後都會是具有某一平均厚度的薄 f形式’並且藉該顆粒而與薄琪結構的第一表面隔離開某 平均間隔’該平均間隔等於或大於曝露之操作劑的相對 應部分之平均厚度。 、、在上述方法的另-實例中,該拉伸是非彈性拉伸。在上 述方法的另一實例巾,複數個顆粒是電氣非導電性。在上 述方法的另一實例中,薄膜結構是多層狀的。在該實施例 的特點中’薄膜結構是藉共同擠壓方式而形成。在上述方 法,另一實例中,定義出薄膜結構之頂部薄層的複數個顆 粒是在拉伸步驟之前,便先被配置到緊密堆積的單層内。 ^述方法的另一實例中,拉伸步驟包括雙軸拉伸該薄膜 (6) 1270464 …構。該實施例的特點, 該薄膜結構。本發明❹1申步帮包括同時雙軸拉伸 薄膜結構。 ㈣另—實施例提供由上述方法形成的 括本!:2一特點提供形成薄膜結構的方法。該方法包 括供溥膜結構〆方法包 及在該第-主要表面广:要表面’第二主要表面以 使得該頂部定義出複數個 以薄膜、4的頂部, 膜結構1便分離開可八M ®早兀,W及拉伸該薄 主要矣而離面單元跨越該薄膜結構的第- 隔,來增加曝露出薄膜:::分離表面單元之間的間 … 臀路出溽膜結構的中間表面。 上述方法的實施例中,中 凹洞,un 中間表面的曝路部分形成複數個 凹,门母個凹洞都具有凹洞面,是與第一主要 ’且經由相鄰以;5八雜 隔開 。上述方 π #之表面單元間的間隔而曝露出來 ,至少部實,中,薄膜結構進一步包括操作劑 點中,# 2 $薄膜結構的中間表面。本實施例的特 而以薄層形式,相鄰到頂層並在其底下, 上時:、兮:拉伸溥膜結構的第一主要表面被加到基底表面 的m - ^、作劑會在壓力朝基底表面施加到拉伸薄膜結構 一要表面時,大幅的抑制與基底表面的較大接觸。 本貫施例的另一倍點φ,# a ^ ,” h切割步驟包括:完全切割開頂 :膜層並部分切割開該操作劑層。本實施例的另一特點 該操作劑包括黏接劑。本實施例的另一特點中,該提 二乂驟1括·彡同擠壓該黏接劑以及遮蔽材料,其中該遮 材料疋薄膜結構的頂部。上述方法的另—實施例中,該 -11- 1270464
⑺ 壓力是手指或手部的壓力。 上述方法的另—實施例中,該切割步驟包括:完全切割 開頂部。上述方法的另—實施例中,該切割步驟包括·在 -個以上的方向上切割。上述方法的另—實施例令,該可 分離表面單元在拉伸前具有至少每平方英寸彻個單 密度。本實施例的另一特點中,帛可分離表面單元 前具有至少每平方英寸2500個單元的密度。本實施例的另 一特點中,該可分離表面單元在拉伸前具有至少每平方英 寸10,00G個單元的密度。上述方法的另_實施例中該薄 膜結構是多㈣。本實施例的另—特點中,該多層的薄膜 結構是利用共同擠壓來形成。 、 上述方法的另一實施例中 薄膜結構。上述方法的另一 時雙軸拉伸該薄獏結構。上 伸疋非彈性的拉伸。本發明 所形成的薄膜結構。 ’拉伸步驟是包括雙軸拉伸該 實施例中,該拉伸步驟包括同 述方法的另一實施例中,該拉 的另一實施例提供用上述方法 =明的另-特點提供另—形成並加上具有可控 接=性之薄膜結構的方法。該方法包括:提供薄膜結構 匕有第—主要表面以及在頂部與第二主要表面之間的中 a a ,第—主要表s,在該第-主要表面下的項部,立中 該頂部包括複數個突㈣,每個突出物都定義出可分離單 :’以及非彈性的拉伸該薄膜結構,以便分離開該可分離 表面單元,跨越薄膜結構的第一主要表面,以及經由相鄰 之已分隔可分離表面單元間的間%,而增加曝露出薄膜結 -12- (8) 1270464 構的中間層表面;將薄媒結構的第—主要表面加到基 面上;以及施加壓力到該薄膜的第二主要表面上,使得 作劑接觸到該基底的薄膜結構。 ^ 本發明的實施例進一步包括:將薄膜結構的第—主要表 面加到-結構表面上,·以及施加壓力到該薄膜結構的第二 主要表面1,使得中間層接觸到該基底的表面。上述方法 二另-實施例中,中間層的曝露部分會形成複數個凹润, 母個凹洞都具有與第-主要表面分隔開的凹面,並經 鄰且以分離開之表面單元間的其中—個間隔而曝露出來。 上述方法的另一實施例中,薄膜結構進—步包括操作劑, ^少部分定義出薄膜結構的中間層。該實施例的特點中; 麵作劑包括黏接劑。該實施例的另一特點中,操作劑包括 黏接劑’而且該提供步雜包括:共同擠壓該黏接劑 j料,形成黏接劑層以及連續層;以及形成從該連續; =出去的突出物。該實施例的另一特點中,該突出物是 在共同擠壓步驟中形成。該實施例的另一特點中,該突 =伸到黏接劑層上’而該突出物的頂端基本上是沒有黏 上述方法的另_實施例中’該壓力是手指或手部的壓力 膜: = 實施例中,該薄膜結構包括連續基以薄 .^ 溥膜結構的第二主要表面。上述方法的另一 :例:’該薄膜結構是多層狀的。本實施例的特點中, ,夕層薄獏結構是藉共同拉伸而形成。上述方法的另一實 施例中’拉伸步驟包括雙軸拉伸該薄膜結構。上述方法的 -13- (9) (9)1270464 。:實施例中,該拉升步驟包括同時雙軸拉伸該薄膜結構 發明的另—實施例提供藉上述方法所形成的薄琪結構。 本發明的另一特點提供另一方法來形成具有可控制之表 面接觸特性的薄膜結構。該方法包括:提供多層薄膜結構 '、有第一與第二主要表面,而且其内包括操作劑,薄膜 結f:頂部將該操作劑與薄膜結構的第-表面分隔開,該 頂。卩疋被電氣非導電預設可分離表面單元所定義出,而且 薄膜結構的第一表面是由跨越該可分離表面單元的平面定 義出;以及拉伸該多層薄膜結構,以便分離開跨越薄膜結 ,之第一表面的可分離表面單元,並經由相鄰已分離之;^ 刀離表面單元的間隔而增加操作劑的曝露。 上述方法的實施例進一步包括:將薄膜結構的第一主要 表面加到基底表面上;以及施加壓力到薄膜結構的第二主 要表面,使得操作劑接觸到基底表面。上述方法的另:實 施例2,操作劑包括黏接劑。上述方法的另一實施例中, 夕層薄膜結構的頂部包括一層顆粒,每個顆粒都定義出其 中一個可分離表面單元。上述方法的另一實施例中,薄膜 結構具有頂部薄膜層,其中該方法進一步包括:藉至少部 分切割該頂部薄膜層,而定義出可分離表面單元。上述方 法的另-實施例中,該提供步驟包括:形成複數個突出物 ,從薄膜結構的連續層延伸出去,每個突出物都包括其中 一個可分離表面單元;而且其中該拉伸步驟包括非彈性拉 伸。上述方法的另-實施例中,該方法進一步包括的步驟 有:將薄膜結構的第一主要表面加到基底表面上;以及施 -14- (10) (10)1270464 底表構的第二主要表面’使得操作劑接觸到基 膜結^ 另—實施例提供藉上述方法所形成的薄 MJiJL詳細說明 本發明是有關於製造1右π Λ μ n 、有了控制表面接觸特性之薄膜結 構的方法以及這種簿膜彡士 . .. ^ m。為製造這種薄膜,使用適當 方法(比如傳統共同擠壓或 .« ^^^ 全及層積)形成多層缚膜組合體。該 劑曰ί具有—中間表面,該中間表©包括-操作 :二::接劑,最好是薄層形式。該多層薄膜組合體也 2 -基底層。該多層薄膜組合體進—步具有一頂部 ::、部分遮蔽該中間表面(以及操作劑’如果有包括的話) 部包括複數個預設可分離表面單元。例如,該頂部 連續薄膜層,或短網,顆粒’刻劃的或切割的 包含在頂部内的複數個預設可分離表面單元經由門口 ,,凹洞或分離表面單元之間的孤立地帶,至少部分曝心/ 或增加中間表面(以及操作劑,如果有包括的話)的曝露程 度’使得最後的多層薄膜組合體具有可起動的表面接觸特 性,在該多層薄膜組合體被起動後,當該多層薄膜组合體 的第一主要表面被加到基板表面上時,中間表面及、/或=作 劑會比該多層薄膜組合體被起動之前表現出對基板表 更大的接觸。 土 具 針對本發明想做的應用型式,該可起動表面接觸特性的 起動是藉施加壓力到該多層薄膜組合體的第- ' 一王要表面上 -15- Ϊ270464 ⑼ 來完成,比如手指或手部壓力或等效壓力。在本揭示内容 中,手指壓力或手部壓力是參考普通使用者,當使用他/ 她的手指或手試圖將-黏接薄膜到基板上時,所會正常施 T的壓力 '然而,#何成功起動該可起動表面接觸特性的 壓力都是適當的。 針對本發明想做的應用型式,分離表面單元最好在沒有 外力幫助下,至少保持相對分離以及其間的開口一段有效 =時間(例如數小時或更久)。亦即’在薄膜結構被拉伸之 前,分離表面單元最好不會再次接合到其原始位置。 如同本發明中所使用的,拉伸處理的主要功能是要產生 具有可控制表面接觸特性的所需表面特點。為達成該功能 ’使用包括複數個可分離表面單元的頂部。然後拉伸薄膜 :合體讓可分離表面單元分離開,以便達到所需的形態圖 案。該技術讓最終薄膜產品的表面特性變得可預測以 易控制。 通常,該薄膜組合體是沿著二相互垂直的方向做等長拉 伸(亦即雙軸拉伸)’以分離開薄膜平面内的表面單元。秋 而,該薄膜組合體可以沿著單-或大於二方向來拉伸,而 且在每個方向上達到不均等的程度,視最終薄媒結構中所 需的特定性能而定。當在超過—個方向拉伸時,不同方 上的拉伸可以同時或依序進行。此外,該薄膜組合體可二 散佈操作來做拉伸。例如,該薄膜可以在單一或更夕 上拉伸’然後用所需處理(比如加熱,退火或只是等夕待: 進行處理,然後在相同或不同的方向上再次拉伸。本質上 -16- 1270464
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二任何拉伸方式都可以使用,只要能幫助產生可分離表面 單元的所需分離,如在此所提的。一般,需要至少1 : 1.05 的拉伸比例。本揭示内容中,1 : X的拉伸比例代表最終薄 膜長度在某一方向的拉伸量是相同方向上原始長度的,,X,, 倍〇 在產生黏接薄膜内相似形態特性之習用技術中的嘗試包 括以此為基礎的:丨)將黏接劑塗佈到織布薄膜的凹洞内; 2)將非黏接突出物浮出或印刷到黏接薄膜上;以及3)藉變 形來任意打斷可斷裂的薄頂層(見Gr〇eger的美國專利第 5,948,493 號)。 在上述I用技術方法中,塗佈法具有二步驟處理的缺點 而且進一步牽涉到黏接劑的流變控制。印刷法也具有二 步驟處理的缺點。第三種方法造成未控制的尺寸大^、、以及 表面4何(亦即斷裂表面單元的大小以及幾何形狀在本質 上是混亂的)以及頂部的受限拓撲高低起伏,因為頂部通常 需要非常薄。 比較之下冑具有可分離表面單元之薄膜組合體做拉伸 的本發明方法具有數個優點,如以下所述。 如之刖所提的,依據本發明拉伸處理的主要功能是要提 供-種獲得某-可控制表面接觸特性的方法。然而,該拉 伸處理會帶來額外的益處1如’依據本發明方法的拉伸 處理可以在整合處理中完成,並提供薄的薄膜能力。既然 薄的網通㈣難製造(比如用麟)’所以更有效的是先形 成厚的網,然後拉伸該厚網並減少到所需最終薄膜厚度。 -17- 1270464
〇3) 使用依據本發明方法的技術,可以得到厚度小於2
(0.0508 mm)但是仍具有所需表面接觸特性的薄膜。更可能 製造厚度小於G.5 m_.G127 mm)但是仍具有所需表面接 觸特性的薄膜。
以直線方式結合該技術到薄膜生產線上的另一優點是較 :的生產成本。依據本發明t請案所使用的薄膜製造線本 質上可以比一般的網澆鑄以及成形操作還快。此外,本揭 示内容中的薄膜製造線可以產生比大部分洗鑄處理還寬的 另外,雙軸薄膜可以使用標準薄膜生產設備來進行。張 布機堯鑄處理與吹膜處理都是為此目的的可行裝置。張布 機洗鑄薄膜可以依序(亦即在機器方向上拉伸並緊接著在 張布機内做橫向拉伸)或是同時(亦即使用同步張布機)做成 為此目的’任何機械或電子機械的張布機都可使用。 習用技術中的不同技術,比如溶㈣鑄,層積或共同擠 壓,都可以用來形成多層結構。如果多層結構是用共同擠 壓及/或熱層積做成時,個必須能在祕態下進行處理。 在本:不内谷中’為了解釋的目的,具有如操作劑之黏 接劑的薄膜結構是當作主要實例用。可以使用習用技術中 已知的不同形式轉劑,包括-般的壓感黏接劑。 然而,在此所揭示的本發明是可以同等的應用到包含其 ^呆作劑的薄膜結構,比如化學品,藥品或甚至微型電子 單元I田的操作劑包括,但不受限,清潔藥劑,醫用藥 劑,鎮錢,潤滑劑,染料,防腐齊!,保護劑,調味料Ϊ -18- (14) 1270464
管水,抗出汗劑以及 …、片眠裢構中 作劑可以是連續層,互連膠布或獨立 〃
丨卞的形式。此外,可 以使用結合一種形式以上的操作劑。 W 例如,比如化學品的 非黏接操作劑可以放在黏接劑的頂端。 只挪另一種結合的形式 中’二種或更多種操作劑可以混合在一起
除了使用黏接劑以外的操作劑,也冑可以為某些目的使 用本發明的方法,製造沒有操作劑的織布薄膜。例如,在 表面上具拉伸且織布凹洞的薄膜可以當作食物外套用,該 食物外套沒有黏接劑但是經由凹洞提供良好的空氣流通, 以避免冷凍室燃燒。為製造這種薄膜,可以針對所需^的織 布將單一層或多層岫驅網刻劃或切割到適當的深度。用 本發明的薄膜結構讓保護性外套的其它使用是可能的,提 供某種有限或受控的空氣/溼氣流通,進入開口或被該外套 覆盍住的包圍物内或排放到外面,等等。
以所使用的可分離表面單元以及製造方法為基礎,在此 揭示出三種較佳形式的薄膜製造方法之實施例。與 利用變形混亂打斷掉可斷裂薄頂層的美國專利第5,948,493 號不同的是,依據本發明的這三種最佳實施例具有可分離 表面單元’是沿著預設邊界而預設並可分離的,而且是依 序藉拉伸而分離。 最後’不同形式的可分離表面單元,包括那些習用技術 中所已知的,都可以在頂部中使用。因此’習用技術中製 造可分離表面單元的不同方法可以使用。可以用此中所有 技術的優點,並基於如製造成本,設備以及產品薄膜之目 -19- 1270464
標應用形式的因素來做選擇。 實施方式 第一實施例 在第一實施例中,可分離表面單元包括顆粒。該第一實 施例是參閱圖1,2A,2B,2C以及7-10來做說明。 圖1顯示出依據本發明方法的解釋性第一實施例在拉伸 前的薄膜結構2側視圖。薄膜結構2具有一第一尺寸(寬度_ 垂直沿伸於谓1的頁面),一第二尺寸(長度_由圖丨的乙表示) 以及一第三尺寸(厚度_由圖丨的丁代表),其中第一與第二尺 寸最好疋很大於第二尺寸。顯示於圖丨中的特殊薄膜結構2 具有一黏接劑層4(當作操作劑用在實施例中,薄膜結構 2也可以具有可拉伸基底薄膜6。複數個非黏接劑顆粒8被放 在曝露的中間表面9上(如所示的在黏接劑層4的頂部上)並 藉黏接劑層4的黏接特性而黏在一起。針對藉拉伸而要最大 控制住顆粒8的分離,顆粒8最好是相互緊密的配置,雖然 並不需要如此。 該子”顆粒,,包含粉末,纖維或粒狀的材料。對於所使 顆粒的尺寸大小或形狀沒有特定的限制,雖然一般在完 薄膜中尺寸大小必須大到足夠上升到操作層的表又面上: 。非圓形顆粒’似纖維(拉長)顆粒,實心或中空顆粒, 彳機物’陶瓷’有機物或高分子顆粒可 ΐ理期間的溫度以及最終薄膜内的所需性能而定 卜,雖…圖!中所示的顆粒8本質上是球形,大小均· (直控叫,表面9上均勻分佈,並形成單一仏,作是以 -20- 1270464
的空隙,造成二顆粒群一 之後用小顆粒群填滿起始顆粒層 致調合的配置。這種設計可以用 適當大小的顆粒以及散佈拉伸處理進行許多次。
1 ·_ν ‘队叫吖’丨又心外,但定在二個以上方向 上做拉伸在某些情形中是有需要的)。 基底層6被拉伸到基底層16内。藉拉伸讓顆粒8相互分離 ,但是當作單一層18a仍然有效,進而產生的開口,凹洞或 顆粒18間的孤立地帶10。圖1的黏接劑層4被拉伸到圖2八與 2B的黏接劑層14内。一部分的中間表面19(如所示黏接劑層 14的頂部表面)因此經由開口 10而曝露出來。 橫跨顆粒18之單一層i8a頂部的平面Pl(圖2A),定義出薄 膜結構12的第一主要表面平面。如果顆粒i 8具有不同大小 ’則第一主要表面平面?1大約是由跨越某些最大顆粒18之 頂部所定義。第一主要表面?1通常是薄膜結構12的應用側 邊’意即,薄膜結構12的該側邊是被加到目標物的表面上 ’以獲得所需的效應,比如黏接。 拉伸後,曝露部分的黏接劑層14具有平均厚度d2(圖2 A) -21- !27〇464
(17) 。拉伸該薄膜結構(2 , 12)會或不會影響到顆粒8/1 8的大小 與形狀,視顆粒8/1 8的特性以及進行拉伸時的溫度而定。 例如,塑膠顆粒很容易在拉伸時變形,尤其是在高溫下。 不論顆粒8/1 8會如何變形或變形的程度如何,拉伸後的顆 粒大小(顆粒18)是設計薄膜結構12的基礎,使得在拉伸薄 膜結構12中,由於顆粒18的存在,至少有一部分的黏接劑 14仍然與薄膜結構12的第一主要表面ρι間隔開一段有距離 。為了解釋,在圖2A中,黏接劑14仍然與薄膜結構12的第 一主要表面pji隔開一段大約與直徑(高度)1>2相等的距離 其中Da疋變數,如果顆粒18具有非均勻大小。當顆粒1 8 是非球形時,Ds是等於顆粒18在薄膜結構12厚度方向上的 南度。然而,既然顆粒1 8會沉入黏接劑14内,所以在實施 例中,至少某些最大顆粒18的高度Da是大於黏接劑層Μ的 曝路。卩刀在拉伸後的平均厚度t。這確保,即使顆粒1 8被 埋在黏接劑層14内,黏接劑層14的曝露部分仍會與薄膜結 構12的第一主要表面Pi分隔開一段距離,因為至少有某些 最^顆粒18存在。在另一實施例中,至少某些最大顆粒18 的南度D2是至少二倍於是大於黏接劑層14的曝露部分在拉 伸後的平均厚度t。這確保,即使顆粒丨8被埋在黏接劑層 14内,黏接劑層14的曝露部分仍會與薄膜結構^的第一主 要表面Pi分隔開一段等於或大於的黏接劑層14曝露部分的 平均厚度旬的距離,因為至少有某些最大顆粒18存在。 拉伸可以彈性或非彈性的方式來進行。拉伸最好是非彈 性,在拉伸力從薄膜結構12移開後且沒有其它外力幫助分 -22- (18) (18)!27〇464 離時,分離表面單元(顆粒18)間至少部分保持與薄膜結構 12有某一程度的分離。在本揭示内容中,非彈性拉伸是定 義成在一個或多個方向上將薄膜結構從原始狀態拉伸到至 少5%(1 : 1.05),而拉伸薄膜内的最終尺寸顯示至少是強迫 拉伸至少570(^.05)的永久變形,最高到至少5〇%(1:1〇25) 的永久變形。拉伸可以在室溫下進行’或是加熱該薄膜以 利變形。 當應用側邊(具有顆粒的側邊)上的第一主要表面p ^被加 到目標物的表面上時,最後的薄膜結構12顯示出可控制的_ 表面接觸特性。當操作劑是黏接劑(黏接劑層14)時,薄膜 結構12表現出的黏壓特性。特別的是,薄膜結構丨2顯示出 較不容易太早黏到自己本身(及/或黏到目標表面),因為有 顆粒18存在,但是當施加適當的壓力,比如手指壓力或手 部壓力’以本質上橫貫目標表面的方向到薄膜結構丨2的第 二主要表面20上時,則顯示出黏接程度增加,如圖13所示 。第二主要表面20是薄膜結構12的背面(比如在基底層16的 表面20上)。 薄膜結構12尤其適合容易腐壞食物的包裝應用,提供比 目前食物包裝市場上標準”黏貼”薄膜(容易糾纏在一起)還 好的優點。除了黏壓特性以外,本發明薄膜結構的黏接性 月匕特性還把以顆粒8間的間隔’顆粒8的大小,黏接劑保持 力,黏接劑厚度以及基底層(或包含基底層的額外層與材料) 的厚度與硬度為基礎來做調整。 可以在拉伸處理之前,將顆粒傾倒塗佈(比如使用流體化 -23- 1270464
床塗佈機),而將顆粒8加到黏接劑表面上。可以將過多的 顆粒8人離開薄膜網或搖離開薄膜網,而在黏接劑*上以一 致性的方式得到的單一層顆粒8。可以使用習用技術中已知 的裇準薄膜拉伸設備,比如長度定向器,張布機等,來產 生拉伸薄膜12。 在第一實施例的另一版本中,可以藉混合顆粒8到操作層 4内,讓顆粒8結合到操作層4(例如黏接劑4)中,並隨後製 造出一多層薄膜2。例如,如果是黏接劑層4,則可以藉混 合顆粒8到操作層4内,讓顆粒8結合到操作層4(例如黏接劑 4)中’隨後共同擠壓或塗佈該混合物到基底材料上。此時 ’用兩溶化溫度製造冬材料做成的顆粒,對於經由擠壓處 理來保持顆粒形狀說是必須的。 在第一實施例的該版本中,然後可以拉伸該共同擠壓薄 膜,以得到相類似的薄膜結構i3(圖2C),如上所述。在上 述另一第一實施例(圖2C)中,操作層14很容易包住顆粒18 ’但是如果最終(拉伸)薄膜内操作層14的有效或平均厚度 旬是類似於顆粒18的大小時,在顆粒18的頂部表面17上的 操作層14一般是會特別的變薄。如果是黏接(操作)層丨4, 顆粒1 8上的變薄黏接劑層會產生可忽略的黏接劑保持力, 並造成最終薄膜13的可再定位性。從製造的觀點來看,比 起具有分離顆粒塗佈的操作,這會提供更有效的處理。 例如,使用非黏接顆粒來分離開黏接劑表面的概念,在 Ochi的美國專利編號第4,556,595案之習用技術中是已知的 ,揭示出一種具有可再次定位特性的壓感黏接劑薄片結構 -24- 1270464
(20) ’該結構是由混亂但均勻分佈到黏接劑表面的壓感黏接劑 層與非黏接劑實心顆粒所構成。然而,〇chi的專利並沒有 教導用上述方式將顆粒分離開或分隔開。 分隔開顆粒的問題在以往已經被許多設計所提出^這些 設計包括:1)將顆粒噴灑/送出到黏接劑上;2)從液體媒 質中沉積出固體再緊接著烘乾處理;以及3)非直接的將顆 粒加到被定義出圖案的内襯上並且將該内襯層積到一黏接 劑上。習用技術的方法很容易太過昂貴,需要特別的設備 ’以及很難用確保最終產品内一致性的方式來管理。 依據本發明的技術對於習用技術是一項改良,因為相鄰 顆粒8之間的開口是用施加到該薄膜2上的拉伸程度來進行 控制。將顆粒塗佈處理整合到製造薄膜的製程中,可以達 成高產量以及低成本。 對於本發明所要進行的應用類型而言,顆粒8/18不需要 用電氣導電材料做成。事實上,在某些應用中,用非電氣 導電材料做成的顆粒是必需的或需要的。另一方面,顆粒 8/18的不同機械特性對於不同應用來說是需要的,因此變 成在選取材料來製造出顆粒8/18時所需要考慮的一重要因 素。 圖7-10顯示出拉伸之前以及拉伸之後較佳第一實施例的 薄膜結構《圖7是掃描電子顯微鏡圖(χ5〇),顯示出薄膜結 構被拉伸前該薄膜結構的頂視圖。圖8是掃描電子顯微鏡圖 (χ300) ’顯示出薄膜結構被拉伸前該薄膜結構的側視圖。 圖9是掃描電子顯微鏡圖(χ3〇),顯示出薄膜結構被拉伸後 1270464 (21) 該薄膜結構的頂視圖。圖10是掃描電子顯微鏡圖(χ5〇〇), 顯示出薄膜結構被拉伸後該薄膜結構的側視圖。 第二實施柄 在第二實施例中,包含可分離表面單元的頂部包括一刻 劃或切割遮蔽層。該刻劃遮蔽層是指任何分離弱線。該第 *一貫施例是參閱圖3,4 A,4Β,11與12來顯示。 圖3顯示出依據本發明方法之解釋性第二實施例的薄膜 結構2 2在拉伸前的側視圖。薄膜結構2 2具有一第一尺寸 (寬度-垂直延伸到圖3的頁面),一第二尺寸(長度_如圖3的^ 所示)以及一第三尺寸(厚度-如圖3的丁所示),其中第一與第 二尺寸最好是大於第三尺寸。圖3中所示的特別薄膜結構22 具有黏接劑層24(當作操作劑用該實施例中,薄膜結構 22也可以具有一可拉伸基底層26。遮蔽層”是在黏接劑層 24上,因此疋義出薄膜結構22的第一主要表面29。遮蔽層 27取好疋具有本質上均勻厚度H,均勻的分隔開黏接劑層 24以及薄膜結構22的第一主要表面29。 如圖3所示,遮蔽層27是從頂部刻劃或切割而形成切痕或 割痕70’最好是將沿著第一與第二尺寸的平行線(未顯示) 串接在一起,使得遮蔽層27被刻劃或切割成四邊段落28的 格子狀,比如方形,鑽石形,矩形或菱形,每個段落都是 =機械方;:與相鄰者絕緣開。因此每個段落28都會構成可 刀離表面單兀。然而,不需要任何特別的刻劃或切割方式 或形狀,只要切割能產生遮蔽層27上所需的可分離表面單 兀28,雖然不同的切割機構具有不同效率或產量。可以在 -26 - 1270464 _麵 (22) 此處所提的實例中使用切刀切割器,但是任何傳統的方法 ’比如雷射剝離或浮凸,都可以用來將遮蔽層割斷成可分 離表面單元。此外,不需要任何可分離表面單元28的特別 形狀或相對大小,只要最終薄膜結構(拉伸薄膜)具有所需 表面接觸特性。一般,從切割所產生的每個可分離表面單 元28具有n邊的多邊形頂面。 對於本發明所要進行的應用而言,可分離表面單元28在 拉伸前需要具有大於每平方英寸1〇〇個單元(每平方公分 15·5個單元)的密度,最佳是每平方英寸1000個單元(每平方 公分155個單元),在拉伸前每平方英寸25〇〇個單元(每平方 公分388個單元)更佳,而且每平方英寸1〇,〇〇〇個單元(每平 方公分1550個單元)又更佳。考慮到,可分離表面單元在拉 伸刖的密度高到每平方英寸4〇,〇〇〇個單元(每平方公分 6200個單元)是可能的' 較佳地(如圖3所示),遮蔽層27在黏接劑層24被部分切割 開時會被完全切割開,雖然割劃處理以某種方式只讓遮蔽 層27的厚度變弱或只是部分割斷掉,來達成所需的分離效 應便已足夠。在使用可分離基底層26的實施例中,最好該 多層薄膜結構22是在切掉遮蔽層27之前便先形成。雖然有 可能遮蔽層27會單獨的或與操作劑(黏接劑層)以一起先被 刻劃或切割,然後與該基底層26層積在一起。 在上述的任何一個情形中,並與該第一實施例(顆粒)不 相同的是,可分離表面單元28是直接在薄膜結構22的連續 部分上形成’而非結合到薄膜結構中,如同在用顆粒時的 -27- 1270464
(23) 預先成形獨立薄片。在此,"薄膜結構的連續部分”是指以 下一個或多個與實施例有關的結構:基底層26,未切割部 分的黏接劑24,或未切割部分的遮蔽層27。 圖4Α與4Β顯示出一薄膜結構32,是從薄膜結構22拉伸而 形成’最好是以該薄膜的第一與第二尺寸。(再一次,在某 些實例中會需要只在單一方向上拉伸,或是二方向以上) 。圖4Α的基底層36是拉伸圖3基底層26的結果。黏接劑層 34是拉伸圖3黏接劑層24的結果。遮蔽層(27,37)的段落38 也會拉伸,並且藉拉伸而變成相互分離開,進而產生開口 ,凹洞或段落38之間的孤立地帶30,仍在某種程度上當作 黏接劑34的遮蔽層37。開口(凹洞或孤立地帶)3〇利於中間 表面3 1至少部分曝露或增加曝露,該中間表面3丨是黏接劑 層34的上部表面區域,如所示的,但在沒有使用操作劑時 ,只是凹洞30的一面。拉伸會造成表面段落的厚度減少。 橫跨遮蔽層37頂部的平面Ρ2(圖4Α)定義出薄膜結構32的 第一主要表面。黏接劑層34的曝露中間表面部分3丨是藉段 落38而與平面分隔開一段至少等於段落38厚度的距離, 該距離可以或不會仍是原始段落28的厚度Η。該第一主要 表面通常是薄膜結構32的應用側面’是指薄膜結構32的該 表面或侧邊被施加到目標物的表面上,以得到所需的效應 ,比如黏接。 最後的薄膜結構32具有可控制表面接觸特性,比如類似 於第-實施例所示薄膜結構12的黏接性能。薄膜結構”具 有非黏接劑突出物的孤立地帶(段落38),保護操作劑(黏接 -28- 1270464 (24) 劑層34)不會太早接觸到目標表面。然後可以藉施加壓力到 薄膜結構32的背面40,讓操作劑接觸到目標表面,如圖w 所示。 如同在第一實施例中,其它形式的操作劑也可以使用。 此外,為了某些目的,沒有操作劑的柔軟薄膜也可以使用 本發明的方法做成。例如,在應用側邊Ρι上具有拉伸且柔 軟凹洞30但沒有包含黏接劑34的薄膜32 ,可以當作食物包 裝用,該食物包裝沒有黏接性,但是提供良好的空氣流通 貫穿過該凹洞,避免冷束室燃燒。 熟知該技術領域的人士可以使用不同的遮蔽層27刻劃或 切割。例如,可以使用不同的設計來進行切割。不是使用 上述的切割器,而是使用交替切割或表面減弱設計,比如 噴射水’雷射光束,旋轉沖模,或突軸。一般,噴射水與 雷射光束會造成比切割器還寬的切割寬度。此外,當切割 方向是沿著機器的方向時,噴射水與雷射光束是非常適合 。雷射光束的優點是,複雜圖案,比如波浪,彎曲,預設 曲線,等都可以藉將路徑程式化雷射掃描裝置内來達成。 在某些情況下(比如使用易碎頂層),可以使用突軸而有效 的進行切割。 孤立地帶的大小與幾合形狀,比如鑽石形,方形,矩形 或任何一般的平行四邊形’都可以依不同角度以及不同切 割間隔的切割做變化。可以用網布的相對速率以及切割裝 置的速率來控制該間隔。利用底下第二實施例實例中的材 料,沿著會造成良好鑽石形分離的機器方向上,其最小距 -29- (25) 1270464 離大約是250微米Mm)。當切割更加靠近時,會增加頂部 聚乙烯層被剝離開黏接劑的危險,而且隨後不會分離到孤 立地帶内,並且由於該剝離作用而不會形成一群鑽石形。 藉使用交替的材料,比如使用對黏接劑具有較高黏接強度 的頂層材料,讓更加靠近的切割變為可能。 也可能具有單一方向上的切割,藉此可以在最終薄膜内 形成有稜線的圖案。在沿著平行方向上使用多重切割台做 出多重切割的地方,縱排切割是有可能的,以便得二:在 該方向上只用單一切割的可能間隔還小的切割間隔。多重 角度下的多重切割會造成其它形狀,比如三角形以及其它 的多角形。因此,可以達到很多樣變化的形態特性或可分 離表面單元的可控制形狀以及大小。 圖11與12顯示出較佳的第二實施例薄膜結構。圖u是掃 描電子顯微鏡圖(x30),顯示出薄膜結構被拉伸前該薄膜結 構的頂視圖。圖12是掃描電子顯微鏡圖(χ3〇),顯示出薄膜 結構被拉伸後該薄膜結構的頂視圖。 差三實施例 在第二實施例中,包含可分離表面單元的頂部包括突出 網布薄膜的突出物。該第三實施例在此是參閱圖5,與 6Β來顯示。 圖5顯不出拉伸前依據本發明第三實施例之蝕刻薄膜結 構42的側視圖。薄獏結構42具有一第一尺寸(寬度_垂直沿 伸於圖5的頁面),一第二尺寸(長度·由圖5的l表示)以及一 第二尺寸(厚度-由圖5的Τ代表),其中第一與第二尺寸最好 -30- 1270464
(26) 是很大於第三尺寸。 薄膜結構42具有一可拉伸基底層46,從該基底層延伸出 複數個突出物48。雖然可以分離的形成突出物48,但最好 是形成基底層46整體的一部分。例如,可以同時使用顯微 結構工具,將黏接劑與基底層共同擠壓,而繞鑄出具有從 基底層46延伸出去之突出物48以及在黏接劑層44上的突出 網薄膜結構42。用來擠壓出突出網薄膜結構42的適合方法 ’在由本申請案受讓人所共同擁有之美國專利編號第 6,106,922案中有詳細說明,在此是當作參考資料。最好, 突出物48的頂端47本質上是沒有黏接劑44。為此,密切的 控制材料流變學與其它處理條件,以便在形成突出物48的 處理期間,讓基底層46穿破黏接劑層44。一般,低黏滯性 基底層樹脂為造成較佳貫穿黏接劑層44的突出物穿破,而 犬出尖端47本質上是沒有黏接劑44或沒有黏接劑在上面。 已經發現到,在當作一基底層46使用時,最好是具有大於 50的融熔流動指數(mfi)。 突出物48最好是相互分離開並留下開口,凹洞或在其間 的孤立地帶50。該突出物可以具有任何形狀,比如截面是 圓柱體,漸尖形,圓錐形,方形等。操作劑44是安置在開 口 50的中間表面49(如所示的基底層私之非突出頂部表面) 上。圖5所示的特殊薄膜結構42具有一黏接劑層44(當作操 作劑用)。開口 50上黏接劑層44的黏接劑可以與另一開口 5〇 上的黏接劑分離開,但所有的黏接劑最好都沉積在基底層 的表面49上,§作一連接層(突出物48因此是像黏接劑層 -31- 1270464
(27) 44之間的孤立地帶)。 薄膜結構42的第一主要表面是由突出物48的頂部定義出 來,如圖5的平面P3所示。突出物48具有本質上均勻又大於 黏接劑44厚度的厚度H。,藉以均勻分隔開黏接劑層料與薄 膜結構42的第一主要表面。 圖6A與6B顯不出薄膜結構52,是由非彈性拉伸該薄膜結 構42所形成,最好是以該薄膜的第一與第二尺寸。圖6A的 突出物58是將圖5的突出物48拉伸的結果。拉伸的結果是, 突出物58較短且進一步相互分離開,藉以增加開口,凹洞 或其間孤立地帶60的大小。雖然不需要,但是圖5的黏接劑 層44最好是沿著基底層46 (在拉伸後會變成圖6人的基底層 56)拉伸。圖6八中之黏接劑層54為延伸圖5中黏接劑層44之 結果。開口(凹洞或孤立地帶)60方便至少部分曝露出中間 層55的部分,該中間層是黏接劑層54上部表面的一部分, 如所示,但在沒有使用操作劑時可以只是凹洞6〇的一面。 薄膜結構52的第一主要表面仍是由突出物μ的頂部來定義 ,如圖6A的平面P4所示。此外,拉伸為讓突出物58的高度 從H。降低到HF。最好,HF仍大於黏接劑層54的厚度,藉以 將黏接劑層54與薄膜結構52的第一主要表面分隔開。 棱跨突出物58頂部的平面(平面P4)定義出薄膜結構52的 第一主要表面。該第一主要表面通常是薄膜結構52的應用 面’疋“該薄膜結構5 2的側邊表面被施加到目標物的表面 上,以得到所需的效應,比如黏接。 最後的薄膜結構5 2具有可控制表面接觸特性,比如類似 -32- 1270464
於第一與第二實施例分別的薄膜結構12與32所顯示的黏接 性能。薄膜結構52具有非黏接劑突出物(突出物58)的孤立 地帶,保護操作劑(黏接劑54)免於太早接觸到目標表面。 該操作劑因此是藉施加正確的壓力而特別的接觸到目標表 面,比如用手指或手部壓力,如圖丨5所示。 類似於第二實施例(切割薄膜)中所說明的,為了某些目 的,沒有操作劑的柔軟薄膜有可以用依據第三實施例的方 法來做成。例如,在平面&上具有拉伸與柔軟凹洞6〇但不 包含黏接劑的薄膜52,可以當作食物包裝用,該食物包裝 ;又有黏接劑54但能提供良好空氣流通穿過凹洞,以避免冷 凍室燃燒。 圖13顯示出接觸到基板8〇表面的第一實施例薄膜結構12 。薄膜結構12的第一主要表面?1是接觸到基板的第一表面 。當施加壓力(用圖示右邊上的箭頭與參考點p來代表)到薄 膜結構12的第二主要表面2〇時,操作劑(黏接劑4)接觸到基 板80的表面。隨著壓力p的施加,薄膜結構會變形而將該操 作劑接觸到基板表面《在不施加壓力p的地方(在圖示的左 邊),操作劑不接觸基板80表面。顆粒18保持操作劑(黏接 劑4)遠離或不接觸到基板8〇,直到施加壓力而讓操作劑(黏 接劑4)接觸到為止。 圖14顯示出基板80表面的第二實施例薄膜結構32 ^薄膜 結構32的第一主要表面p2是接觸到基板的第一表面。當施 加壓力(用圖示右邊上的箭頭與參考點p來代表)到薄膜結 構32的第二主要表面4〇時,操作劑(黏接劑34)接觸到基板 -33- 1270464
(29) 80的表面。隨著壓力p的施加,薄膜結構32會變形而將該操 作劑(黏接劑34)接觸到基板表面。在不施加壓力P的地方 (在圖示的左邊),操作劑不接觸基板80表面。遮蔽層38的 段落保持操作劑(黏接劑34)遠離或不接觸到基板80,直到 施加壓力而讓操作劑(黏接劑34)接觸到為止。 圖15顯示出基板80表面的第三實施例薄膜結構52。薄膜 結構52的第一主要表面p4是接觸到基板的第一表面。當施 加壓力(用圖示右邊上的箭頭與參考點P來代表)到薄膜結 構52的第二主要表面時,操作劑(黏接劑54)接觸到基板8〇 的表面。隨著壓力P的施加,薄膜結構52會變形而將該操作 劑I黏接劑54)接觸到基板表面。在不施加壓力p的地方(在圖 示的左邊),操作劑不接觸基板80表面。突出物58保持操作 劑(黏接劑54)遠離或不接觸到基板80,直到施加壓力而讓 操作劑(黏接劑54)接觸到為止。 實施例捅耍 在所有三種型式的實施例(第一,第二與第三)中,可分 離表面單元是以預設且可控制的方式做成。在第一實施例 中,可分離表面單元是從預成形獨立顆粒來形成。然而, 利用第二與第三實施例,可分離表面單元進一步直接在薄 膜組合體的連續部分上(第二實施例)或由薄膜組合體的連 續部分(第三實施例)來形成,而不需獨立的與當作可分離 表面早元的預成形獨立物結合在一起。 拉伸程度控制可分離表面單元的分離。對於每種基底與 黏接劑材料以及拉伸條件的選擇,比如溫度與拉伸速率或 •34- (30) 1270464
拉伸比例,都有-最佳範圍的拉伸比例。拉伸比例的較佳 會’ 16 ’ 26 ’ 36 ’ 46與56)所使用的材料 而在其它因素間變動。 較寬的分離會增加非點接劑突出物(可分離表面單元)的 分離。最佳拉伸比例是基於所需性能以及突出物高度來 取。 、 雖然同時的雙軸拉伸對於這種應用來說較好,作是不同 的性能特性可以藉其它拉伸設計而得到,包括單轴,非對 稱’依序雙軸,同時雙知拉伸等^ 此外’雖然上述方法是最適合於洗鑄拉伸薄膜處理但 是吹氣薄膜處理也可以使用β 另外,上述實例中的不同多層網能提供額外的性能特性 。例如,額外層或具有抗阻塞添加劑的薄層可以降低基底 聚^烯層内的本質黏性。對於食物包裝應用來說,頂層可 以是顏料層,比如Ti〇2,有潛力提供美觀與密封顯示二特 性0 雖然在第-實施例中,需要黏接劑來黏住顆粒,但是可 以使用除了黏接劑以外的操作劑。此外,利用第二與第二 型式的實施例,可以做成交替結構,而沒有黏接劑:功: ,亦即非黏接劑操作劑可以用來取代黏接劑。 此外|面接觸特性可以使用表面單元的所需硬度來做 調m單元的硬度可以在易碎與堅硬之間變動。 視可分離表面單元(比如顆粒,切割段落與突出 的間隔(開口大小)而定,可以得到可分離表面單元的大小 •35- (31) (31)1270464
’黏接劑的厚度與黏接性能特性,以及薄膜基底的硬度與 厚度’許多其它的黏接性能。 在此所說明的薄膜結構可以針對其它目的來使用,視所 使用的操作劑類型,多層結構,可分離表面單元的變動, 包括拉伸程度隸伸設料而定m薄膜結構的 新應用以及製造的方法,揭示於標題為"Taek。卜 Films for Temporary Surface Protection and Surface M〇dlfication”的美國專利申請案(美國專利序號 10/016,541). Innovative Properties 公司。上述所標定的美國專利案在此當作參考資料,揭示 出一種暫時表面保護或使用片狀材料的表面改質的方法, 其中精心起動的黏接劑是在三維片狀材料的一側邊,保持 片狀材料在使用位置上,比如牙醫圍兜,工具盤内襯,或 是對片狀材料已經黏接上的表面提供所需的光學效應。 將會針對以下的詳細實施例,進—步說明本發明的操作 。這些實例都U來進-步解釋許多特Μ較佳的實施例 以及技術。然』要了解的I,在本發明的範圍Μ,有許多 變化與修改都可以達成。 第一實施例的實例 實例1 當作上述第一實施例的㈣,原型的薄膜結構是利用一 種包括以下步驟的方法來做成:(1)擠壓;(勾層積;(3)傾 倒塗佈;以及(4)拉伸。上述方法的細節說明如下。 1.擠壓 ° -36· 1270464
(32) 基底聚乙烯層是被澆鑄並且從該澆鑄片切割出125 mm χ 125 mm方塊片(方形券)。 所用基底聚乙婦層是位於Kingsport,Tennessee之 Eastman Chemicals公司的 Mxten CM 27057-F。該材料是線 性低密度聚乙烯(LLDPE)樹脂,密度為0.910/g/cc(0.910 g/ml),融熔指數為2(mfi)。該樹脂是從ΐ·75英寸(44.5 mm) 的螺旋HPM擠壓機(在Mt· Gilead, Ohio的HPM公司)在450 F(232.2C)融溶溫度下擠壓出來。該融溶薄片在125下 (5 1.7°C )下被澆鑄到冷卻鋼捲板上。該澆鑄捲板的底部浸泡 在水中,以便讓熱從該澆鑄薄片傳導出來。該澆鑄捲板的 厚度為1250微来(μχη)。 2.層積 一層黏接劑被層積到方形券上。所使用的熱融溶黏接劑 疋位於St· Paul,Minnesota的Η·Β· Fuller公司所製造的商品 化混合物(HL-2697PT)。該黏接劑是在4〇〇°F (204.4°C )下使 用〇·75英寸(19.05 mm)擠壓機所擠壓出來,並夾在二矽膠塗 佈的紙内槪之間。黏接劑的厚度為3 13微求(μπι)。切割出1 〇 1 mm χ 101 mm的黏接劑方塊(夾在内襯之間)。去除掉其中一 内襯後,將黏接劑傳送到該方形券上。接著去除掉第二内 另一方式是,上述的擠壓與層積步驟可以用共同擠壓處 理來取代,在共同擠壓處理中,包括黏接劑層與基底聚乙 烯層的雙層網是使用傳統的擠壓方法而被共同擠壓出來。 3·傾倒塗佈 -37- (33) (33)1270464 平均直徑29·6微来(μχη)的非黏接劑的交鍵聚苯乙婦顆粒 以手動方式傾倒塗佈到層積方形券的黏接面上。過多的上 述顆粒被倒在黏接面上。該方形券是以手動的方式來回傾 斜,以便將整個黏接劑的面積曝露到顆粒上。固定量的顆 粒被黏貼到黏接劑上,本質上會產生單層的顆粒。將該方 形券面朝下並輕拍該薄片的背面,而去除掉過量的顆粒, 使得本質上單層的顆粒會以一致性的自我調節方式停留在 黏接劑上。平均量0.15 gm的顆粒黏貼到黏接劑上。過多顆 粒(非黏貼顆粒)也可以被吹離開或真空抽離,以便得到黏 接劑上固定負載的顆粒。 藉由美國專利第5,238,736號所揭示的有限合併懸浮聚合 法來備製該顆粒。本實例中所使用的特定方法如下:將2139 g去離子水,15 g Ludox TM-50膠體氧化矽(Dupont, Wilmington,Delaware),1.04 g二乙醇胺-己二酸凝結劑(當 作促進劑)的50%溶液以及0.48 g過氣酸卸的水性混合物授 拌’並用10%硫酸調配到pH 4。將1440 g的苯乙烯單體(d〇w Chemical公司,Midland,Michigan)溶液,36 g二乙烯基苯 -HF(Dow Chemical 公司)以及 2·1 g 的 VAZO 64 起始劑 (Dupont)加到上述水性混合物中,經充分攪拌並在約1000 psi下穿過 Manton-Gaulin Homogenizer Model #15 MR(APV Gaulin公司,Wilmington,Massachusetts)—分鐘,並重複 三次。均態懸浮液被倒入具有機械攪拌器,凝結器以及氮 氣入口的5公升分離樹脂細頸瓶内。然後將懸浮液在氮氣下 加熱到7 0 F ’並保持2 4小時以完成聚合反應。聚合懸浮液 -38- 1270464 (34) 經過40網目的篩網篩選過,然後在布克納漏斗上用#54遽紙 過濾,並用水清洗數次,得到包含約30 μπι聚苯乙稀顆粒的 濕塊物。然後將該濕塊物在室溫下進行烘乾,而得到自由 流動的粉末。 4.拉伸 在 KARO IV Laboratory Stretcher (Bruckner,Siegsdorf ’Germany)的批次式拉伸機拉伸該薄片。拉伸溫度為244 4〇f (118°C)。對方塊券加熱70秒,之後,該方塊券以每秒約1〇% 的固定速率拉伸到在每個方向都是最後拉伸比例為1 : 7。 在最後拉伸薄膜中,聚乙烯層約為22微米(μιη)厚,而且黏 接劑層約為5.5微来(μχη)厚。 對從上述依據上述方法所做成的薄片原型樣品進行黏接 性能的试驗❶該試驗說明如下。 黏接劑對黏接劑試驗: 使用雙面傳送黏接劑,將本發明1·5英寸(38·1 mm)寬條狀 樣品薄膜的非黏接劑面,黏接到滑動/剝離試驗機 (Instrumentors公司,Strongsville,Ohio)的試驗台上。使用 該试驗機來1測南速操作下的釋放力。 然後將1英寸(25.4 mm)寬條狀樣品薄膜放到本發明ι·5英 寸(38.1 mm)寬條狀樣品薄膜(非黏接劑面)上,並用2〇〇 的滾輪或施加手指壓力來做滾動。 然後該樣品在滑動/剝離試驗機中進行試驗,以標定出剥 離力(在90C以及在每分12英寸(〇·3 m)下)。 黏接劑對鋼板試驗: -39- 1270464
(35) 將1英寸(25·4 mm)寬條狀樣品薄膜放到清潔的不鏽鋼平 台上’並用200 gm的滾輪或施加手指壓力進行滾動,並用 ’骨動/剝離試驗機進行試驗。 除了本發明的薄膜以外,為了做比較,還可以試驗可去 除辦公室膠帶(稱作Clear Scotch⑧Tape 8 11,可以由St. Paul ,Minnesota的 Minnesota Mining and manufacturing公司購 得)。用來試驗比較性薄膜(3M Clear Scotch® Tape 811)的 方法是相等於用來試驗本發明薄膜的方法,除了試驗時所 用的樣品3M可去除辦公室膠帶的寬度是〇·75英寸(19〇5 mm)而非1英寸(25.4 mm)以外。因此,在可去除辦公室膠帶 的黏接劑對黏接劑試驗中所使用到的傳送薄膜寬度,也是 0.75英寸(19.05 mm)而非1英寸(25.4mm)。該試驗結果如下。 剝離力試驗結果 1)顆粒塗佈薄膜(1英寸),二樣品的平均(克): _____ 表 1 滾輪 平均 ^接劑對黏 高 接劑 低 ------ 黏去 平均 -------- 1劑對鋼 高 3 低 200 gm 9 120 6 2 手指壓力 210 343 162 26 63 2
2) 3M Clear Scotch® Tape 811(0.75 笨一 丄从 为了),二樣品的平均 (克): (36) 1270464
如上表所示,樣品黏接劑薄膜在輕輕觸摸下缺少本質黏 接性,但是在施加適當壓力起動黏接劑時會有黏接劑^持 力。這種可起動的黏接性或黏壓特性是存在於黏接劑對黏· · 接劑以及黏接劑對非黏接劑接觸之間。一般,當薄膜黏接 到自己(黏接劑面對黏接劑面)時,剝離力比薄膜黏接到其 匕表面(比如玻璃’金屬等)還南。本發明的薄膜具許多可 行的應用。例如,該薄膜可以用來當作非糾纏食物包裝, 以手指壓力當作起動壓力。 實例2
當作具有1¾黏接劑對黏接劑之黏接性能以及低黏接劑對 非黏接劑之黏接性能的薄膜結構實例,另一顆粒塗佈薄膜 結構的貫例疋依據上述的第一實施例做成。除了在以下有 指明外’用來備製另一實例的材料都相等於上述第一實施 例中所揭示的先前實例。 基底薄片的厚度為15 00微米(μπ^,而黏接劑的厚度為625 微米(μπι)。交鏈聚苯乙烯顆粒具有8〇微米(μιη)的平均直徑 。顆粒塗佈方塊券是用1 : 3.8的拉伸比例,在條件相等於 先前實例下,於KARO拉伸機的二方向上進行拉伸。最後 -41 - 1270464
的薄膜在條件相等於先前實例下進行試驗,除了在另一實 例中是使用4.5 lb滾輪而非200 gm滾輪以外。當作比較用, 3M Scotch® Box Sealing Tape 355的樣品也在相同條件下 進行試驗。試驗結果如下。 试驗協定: 黏接劑對黏接劑:二個1"寬樣品使用4.5 lb滾輪而層積在 一起,然後使用Instron拉力試驗機(可從位於Canton, Massachusetts 的 Instr on 公司購得),在 12’7 分下用 90。(T-剝 離)剝離開。 黏接劑對鋼:二個r寬樣品使用4.51b滾輪而層積在不鏽 鋼板上,然後使用Instron公司的Instron拉力試驗機,在12"/ 分下用90。剝離開。 剝離力試驗結果 顆粒塗佈薄膜與3M Scotch® Box Sealing Tape 355比較 (gm): 表3 樣品膜態樣 平均 i接劑對黏 高 接劑 低 黏名 平均 1劑對鋼 兩 低 粒子塗覆於 膜上(1:3.8 拉伸比) 2767 2984 2495 5 21 4 3M Scotch® Box Sealing Tape 355 1361 1451 1270 1650 1776 1590 -42- 1270464
如表3所示,依據本發明的另一顆粒塗佈薄膜展現出其黏 接劑對黏接劑剝離黏接性以及黏接劑對非黏接劑剝離黏接 1·生之間的明顯.差異。很令人驚舒的,顆粒塗佈薄膜展現出 比 3M Scotch® Box Sealing Tape 355 更高的黏接 劑剝離黏接性。 丧 可以使用在此所提的方法,得到對平板表面具有可忽略 ^黏接性但對於自己具有相當黏接性(黏接劑對黏接劑)的 薄膜。這種薄膜可以考慮成一種不昂貴的黏接劑,類似於 機械訂書機。利用在最後包裝時轉動膠帶捲軸時產生黏接 劑對黏接劑接觸而得到強結合力的優點,這種薄膜也可以 用來做成包裝並保護平滑表面的膠帶。 篇二實施例的實例 當作上述第二實施例的實例,利用包括以下步驟的方法 做出原型薄膜結構:(1)共同擠壓出薄膜網;(2)切割;以及 (3)拉伸。上述方法的細節將說明如下。 1·共同擠壓: 使用貼附到7英寸(1 8cm)狹缝沖模上的三層饋入塊,共同 擠壓出包括一頂部聚乙烯(PE)遮蔽層,一黏接劑層以及一 聚乙烯(PE)基底層的三層薄膜。頂部遮蔽層,黏接劑層以 及基底層的厚度在拉伸前分別是1.5 mil(〇.〇38 mm>,10 mil (0·254 mm),25 mil(0.635 mm) 〇 頂部與基底 PE 樹脂是 Kingsport,Tennessee 的 Eastman Chemicals公司的 Mxten CM 27057-F LLDPE。黏接劑混合物 是 Houston,Texas,Kraton Polymers 公司的 Kraton D 1107 -43- 1270464
(39) 以及Η·Β· Fuller公司的HL-2697 PT之75%-25%混合物(重量) 。這些都是用於熱融壓感黏接劑(PS A)配方的商品化材料。 Kraton D 1107是苯乙烯-異戊二烯-苯乙烯塊狀共聚合物。 HL-2697 PT是以滑動塊狀共聚合物組成為基礎。 使用0.75英寸(19_05 mm)的Killion擠壓機,在33 RPM螺 桿轉速以及閘門溫度470°F(243.3°C )下擠壓出頂部PE層。 使用 1.25 英寸(31.75 mm)的 Brabender 擠壓機(Hackensack, New Jersey的 C.W. Brabender公司),在 34 RPM螺桿轉速以 及閘門溫度400°F(204.0°C )下擠壓出黏接劑層。使用1.75英 寸(44.45 mm)的HPM擠壓機,在35 RPM螺桿轉速以及閘門 溫度470°F(243.3°C)下擠壓出基底PE層。饋入塊以及塊狀 物是在溫度470°F(243.3°C)下擠壓出來。 澆鑄飛輪溫度是控制到125°F(51.7°C),而基底PE接觸到 飛輪。該薄膜網是用空氣釘住,而且飛輪表面速率是1.7 m/min 〇 2.切割: 在一般垂直於網布表面的方向上切割該網布。該網布是 在一支撐表面上,以便切割開該網布的固定厚度。相對於 切割器的位置移動該支撐,來控制切割深度。做出到該網 布的機器方向的一組22.5°角平行切割。所產生的切割是互 相平行,而且約分離開約10 mil (0.254 mm)。 然後對該網布轉動45。並且再次經由切割器饋入,以便產 生另一組45°相對於原始切割方向的平行切割。 在二切割方向上,調節切割深度使得切割完全貫穿頂部 -44- (40) (40)1270464 PE層,且大約50%穿過黏接 4曰说 監視。 我剜的厚度。廷是使用顯微鏡來 最後的圖案構成物理性絕 、巴緣鑽石的頂部PE層,而該頂部 PE層疋黏貼到一連續黏接劑層。 3·拉伸: 從上述切割網布中切割出3英寸χ3英寸(7 6 c…“妁 樣品’並且在批次式拉伸機中進行拉伸。每個樣品都同時 方向上以母移0.25英寸(6.35 mm)的速率在115°C下, 拉伸5.5倍到拉伸比例1 : 5.5。最後的薄膜具有由分離鑽石 狀菰立地τ所疋義的表面特性。這些孤立地帶將黏接劑層 從該薄膜的第-主要表面中分隔開。該最後薄膜的大約厚 度分佈如下。 頂層 在鑽石J: 黏接劑層 基底層 在鑽;i 黏接層 5之間 基底層 厚度(mil,1 mil = 0.0254 mm) 1.0 1.2 1.2 0.3 1.1 a ^ ^〜1居疋祖狎到相富的均勻,而拉伸黏接劑層顯 不出某些形態變動,視其接近鑽石狀孤立地帶而定(圖4A 的段落38)。 在相等於第一實施例樣品之剝離力試驗(表1)的條件下 對樣品進行試驗。 切割薄臈(1英寸,25.4 mm),二樣品的平均(克): -45- 1270464
(41) 表5 滾輪 黏4 平均 秦劑對黏 高 接劑 低 黏孝 平均 备劑對鋼 高 200 gm滾輪 26 52 9 23 ----—. 34 — 见 1 -χ 手指壓力 114 150 66 62 73 _54 如表5所示,樣品薄臈展現出類似於第一實施例的黏壓特 性。 ' 第三實施例的實例 當作上述第三實施例的實例,利用包括以下步驟的方法 做出原型薄膜結構:(1)共同擠壓出一薄膜網;以及(2)拉伸。 1·共同擠壓·· 藉同時使用具有每平方英900洞(140洞/cm2)的顯微結構 工具,共同擠壓該黏接劑與基底層,而澆鑄出具有從基底 層延伸出去之突出物並在黏接劑上的突出網,其中每個洞 在成形處理時是對應到突出物48。該基底層是由union Carbide所製造的聚乙晞-橡膠共聚合物srD7587,UniQn Carbide 是 Midland Michigan 的 Dow Chemical的子公司。該 黏接劑是從 St· Paul,—Minnesota 的 Η.B. Fuller 公司之 ΗΙ^2697 ρΤ(—種滑動塊狀共聚合物)做成。 2.拉伸: 在批次拉伸機中以每個方向的拉伸比例1 : 3.5且298 Τ 048¾)下進行雙軸拉伸處理。應變速率為12·5%每秒,以 2·75英寸(70 mm)的標準長度為基礎。拉伸後,突出物的高 度會從約12 ηιί1(〇·3 mm)的原始高度(H。)降低到4.2 mil -46- (42) (42)1270464 (0.11 mm)的原始高度(Hf)。同時,突出物門 2〇 mil (0.5 mm)變寬到 1 〇〇 s 、幵’ 口會從 間所量測的)。突出網以及拉伸前的 句之 摘要如下。 幻大約幾何形狀 表6 突出網 lmil= 0.0254 mm) 突出物 高度 頂部對 隔 基底 厚度 黏接劑 厚唐 12 20 8 nr身 又 4 · (mil) 4.2 100 __0.8 0.2 ,,一 一 ν,工 w rr,3 以旯 成廣範圍的最終幾何形狀,造成不同的薄膜性能特性。 上述的試驗以及試驗結果只是解釋性而較不是預測性, 而且試驗程序中的任何變動都會產生不同的結果。 本發明現在已經參閱數個實施例做了說明。以上的詳細 說明以及實例都只是為了解釋清楚。從文中並沒有非必需 的限制要被了解。對於熟知該技術領域的人士來說,很明 顯的是,可以在不偏離本發明範圍下從所說明的實施例中 做出許多改變。因此,本發明的範圍必須不受限於在此所 提精確的細節以及結構,而是由專利主張之語言所說明的 結構以及那些結構的同等内容來限定。 逼式簡單說明 本發明將會參考所附的圖式,做更進一步解釋,其中類 似結構在數個視角圖中都是用類似的參考號數,其中: -47- 1270464
圖1疋薄膜結構被拉伸前依據本發明第—實施例之薄膜 結構的側視圖。 ' 圖2A是薄膜結構被拉伸後依據本發明第一實施例之薄 膜結構的侧視圖。 圖2B是薄膜結構被拉伸後依據本發明第一實施例之薄膜 結構的頂視圖。 圖C疋薄膜、纟Q構被拉伸後依據本發明方法第一實施例另 一版本ϋ中顆粒是結合到操作劑内)之薄膜結構的側視圖。 圖3疋薄膜結構被拉伸前依據本發明第二實施例之薄膜 結構的侧視圖。 ' 圖4Α是薄膜結構被拉伸後依據本發明第二實施例之薄 膜結構的側視圖。 圖4Β是薄骐結構被拉伸後依據本發明第二實施例之薄膜 結構的頂視圖。 圖5是薄膜結構被拉伸前依據本發明第三實施例之薄膜 結構的側視圖。 、 圖6Α是薄臈結構被拉伸後依據本發明第三實施例之薄 膜結構的側視圖。 圖6 Β是薄膜結構被拉伸後依據本發明第三實施例之薄膜 結構的頂視圖。 ' 圖7疋掃描電子顯微鏡圖(χ5〇),顯示出薄膜結構被拉伸 前依據發明方法第一實施例之薄膜結構的頂視圖。 义圖8是掃描電子顯微鏡圖(χ3〇〇),顯示出薄膜結構被拉伸 月’J依據本發明方法第一實施例之薄膜結構的侧視圖。 -48- (44) 1270464
/圖9是掃描電子顯微鏡圖(x3〇),顯示出薄膜結構被拉伸 後依據本發明方法第一實施例之薄膜結構的頂視圖。 圖1〇是掃描電子顯微鏡圖(X500),顯示出薄膜結構被拉 伸後依據本發明方法第一實施例之薄膜結構的側視圖。 圖11是掃描電子顯微鏡圖(x3〇),顯示出薄膜結構被拉伸 前依據本發明方法第二實施例之薄膜結構的頂視圖。 圖12是掃描電子顯微鏡圖(x3〇),顯示出薄膜結構被拉伸 後依據本發明方法第二實施例之薄膜結構的頂視圖。 圖13是被加到基底上之圖2A薄膜結構的側視圖,並顯示 出被施加到薄膜結構上的壓力。 圖14是被加到基底上之圖4A薄膜結構的側視圖,並顯示 出被施加到薄膜結構上的壓力。 圖15是被加到基底上之圖6A薄膜結構的側視圖,並顯示 出被施加到薄膜結構上的壓力。 圖式代表符號說明 薄膜結構 黏接劑層 基底層 顆粒 中間表面 開口,凹洞,孤立地帶 單一層 平面 厚度 2 , 12 , 13 , 22 , 32 , 42 , 52 4 , 14 , 24 , 34 , 44 , 54 6 ’ 16 , 26 , 36 , 46 , 56 8,18 9 ’ 19 , 29 , 31 , 49 , 31 1〇 , 30 , 50 , 60 8a , 18a ρι,p2,P3,P4
d!,d2 ,Η,H0, T -49 1270464 (45)
Di , D2 , Hf 1¾度 17 表面 20 第二主要表面 27,37 遮蔽層 28,38 段落 29 第一主要表面 L 長度 40 背面 47 頂端 48,58 突出物 55 中間層 70 切痕或割痕 80 基板
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Claims (1)

  1. Ι2704&Ψ34616 號專利_請案 中文申請專利範圍替換本(95年6月UP 0 拾、申請專利範圍 二層!:=,該多層薄膜結構具有第-與第 要表面,而且該多層薄膜結構/、弟 内,該操作劑與薄臈結構上的第一主 呆劑在其 構的-頂部隔開,該頂部是由預設=面間以:等膜結 定義,而且該薄膜結構的第—主表刀離表面早元所 分離表面單元上的一平面要::是由横跨該等可 -頂部薄膜層,其中該頂部薄=中:亥薄膜結構包括 該頂部薄臈層所形成的可分離表面單元猎至少部分切割 非彈性的拉伸該多層薄膜結鈐 第一主要表面的可分離表面單元分=跨—構之 且已分離的可分離表面單元之間的門2以便經由相鄰 的曝露; 的間隔,增加該操作劑 上將::膜結構的第-主要表面加到一基板的表面 施加壓力到該薄膜結構的第二 作劑接觸到該基板的結構表面。要表面上,使得該操 2.如申請專利範圍第丨項之方法,立 頂部包括一声'、中该多層薄膜結構的 元的其中之㈣粒母顆粒都定義出該等可分離表面單 1270464
    3. 4. 5. 6. =請f利範圍第1項之方法,其中該薄膜組合體包括 硬數個“物從該薄膜結構的—連續部分延伸出去,每 個突出物包括該等可分離表面單元的其中之一。 種形成薄膜結構之方法,其包括: 擠壓一平坦薄膜結構,該薄膜結構具有一第一主要表 二:第二主要表面以及在該第—主要表面下藉由擠塵 形成的頂部; 切割該薄膜結構之經擠麗頂部,使得該頂部定義出複 數個可分離表面單元’其中該第二主要 以及 :至少1:1.05的拉伸比例在該薄膜之平面拉伸該薄膜 :構二讓橫跨該薄膜結構之第—主要表面的可分離表面 旱疋刀離開,並增加該薄膜έ士接々 00 寻膜…構之經由相鄰可分離表面 =的間隔而曝露出來之一中間表面,其中當拉伸力 =時,該等已分離表面單元不會返回彼等在該薄膜結 構拉伸前原來的位置,且其中該等已分離表面單元是位 於一由具有未經切割第-φ i本 連續薄膜結構上。 要表面之薄膜結構所形成之 Γ請專利範圍第4項之方法,其中該中間表面的曝露 #分形成複數個凹洞’每個凹洞具有一凹洞表面,該凹 洞,面是與該第-主要表面分隔開,並經由相鄰以及已 分,表面單元間的間隔之—而曝露出來,該等已分離表 面單元是藉由複數組角度彼此切割所形成之島狀物。 如申請專利範圍第4項之方法,其中該薄膜結構進-步 1270464
    包括操作劑,該操作劑至少部分定義出該薄膜 間表面。 幻T 如申請專利範圍第6項之方法,其中該操作劑是以薄層 形式相鄰到該頂部層並在該頂部層底下,而且其中春^ 拉伸薄膜結構的第-主要表面被加到-基板表面上:‘ 朝向該基板表面施加壓力到該拉伸薄膜結構的第二主 要表面上時,該操作劑會表現出對基板表面 接觸力。 3子目田大的 如申請專利範圍第7項之方法,其中該㈣步驟 層完全切割開該頂部薄膜層,並部分切割開該操作劑 如申請專利範圍第6項之方法 劑。 1 0 ·如申請專利範圍第9項之方法 共同擠壓該黏接劑及遮蔽材料 膜結構的頂部。 11·如申請專利範圍第7項之方法 手部的壓力。 12·如申請專利範圍第4項之方法 括:完全切割開該頂部層。 /、中Μ刀。j步驟 13·如申請專利範圍第4項 於超過-個方向切割。 、、中該切割步驟包括 14·如申請專利範圍第4項之方 元在拉伸前具有至少每 ;;、中該等可分離表面 十方夹寸100單元的密度 8. 9. 其中該操作劑包括黏接 其中該擠壓步驟包括 其中該遮蔽材料是該 薄 其中該該壓力是手指或 包 1270464 15. 16. 17. 18. 19. 20. 21. 其中該拉伸步驟包括雙 其中該拉伸步驟包括同 其中該拉伸為非彈性拉 曹_痛__齎 如申請專利範圍第Η項之方法,其中該等可分離表面單 7L在拉伸前具有至少每平方英寸25〇〇單元的密度。 如申請專利範圍第15項之方法,其中該等可分^表面單 70在拉伸前具有至少每平方英寸1〇,〇〇〇單元的斑产 如申請專利範圍第4項之方法,其中該薄“。 ^申請專利範圍第17項之方法,其中該多層薄膜結構係 利用共同擠壓來形成。 如申請專利範圍第4項之方法 軸拉伸該薄膜結構。 如申請專利範圍第4項之方法 時雙軸拉伸該薄膜結構。 如申請專利範圍第4項之方法 伸。
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