TWI264717B - Manufacturing method of stamper for manufacturing data medium, the stamper, and the photoresist template - Google Patents

Description

1264717

CD 玖、發明說明 〔發明所屬之技術領域〕 本發明是有關用於製造具有凹軌、預製凹坑等凹凸圖 案的光碟等資訊媒體之際的模子、該模子製造用的光阻原 盤、使用前述光阻原盤的模子的製造方法及使用該模子所 · 製造的資訊媒體。 . 〔先前技術〕 在屬於資訊媒體之一種的光碟現在存在有可追記或重 寫等的光記錄碟片、和事先記錄資訊的再生專用碟片這兩 種。 在光記錄碟片的碟片基板形成利用尋軌等的凹軌 （ 導溝），更在該碟片基板上積層含有相變化材料、有機色 素材料的記錄層。將雷射光束照射到記錄層的話，該記錄 層會起化學變化、物理變化而形成記錄標記。一方面，再 生專用碟片的碟片基板上乃事先形成記錄標記（資訊凹坑 鲁 )做爲凹凸圖案的一*部分。對該些記錄標記照射§買取用的 雷射光束的話，光反射量就會變動，經由檢測出該變動就 能讀取（再生）資訊。 對於製造具有凹軌、資訊凹坑等凹凸圖案的碟片基板 、 乃是使用事先形成此凹凸的負型圖案（此亦爲凹凸圖案的 、 種）的模子。例如一般是在模穴内使用固定上述模子的 模具進行射出成型，在塡充的樹脂轉印上述負型圖案來製 造碟片基板的方法。 -6 - (2) 1264717 有凹凸圖案的模子通常是藉由含有Ni等的金屬板所 構成。製造該模子的工程首先是事先製作具有上述模子的 凹凸圖案的負型圖案的光阻原盤，在該光阻原盤上經由電 鍍形成金屬膜。然後自光阻原盤剝離前述金屬膜，進行表 面洗淨等所定的處理而獲得模子。 一邊參照第7圖所示的習知光阻原盤1 一邊針對該光 阻原盤1的製造工程做說明。首先在玻璃基板2上形成光 阻劑層4。其次使用雷射等圖案化用光束來曝光光阻劑層 4，且加以顯像其潛像圖案。藉此獲得凹凸圖案6被形成 在光阻劑層4的光阻原盤1。 使用該光阻原盤1並經由電鍍製作模子20，乃如第8 圖所示，首先在凹凸圖案6的表面經由無電解電鍍等形成 含有Ni材料等的金屬薄膜8，使光阻原盤1獲得導電性 〇 然後以該金屬薄膜8爲底層使之通電而進行電鍍，形 成含有N i等的金屬膜1 0。將該些金屬薄膜8及金屬膜1 0 自光阻原盤1剝離的話，就可獲得轉印凹凸圖案6的模子 20 〇 近年隨著光記錄媒體的大容量化而凹軌等凹凸圖案加 以微細化，其形狀誤差使記錄、讀取精度受到很大的影響 。因而要求敏銳的將凹凸圖案形成在光碟基板，但爲此必 需高精度（敏銳）地形成屬於基礎的光阻劑層4的凹凸 圖案。 形成在光阻劑層4的潛像圖案的最小幅度，乃因到達 (3) 1264717 該光阻劑層4的雷射光束的點徑而受限。當點徑w以雷射 波長爲λ、照射光學系統的物鏡數値口徑爲NA時，即以 w二k λ / N A而表示。再者，k是指根據物鏡的開口形 狀及入射光束的強度分佈而決定的常數。 可是就連理論上不超過點徑界限寛度的圖案，要是光 阻劑層4很薄的話，據知轉印在模子的凹凸圖案就很淺， 或是凹凸圖案的形狀帶有圓形（此稱爲圖案的「圓邊」） ，敏銳度不足。一般認爲原因是在曝光、顯像作業中，光 阻劑層4的厚度發生變動（此稱爲「減膜」）。認爲該厚 度變動的原因是在光阻劑層4和玻璃基板2之間反射雷射 光束，而經由該反射光造成光阻劑層4被必要以上地曝光 〇 爲解決此問題，本發明人了解到在玻璃基板2和光阻 劑層4之間形成光層是很有效果。如此一來，光吸收層就 會吸收雷射光束，而抑制光反射，與習知相比就能更敏銳 地進行曝光、顯像。 但是，本發明人藉著更進一步的硏究，具有光吸收層 的光阻原盤1，在經由無電解電鍍形成金屬薄膜8的狀態 中會有問題要很小心。具體而言，推測露出一部分光吸收 層的的光阻原盤1在無電解電鍍工程中具有微小凹凸 （ 微小缺陷）增大的可能性。亦即，明確判斷出連相同地形 成金屬薄膜仍會有因任何的原因而在剝離後的模子的凹凸 圖案表面形成微小凹凸（微小缺陷）的情形。該微小凹 凸於再生時很明顯的會造成雜訊，就連有效活用光吸收層 -8- 1264717 丨:4) 並增大記錄容量反而會有記錄、Fi牛性能下降的問題。 名：解決此問題點，就能經由利用光吸收層的光阻原盤 製造具有敏銳凹凸圖案的模子。亦即，了解到藉由光吸收 層的優點就能忠實地將形成在原盤的敏銳凹凸圖案轉印到 模Γ印。 [發明內容〕 本發明乃爲有鑑於上述課題的發明，目的在於提供一 種於無電解電鍍工程中，不會增大形狀誤差的光阻原盤的 製造方法、光阻原盤、用此所製造的模子及使此模子所製 造的資訊媒體。 本發明人針對光碟、磁碟（離散式媒體）等資訊媒體 的製造方法等重新刻意硏究，提案一種在模子敏銳地形成 凹凸圖案的方法。亦即可根據以下所示的發明，達到上述 目的。 (1 ) 一種資訊媒體製造用模子的製造方法，其特 徵爲： 具有：至少將光吸收層及光阻劑層按此順序形成在基 板h，在該光阻劑層自與前述光吸收層接觸面的相反面照 射光而形成潛像，且藉由將該潛像加以顯像形成凹凸圖案 而製造光阻原盤的工程；和在屬於前述光阻原盤的前述凹 凸圖案h形成金屬薄膜的工程；和在該金屬薄膜」形成金 屬膜，丨:丨將前述金屬薄膜及金屬膜自前述光阻原盤剝離而 形成模子的工程；且在前述光阻劑層形成前述金屬薄膜之 -9- (5) 1264717 工程的前處理，具有使前述凹凸圖案表面獲得金屬觸媒， 同時令該金屬觸媒活性化的工程，以及將獲得前述金屬觸 媒的前述凹凸圖案表面經由液體加以洗淨的工程。 (2 )於上述 （1 )中，用於前述洗淨的前述液體是 使用純水爲其特徵的資訊媒體製造用模子的製造方法。 (3) —種模子，乃屬於事先在表面形成凹凸圖案的 資訊媒體製造用的模子，其特徵爲：經由至少將光吸收層 及光阻劑層按此順序形成在基板上，在該光阻劑層自與前 述光吸收層接觸的面的相反面照射光而形成潛像，且藉由 將該潛像加以顯像形成凹凸圖案而製造光阻原盤的工程； 和在屬於前述光阻原盤的前述凹凸圖案上形成金屬薄膜的 工程；和在該金屬薄膜上形成金屬膜，且將前述金屬薄膜 及金屬膜自前述光阻原盤剝離而形成模子的工程；和在前 述光阻劑層形成前述金屬薄膜的工程的前處理，使前述凹 凸圖案表面獲得金屬觸媒，同時令該金屬觸媒活性化的工 程，以及將獲得前述金屬觸媒的前述凹凸圖案表面經由液 體加以洗淨的工程所製造。 (4) 於上述 （3)中，用於洗淨前述凹凸圖案表面 的的前述液體是使用純水所製造爲其特徵的模子。 (5 ) —種光阻原盤，其特徵爲： 具有：基板；和積層在該基板上的光吸收層；和接觸 到該光吸收層而積層且形成潛像以及能經由該顯像而形成 凹凸圖案的光阻劑層，且令形成在前述光阻劑層的前述凹 凸圖案表面獲得活性化的金屬觸媒，同時經由液體洗淨獲 -10- (6) 1264717 得前述金屬觸媒後的該凹凸圖案表面。 (6 ) —種資訊媒體，其特徵爲： 以經由至少將光吸收層及光阻劑層依此順序形成在基 ，在該光阻劑層自與前述光吸收層接觸的面的相反面 光而形成潛像，且藉由將該潛像加以顯像形成凹凸圖 製造光阻原盤的工程；和在屬於前述光阻原盤的前述 圖案上形成金屬薄膜的工程；和在該金屬薄膜上形成 膜，且將前述金屬薄膜及金屬膜自前述光阻原盤剝離 成模子的工程；在前述光阻劑層形成前述金屬薄膜的 的前處理是使前述凹凸圖案表面獲得金屬觸，同時令 屬觸媒活性化的工程，以及將獲得前述金屬觸媒的前 凸圖案表面經由液體洗淨的工程所製造的模子的前述 圖案作爲負型圖案而形成最終凹凸圖案。 (7)於上述 （6)中，具有自前述模子直接轉 凸圖案而形成的最終凹凸圖案爲其特徵的資訊媒體。 (8 )於上述（6 )中，前述最終凹凸圖案是轉印 的凹凸圖案所形成，該母盤的凹凸圖案是以前述模子 盤來轉印凹凸圖案而形成之爲其特徵的資訊媒體。 (9)於上述 （6)中，前述最終凹凸圖案是轉 盤的凹凸圖案而形成的，該子盤的凹凸圖案是自以前 子爲主盤來轉印凹凸圖案而形成的母盤，更進一步轉 凸圖案而形成之爲其特徵的資訊媒體。 本發明人是在令使用光吸收層的光阻原盤獲得金 媒。其結果根據光吸收層的優點和利用獲得金屬觸媒 板上 照射 案而 凹凸 金屬 而形 工程 該金 述凹 凹凸 印凹 母盤 爲主 印子 述模 印凹 屬觸 的複 -11 - (7) 1264717 合效果與習知相比確認可敏銳的形成凹凸圖案。光吸收層 露出一部分的光阻原盤在無電解電鍍工程中會有微小凹凸 (微小缺陷）增大之可能性的著眼點下’經由本發明人更 進一步的解析，明確判斷將獲得金屬觸媒後的凹凸圖案表 面經由液體洗淨，就能高精度地形成更加微細的凹凸圖案 〇 認爲此理由如下，但目前爲止乃屬推測理由。 於獲得金屬觸媒後以促進劑除去Sn之際’該促進劑 會沾染到部分露出的光吸收層，達到玻璃基板表面。於是 通常設在玻璃基板上的偶合劑層會與該促進劑引起一些反 應而產生氣體，形成微小凹凸。本發明在促進劑的工程之 後利用液體加以洗淨，藉此淸除該促進劑’就不會產生微 小凹凸。此結果，能藉由光吸收層的特性將敏銳曝光的凹 凸圖案正確地再現顯於利用無電解電鍍所形成的金屬薄膜 〇 以上結果也是敏銳地形成光記錄媒體的凹軌、資訊凹 坑等，提高記錄、再生特性。而且也能對應今後日益進展 的凹凸圖案微細化，增大資訊媒體的資訊記憶（記錄） 容量。 [實施方式] 針對以下本發明的實施形態例參照圖面做詳細說明。 於第1圖表示有關本發明的實施形態例的光阻原盤 1 〇 〇。該光阻原盤1 0 0係具備有：玻璃基板1 〇 2 ;和積層在 -12- (8) 1264717 該玻璃基板1 〇 2上的光吸收層1 〇 3 ;和積層在該光吸收層 103上的光阻劑層丨04。再者，玻璃基板102的表面爲了 提升與光吸收層的密著性故利用偶合劑等處理。前述光阻 劑層10 4是自光吸收層10 3的相反側（於第1圖中爲上 側）經由圖案化用雷射光束被曝光而形成凹凸圖案的潛像 ，藉由該潛像的顯像除去一部分而形成凹凸圖案1 〇。再 者，顯像後於凹凸圖案106的凹部的底面露出光吸收層 103的一部分。第1圖的符號107是表示屬於未形成凹凸 圖案範圍的非凹凸區域。 再者，如後所述，前述凹凸圖案106是爲模子120的 圖案面206。而未形成凹凸圖案的範圍乃爲模子120的鏡 面 207。 前述曝光之際，圖案化用光束會經由光吸收層1 03被 吸收而抑制光反射，就能敏銳地形成微細的凹凸。 使得屬於該光阻原盤100的凹凸圖案106表面獲得Pd (106A )。具體而言是將屬於金屬觸媒的催化劑（Pd-Sn 化合物）吸附在凹凸圖案1 06的表面，同時使用促進劑令 催化劑活性化，只除去Sn並在凹凸圖案106的表面析出 Pd。然後將獲得Pd的凹凸圖案106的表面經由液體加以 洗淨。具體而言就是用純水最好是超純水來水洗凹凸圖案 1 06的表面，就能抑制產生微小的凹凸。超純水的流量最 好爲11/min以上，更好爲51/ min以上。再者，在此金 屬觸媒是用P d - S η化合物，但本發明並不限定於此也可使 用其他金屬觸媒。 -13- (9) 1264717 而第1圖是將獲得Pd (106A)的狀態成爲膜狀以模 式性表示，但未表示現實獲得的狀態。 於第2圖（A )表示使用上述光阻原盤100形成模子 1 2 0的狀態。 在該形成工程是先在析出Pd的凹凸圖案106的表面 利用無電解電鍍形成Ni薄膜108。 此時，電鍍溶液中的還元劑在具有觸媒活性特性的 Pd表面被氧化時放出電子，經由該電子還原溶液中的Ni 離子，N i薄膜1 0 8就會有效溶解在凹凸圖案1 0 6。特別是 本實施形態例，在凹凸圖案106的凹部也會獲得充分的 Pd，故能忠實地沿著其凹凸圖案106形成Ni薄膜108。 然後以Ni薄膜108爲底層令表面通，藉由電鍍形成 Ni膜1 10。將Ni薄膜108和Ni膜1 10自光阻原盤100剝 離的話，如第2圖（B )就能得到正確轉印凹凸圖案106 的模子120。此時前述Pd ( 106A )就會附著在Ni薄膜 108 側。 於前述模子120中，各別對應前述凹凸圖案106的區 域形成圖案面206，並對應非凹凸區域107形成鏡面207 〇 再者，特別是圖未示，但例如在模具設置上述模子 120並經由射出成型等製造具有以前述凹凸圖案爲負型圖 案所轉印的最終凹凸圖案的光碟基板。又用該模子1 20製 造光碟基板以外，也可經由以該模子1 20爲主盤的電鑄工 程來製作母盤，以該母盤來製造光碟。 -14- (10) 1264717 更能以該母盤爲原盤來製作子盤，利用此來製造光碟 。亦即，本發明中的模子1 20實際上並不限於直接用於光 碟的製造場合，也可藉由以此爲主盤來製作母盤等，間接 地用於光碟的製造。 在本實施形態例的光阻劑層1 04積層光吸收層1 03， 藉此就能描製鮮明的潛像，獲得敏銳的凹凸圖案1 06。加 此這樣，無電解電鑛的前處理是事先令該凹凸圖案1 06獲 得Pd，更將該表面進行水洗，就能沿著凹凸圖案1 〇6的 形狀形成正確的Ni薄膜1 08。就是認爲可儘量產生光吸 收層103的優點。 藉此該些光吸收層103和利用獲得Pd的複合效果將 敏銳的凹凸圖案1 06仍爲敏銳的狀態轉印到模子1 20，結 果就能抑制形成在模子1 20的凹凸圖案的「圓邊」。而且 轉印到模子1 20的凹凸圖案表面比習知滑順，微小凹凸（ 微小缺陷）的數量大幅減低。只要利用該模子1 20就能獲 得抑制雜訊之記錄、讀取（再生）精度高的光記錄媒體。 再者，於光吸收層露出之前停止曝光的時候也可因獲 得Pd和光吸收層得到複合效果，就能夠與上述同樣地將 敏銳的凹凸圖案仍爲敏銳的狀態轉印到模子。 而本實施形態僅針對使用Ni的電鍍處理做說明，但 本發明並不限於此，也可利用其他的金屬電鍍。 又上述丨吴子不光是光碟，例如一般還適用於包括磁碟 (離散式媒體等）的資訊媒體的製造。 (11) 1264717 [實施例〕 (實施例··模子No· 1 ) 在被硏磨的玻璃基板上形成偶合劑層後，利用旋塗法 形成光吸收層。對於塗佈液乃使用以4. f 一雙（二乙胺 基）二苯甲酮作爲光吸收劑而含有的SWK — T5D60 (東京 應化工業（株））。將該塗膜以200度、15分鐘進行烘 烤而硬化，同時除去殘留溶劑，成爲厚度1 40nm的光吸收 層。其次在該光吸收層上旋塗光阻劑（日本ΖΕΟΝ (株） 製DVR100)，經由烘烤令殘留溶劑蒸發，成爲厚度25nm 的光阻劑層。 然後用S 0 N Y (株）製切割機器，以形成軌距 3 20nm、凹軌幅度150nm的凹軌圖案爲目的，藉由Kr雷 射（波長=3 5 1 nm )針對光阻劑層進行曝光，更施行顯像 而形成凹凸圖案，得到光阻原盤。 將該光阻原盤的光阻劑層表面用界面活性劑加以活性 化後，使無電解電鍍的前處理獲得催化劑（Pd、Sn膠體 )。接著利用促進劑（Η B F 4溶液）除去S η，同時於表面 析出P d，然後利用超純水（水量；1 21 / m i η )水洗凹凸圖 案表面，得以完成無電解電鍍之事前準備的光阻原盤。 其次，將該光阻原盤浸漬在NiCl2槽，利用無電解電 鍍形成Ni薄膜。以該Νι薄膜爲底層進行電鍍，形成Ni 膜。將由該些Ni薄膜及Ni膜所形成的積層體自原盤剝離 ，施行背面硏磨、表面洗淨得到模子No. 1。 (12) Ϊ264717 (比較例：模子No. 2 ) 除了沒有水洗的條件以外，與製作模子N 〇 .丨時同樣 地製作模子No. 2。 (比較例：模子N〇0.3 ) 除了沒有光吸收層的條件以外，與製作模子N 〇. 1時 同樣地製作模子No.3。 (評估結果1 ) 針對形成在各模子的凹凸圖案，用AFM (原子間力顯 微鏡）來確認形狀。AFM的探針是用氮化矽（SiN )針。 測定是利用無接觸模式進行，將取樣與探針間的原子間力 之變化加以圖像化。 利用線圖分別於第3圖（A)表示模子No. 1的AFM 像，於第3圖（B)表示同斷面形狀。又利用線圖分別於 第4圖（A)表示模子Νο·3的AFM像，於第4圖（B )表 示同斷面形狀。於 AFM像中，描點密度高的範圍是指凹 凸圖案的凹部，描點密度低或反白的範圍是指凸部，分別 對應於光阻原盤方面的凹凸圖案的凸部及凹部。又，在第 3圖（Β )、第4圖（Β )，凹凸是用0.32 μιη間距形成的 〇 只要比較第3圖、第4圖即可明白，應用本發明所製 造的模子No. 1即可藉由光吸收層的效果形成敏銳的圖案 ，還可藉由獲得Pd及水洗處理的效果忠實地轉印該圖案 -17- (13) 1264717 (評估結果2 ) 將用掃描型電子顯微鏡 （10000倍）測定模子No. 1 及模子No.2的凹凸狀態，分別表示於第5圖及第6圖。 由該第5圖、第6圖的比較，在模子No.l看不見微小凹 凸，但得知在模子No.2於橫軸3μιη附近和8.5 μιη附近， 明確認定有寬度1 μιη程度之凹處的微小凹凸。再者，第5 圖、第6圖之約0.3 μιη間距的凹凸是可形成在本發明中的 凹凸圖案。 〔產業上的可利用性〕 在本發明係利用接觸到光阻劑層的光吸收層，將敏銳 的凹凸圖案形成在光阻原盤，更可利用使凹凸圖案表面獲 得的Pd及洗淨工程，得到具有忠實於凹凸圖案之圖案面 的模子。 〔圖式簡單說明〕 第1圖係表示有關本發明的實施形態例的光阻原盤的 斷面圖。 第2圖（A)是表示使用同光阻原盤製造模子中途狀 態的斷面圖。 第2圖（B)是表示同一所製造的模子的斷面圖。 第3圖（A )是表示將形成在有關本發明的實施例的 -18- (14) 1264717 模子的凹凸圖案經由A F Μ所解析的狀態圖。 第3圖（Β )是根據同一 AFM解析的凹凸圖案的斷面 形狀的線圖。 第4圖（A )是表示將形成在有關本發明的比較例的 模子的凹凸圖案經由AFM所解析的狀態圖。 第4圖（B)是表示根據同一 AFM解析的凹凸圖案的 斷面形狀的線圖。 第5圖是表示將上述實施例的模子表面利用掃描型電 子顯微鏡加以測定的凹凸狀態的線圖。 第6圖是表示將上述比較例的模子表面利用掃描型電 子顯微鏡加以測定的凹凸狀態的線圖。 第7圖是表示習知光阻原盤的斷面圖。 第8圖是表示使用習知光阻原盤來製造模子的狀態的 斷面圖。 100 :光阻原盤 102:玻璃基板 103:光吸收層 1 0 4 :光阻劑層 106:凹凸圖案 108: Νι薄膜 110:Ni 膜 120:模子 -19- 1264717 (15) 206:圖案面 2 0 7 :鏡面

Claims (1)

1. (1) 1264717 拾、申請專利範圍 1、 一種資訊媒體製造用模子的製造方法，其特徵爲 具有：至少將光吸收層及光阻劑層按此順序形成在基 板上，在該光阻劑層自與前述光吸收層接觸面的相反面照 射光而形成潛像，且藉由將該潛像加以顯像形成凹凸圖案 而製造光阻原盤的工程；和在屬於前述光阻原盤的前述凹 凸圖案上形成金屬薄膜的工程；和在該金屬薄膜上形成金 屬膜，且將前述金屬薄膜及金屬膜自前述光阻原盤剝離而 形成模子的工程；且在前述光阻劑層形成前述金屬薄膜之 工程的前處理，具有使前述凹凸圖案表面獲得金屬觸媒， 同時令該金屬觸媒活性化的工程，以及將獲得前述金屬觸 媒的前述凹凸圖案表面經由液體加以洗淨的工程。 2、 如申請專利範圍第1項所述的資訊媒體製造用模 子的製造方法，其中，用於前述洗淨的前述液體是使用純 水。 3、 一種模子，乃屬於事先在表面形成凹凸圖案的資 訊媒體製造用的模子，其特徵爲：經由至少將光吸收層及 光阻劑層按此順序形成在基板上，在該光阻劑層自與前述 光吸收層接觸的面的相反面照射光而形成潛像，且藉由將 該潛像加以顯像形成凹凸圖案而製造光阻原盤的工程；和 在屬於前述光阻原盤的前述凹凸圖案上形成金屬薄膜的工 程；和在該金屬薄膜上形成金屬膜，且將前述金屬薄膜及 金屬膜自前述光阻原盤剝離而形成模子的工程；和在前述 -21 - (2) 1264717 光阻劑層形成前述金屬薄膜的工程的前處理，使前述凹 圖案表面獲得金屬觸媒，同時令該金屬觸媒活性化的工 ，以及將獲得前述金屬觸媒的前述凹凸圖案表面經由液 加以洗淨的工程所製造。 4、 如申請專利範圍第3項所述的模子，其中，用 洗淨前述凹凸圖案表面的的前述液體是使用純水所製造 5、 一種光阻原盤，其特徵爲： 具有：基板；和積層在該基板上的光吸收層；和接 到該光吸收層而積層且形成潛像以及能經由該顯像而形 凹凸圖案的光阻劑層，且令形成在前述光阻劑層的前述 凸圖案表面獲得活性化的金屬觸媒，同時經由液體洗淨 得前述金屬觸媒後的該凹凸圖案表面。 6、 一種資訊媒體，其特徵爲： 以經由至少將光吸收層及光阻劑層依此順序形成在 板上，在該光阻劑層自與前述光吸收層接觸的面的相反 照射光而形成潛像，且藉由將該潛像加以顯像形成凹凸 案而製造光阻原盤的工程；和在屬於前述光阻原盤的前 凹凸圖案上形成金屬薄膜的工程；和在該金屬薄膜上形 金屬膜，且將前述金屬薄膜及金屬膜自前述光阻原盤剝 而形成模子的工程；在前述光阻劑層形成前述金屬薄膜 工程的前處理是使前述凹凸圖案表面獲得金屬觸，同時 該金屬觸媒活性化的工程，以及將獲得前述金屬觸媒的 述凹凸圖案表面經由液體洗淨的工程所製造的模子的前 凹凸圖案作爲負型圖案而形成最終凹凸圖案。 凸 程 體 於 觸 成 凹 獲 基 面 圖 述 成 離 的 令 >八 刖 述 -22- 1264717 (3) 7、 如申請專利範圍第6項所述的資訊媒體，其中， 具有自前述模子直接轉印凹凸圖案而形成的最終凹凸圖案 〇 8、 如申請專利範圍第6項所述的資訊媒體，其中， 前述最終凹凸圖案是轉印母盤的凹凸圖案所形成，該母盤 的凹凸圖案是以前述模子爲主盤來轉印凹凸圖案而形成。 9、 如申請專利範圍第6項所述的資訊媒體，其中，前 述最終凹凸圖案是轉印子盤的凹凸圖案而形成的，該子盤 的凹凸圖案是自以前述模子爲主盤來轉印凹凸圖案而形成 的母盤，更進一步轉印凹凸圖案而形成。