JP2003257090A

JP2003257090A - 情報媒体製造用スタンパの製造方法、スタンパ及びフォトレジスト原盤

Info

Publication number: JP2003257090A
Application number: JP2002379051A
Authority: JP
Inventors: Hisashi Koyake; 久司小宅; Hiroaki Takahata; 広彰高畑; Hitoshi Arai; 均新井; Hajime Utsunomiya; 肇宇都宮
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 2001-12-28
Filing date: 2002-12-27
Publication date: 2003-09-12

Abstract

(57)【要約】【課題】シャープな凹凸パターンが形成されたスタン
パを得ると共に、該スタンパを用いて高精度の情報媒体
を製造可能とする。【解決手段】基板１０２上に光吸収層１０３及びフォ
トレジスト層１０４を積層すると共に、フォトレジスト
層１０４に潜像の形成及びその現像によって凹凸パター
ン１０６を形成してフォトレジスト原盤１００を製造す
る工程と、このフォトレジスト原盤１００における凹凸
パターン上への無電解メッキの前処理として、凹凸パタ
ーン１０６表面にＰｄを付与する工程と、表面にＰｄが
付与された凹凸パターン上に無電解メッキによって金属
薄膜１０８を形成すると共に、この金属薄膜１０８上に
電鋳によってＮｉ膜１１０を形成し、この金属薄膜１０
８及びＮｉ膜１１０を剥離してスタンパ１２０を形成す
る工程と、を有するスタンパ製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、グルーブやプリピ
ットなどの凹凸パターンを有する情報媒体を製造する際
に用いるスタンパ、該スタンパ製造用のフォトレジスト
原盤、前記フォトレジスト原盤を用いるスタンパの製造
方法及び前記スタンパにより製造した情報媒体に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】情報媒体の一種である光ディスクには、
現在、追記又は書き換え等が可能な光記録ディスクと、
予め情報が記録されている再生専用ディスクの２種類が
存在する。

【０００３】光記録ディスクにおけるディスク基板には
トラッキング等に利用されるグルーブ（案内溝）が形成
されており、更にこのディスク基板上に相変化材料や有
機色素材料を含有する記録層が積層される。レーザビー
ムを記録層に照射すると、該記録層が化学変化や物理変
化を起こして記録マークが形成される。一方、再生専用
ディスクのディスク基板上には、予め記録マーク（情報
ピット）が凹凸パターンの一部として形成されている。
これらの記録マークに読取用のレーザビームが照射され
ると光反射量が変動し、この変動を検出することによっ
て情報の読み取り（再生）が可能となっている。

【０００４】グルーブや情報ピット等の凹凸パターンを
有するディスク基板を製造するには、この凹凸のネガパ
ターン（これも凹凸パターンの一種である）が予め形成
されているスタンパを用いる。例えば、キャビティー内
に上記スタンパが固定された金型を用いて射出成型を行
い、充填された樹脂に上記ネガパターンを転写してディ
スク基板を製造する方法が一般的である。

【０００５】凹凸パターンを有するスタンパは、通常、
Ｎｉ等を含む金属プレートによって構成される。このス
タンパを製造する工程として、先ず、上記スタンパの凹
凸パターンのネガパターンを有するフォトレジスト原盤
を予め作成しておき、このフォトレジスト原盤上にメッ
キによって金属膜を形成する。その後、フォトレジスト
原盤から前記金属膜を剥離し、表面洗浄等の所定の処理
を行うことでスタンパを得る。

【０００６】図５に示される従来のフォトレジスト原盤
１を参照しながら、このフォトレジスト原盤１の製造工
程について説明する。まず、ガラス基板２上にフォトレ
ジスト層４を形成する。次に、レーザー等のパターンニ
ング用ビームを用いてフォトレジスト層４を露光し、そ
の潜像パターンを現像する。これによって凹凸パターン
６がフォトレジスト層４に形成されたフォトレジスト原
盤１が得られる。

【０００７】このフォトレジスト原盤１を用いてメッキ
によってスタンパ２０を作成するには、図６に示される
ように、先ず凹凸パターン６の表面にＮｉ材料等を含ん
だ金属薄膜８を無電解メッキなどによって形成し、フォ
トレジスト原盤１に導電性を付与する。

【０００８】その後、この金属薄膜８を下地として通電
させてメッキを行い、Ｎｉ等を含んだ金属膜１０を形成
する。これらの金属薄膜８及び金属膜１０をフォトレジ
スト原盤１から剥離すれば、凹凸パターン６が転写され
ているスタンパ２０を得ることが出来る。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】近年、光記録媒体の大
容量化に伴ってグルーブ等の凹凸パターンが微細化し、
その形状誤差が記録・読み取り精度に大きな影響を及ぼ
すようになってきている。従って、シャープな凹凸パタ
ーンをディスク基板に形成することが要求されるが、そ
のためには、基礎となるフォトレジスト層４の凹凸パタ
ーンを高精度（シャープ）に形成する必要がある。

【００１０】フォトレジスト層４に形成される潜像パタ
ーンの最小幅は、該フォトレジスト層４に到達するレー
ザビームのスポット径によって制限される。スポット径
ｗは、レーザー波長をλ、照射光学系の対物レンズの開
口数をＮＡとしたとき、ｗ＝ｋ・λ／ＮＡで表される。
なお、ｋは対物レンズの開口形状及び入射光束の強度分
布によって決定される定数である。

【００１１】ところで、スポット径の限界を論理的には
超えない幅のパターンであっても、フォトレジスト層４
が薄かったりすると、スタンパに転写される凹凸パター
ンが浅かったり、凹凸パターンの形状が丸みを帯びてし
まったり（これをパターンの「ダレ」という）して、シ
ャープさが不足することが知られている。これは、一般
的に露光・現像作業中にフォトレジスト層４の厚さに変
動が生じてしまう（これを「膜減り」という）ことが原
因であると考えられている。この厚さ変動は、フォトレ
ジスト層４とガラス基板２の間でレーザビームが反射し
て、この反射光によってフォトレジスト層４が必要以上
に露光されてしまうことが原因と考えられていた。

【００１２】本発明は上記課題に鑑みてなされたもので
あり、レーザビームのスポット径よりも小さい幅のパタ
ーンをシャープに形成可能としたフォトレジスト原盤の
製造方法、フォトレジスト原盤及びこれを用いて製造し
たスタンパを提供することを目的としている。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明者は、光記録媒
体、磁気ディスク（ディスクリート媒体）等の情報媒体
の製造方法等について鋭意研究を重ね、スタンパに凹凸
パターンをシャープに形成する方法を発案した。即ち以
下に示す発明によって、上記目的を達成することが可能
となっている。

【００１４】（１）基板上に、少なくとも光吸収層及び
フォトレジスト層を、この順で形成し、該フォトレジス
ト層に、前記光吸収層と接する面の反対の面側から光を
照射して潜像を形成し、この潜像を現像することにより
凹凸パターンを形成してフォトレジスト原盤を製造する
工程と、前記フォトレジスト原盤における前記凹凸パタ
ーン上に金属薄膜を形成する工程と、該金属薄膜上に金
属膜を形成し、前記金属薄膜及び金属膜を前記フォトレ
ジスト原盤から剥離してスタンパを形成する工程と、前
記フォトレジスト層に前記金属薄膜を形成する工程の前
処理として、前記凹凸パターン表面にＰｄを付与する工
程を有することを特徴する情報媒体製造用スタンパの製
造方法。

【００１５】（２）上記（１）において、前記Pｄ付与
工程における、前記凹凸パターンにより凹凸が形成され
ている領域であるパターン面に付与されるＰｄの量Ｘに
対して、凹凸パターンが形成されていない領域であるミ
ラー面に付与されるＰｄの量Ｙが、０．９Ｘ＜Ｙ＜１．
１Ｘとなるようにしたことを特徴とする情報媒体製造用
スタンパの製造方法。

【００１６】（３）予め表面に凹凸パターンが形成され
る情報媒体製造用のスタンパであって、基板上に、少な
くとも光吸収層及びフォトレジスト層を、この順で形成
し、該フォトレジスト層に、前記光吸収層と接する面の
反対の面側から光を照射して潜像を形成し、この潜像を
現像することにより凹凸パターンを形成してフォトレジ
スト原盤を製造する工程と、前記フォトレジスト原盤に
おける前記凹凸パターン上に金属薄膜を形成する工程
と、該金属薄膜上に金属膜を形成し、前記金属薄膜及び
金属膜を前記フォトレジスト原盤から剥離してスタンパ
を形成する工程と、前記フォトレジスト層に前記金属薄
膜を形成する工程の前処理として、前記凹凸パターン表
面にＰｄを付与する工程と、を経て製造されたことを特
徴とするスタンパ。

【００１７】（４）基板と、該基板上に積層される光吸
収層と、該光吸収層に接して積層され且つ潜像の形成及
びその現像によって凹凸パターンが形成可能とされるフ
ォトレジスト層と、を有し、前記フォトレジスト層に形
成される前記凹凸パターン表面にＰｄが付与されている
ことを特徴とするフォトレジスト原盤。

【００１８】（５）基板と、該基板上に積層される光吸
収層と、該光吸収層に接して積層され且つ潜像の形成及
びその現像によって凹凸パターンが形成可能とされるフ
ォトレジスト層と、を有し、前記フォトレジスト層に形
成される前記凹凸パターン表面にＰｄが付与されている
フォトレジスト原盤から製造される情報媒体製造用のス
タンパであって、前記凹凸パターンにより凹凸が形成さ
れている領域であるパターン面に付与されるＰｄの量Ｘ
に対して、凹凸パターンが形成されていない領域である
ミラー面に付与されるＰｄの量Ｙが、０．９Ｘ＜Ｙ＜
１．１Ｘに設定されていることを特徴とするスタンパ。

【００１９】（６）基板上に、少なくとも光吸収層及び
フォトレジスト層を、この順で形成し、該フォトレジス
ト層に、前記光吸収層と接する面の反対の面側から光を
照射して潜像を形成し、この潜像を現像することにより
凹凸パターンを形成してフォトレジスト原盤を製造する
工程と、前記フォトレジスト原盤における前記凹凸パタ
ーン上に金属薄膜を形成する工程と、該金属薄膜上に金
属膜を形成し、前記金属薄膜及び金属膜を前記フォトレ
ジスト原盤から剥離してスタンパを形成する工程と、前
記フォトレジスト層に前記金属薄膜を形成する工程の前
処理として、前記凹凸パターン表面にＰｄを付与する工
程と、を経て製造されたスタンパにおける前記凹凸パタ
ーンをネガパターンとして、最終凹凸パターンが形成さ
れていることを特徴とする情報媒体。

【００２０】（７）上記（６）において、前記スタンパ
から直接凹凸パターンを転写して形成された最終凹凸パ
ターンを有することを特徴とする情報媒体。

【００２１】（８）上記（６）において、前記スタンパ
をマスター盤として凹凸パターンを転写して形成された
マザー盤から、更に凹凸パターンを転写して形成された
最終凹凸パターンを有することを特徴とする情報媒体。

【００２２】（９）上記（６）において、前記最終凹凸
パターンはチャイルド盤の凹凸パターンを転写して形成
されたものであり、このチャイルド盤の凹凸パターン
は、前記スタンパをマスター盤として凹凸パターンを転
写して形成されたマザー盤から、更に凹凸パターンを転
写して形成されたものであることを特徴とする情報媒
体。

【００２３】（１０）基板と、該基板上に積層される光
吸収層と、該光吸収層に接して積層され且つ潜像の形成
及びその現像によって凹凸パターンが形成可能とされる
フォトレジスト層と、を有し、前記フォトレジスト層に
形成される前記凹凸パターン表面にＰｄが付与されてい
るフォトレジスト原盤から製造され、前記凹凸パターン
により凹凸が形成されている領域であるパターン面に付
与されるＰｄの量Ｘに対して、凹凸パターンが形成され
ていない領域であるミラー面に付与されるＰｄの量Ｙ
が、０．９Ｘ＜Ｙ＜１．１Ｘに設定されているスタンパ
における前記凹凸パターンをネガパターンとして、最終
凹凸パターンが形成されていることを特徴とする情報媒
体。

【００２４】（１１）上記（１０）において、前記スタ
ンパから直接凹凸パターンを転写して形成された最終凹
凸パターンを有することを特徴とする情報媒体。

【００２５】（１２）上記（１０）において、前記スタ
ンパをマスター盤として凹凸パターンを転写して形成さ
れたマザー盤から、更に、凹凸パターンを転写して形成
された最終凹凸パターンを有することを特徴とする情報
媒体。

【００２６】（１３）上記（１０）において、前記最終
凹凸パターンはチャイルド盤の凹凸パターンを転写して
形成されたものであり、このチャイルド盤の凹凸パター
ンは、前記スタンパをマスター盤として凹凸パターンを
転写して形成されたマザー盤から、更に凹凸パターンを
転写して形成されたものであることを特徴とする情報媒
体。

【００２７】本発明者は、光吸収層を用い、更にフォト
レジスト原盤にＰｄを付与することで、シャープな凹凸
パターンをスタンパに形成することが可能になることを
確認した。これは、光吸収層におけるＰｄの相性と、フ
ォトレジスト層におけるＰｄの相性が極めて近く、この
ようなＰｄ自体が、フォトレジスト原盤の表面に均一に
付与されるからであると思われる。この結果、光吸収層
の特性によってシャープに露光された凹凸パターンを、
無電解メッキによって形成される金属薄膜に正確に再現
することが可能となっている。

【００２８】以上の結果、情報媒体、例えば光記録媒体
のグルーブや情報ピット等もシャープに形成されるの
で、記録・再生特性を向上させることが出来る。又、今
後益々進展する凹凸パターンの微細化にも対応可能とな
ることから、情報媒体の情報記憶（記録）容量を増大さ
せることもできる。

【００２９】

【発明の実施の形態】以下本発明の実施形態の例につい
て図面を参照して詳細に説明する。

【００３０】図１に、本発明の実施形態の例に係るフォ
トレジスト原盤１００を示す。このフォトレジスト原盤
１００は、ガラス基板１０２と、このガラス基板１０２
上に積層される光吸収層１０３と、この光吸収層１０３
上に積層されるフォトレジスト層１０４と、を備える。
前記フォトレジスト層１０４は、光吸収層１０３の反対
側（図１において上側）からパターニング用レーザビー
ムにより露光されることによって凹凸パターンの潜像が
形成され、この潜像の現像によって一部が除去されて凹
凸パターン１０６が形成されている。なお、現像後は、
凹凸パターン１０６の凹部の底面に光吸収層１０３の一
部が露出していることになる。図１の符号１０７は凹凸
パターンが形成されていない領域である非凹凸領域を示
す。

【００３１】なお、後述のように、前記凹凸パターン１
０６はスタンパ１２０のパターン面２０６となる。又、
凹凸パターンが形成されていない領域はスタンパ１２０
のミラー面２０７となる。前記露光の際は、パターニン
グ用ビームが光吸収層１０３によって吸収されて光反射
が抑制され、微細な凹凸をシャープに形成することが可
能となっている。

【００３２】このフォトレジスト原盤１００における凹
凸パターン１０６表面にはＰｄ（１０６Ａ）が付与され
ている。具体的には、キャタリスト（Ｐｄ−Ｓｎ化合
物）を凹凸パターン１０６の表面に吸着させると共に、
アクセラレータを用いてキャタリストからＳｎのみを除
去することで凹凸パターン１０６表面にＰｄを析出させ
る。

【００３３】なお、図１では、Ｐｄ（１０６Ａ）の付与
状態を膜状にして模式的に示しているが現実の付与状態
を表わすものではない。本実施形態の例では凹凸パター
ン１０６の領域と、非凹凸領域１０７でのＰｄの付与量
が、スタンパ１２０のパターン面２０６におけるＰｄの
析出量Ｘに対して、ミラー面２０７におけるＰｄの析出
量Ｙが、０．９Ｘ＜Ｙ＜１．１Ｘの範囲内となるように
設定することが好ましい。

【００３４】図２（Ａ）には、上記フォトレジスト原盤
１００上にスタンパ１２０を形成した状態を示す。

【００３５】この形成工程では、先ず、Ｐｄが析出され
ている凹凸パターン１０６表面に、無電界メッキによっ
てＮｉ薄膜１０８を形成する。

【００３６】この際、メッキ溶液中の還元剤が、触媒活
性特性を有するＰｄ表面で酸化されるときに電子を放出
するので、その電子によって溶液中のＮｉイオンが還元
され、Ｎｉ薄膜１０８が凹凸パターン１０６に効果的に
馴染むようになっている。特に、本実施形態の例では凹
凸パターン１０６の凹部の底面にも十分なＰｄが付与さ
れているので、その凹凸パターン１０６に忠実に沿って
Ｎｉ薄膜１０８が形成される。

【００３７】その後、Ｎｉ薄膜１０８を下地として表面
を通電させ、電気メッキによってＮｉ膜１１０を形成す
る。Ｎｉ薄膜１０８とＮｉ膜１１０をフォトレジスト原
盤１００から剥離させると、図２（Ｂ）のように凹凸パ
ターン１０６が正確に転写されたスタンパ１２０を得る
ことが出来る。このとき、前記Ｐｄ（１０６Ａ）は、Ｎ
ｉ薄膜１０８側に付着している。

【００３８】前記スタンパ１２０において、前記凹凸パ
ターン１０６の領域に対応してパターン面２０６が、
又、非凹凸領域１０７に対応してミラー面２０７が、そ
れぞれ形成されている。

【００３９】なお、特に図示しないが、例えば、上記ス
タンパ１２０を金型に設置して射出成型等によって前記
凹凸パターンをネガパターンとして転写された最終凹凸
パターンを有する光ディスク基板を製造する。又このス
タンパ１２０を用いて光ディクス基板を製造する以外に
も、該スタンパ１２０をマスタ盤とした電鋳工程によっ
てマザー盤を作成し、このマザー盤で光ディスクを製造
しても良い。

【００４０】更に、このマザー盤を原盤としてチャイル
ド盤を作成し、これで光ディスクを製造しても良い。即
ち、本発明におけるスタンパ１２０とは、実際に光ディ
スクの製造に直接利用される場合に限られず、これをマ
スタ盤としてマザー盤などを作成することによって光デ
ィスクの製造に間接的に用いるものであっても構わな
い。

【００４１】本実施形態の例のフォトレジスト層１０４
では、光吸収層１０３を積層することによって鮮明な潜
像を描くことが可能となり、シャープな凹凸パターン１
０６を得ることが出来る。それに加えて、無電界メッキ
の前処理として予め当該凹凸パターン１０６にＰｄを付
与しているので、凹凸パターン１０６の形状に沿った正
確なＮｉ薄膜１０８を形成することが可能となってい
る。

【００４２】なお、Ｎｉ薄膜１０８が正確に形成できる
のは、凹凸パターン１０６の凹部に露出された光吸収層
１０３とＰｄの相性が好いことが大きな要因であると推
測される。これらの光吸収層１０３とＰｄ付与による相
乗効果によって、シャープな凹凸パターン１０６をシャ
ープな状態のままスタンパ１２０に転写することがで
き、結果として、スタンパ１２０に形成される凹凸パタ
ーンの「ダレ」が抑制される。このスタンパ１２０を利
用すれば、記録・読み取り（再生）精度の高い光記録媒
体を得ることが出来る。

【００４３】また、光吸収層が露出する前、すなわち、
露光をフォトレジスト層の厚さ方向途中で止める場合に
も、Ｐｄ付与と光吸収層による相乗効果は得られるの
で、上記と同様にシャープな凹凸パターンをシャープな
状態のままスタンパに転写することができる。

【００４４】更に、本実施形態ではＮｉを用いたメッキ
処理についてのみ説明したが、本発明はそれに限定され
るものではなく、他の金属メッキを利用してもよく、あ
るいはメッキ以外の処理によって金属薄膜を形成する場
合にも適用される。更に又、Ｎｉ膜１１０は、電気メッ
キ以外の手段によって形成される金属膜であってもよ
い。

【００４５】又、上記スタンパは、光ディスクのみなら
ず、例えば磁気ディスク（ディスクリート媒体等）を含
む情報媒体の製造に一般的に適用されるものである。

【００４６】

【実施例】（実施例：スタンパＮｏ．１）研磨されたガ
ラス基板上にカップリング剤層を形成した後、光吸収層
をスピンコート法により形成した。塗布液には４．４’
−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンを光吸収剤と
して含有するＳＷＫ−Ｔ５Ｄ６０(東京応化工業(株))を
用いた。この塗膜を２００度で１５分間ベーキングして
硬化すると共に残留溶剤を除去し、厚さ１４０ｎｍの光
吸収層とした。次いで、この光吸収層上に、フォトレジ
スト(日本ゼオン(株)製ＤＶＲ１００)をスピンコート
し、ベーキングにより残留溶剤を蒸発させて、厚さ２５
ｎｍのフォトレジスト層とした。

【００４７】その後、ソニー(株)製カッティングマシン
を用い、トラックピッチ３２０ｎｍ、グルーブ幅１５０
ｎｍのグルーブパターンの形成を目的として、Ｋｒレー
ザ(波長＝３５１ｎｍ)によってフォトレジスト層に対し
露光を行い、更に現像を行うことで凹凸パターンを形成
して、フォトレジスト原盤を得た。

【００４８】このフォトレジスト原盤のフォトレジスト
層表面を界面活性剤で活性化した後に、無電界メッキの
前処理として、キャタリスト(Ｐｄ、Ｓｎコロイド)を付
与した。次いでアクセラレータ(ＨＢＦ₄溶液)によりＳ
ｎを除去するとともに表面にＰｄを析出させ、無電界メ
ッキの下準備が完了したフォトレジスト原盤を得た。

【００４９】次いで、このフォトレジスト原盤をＮｉＣ
１₂浴に浸漬し、無電界メッキによりＮｉ薄膜を形成し
た。このＮｉ薄膜を下地として電気メッキを行い、Ｎｉ
膜を形成した。これらのＮｉ薄膜およびＮｉ膜からなる
積層体を原盤から剥離し、裏面研磨、表面洗浄を行っ
て、スタンパＮｏ．１を得た。

【００５０】（比較例：スタンパＮｏ．２）光吸収層を
持たないという条件を除き、スタンパＮｏ．１作製の際
と同様にしてスタンパＮｏ．２を作製した。

【００５１】（評価結果１）各スタンパに形成された凹
凸パターンについて、ＡＦＭ(原子間力顕微鏡)を用いて
形状を確認した。ＡＦＭの探針は窒化シリコン（Ｓi
Ｎ）針を用いた。測定はノンコンタクトモードにて行
い、サンプルとプローブ間の原子間力の変化を画像化し
た。

【００５２】図３（Ａ）にスタンパＮｏ．１のＡＦＭ像
を、図３（Ｂ）に同断面形状を線図によりそれぞれ示
す。又、図４（Ａ）にスタンパＮｏ２のＡＦＭ像を、図
４（Ｂ）に同断面状を線図によりそれぞれ示す。ＡＦＭ
像において、描点の密度が高い領域が凹凸パターンにお
ける凹部であり、描点の密度が低い、あるいは白抜きの
領域が凸部であり、フォトレジスト原盤における凹凸パ
ターンの凸部及び凹部にそれぞれ対応している。又、図
３（Ｂ）、図４（Ｂ）では、凹凸が０．３２μｍピッチ
で形成されている。

【００５３】図３、図４を比較すれば明らかなように、
本発明を適用して製造されたスタンパＮｏ．１では、光
吸収層の効果によりシャープなパターンが形成され、そ
のパターンを忠実に転写したことがわかる。

【００５４】（評価結果２）スタンパＮｏ．１およびス
タンパＮｏ．２のパターン面、ミラー面の表面をＥＳＣ
Ａ(ＥｌｅｃｔｒｏｎＳｐｅｃｔｏｒｏｓｃｏｐｙ
ｆｏｒＣｈｅｍｉｋａｌＡｎａｌｙｓｉｓ )を用
いてＰｄ量分析を行った。結果を表１に示す。なお、パ
ターン面におけるＰｄ量は、ＥＳＣＡのスポット径がミ
リメートル単位の大きさであるため、複数の凹凸に渡る
測定値となる。

【００５５】

【表１】

【００５６】この表１より、光吸収層を用いたスタンパ
Ｎｏ．１には、パターン面、ミラー面の双方にＰｄが同
量存在することが分かる。一方で、スタンパＮｏ．２に
おいてはパターン面のＰｄ量がミラー面と比較して非常
に少ない。これはスタンパＮｏ．２では、フォトレジス
ト原盤側の凹凸パターンでの凹部底面であるガラス面が
露出しているためであると考えられる。

【００５７】

【発明の効果】本発明では、フォトレジスト層に接した
光吸収層によって、シャープな凹凸パターンをフォトレ
ジスト原盤に形成でき、更に、凹凸パターン表面に付与
されるＰｄによりこの凹凸パターンに忠実なスタンパを
得ることが可能となった。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態の例に係るフォトレジスト
原盤を示す断面図

【図２（Ａ）】同フォトレジスト原盤用いてスタンパを
製造途中の状態を示す断面図

【図２（Ｂ）】同製造されたスタンパを示す断面図

【図３（Ａ）】本発明の実施例に係るスタンパに形成さ
れた凹凸パターンをＡＦＭによって解析した状態を示す
図

【図３（Ｂ）】同ＡＦＭ解析に基づく凹凸パターンの断
面形状を示す線図

【図４（Ａ）】本発明の比較例に係るスタンパに形成さ
れた凹凸パターンをＡＦＭによって解析した状態を示す
図

【図４（Ｂ）】同ＡＦＭ解析に基づく凹凸パターンの断
面形状を示す線図

【図５】従来のフォトレジスト原盤を示す断面図

【図６】従来のフォトレジスト原盤を用いてスタンパを
製造する状態を示す断面図

【符号の説明】

１００…フォトレジスト原盤１０２…ガラス基板１０３…光吸収層１０４…フォトレジスト層１０６…凹凸パターン１０７…非凹凸領域１０８…金属薄膜１１０…Ｎｉ膜１２０…スタンパ２０６…パターン面２０７…ミラー面

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者新井均東京都中央区日本橋一丁目13番１号ティーディーケイ株式会社内 (72)発明者宇都宮肇東京都中央区日本橋一丁目13番１号ティーディーケイ株式会社内Ｆターム(参考） 5D121 BB01 BB04 BB21 CA01 CA03 CA05 CB01 CB03 CB07

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に、少なくとも光吸収層及びフォト
レジスト層を、この順で形成し、該フォトレジスト層
に、前記光吸収層と接する面の反対の面側から光を照射
して潜像を形成し、この潜像を現像することにより凹凸
パターンを形成してフォトレジスト原盤を製造する工程
と、前記フォトレジスト原盤における前記凹凸パターン
上に金属薄膜を形成する工程と、該金属薄膜上に金属膜
を形成し、前記金属薄膜及び金属膜を前記フォトレジス
ト原盤から剥離してスタンパを形成する工程と、前記フ
ォトレジスト層に前記金属薄膜を形成する工程の前処理
として、前記凹凸パターン表面にＰｄを付与する工程を
有することを特徴する情報媒体製造用スタンパの製造方
法。
【請求項２】請求項１において、前記Pｄ符与工程にお
ける、前記凹凸パターンにより凹凸が形成されている領
域であるパターン面に付与されるＰｄの量Ｘに対して、
凹凸パターンが形成されていない領域であるミラー面に
付与されるＰｄの量Ｙが、０．９Ｘ＜Ｙ＜１．１Ｘとな
るようにしたことを特徴とする情報媒体製造用スタンパ
の製造方法。
【請求項３】予め表面に凹凸パターンが形成される情報
媒体製造用のスタンパであって、基板上に、少なくとも
光吸収層及びフォトレジスト層を、この順で形成し、該
フォトレジスト層に、前記光吸収層と接する面の反対の
面側から光を照射して潜像を形成し、この潜像を現像す
ることにより凹凸パターンを形成してフォトレジスト原
盤を製造する工程と、前記フォトレジスト原盤における
前記凹凸パターン上に金属薄膜を形成する工程と、該金
属薄膜上に金属膜を形成し、前記金属薄膜及び金属膜を
前記フォトレジスト原盤から剥離してスタンパを形成す
る工程と、前記フォトレジスト層に前記金属薄膜を形成
する工程の前処理として、前記凹凸パターン表面にＰｄ
を付与する工程と、を経て製造されたことを特徴とする
スタンパ。
【請求項４】基板と、該基板上に積層される光吸収層
と、該光吸収層に接して積層され且つ潜像の形成及びそ
の現像によって凹凸パターンが形成可能とされるフォト
レジスト層と、を有し、前記フォトレジスト層に形成さ
れる前記凹凸パターン表面にＰｄが付与されていること
を特徴とするフォトレジスト原盤。
【請求項５】基板と、該基板上に積層される光吸収層
と、該光吸収層に接して積層され且つ潜像の形成及びそ
の現像によって凹凸パターンが形成可能とされるフォト
レジスト層と、を有し、前記フォトレジスト層に形成さ
れる前記凹凸パターン表面にＰｄが付与されているフォ
トレジスト原盤から製造される情報媒体製造用のスタン
パであって、前記凹凸パターンにより凹凸が形成されて
いる領域であるパターン面に付与されるＰｄの量Ｘに対
して、凹凸パターンが形成されていない領域であるミラ
ー面に付与されるＰｄの量Ｙが、０．９Ｘ＜Ｙ＜１．１
Ｘに設定されていることを特徴とするスタンパ。
【請求項６】基板上に、少なくとも光吸収層及びフォト
レジスト層を、この順で形成し、該フォトレジスト層
に、前記光吸収層と接する面の反対の面側から光を照射
して潜像を形成し、この潜像を現像することにより凹凸
パターンを形成してフォトレジスト原盤を製造する工程
と、前記フォトレジスト原盤における前記凹凸パターン
上に金属薄膜を形成する工程と、該金属薄膜上に金属膜
を形成し、前記金属薄膜及び金属膜を前記フォトレジス
ト原盤から剥離してスタンパを形成する工程と、前記フ
ォトレジスト層に前記金属薄膜を形成する工程の前処理
として、前記凹凸パターン表面にＰｄを付与する工程
と、を経て製造されたスタンパにおける前記凹凸パター
ンをネガパターンとして、最終凹凸パターンが形成され
ていることを特徴とする情報媒体。
【請求項７】請求項６において、前記スタンパから直接
凹凸パターンを転写して形成された最終凹凸パターンを
有することを特徴とする情報媒体。
【請求項８】請求項６において、前記スタンパをマスタ
ー盤として凹凸パターンを転写して形成されたマザー盤
から、更に、凹凸パターンを転写して形成された最終凹
凸パターンを有することを特徴とする情報媒体。
【請求項９】請求項６において、前記最終凹凸パターン
はチャイルド盤の凹凸パターンを転写して形成されたも
のであり、このチャイルド盤の凹凸パターンは、前記ス
タンパをマスター盤として凹凸パターンを転写して形成
されたマザー盤から、更に凹凸パターンを転写して形成
されたものであることを特徴とする情報媒体。
【請求項１０】基板と、該基板上に積層される光吸収層
と、該光吸収層に接して積層され且つ潜像の形成及びそ
の現像によって凹凸パターンが形成可能とされるフォト
レジスト層と、を有し、前記フォトレジスト層に形成さ
れる前記凹凸パターン表面にＰｄが付与されているフォ
トレジスト原盤から製造され、前記凹凸パターンにより
凹凸が形成されている領域であるパターン面に付与され
るＰｄの量Ｘに対して、凹凸パターンが形成されていな
い領域であるミラー面に付与されるＰｄの量Ｙが、０．
９Ｘ＜Ｙ＜１．１Ｘに設定されているスタンパにおける
前記凹凸パターンをネガパターンとして、最終凹凸パタ
ーンが形成されていることを特徴とする情報媒体。
【請求項１１】請求項１０において、前記スタンパから
直接凹凸パターンを転写して形成された最終凹凸パター
ンを有することを特徴とする情報媒体。
【請求項１２】請求項１０において、前記スタンパをマ
スター盤として凹凸パターンを転写して形成されたマザ
ー盤から、更に、凹凸パターンを転写して形成された最
終凹凸パターンを有することを特徴とする情報媒体。
【請求項１３】請求項１０において、前記最終凹凸パタ
ーンはチャイルド盤の凹凸パターンを転写して形成され
たものであり、このチャイルド盤の凹凸パターンは、前
記スタンパをマスター盤として凹凸パターンを転写して
形成されたマザー盤から、更に凹凸パターンを転写して
形成されたものであることを特徴とする情報媒体。