JPH04263140A - 無反射コート付きガラス原盤 - Google Patents
無反射コート付きガラス原盤Info
- Publication number
- JPH04263140A JPH04263140A JP3797491A JP3797491A JPH04263140A JP H04263140 A JPH04263140 A JP H04263140A JP 3797491 A JP3797491 A JP 3797491A JP 3797491 A JP3797491 A JP 3797491A JP H04263140 A JPH04263140 A JP H04263140A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- light
- glass plate
- photoresist
- glass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 51
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 24
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 41
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims abstract description 26
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims abstract description 24
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 10
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 3
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 abstract description 3
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 abstract description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 abstract 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 abstract 1
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 description 4
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 3
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 3
- FRWYFWZENXDZMU-UHFFFAOYSA-N 2-iodoquinoline Chemical compound C1=CC=CC2=NC(I)=CC=C21 FRWYFWZENXDZMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LTPBRCUWZOMYOC-UHFFFAOYSA-N beryllium oxide Inorganic materials O=[Be] LTPBRCUWZOMYOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 2
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007665 sagging Methods 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はコンパクトディスク、光
ディスクの成形用金型としてのスタンパの製作に使用す
るガラス原盤の改良に関する。
ディスクの成形用金型としてのスタンパの製作に使用す
るガラス原盤の改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】コンパクトディスク（ＣＤ）、レーザデ
ィスク（ＬＤ）等のデジタル情報記録媒体、ＬＰレコー
ド等のアナログ情報記録媒体としての円盤状記録媒体を
成形する際に使用する従来のスタンパの電鋳加工方法に
おいては、まずガラス原盤上に均一塗布したフォトレジ
ストにレーザ等を照射して感光させてから現像すること
により記録情報に応じた凹凸を有したプリフォーマット
パターンを得、このプリフォーマットパターン上に導体
化膜を形成する。続いて、この導体化膜を陰極としてＮ
ｉ電鋳を施してからガラス板を剥離してマスターを形成
し、このマスターに剥離皮膜処理を施した後でＮｉ電鋳
を施すことによって得たＮｉ層を剥離することによりマ
ザーを作成する。更に、このマザーに剥離皮膜処理を施
した後でＮｉ電鋳を施すことによって０，２〜０，４ｍ
／ｍ程度の肉厚を有したスタンパ（サン）を得、このス
タンパを用いてプラスチックから成る上記記録媒体を成
形する。
ィスク（ＬＤ）等のデジタル情報記録媒体、ＬＰレコー
ド等のアナログ情報記録媒体としての円盤状記録媒体を
成形する際に使用する従来のスタンパの電鋳加工方法に
おいては、まずガラス原盤上に均一塗布したフォトレジ
ストにレーザ等を照射して感光させてから現像すること
により記録情報に応じた凹凸を有したプリフォーマット
パターンを得、このプリフォーマットパターン上に導体
化膜を形成する。続いて、この導体化膜を陰極としてＮ
ｉ電鋳を施してからガラス板を剥離してマスターを形成
し、このマスターに剥離皮膜処理を施した後でＮｉ電鋳
を施すことによって得たＮｉ層を剥離することによりマ
ザーを作成する。更に、このマザーに剥離皮膜処理を施
した後でＮｉ電鋳を施すことによって０，２〜０，４ｍ
／ｍ程度の肉厚を有したスタンパ（サン）を得、このス
タンパを用いてプラスチックから成る上記記録媒体を成
形する。
【０００３】図５（ａ）は、従来のガラス原盤の構成を
示す断面図であり、このガラス原盤は、研磨したガラス
板１にプライマー剤２を塗布してその上にポジ型フォト
レジスト３を塗布した構成を有する。これらの塗布方法
としては、スピンコート、ディップ、ベイパー等の手法
を用いる。プライマー剤２と、フォトレジスト３を塗布
した後はベーキングによって乾燥処理を施してから、光
源光を集光する対物レンズ４からＡｒ＋ レーザ５を照
射して露光を行っている。
示す断面図であり、このガラス原盤は、研磨したガラス
板１にプライマー剤２を塗布してその上にポジ型フォト
レジスト３を塗布した構成を有する。これらの塗布方法
としては、スピンコート、ディップ、ベイパー等の手法
を用いる。プライマー剤２と、フォトレジスト３を塗布
した後はベーキングによって乾燥処理を施してから、光
源光を集光する対物レンズ４からＡｒ＋ レーザ５を照
射して露光を行っている。
【０００４】しかしながら上記構造のガラス原盤上にレ
ーザ光を照射した場合レーザ光の一部がフォトレジスト
３及びプライマー剤２を透過してガラス板１に達し、ガ
ラス板１からの戻り光がレジスト３に戻って来る。この
ため、照射光によって感光された露光溝部分を戻り光が
溝の肩部を変形させてダレを起こした不良原盤となる。 同図（ｂ）の左側は戻り光がない場合の正常な溝形状、
右側は戻り光がある場合の肩部のダレを起こした溝形状
を夫々示す。不良原盤を用いて製作したマスター、マザ
ー、スタンパ及びプラスチックディスクは夫々信号溝形
状に異常を有した不良品となる。
ーザ光を照射した場合レーザ光の一部がフォトレジスト
３及びプライマー剤２を透過してガラス板１に達し、ガ
ラス板１からの戻り光がレジスト３に戻って来る。この
ため、照射光によって感光された露光溝部分を戻り光が
溝の肩部を変形させてダレを起こした不良原盤となる。 同図（ｂ）の左側は戻り光がない場合の正常な溝形状、
右側は戻り光がある場合の肩部のダレを起こした溝形状
を夫々示す。不良原盤を用いて製作したマスター、マザ
ー、スタンパ及びプラスチックディスクは夫々信号溝形
状に異常を有した不良品となる。
【０００５】
【発明の目的】本発明は上記に鑑みてなされたものであ
り、ガラス板上のフォトレジストを露光する際にレーザ
光がフォトレジストを透過しガラス板で反射することを
防止してフォトレジストの露光溝に変形、劣化が生じる
ことを防止したガラス原盤を提供することを目的として
いる。
り、ガラス板上のフォトレジストを露光する際にレーザ
光がフォトレジストを透過しガラス板で反射することを
防止してフォトレジストの露光溝に変形、劣化が生じる
ことを防止したガラス原盤を提供することを目的として
いる。
【０００６】
【発明の構成】上記の目的を達成する為本発明は、光デ
ィスク用スタンパの製造に用いるガラス原盤であって、
該ガラス原盤はガラス板面に露光光源の波長を吸収する
材質から成る無反射コート層を備えていること、前記無
反射コート層は前記ガラス板の上面、即ち光源光を照射
する露光面上に形成し、該無反射コート層上にプライマ
ー剤層と、フォトレジスト層を順次積層したこと、前記
無反射コート層は前記ガラス板の底面、即ち光源光を照
射する露光面とは反対側の面に形成すること、更には前
記無反射コート層を前記ガラス板の上面と底面に夫々直
接形成したことを特徴としている。
ィスク用スタンパの製造に用いるガラス原盤であって、
該ガラス原盤はガラス板面に露光光源の波長を吸収する
材質から成る無反射コート層を備えていること、前記無
反射コート層は前記ガラス板の上面、即ち光源光を照射
する露光面上に形成し、該無反射コート層上にプライマ
ー剤層と、フォトレジスト層を順次積層したこと、前記
無反射コート層は前記ガラス板の底面、即ち光源光を照
射する露光面とは反対側の面に形成すること、更には前
記無反射コート層を前記ガラス板の上面と底面に夫々直
接形成したことを特徴としている。
【０００７】以下、添付図面に示した好的な実施例に基
づいて本発明を詳細に説明する。
づいて本発明を詳細に説明する。
【０００８】図１（ａ）は本発明の無反射コートを施し
たガラス原盤の第１実施例の構成を示す縦断面図であり
、このガラス原盤は、研磨したガラス板１にプライマー
剤２（材料としては例えば、ＨＭＤＳ等を用いる）を塗
布してその上にポジ型フォトレジスト３（例えば、シッ
プレー社 ＡＺ−１３５０、東京応化ＯＦＰＲ−８０
０，その他）を塗布し、更にガラス板２の下面に無反射
コート６を塗布した構成を有する。これら各層２、３、
６の塗布方法としては、スピンコート、ディップ、ベイ
パー等の手法を用いる。プライマー剤層２と、フォトレ
ジスト層３、無反射コート層６を塗布した後はベーキン
グによって乾燥処理を施してから、光源光を集光する対
物レンズ４からＡｒ＋ レーザ等５を照射してフォトレ
ジスト層３を露光する。
たガラス原盤の第１実施例の構成を示す縦断面図であり
、このガラス原盤は、研磨したガラス板１にプライマー
剤２（材料としては例えば、ＨＭＤＳ等を用いる）を塗
布してその上にポジ型フォトレジスト３（例えば、シッ
プレー社 ＡＺ−１３５０、東京応化ＯＦＰＲ−８０
０，その他）を塗布し、更にガラス板２の下面に無反射
コート６を塗布した構成を有する。これら各層２、３、
６の塗布方法としては、スピンコート、ディップ、ベイ
パー等の手法を用いる。プライマー剤層２と、フォトレ
ジスト層３、無反射コート層６を塗布した後はベーキン
グによって乾燥処理を施してから、光源光を集光する対
物レンズ４からＡｒ＋ レーザ等５を照射してフォトレ
ジスト層３を露光する。
【０００９】無反射コート６としては、露光光５の波長
を吸収する材料を用いる。無反射コート材料には、Ｍｇ
Ｆ２ （単層反射防止膜）と、誘電体多層膜（多層反射
防止膜）の２種類があり、誘電体多層膜には広帯域多層
反射防止膜（マルチコート）と、狭帯域多層反射防止膜
（Ｖコート）がある。
を吸収する材料を用いる。無反射コート材料には、Ｍｇ
Ｆ２ （単層反射防止膜）と、誘電体多層膜（多層反射
防止膜）の２種類があり、誘電体多層膜には広帯域多層
反射防止膜（マルチコート）と、狭帯域多層反射防止膜
（Ｖコート）がある。
【００１０】上記各反射防止膜のうち先ずＭｇＦ２ 単
層反射防止膜は安価で広帯域での使用が可能であるが反
射防止効果が比較的低い。広帯域多層反射防止膜は、可
視域での有効性が良好であり、強いレーザ光にも十分耐
える。狭帯域多層反射防止膜は、紫外線、赤外レーザに
有効である。
層反射防止膜は安価で広帯域での使用が可能であるが反
射防止効果が比較的低い。広帯域多層反射防止膜は、可
視域での有効性が良好であり、強いレーザ光にも十分耐
える。狭帯域多層反射防止膜は、紫外線、赤外レーザに
有効である。
【００１１】本発明の用途には、広帯域多層反射防止膜
が最も適している。具体的なコーティング材料としては
二層コートの場合には屈折率ｎ＝１．３８のＭｇＦ２
から成る層と、ｎ＝１．７０の酸化ベリリウム又は酸化
マグネシウムからなる層を用いる。
が最も適している。具体的なコーティング材料としては
二層コートの場合には屈折率ｎ＝１．３８のＭｇＦ２
から成る層と、ｎ＝１．７０の酸化ベリリウム又は酸化
マグネシウムからなる層を用いる。
【００１２】次に、無反射コート層６として広帯域多層
反射防止膜を用いる場合には（１／４，１／４）コーテ
ィング方法が一般的に用いられている。（１／４，１／
４）コーティングは、低屈折率層と、高屈折率層との２
層構造であり、第１の層からの反射光が第２の層からの
弱めの反射光との間の干渉で総合的にキャンセルし合っ
て反射光をなくすという原理を有する。
反射防止膜を用いる場合には（１／４，１／４）コーテ
ィング方法が一般的に用いられている。（１／４，１／
４）コーティングは、低屈折率層と、高屈折率層との２
層構造であり、第１の層からの反射光が第２の層からの
弱めの反射光との間の干渉で総合的にキャンセルし合っ
て反射光をなくすという原理を有する。
【００１３】このコーティング層は図２に示すように照
射されるレーザ光の１／４波長（λ／４）の光学厚さを
有する２つのコーティング層で構成されており、外側（
上側）の層にはガラス板よりも屈折率の低い材料が、内
側（下側）の層には高い屈折率の材料が夫々用いられて
いる。高屈折率層での反射光Ｂ及びガラス板での反射光
Ｃの各位相は共に低屈折率層での反射光Ａの位相と１８
０度ずれている。
射されるレーザ光の１／４波長（λ／４）の光学厚さを
有する２つのコーティング層で構成されており、外側（
上側）の層にはガラス板よりも屈折率の低い材料が、内
側（下側）の層には高い屈折率の材料が夫々用いられて
いる。高屈折率層での反射光Ｂ及びガラス板での反射光
Ｃの各位相は共に低屈折率層での反射光Ａの位相と１８
０度ずれている。
【００１４】無反射コート層６の成膜方法としては、真
空蒸着法、熱蒸着法、ソフトフィルム法、電子衝撃法が
あり真空蒸着法が一般的であるが、本実施例の無反射コ
ート層はいずれの方法によって得たものであってもよい
。
空蒸着法、熱蒸着法、ソフトフィルム法、電子衝撃法が
あり真空蒸着法が一般的であるが、本実施例の無反射コ
ート層はいずれの方法によって得たものであってもよい
。
【００１５】以上のように本発明の第１の実施例におい
ては、図１（ａ）において対物レンズ４によってフォト
レジスト３に向けて照射したレーザ光５の一部がフォト
レジスト３、プライマー剤２を透過してガラス板１内に
入っても無反射コート層６で解消されて反射による戻り
光を生成することがないので、ガラス底面での反射戻り
光によってフォトレジストの露光溝が変形、劣化するこ
とがなくなり、図１（ｂ）に示した如き正常な溝形状を
得ることができる。
ては、図１（ａ）において対物レンズ４によってフォト
レジスト３に向けて照射したレーザ光５の一部がフォト
レジスト３、プライマー剤２を透過してガラス板１内に
入っても無反射コート層６で解消されて反射による戻り
光を生成することがないので、ガラス底面での反射戻り
光によってフォトレジストの露光溝が変形、劣化するこ
とがなくなり、図１（ｂ）に示した如き正常な溝形状を
得ることができる。
【００１６】図３は本発明の第２実施例の縦断面図であ
り、ガラス板１上面に直接無反射コート層６を塗布し、
無反射コート層６上にプライマー剤層２とフォトレジス
ト層３を順次積層した構成を有する。この無反射コート
層６は図２で示した二層コートであり、鎖線下側の層６
ａをＭｇＦ２ 、上側の槽６ｂを酸化ベリリウム又は酸
化マグネシウムとしている。対物レンズ４からのレーザ
光５は、フォトレジスト３、プライマー剤２を透過して
も無反射コート層６で解消され、ガラス板上面で反射す
ることがないので、戻り光によってフォトレジストの露
光溝が変形、劣化することがなくなり、図１（ｂ）に示
した如き正常な溝形状を得ることができる。
り、ガラス板１上面に直接無反射コート層６を塗布し、
無反射コート層６上にプライマー剤層２とフォトレジス
ト層３を順次積層した構成を有する。この無反射コート
層６は図２で示した二層コートであり、鎖線下側の層６
ａをＭｇＦ２ 、上側の槽６ｂを酸化ベリリウム又は酸
化マグネシウムとしている。対物レンズ４からのレーザ
光５は、フォトレジスト３、プライマー剤２を透過して
も無反射コート層６で解消され、ガラス板上面で反射す
ることがないので、戻り光によってフォトレジストの露
光溝が変形、劣化することがなくなり、図１（ｂ）に示
した如き正常な溝形状を得ることができる。
【００１７】図６は本発明の第３実施例の縦断面図であ
り、ガラス板１上下両面に夫々無反射コート層６、６を
塗布し、上方の無反射コート層６上にプライマー剤層２
とフォトレジスト層３を順次積層した構成を有する。上
下の無反射コート層６、６は図３の実施例の無反射層コ
ートと同様の二層コートである。対物レンズ４からのレ
ーザ光５は、フォトレジスト３、プライマー剤２を透過
してもガラス板上面の無反射コート層６で反射すること
がないので戻り光によってフォトレジストの露光溝が変
形、劣化することがなくなり、図１（ｂ）に示した如き
正常な溝形状を得ることができる。また、ガラス板下面
の無反射コート層６はレーザ光が万が一上方の無反射コ
ート層６を透過してガラス板１内に入射してもガラス板
底面での反射を防止することができる。
り、ガラス板１上下両面に夫々無反射コート層６、６を
塗布し、上方の無反射コート層６上にプライマー剤層２
とフォトレジスト層３を順次積層した構成を有する。上
下の無反射コート層６、６は図３の実施例の無反射層コ
ートと同様の二層コートである。対物レンズ４からのレ
ーザ光５は、フォトレジスト３、プライマー剤２を透過
してもガラス板上面の無反射コート層６で反射すること
がないので戻り光によってフォトレジストの露光溝が変
形、劣化することがなくなり、図１（ｂ）に示した如き
正常な溝形状を得ることができる。また、ガラス板下面
の無反射コート層６はレーザ光が万が一上方の無反射コ
ート層６を透過してガラス板１内に入射してもガラス板
底面での反射を防止することができる。
【００１８】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、ガラス板
上面又は底面、あるいは上下両面に露光光の波長を吸収
する材質の無反射コート層を塗布したため、ガラス板上
のフォトレジストを露光する際にレーザ光がフォトレジ
スト等を透過しガラス板で反射することを防止してフォ
トレジストの露光溝に変形、劣化が生じることを防止す
ることができる。
上面又は底面、あるいは上下両面に露光光の波長を吸収
する材質の無反射コート層を塗布したため、ガラス板上
のフォトレジストを露光する際にレーザ光がフォトレジ
スト等を透過しガラス板で反射することを防止してフォ
トレジストの露光溝に変形、劣化が生じることを防止す
ることができる。
【図１】（ａ） は本発明の第１実施例のガラス原盤の
構成を示す縦断面図、（ｂ） は本発明によって得られ
た露光溝の形状を示す断面図である。
構成を示す縦断面図、（ｂ） は本発明によって得られ
た露光溝の形状を示す断面図である。
【図２】無反射コートの一例の特性を示す図。
【図３】本発明の第２の実施例のガラス原盤の構成を示
す縦断面図。
す縦断面図。
【図４】本発明の第３の実施例のガラス原盤の構成を示
す縦断面図。
す縦断面図。
【図５】（ａ） は従来のガラス原盤の構成を示す縦断
面図、（ｂ） は戻り光がある場合と無い場合の露光溝
形状の違いを示す図である。
面図、（ｂ） は戻り光がある場合と無い場合の露光溝
形状の違いを示す図である。
Claims (4)
- 【請求項１】 光ディスク用スタンパの製造に用いる
ガラス原盤であって、該ガラス原盤はガラス板面に露光
光源の波長を吸収する材質から成る無反射コート層を備
えていることを特徴とする無反射コート付きガラス原盤
。 - 【請求項２】 前記無反射コート層は前記ガラス板の
上面、即ち光源光を照射する露光面上に形成し、該無反
射コート層上にプライマー剤層と、フォトレジスト層を
順次積層したことを特徴とする請求項１記載の無反射コ
ート付きガラス原盤。 - 【請求項３】 前記無反射コート層は前記ガラス板の
底面、即ち光源光を照射する露光面とは反対側の面に形
成したことを特徴とする請求項１記載の無反射コート付
きガラス原盤。 - 【請求項４】 前記無反射コート層を前記ガラス板の
上面と底面に夫々直接形成したことを特徴とする請求項
１記載の無反射コート付きガラス原盤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3797491A JPH04263140A (ja) | 1991-02-07 | 1991-02-07 | 無反射コート付きガラス原盤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3797491A JPH04263140A (ja) | 1991-02-07 | 1991-02-07 | 無反射コート付きガラス原盤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04263140A true JPH04263140A (ja) | 1992-09-18 |
Family
ID=12512542
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3797491A Pending JPH04263140A (ja) | 1991-02-07 | 1991-02-07 | 無反射コート付きガラス原盤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04263140A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07147026A (ja) * | 1993-11-22 | 1995-06-06 | Nec Corp | 光ディスクマスタリング用露光原盤 |
| WO1998037556A1 (fr) * | 1997-02-24 | 1998-08-27 | Seiko Epson Corporation | Plaque originale permettant de fabriquer des matrices de pressage pour disques optiques, procede de fabrication desdites matrices et disques optiques ainsi obtenus |
| WO2003046904A1 (fr) * | 2001-11-30 | 2003-06-05 | Tdk Corporation | Procede et dispositif de matriçage et de pressage de supports d'information |
| WO2003058614A1 (fr) * | 2002-01-08 | 2003-07-17 | Tdk Corporation | Procede de fabrication de matrice pour faconnage de support d'information, matrice et disque maitre de photoresine |
| WO2003058615A1 (fr) * | 2002-01-08 | 2003-07-17 | Tdk Corporation | Procede de fabrication d'une matrice de pressage pour la fabrication d'un support d'informations, matrice de pressage et disque matrice en resine photosensible |
| WO2003058613A1 (fr) * | 2001-12-28 | 2003-07-17 | Tdk Corporation | Procede de fabrication d'une matrice de pressage pour support d'informations, matrice de pressage et disque original photosensible |
| WO2003058616A1 (fr) * | 2002-01-08 | 2003-07-17 | Tdk Corporation | Procede de production d'une matrice de pressage destinee la production d'un support de donnees, matrice de donnees et matrice de pressage intermediaire dotee d'un disque maitre |
| WO2003105145A1 (ja) * | 2002-06-05 | 2003-12-18 | Tdk株式会社 | フォトレジスト原盤の製造方法、光記録媒体製造用スタンパの製造方法、スタンパ、フォトレジスト原盤、スタンパ中間体及び光記録媒体 |
| WO2004001736A1 (ja) * | 2002-06-25 | 2003-12-31 | Tdk Corporation | 光記録媒体製造用スタンパの製造方法及び装置 |
| EP1492093A1 (en) * | 2002-03-11 | 2004-12-29 | TDK Corporation | Processing method for photoresist master, production method for recording medium-use mater, production method for recording medium, photoresist master, recording medium-use master and recording medium |
-
1991
- 1991-02-07 JP JP3797491A patent/JPH04263140A/ja active Pending
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07147026A (ja) * | 1993-11-22 | 1995-06-06 | Nec Corp | 光ディスクマスタリング用露光原盤 |
| WO1998037556A1 (fr) * | 1997-02-24 | 1998-08-27 | Seiko Epson Corporation | Plaque originale permettant de fabriquer des matrices de pressage pour disques optiques, procede de fabrication desdites matrices et disques optiques ainsi obtenus |
| WO2003046904A1 (fr) * | 2001-11-30 | 2003-06-05 | Tdk Corporation | Procede et dispositif de matriçage et de pressage de supports d'information |
| WO2003058613A1 (fr) * | 2001-12-28 | 2003-07-17 | Tdk Corporation | Procede de fabrication d'une matrice de pressage pour support d'informations, matrice de pressage et disque original photosensible |
| WO2003058616A1 (fr) * | 2002-01-08 | 2003-07-17 | Tdk Corporation | Procede de production d'une matrice de pressage destinee la production d'un support de donnees, matrice de donnees et matrice de pressage intermediaire dotee d'un disque maitre |
| WO2003058615A1 (fr) * | 2002-01-08 | 2003-07-17 | Tdk Corporation | Procede de fabrication d'une matrice de pressage pour la fabrication d'un support d'informations, matrice de pressage et disque matrice en resine photosensible |
| WO2003058614A1 (fr) * | 2002-01-08 | 2003-07-17 | Tdk Corporation | Procede de fabrication de matrice pour faconnage de support d'information, matrice et disque maitre de photoresine |
| US7204188B2 (en) | 2002-01-08 | 2007-04-17 | Tdk Corporation | Method of manufacturing stamper for manufacturing information medium, stamper, and photoresist master |
| EP1492093A1 (en) * | 2002-03-11 | 2004-12-29 | TDK Corporation | Processing method for photoresist master, production method for recording medium-use mater, production method for recording medium, photoresist master, recording medium-use master and recording medium |
| US7297472B2 (en) | 2002-03-11 | 2007-11-20 | Tdk Corporation | Processing method for photoresist master, production method for recording medium-use mater, production method for recording medium, photoresist master, recording medium-use master and recording medium |
| EP1492093A4 (en) * | 2002-03-11 | 2009-06-03 | Tdk Corp | PROCESSING METHOD FOR A PHOTORESIST MASTER, METHOD FOR MANUFACTURING A RECORDING MEDIUM USER MASTER, METHOD FOR PRODUCING A RECORDING MEDIUM, PHOTORESIST MASTER, RECORDING MEDIA USE MASTER AND RECORDING MEDIUM |
| WO2003105145A1 (ja) * | 2002-06-05 | 2003-12-18 | Tdk株式会社 | フォトレジスト原盤の製造方法、光記録媒体製造用スタンパの製造方法、スタンパ、フォトレジスト原盤、スタンパ中間体及び光記録媒体 |
| WO2004001736A1 (ja) * | 2002-06-25 | 2003-12-31 | Tdk Corporation | 光記録媒体製造用スタンパの製造方法及び装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4013465A (en) | Reducing the reflectance of surfaces to radiation | |
| JPH04263140A (ja) | 無反射コート付きガラス原盤 | |
| JPH0935333A (ja) | 光記録媒体 | |
| US4764441A (en) | Photo-mask for production of substrate for optical memory element | |
| JPH01252902A (ja) | 低反射回折格子およびその作製方法 | |
| JPS61502426A (ja) | フォトリソグラフィに関する改良 | |
| JPH0158079B2 (ja) | ||
| JP3342042B2 (ja) | 反射型色分解回折格子 | |
| JPH0545434B2 (ja) | ||
| JPS6145437A (ja) | 光学記録部材 | |
| JPS58223101A (ja) | 多面鏡の製造方法 | |
| JPH04263141A (ja) | 反射コート付きガラス原盤 | |
| JP2724260B2 (ja) | 反射防止膜を有する光学部材 | |
| JPH09134547A (ja) | 光学記録媒体およびその製造方法 | |
| JPH02113287A (ja) | ホログラムの作製方法 | |
| JP2666801B2 (ja) | ホログラフィックミラーの作成方法 | |
| JP2777937B2 (ja) | 樹脂製光学素子及びその製造方法 | |
| JP2005243240A (ja) | 光記録媒体 | |
| JP3111243B2 (ja) | 積層反射防止膜を有する光学部品 | |
| JPS62234248A (ja) | 情報記録原盤の製造方法 | |
| JPS60170044A (ja) | 光デイスク媒体 | |
| JPH04352102A (ja) | 合成樹脂製光学部材の反射防止膜及びその形成方法 | |
| JPH04204401A (ja) | 回折光学素子 | |
| JPS62123464A (ja) | 光メモリ素子基板製造用フオトマスク | |
| GB2060973A (en) | Optical video disc for recording and readout |