JPH04263141A - 反射コート付きガラス原盤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はコンパクトディスク、光
ディスクの成形用金型としてのスタンパの製作に使用す
るガラス原盤の改良に関する。

【０００２】

【従来の技術】コンパクトディスク（ＣＤ）、レーザデ
ィスク（ＬＤ）等のデジタル情報記録媒体、ＬＰレコー
ド等のアナログ情報記録媒体としての円盤状記録媒体を
成形する際に使用する従来のスタンパの電鋳加工方法に
おいては、まずガラス原盤上に均一塗布したフォトレジ
ストにレーザ等を照射して感光させてから現像すること
により記録情報に応じた凹凸を有したプリフォーマット
パターンを得、このプリフォーマットパターン上に導体
化膜を形成する。続いて、この導体化膜を陰極としてＮ
ｉ電鋳を施してからガラス基板を剥離してマスターを形
成し、このマスターに剥離皮膜処理を施した後でＮｉ電
鋳を施すことによって得たＮｉ層を剥離することにより
マザーを作成する。更に、このマザーに剥離皮膜処理を
施した後でＮｉ電鋳を施すことによって０，２〜０，４
ｍ／ｍ程度の肉厚を有したスタンパ（サン）を得、この
スタンパを用いてプラスチックから成る上記記録媒体を
成形する。

【０００３】図４（ａ）は、従来のガラス原盤の構成を
示す断面図であり、このガラス原盤は、研磨したガラス
板１にプライマー剤２（実際には無視できる程度に薄い
が説明の便宜上厚く示してある）を塗布してその上にポ
ジ型フォトレジスト３を塗布した構成を有する。これら
の塗布方法としては、スピンコート、ディップ、ベイパ
ー等の手法を用いる。プライマー剤２と、フォトレジス
ト３を塗布した後はベーキングによって乾燥処理を施し
てから、Ａｒ＋　レーザなどを用いて露光を行っている
。

【０００４】しかしながら上記構造のガラス原盤上にレ
ーザ光を照射した場合レーザ光の一部がフォトレジスト
３及びプライマー剤２を透過してガラス板１に達し、ガ
ラス板１からの戻り光がレジスト３に戻って来る。この
ため、図４（ｂ）に示すように微少な光によって感光さ
れた溝形状（点線で図示）を戻り光により溝の肩部を変
形させてダレを起こした不良原盤となる。不良原盤を用
いて製作したマスター、マザー、スタンパ及びプラスチ
ックディスクは夫々信号溝形状に異常を有した不良品と
なる。

【０００５】

【発明の目的】本発明は上記に鑑みてなされたものであ
り、ガラス板上のフォトレジストを露光する際にフォト
レジストを透過してガラス板で反射した露光光を利用し
てフォトレジストの露光溝を矩形化することができる反
射コート付きガラス原盤を提供することを目的としてい
る。

【０００６】

【発明の構成】上記の目的を達成する為本発明は、光デ
ィスク用スタンパの製造に用いるガラス原盤であって、
該ガラス原盤はガラス板面に露光光を部分反射する反射
コート層を備え、該反射コート層で反射した露光光が該
ガラス板上に積層したフォトレジストに形成された露光
溝形状を変形させること、前記反射コート層は前記ガラ
ス板の底面、即ち露光光を照射する露光面とは反対側の
面に形成すること、前記反射コート層は前記ガラス板の
上面、即ち露光光を照射する露光面上に形成するととも
に、該反射コート層上にプライマー剤層と、フォトレジ
スト層を順次積層したこと、前記反射コート層を前記ガ
ラス板の上面と底面に夫々直接形成するとともに、上方
の反射コート層上にプライマー剤層と、フォトレジスト
層を順次積層したこと、更には前記反射コート層の反射
率を変更することによって反射した前記露光光によって
前記露光溝形状を変形させたことを特徴としている。

【０００７】以下、添付図面に示した好的な実施例に基
づいて本発明を詳細に説明する。

【０００８】図１（ａ）　は、本発明のガラス原盤の構
成を示す断面図であり、このガラス原盤は、研磨したガ
ラス板１にプライマー剤２（材料としては例えばＨＭＤ
Ｓ、その他を用いる）を塗布してその上にポジ型フォト
レジスト３（例えば、シップレー社　　ＡＺ−１３５０
、東京応化ＯＦＰＲ−８００）を塗布するとともに、ガ
ラス板１の裏面に反射コート層６を形成した構成を有す
る。これらの塗布方法としては、スピンコート、ディッ
プ、ベイパー等の手法を用いる。プライマー剤２と、フ
ォトレジスト３と、反射コート層６を塗布した後はベー
キングによって乾燥処理を施してから、Ａｒ＋　レーザ
５などを用いて露光を行っている。

【０００９】本発明においては、露光光の波長に合わせ
て反射光量を制御するため、部分反射コートを施す。従
って、クロム、ニッケル、金、銀等の金属材料をスパッ
タリングによってコートしたり、非金属の誘電体多層膜
をコーティングする。

【００１０】現状では、クロム膜コートが低コストで安
価に形成できるので、一般に利用されている。膜厚調整
による反射率のコントロールは、スパッタリングに要す
る時間を調整することにより行う。

【００１１】対物レンズ４から出射されたレーザ光５は
、ガラス板１上面にサブミクロンまで集光されるが、ガ
ラス板１を透過した光は反射コート６で反射し、点線で
示した経路でレジスト３側へ戻る。戻った光は（ｂ）　
に示す如くレジスト３を露光するため、現像後の信号溝
は急峻な形状となる。

【００１２】図２は本発明の第２の実施例であり、ガラ
ス板１上に反射コート層６、プライマー剤層２、フォト
レジスト層３を順次積層形成した構成が特徴的である。

【００１３】対物レンズ４から出射されたレーザ光５は
、反射コート６上面にサブミクロンにまで集光されるが
、レーザ光は反射コート６内部にわずかに入射した位置
で反射し、点線で示した経路でレジスト３側へ戻る。 戻った光はレジスト３を露光するため、現像後の信号溝
は図１の実施例の場合よりも緩やかな傾斜形状となる。

【００１４】次に、図３は本発明の第３の実施例であり
、ガラス板１の上面及び底面に夫々反射コート層６、６
を積層形成すると共に、上方の反射コート層６上にプラ
イマー剤層２、フォトレジスト層３を順次積層形成した
構成が特徴的である。

【００１５】この実施例によって得られる溝形状は、図
１及び図２の各実施例によって得た溝形状を合成した形
状となる。

【００１６】以上のように本発明は、ガラス原盤を構成
するガラス板の上面又は下面、あるいは上下両面に反射
コート層を形成したため、ガラス板あるいは反射コート
層上に集光したレーザ光の一部が該反射層で反射してフ
ォトレジストに対する戻り光となる。この戻り光が信号
溝を再露光して理想的な形状を作るように調整すること
により、図４（ｂ）　に示した如き異常な溝形状の形成
を防ぎ、理想的な形状を得ることができる。

【００１７】

【発明の効果】以上のように本発明に於いては、ガラス
板上のフォトレジストを露光する際にフォトレジストを
透過してガラス板で反射した露光光がフォトレジストの
露光溝を変形、劣化させることを防止することができる
。

【図面の簡単な説明】

【図１】（ａ）　は本発明のガラス原盤の第１実施例の
構成を示す断面図、（ｂ）　は現像後の信号溝形状を示
す断面図。

【図２】本発明の第２実施例のガラス原盤の構成を示す
断面図。

【図３】本発明の第３実施例のガラス原盤の構成を示す
断面図。

【図４】（ａ）　は従来のガラス原盤の構成を示す断面
図、（ｂ）　は現像後の信号溝形状を示す断面図である
。

【符号の説明】

１・・・ガラス板、２・・・プライマー層、３・・・フ
ォトレジスト層 ６・・・反射コート層

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　光ディスク用スタンパの製造に用いる
   ガラス原盤であって、該ガラス原盤はガラス板面に露光
   光を部分反射する反射コート層を備え、該反射コート層
   で反射した露光光が該ガラス板上に積層したフォトレジ
   ストに形成された露光溝形状を変形させること特徴とす
   る反射コート付きガラス原盤。
2. 【請求項２】　　前記反射コート層は前記ガラス板の底
   面、即ち露光光を照射する露光面とは反対側の面に形成
   することを特徴とする請求項１記載の反射コート付きガ
   ラス原盤。
3. 【請求項３】　　前記反射コート層は前記ガラス板の上
   面、即ち露光光を照射する露光面上に形成するとともに
   、該反射コート層上にプライマー剤層と、フォトレジス
   ト層を順次積層したことを特徴とする請求項１記載の反
   射コート付きガラス原盤。
4. 【請求項４】　　前記反射コート層を前記ガラス板の上
   面と底面に夫々直接形成するとともに、上方の反射コー
   ト層上にプライマー剤層と、フォトレジスト層を順次積
   層したことを特徴とする請求項１記載の反射コート付き
   ガラス原盤。
5. 【請求項５】　　前記反射コート層の反射率を変更する
   ことによって反射した前記露光光によって前記露光溝形
   状を変形させたことを特徴とする請求項１記載の反射コ
   ート付きガラス原盤。