JPH07147026A - 光ディスクマスタリング用露光原盤 - Google Patents
光ディスクマスタリング用露光原盤Info
- Publication number
- JPH07147026A JPH07147026A JP31588493A JP31588493A JPH07147026A JP H07147026 A JPH07147026 A JP H07147026A JP 31588493 A JP31588493 A JP 31588493A JP 31588493 A JP31588493 A JP 31588493A JP H07147026 A JPH07147026 A JP H07147026A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- main body
- body part
- exposure master
- laser beam
- photoresist film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 フォトレジスト膜をレーザ光で露光する際の
コントラストを向上させる。 【構成】 本発明に係る露光原盤８は、ガラス材質から
成る本体部１０と、本体部１０の表面１０ａに被着され
ると共にレーザ光５２で露光されるフォトレジスト膜５
４と、本体部１０の裏面１０ｂに被着されると共にレー
ザ光５２を吸収する光吸収膜１２とを備えている。レー
ザ光５２は、本体部１０の表面１０ａのフォトレジスト
膜５４を露光した後、その一部が本体部１０中を透過
し、本体部１０の裏面１０ｂの光吸収膜１２に到達す
る。光吸収膜１２は、本体部１０中を透過したレーザ光
５２を吸収する。したがって、本体部１０中を透過した
レーザ光５２が本体部１０の裏面１０ｂで反射したり，
本体部１０の裏面１０ｂを透過して再び入射したりする
ことが抑えられる。
コントラストを向上させる。 【構成】 本発明に係る露光原盤８は、ガラス材質から
成る本体部１０と、本体部１０の表面１０ａに被着され
ると共にレーザ光５２で露光されるフォトレジスト膜５
４と、本体部１０の裏面１０ｂに被着されると共にレー
ザ光５２を吸収する光吸収膜１２とを備えている。レー
ザ光５２は、本体部１０の表面１０ａのフォトレジスト
膜５４を露光した後、その一部が本体部１０中を透過
し、本体部１０の裏面１０ｂの光吸収膜１２に到達す
る。光吸収膜１２は、本体部１０中を透過したレーザ光
５２を吸収する。したがって、本体部１０中を透過した
レーザ光５２が本体部１０の裏面１０ｂで反射したり，
本体部１０の裏面１０ｂを透過して再び入射したりする
ことが抑えられる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光ディスクを大量複製
する際の原盤となるニッケルスタンパーを作製するため
の光ディスクマスタリング用露光原盤（以下、単に「露
光原盤」という。）に関する。
する際の原盤となるニッケルスタンパーを作製するため
の光ディスクマスタリング用露光原盤（以下、単に「露
光原盤」という。）に関する。
【０００２】
【従来の技術】図２は、従来の露光原盤を示す断面図で
ある。
ある。
【０００３】露光原盤４８は、ガラス材質から成る本体
部５０と、本体部５０の表面５０ａに被着されると共に
レーザ光５２で露光されるフォトレジスト膜５４とを備
えたものである。フォトレジスト膜５４は、本体部５０
の表面５０ａに、数十から数百nmの厚さで塗布されたも
のである。そして、フォトレジスト膜５４を、高い開口
数ＮＡを持つ集光レンズ５６で絞られた近紫外域のレー
ザ光５２でピット露光をし、現像後パターンを形成す
る。
部５０と、本体部５０の表面５０ａに被着されると共に
レーザ光５２で露光されるフォトレジスト膜５４とを備
えたものである。フォトレジスト膜５４は、本体部５０
の表面５０ａに、数十から数百nmの厚さで塗布されたも
のである。そして、フォトレジスト膜５４を、高い開口
数ＮＡを持つ集光レンズ５６で絞られた近紫外域のレー
ザ光５２でピット露光をし、現像後パターンを形成す
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、フォト
レジスト膜５４を透過したレーザ光５２の一部が本体部
５０の裏面５０ｂで反射され、多重干渉光５８となり、
フォトレジスト膜５４の未露光部５４ｃ，５４ｄを感光
させてしまう場合がある（ハレーション効果）。また、
本体部５０の裏面５０ｂを透過したレーザ光５２の一部
が、露光原盤４８を乗せるターンテーブル（図示せず）
で反射して、再び本体部５０の裏面５０ｂから入射する
場合がある。この場合は、ターンテーブルの形状を反映
したパターンがフォトレジスト膜５４に露光されてしま
う。
レジスト膜５４を透過したレーザ光５２の一部が本体部
５０の裏面５０ｂで反射され、多重干渉光５８となり、
フォトレジスト膜５４の未露光部５４ｃ，５４ｄを感光
させてしまう場合がある（ハレーション効果）。また、
本体部５０の裏面５０ｂを透過したレーザ光５２の一部
が、露光原盤４８を乗せるターンテーブル（図示せず）
で反射して、再び本体部５０の裏面５０ｂから入射する
場合がある。この場合は、ターンテーブルの形状を反映
したパターンがフォトレジスト膜５４に露光されてしま
う。
【０００５】このように、従来の露光原盤４８では、次
のような問題があった。すなわち、結果的にコントラス
トの悪いパターンが形成されてしまう。特に高密度のパ
ターンの露光を行う際には、コントラストの低下が著し
くなる。
のような問題があった。すなわち、結果的にコントラス
トの悪いパターンが形成されてしまう。特に高密度のパ
ターンの露光を行う際には、コントラストの低下が著し
くなる。
【０００６】
【発明の目的】そこで、本発明の目的は、フォトレジス
ト膜をレーザ光で露光する際のコントラストを向上させ
た露光原盤を提供することにある。
ト膜をレーザ光で露光する際のコントラストを向上させ
た露光原盤を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するためになされたものであり、ガラス材質から成る
本体部と、この本体部の表面に被着されると共にレーザ
光で露光されるフォトレジスト膜とを備えた露光原盤を
改良したものである。
成するためになされたものであり、ガラス材質から成る
本体部と、この本体部の表面に被着されると共にレーザ
光で露光されるフォトレジスト膜とを備えた露光原盤を
改良したものである。
【０００８】その改良した点とは、前記本体部の裏面に
被着されると共に前記レーザ光を吸収する光吸収膜を備
えたことである。また、この光吸収膜の代わりに、前記
レーザ光及び熱を吸収する光熱吸収膜を備えたものとし
てもよい。
被着されると共に前記レーザ光を吸収する光吸収膜を備
えたことである。また、この光吸収膜の代わりに、前記
レーザ光及び熱を吸収する光熱吸収膜を備えたものとし
てもよい。
【０００９】
【作用】レーザ光は、本体部表面のフォトレジスト膜を
露光した後、その一部が本体部中を透過し、本体部裏面
の光吸収膜に到達する。この光吸収膜は、本体部中を透
過したレーザ光を吸収する。したがって、本体部中を透
過したレーザ光が本体部裏面で反射したり，本体部裏面
を透過して再び入射したりすることが抑えられる。
露光した後、その一部が本体部中を透過し、本体部裏面
の光吸収膜に到達する。この光吸収膜は、本体部中を透
過したレーザ光を吸収する。したがって、本体部中を透
過したレーザ光が本体部裏面で反射したり，本体部裏面
を透過して再び入射したりすることが抑えられる。
【００１０】
【実施例】図１は、本発明に係る露光原盤の一実施例を
示す断面図である。以下、この図面に基づき本実施例に
ついて説明する。ただし、図２と同一部分には同一符号
を付し説明を省略する。なお、図示の都合上、フォトレ
ジスト膜５４及び光吸収膜１２は、本体部１０に比べて
拡大して示している。
示す断面図である。以下、この図面に基づき本実施例に
ついて説明する。ただし、図２と同一部分には同一符号
を付し説明を省略する。なお、図示の都合上、フォトレ
ジスト膜５４及び光吸収膜１２は、本体部１０に比べて
拡大して示している。
【００１１】本発明に係る露光原盤８は、ガラス材質か
ら成る本体部１０と、本体部１０の表面１０ａに被着さ
れると共にレーザ光５２で露光されるフォトレジスト膜
５４と、本体部１０の裏面１０ｂに被着されると共にレ
ーザ光５２を吸収する光吸収膜１２とを備えている。
ら成る本体部１０と、本体部１０の表面１０ａに被着さ
れると共にレーザ光５２で露光されるフォトレジスト膜
５４と、本体部１０の裏面１０ｂに被着されると共にレ
ーザ光５２を吸収する光吸収膜１２とを備えている。
【００１２】本体部１０は、洗浄済のHOYA株式会社製ガ
ラス基盤を用いた。光吸収膜１２は、本体部１０の裏面
１０ｂに黒鉛を含む塗料を10nm以上の厚さで一様に塗布
することにより形成した。この黒鉛を含む塗料は、波長
域300nm から500nm までのレーザ光５２に対しての光の
吸収率が60％以上あるものである。フォトレジスト膜５
４は、本体部１０の表面１０ａにシプレーファーイース
ト社製ポジ型フォトレジスト 9600シリーズ又は東京応
化株式会社製ポジ型フォトレジストTSMR8800シリーズを
スピン塗布法で100nm 程度塗布し、窒素雰囲気中でアニ
ールすることにより形成した。
ラス基盤を用いた。光吸収膜１２は、本体部１０の裏面
１０ｂに黒鉛を含む塗料を10nm以上の厚さで一様に塗布
することにより形成した。この黒鉛を含む塗料は、波長
域300nm から500nm までのレーザ光５２に対しての光の
吸収率が60％以上あるものである。フォトレジスト膜５
４は、本体部１０の表面１０ａにシプレーファーイース
ト社製ポジ型フォトレジスト 9600シリーズ又は東京応
化株式会社製ポジ型フォトレジストTSMR8800シリーズを
スピン塗布法で100nm 程度塗布し、窒素雰囲気中でアニ
ールすることにより形成した。
【００１３】この露光原盤８を日本レーザ株式会社製MR
Y-1MCN光ディスク露光装置で露光した。その結果、集光
レンズ５６で絞られて本体部１０を透過したレーザ光５
２は、光吸収膜１２で十分に吸収された。したがって、
従来フォトレジスト膜５４上に生じていたターンテーブ
ルの形状を反映した縞模様がなくなり、ハレーションも
減少してコントラストの良いパターンを形成する事がで
きた。
Y-1MCN光ディスク露光装置で露光した。その結果、集光
レンズ５６で絞られて本体部１０を透過したレーザ光５
２は、光吸収膜１２で十分に吸収された。したがって、
従来フォトレジスト膜５４上に生じていたターンテーブ
ルの形状を反映した縞模様がなくなり、ハレーションも
減少してコントラストの良いパターンを形成する事がで
きた。
【００１４】なお、光吸収膜１２としての黒鉛を含む塗
料は、熱を吸収する性質も有するので、光熱吸収膜とし
ても機能する。この場合、フォトレジスト膜をレーザ光
で露光する際の、熱の影響を軽減できる。
料は、熱を吸収する性質も有するので、光熱吸収膜とし
ても機能する。この場合、フォトレジスト膜をレーザ光
で露光する際の、熱の影響を軽減できる。
【００１５】
【発明の効果】本発明に係る露光原盤によれば、本体部
裏面に光吸収膜を被着させたので、本体部中を透過した
レーザ光を光吸収膜で吸収できる。したがって、本体部
中を透過したレーザ光が本体部裏面で反射したり，本体
部裏面を透過して再び入射したりすることを防止できる
ことにより、フォトレジスト膜をレーザ光で露光する際
のコントラストを向上できる。
裏面に光吸収膜を被着させたので、本体部中を透過した
レーザ光を光吸収膜で吸収できる。したがって、本体部
中を透過したレーザ光が本体部裏面で反射したり，本体
部裏面を透過して再び入射したりすることを防止できる
ことにより、フォトレジスト膜をレーザ光で露光する際
のコントラストを向上できる。
【図１】本発明の一実施例を示す断面図である。
【図２】従来の一例を示す断面図である。
８ 露光原盤 １０ 本体部 １０ａ 本体部の表面 １０ｂ 本体部の裏面 １２ 光吸収膜 ５２ レーザ光 ５４ フォトレジスト膜
Claims (2)
- 【請求項１】 ガラス材質から成る本体部と、この本体
部の表面に被着されると共にレーザ光で露光されるフォ
トレジスト膜とを備えた光ディスクマスタリング用露光
原盤において、 前記本体部の裏面に被着されると共に前記レーザ光を吸
収する光吸収膜を備えたことを特徴とする光ディスクマ
スタリング用露光原盤。 - 【請求項２】 ガラス材質から成る本体部と、この本体
部の表面に被着されると共にレーザ光で露光されるフォ
トレジスト膜とを備えた光ディスクマスタリング用露光
原盤において、 前記本体部の裏面に被着されると共に前記レーザ光及び
熱を吸収する光熱吸収膜を備えたことを特徴とする光デ
ィスクマスタリング用露光原盤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5315884A JP2727942B2 (ja) | 1993-11-22 | 1993-11-22 | 光ディスクマスタリング用露光原盤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5315884A JP2727942B2 (ja) | 1993-11-22 | 1993-11-22 | 光ディスクマスタリング用露光原盤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07147026A true JPH07147026A (ja) | 1995-06-06 |
| JP2727942B2 JP2727942B2 (ja) | 1998-03-18 |
Family
ID=18070766
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5315884A Expired - Fee Related JP2727942B2 (ja) | 1993-11-22 | 1993-11-22 | 光ディスクマスタリング用露光原盤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2727942B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998037556A1 (fr) * | 1997-02-24 | 1998-08-27 | Seiko Epson Corporation | Plaque originale permettant de fabriquer des matrices de pressage pour disques optiques, procede de fabrication desdites matrices et disques optiques ainsi obtenus |
| WO2003058615A1 (fr) * | 2002-01-08 | 2003-07-17 | Tdk Corporation | Procede de fabrication d'une matrice de pressage pour la fabrication d'un support d'informations, matrice de pressage et disque matrice en resine photosensible |
| WO2003058614A1 (fr) * | 2002-01-08 | 2003-07-17 | Tdk Corporation | Procede de fabrication de matrice pour faconnage de support d'information, matrice et disque maitre de photoresine |
| WO2003058616A1 (fr) * | 2002-01-08 | 2003-07-17 | Tdk Corporation | Procede de production d'une matrice de pressage destinee la production d'un support de donnees, matrice de donnees et matrice de pressage intermediaire dotee d'un disque maitre |
| WO2003105145A1 (ja) * | 2002-06-05 | 2003-12-18 | Tdk株式会社 | フォトレジスト原盤の製造方法、光記録媒体製造用スタンパの製造方法、スタンパ、フォトレジスト原盤、スタンパ中間体及び光記録媒体 |
| WO2004001736A1 (ja) * | 2002-06-25 | 2003-12-31 | Tdk Corporation | 光記録媒体製造用スタンパの製造方法及び装置 |
| US7297472B2 (en) | 2002-03-11 | 2007-11-20 | Tdk Corporation | Processing method for photoresist master, production method for recording medium-use mater, production method for recording medium, photoresist master, recording medium-use master and recording medium |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04263140A (ja) * | 1991-02-07 | 1992-09-18 | Ricoh Co Ltd | 無反射コート付きガラス原盤 |
-
1993
- 1993-11-22 JP JP5315884A patent/JP2727942B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04263140A (ja) * | 1991-02-07 | 1992-09-18 | Ricoh Co Ltd | 無反射コート付きガラス原盤 |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998037556A1 (fr) * | 1997-02-24 | 1998-08-27 | Seiko Epson Corporation | Plaque originale permettant de fabriquer des matrices de pressage pour disques optiques, procede de fabrication desdites matrices et disques optiques ainsi obtenus |
| WO2003058615A1 (fr) * | 2002-01-08 | 2003-07-17 | Tdk Corporation | Procede de fabrication d'une matrice de pressage pour la fabrication d'un support d'informations, matrice de pressage et disque matrice en resine photosensible |
| WO2003058614A1 (fr) * | 2002-01-08 | 2003-07-17 | Tdk Corporation | Procede de fabrication de matrice pour faconnage de support d'information, matrice et disque maitre de photoresine |
| WO2003058616A1 (fr) * | 2002-01-08 | 2003-07-17 | Tdk Corporation | Procede de production d'une matrice de pressage destinee la production d'un support de donnees, matrice de donnees et matrice de pressage intermediaire dotee d'un disque maitre |
| US7204188B2 (en) | 2002-01-08 | 2007-04-17 | Tdk Corporation | Method of manufacturing stamper for manufacturing information medium, stamper, and photoresist master |
| US7297472B2 (en) | 2002-03-11 | 2007-11-20 | Tdk Corporation | Processing method for photoresist master, production method for recording medium-use mater, production method for recording medium, photoresist master, recording medium-use master and recording medium |
| WO2003105145A1 (ja) * | 2002-06-05 | 2003-12-18 | Tdk株式会社 | フォトレジスト原盤の製造方法、光記録媒体製造用スタンパの製造方法、スタンパ、フォトレジスト原盤、スタンパ中間体及び光記録媒体 |
| WO2004001736A1 (ja) * | 2002-06-25 | 2003-12-31 | Tdk Corporation | 光記録媒体製造用スタンパの製造方法及び装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2727942B2 (ja) | 1998-03-18 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19971111 |
|
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