JP2000298839A - 露光方法及び装置 - Google Patents
露光方法及び装置Info
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- JP2000298839A JP2000298839A JP11108006A JP10800699A JP2000298839A JP 2000298839 A JP2000298839 A JP 2000298839A JP 11108006 A JP11108006 A JP 11108006A JP 10800699 A JP10800699 A JP 10800699A JP 2000298839 A JP2000298839 A JP 2000298839A
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- JP
- Japan
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- pulse
- recording signal
- recording
- light
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ピット幅を細くかつピット長の長短によるピ
ット幅の差を小さくできて高密度記録に対応できる露光
方法及び装置を提供する。 【解決手段】 記録パターンに応じた記録信号パルスに
より強度変調されたレーザ光Lを、回転する基板16上
の感光層16aに照射して露光する露光方法において、
記録信号発生器18からの各記録パターンに応じた記録
信号パルスを、記録信号変換器19にて複数の短パルス
に分割し、各短パルスの振幅、パルス幅、パルス立ち上
がりタイミングを記録信号パルスのパルス幅に応じて設
定し、この記録信号変換器19からの電気信号E2によ
り光変調器7にてレーザ光Lを変調するようにした。
ット幅の差を小さくできて高密度記録に対応できる露光
方法及び装置を提供する。 【解決手段】 記録パターンに応じた記録信号パルスに
より強度変調されたレーザ光Lを、回転する基板16上
の感光層16aに照射して露光する露光方法において、
記録信号発生器18からの各記録パターンに応じた記録
信号パルスを、記録信号変換器19にて複数の短パルス
に分割し、各短パルスの振幅、パルス幅、パルス立ち上
がりタイミングを記録信号パルスのパルス幅に応じて設
定し、この記録信号変換器19からの電気信号E2によ
り光変調器7にてレーザ光Lを変調するようにした。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスクを製作
するための光ディスク原盤などの露光に好適に適用でき
る露光方法及び装置に関するものである。
するための光ディスク原盤などの露光に好適に適用でき
る露光方法及び装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】光ディスクにはスパイラル状あるいは同
心状に再生用光ビームのための凹凸状のピットが形成さ
れており、その製作に際してはまず光ディスク原盤が製
作される。光ディスク原盤は、マスタリングプロセスに
て製造される。その手順は、例えば回転駆動されるガラ
ス基板の上にポジ型の感光膜を回転塗布により形成した
後、スパイラル状あるいは同心円状の凹凸状のピットパ
ターンをレーザ光による露光で書き込み、その後の現像
により凹凸状のピットを持った光ディスク原盤が製造さ
れる。レーザ光による露光は、形成すべきパターンに対
応して強度変調された光ビームを対物レンズでポジ型の
感光膜上に集光して行われる。
心状に再生用光ビームのための凹凸状のピットが形成さ
れており、その製作に際してはまず光ディスク原盤が製
作される。光ディスク原盤は、マスタリングプロセスに
て製造される。その手順は、例えば回転駆動されるガラ
ス基板の上にポジ型の感光膜を回転塗布により形成した
後、スパイラル状あるいは同心円状の凹凸状のピットパ
ターンをレーザ光による露光で書き込み、その後の現像
により凹凸状のピットを持った光ディスク原盤が製造さ
れる。レーザ光による露光は、形成すべきパターンに対
応して強度変調された光ビームを対物レンズでポジ型の
感光膜上に集光して行われる。
【0003】製造された光ディスク原盤は、その書き込
み面にニッケルメッキ層を施し、これを分離することに
より、金属製の型部材であるスタンパを製作するのに用
いられる。次いで、製作されたスタンパからレプリケー
ションプロセスにより光ディスクが製造される。その手
順は、例えばスタンパを利用した射出成形によって光デ
ィスク原盤と同じ凹凸形状のピットパターンを持ったレ
プリカを製作し、製作したレプリカの凹凸面にアルミニ
ウムを蒸着により形成して光ディスクを製造している。
み面にニッケルメッキ層を施し、これを分離することに
より、金属製の型部材であるスタンパを製作するのに用
いられる。次いで、製作されたスタンパからレプリケー
ションプロセスにより光ディスクが製造される。その手
順は、例えばスタンパを利用した射出成形によって光デ
ィスク原盤と同じ凹凸形状のピットパターンを持ったレ
プリカを製作し、製作したレプリカの凹凸面にアルミニ
ウムを蒸着により形成して光ディスクを製造している。
【0004】光ディスクには、通常10種類以上の長さ
のピットと呼ばれる凹状楕円のパターンが形成されてお
り、そのピット長さに対応した時間幅のパルス電気信号
によりレーザ光を強度変調することによってパターンを
露光している。
のピットと呼ばれる凹状楕円のパターンが形成されてお
り、そのピット長さに対応した時間幅のパルス電気信号
によりレーザ光を強度変調することによってパターンを
露光している。
【0005】露光に際して、そのレーザ光のパワーを一
定にすると、ピット長の長いピットはその幅が太く、短
いピットはその幅が細くなってしまうため(図2(a)
参照)、従来はピット長さに対応したパルス電気信号の
時間幅を一律に短くし、かつ露光パワーを微調整するこ
とにより、長いピットと短いピットのピット幅の差をで
きるだけ小さくして、再生信号特性の改善を図ってい
た。
定にすると、ピット長の長いピットはその幅が太く、短
いピットはその幅が細くなってしまうため(図2(a)
参照)、従来はピット長さに対応したパルス電気信号の
時間幅を一律に短くし、かつ露光パワーを微調整するこ
とにより、長いピットと短いピットのピット幅の差をで
きるだけ小さくして、再生信号特性の改善を図ってい
た。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年は
各種記録媒体にて取り扱う情報量が膨大化する一方であ
り、情報量の多い光ディスクにあってもさらなる高密度
記録が強く望まれている。このため、ピットの幅を細く
するとともに、ピット長の長いピットと短いピットのピ
ット幅の差をさらに小さくすることが要求されている。
各種記録媒体にて取り扱う情報量が膨大化する一方であ
り、情報量の多い光ディスクにあってもさらなる高密度
記録が強く望まれている。このため、ピットの幅を細く
するとともに、ピット長の長いピットと短いピットのピ
ット幅の差をさらに小さくすることが要求されている。
【0007】本発明は、上記従来の問題点に鑑み、現状
の光学系を用いながら、ピット幅を細くかつピット長の
長短によるピット幅の差を小さくできて高密度記録に対
応できる露光方法及び装置を提供することを目的として
いる。
の光学系を用いながら、ピット幅を細くかつピット長の
長短によるピット幅の差を小さくできて高密度記録に対
応できる露光方法及び装置を提供することを目的として
いる。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の露光方法は、基
板をビームに対して相対的に回転させる等しながら、基
板上の感光層に、記録パターンに応じた記録信号パルス
にて強度変調された光ビームを照射して露光する露光方
法において、各記録パターンに応じた記録信号パルスを
複数の短パルスに分割し、各短パルスの振幅、パルス
幅、パルス立ち上がりタイミングを記録信号パルスのパ
ルス幅に応じて設定するものであり、ピット長の長短に
よって幅の差のない、より細い幅のピットを形成するこ
とができる。
板をビームに対して相対的に回転させる等しながら、基
板上の感光層に、記録パターンに応じた記録信号パルス
にて強度変調された光ビームを照射して露光する露光方
法において、各記録パターンに応じた記録信号パルスを
複数の短パルスに分割し、各短パルスの振幅、パルス
幅、パルス立ち上がりタイミングを記録信号パルスのパ
ルス幅に応じて設定するものであり、ピット長の長短に
よって幅の差のない、より細い幅のピットを形成するこ
とができる。
【0009】すなわち、露光プロセスにおいては、感光
層に集光されたレーザ光が移動しながら起こす光化学反
応が主であるが、その露光時に発生する熱の寄与がある
ために、ピット長による入熱量の違いによってピット前
後において化学反応に違いが発生してピット形状に影響
を与え、特にピットの前方部及び後方部での形状変化が
起こることになるが、短パルスに分解してそれぞれの振
幅、パルス幅、タイミングを適切に設定することによっ
てピット長の長短によって幅の差がなくかつ細い幅のピ
ットを形成することができる。
層に集光されたレーザ光が移動しながら起こす光化学反
応が主であるが、その露光時に発生する熱の寄与がある
ために、ピット長による入熱量の違いによってピット前
後において化学反応に違いが発生してピット形状に影響
を与え、特にピットの前方部及び後方部での形状変化が
起こることになるが、短パルスに分解してそれぞれの振
幅、パルス幅、タイミングを適切に設定することによっ
てピット長の長短によって幅の差がなくかつ細い幅のピ
ットを形成することができる。
【0010】また、各記録信号パルスを、先頭パルス、
中間パルス、最終パルスを有する3つ以上の短パルスに
分解し、先頭パルス、中間パルス、最終パルスの振幅を
それぞれa1 、a2 、a3 として、a1 ≧a3 ≧a2 と
するのが好ましく、そうすると幅が細くかつピット全長
にわたって幅の差が小さいピットを安定的に形成するこ
とができるとともに、1つのピットの書き始め及び書き
終わりの部分の壁面の形状が鋭くなり、再生信号の特性
を改善できる。
中間パルス、最終パルスを有する3つ以上の短パルスに
分解し、先頭パルス、中間パルス、最終パルスの振幅を
それぞれa1 、a2 、a3 として、a1 ≧a3 ≧a2 と
するのが好ましく、そうすると幅が細くかつピット全長
にわたって幅の差が小さいピットを安定的に形成するこ
とができるとともに、1つのピットの書き始め及び書き
終わりの部分の壁面の形状が鋭くなり、再生信号の特性
を改善できる。
【0011】また、感光層の上に光を強く吸収し、それ
によって退色することによって光を通すようになるコン
トラスト増強層を設けて露光すると、露光時に使用する
光の波長によって決まる回折限界幅よりも幅の細いピッ
トをより安定的に形成することができ、さらに上記露光
方法と組み合わせると、より安定的に細いピットを形成
することができる。
によって退色することによって光を通すようになるコン
トラスト増強層を設けて露光すると、露光時に使用する
光の波長によって決まる回折限界幅よりも幅の細いピッ
トをより安定的に形成することができ、さらに上記露光
方法と組み合わせると、より安定的に細いピットを形成
することができる。
【0012】すなわち、コントラスト増強層は、光を強
く吸収し、それによって退色することによって光を通す
ようになるため、露光の進行とともにコントラスト増強
層の退色が進み、光の透過率が大きくなる。これによ
り、露光の強弱に応じて明暗がつけられた状態で感光層
に光が入射し、露光のコントラストが強調されることに
なる。そのため、光強度が中心部で最大で外周部に向か
うに従って弱くなるように分布している露光用の光ビー
ムにてコントラスト増強層を介して感光層を露光する
と、光ビームの中心部ではコントラスト増強層が直ちに
透明となって感光層が露光される一方、光ビームの外周
部ではたとえサイドローブが発生していてもその強度が
一定値以下であればコントラスト増強層が透明になるこ
とはなく、感光層は露光されず、その結果幅の細いピッ
トを形成することができる。
く吸収し、それによって退色することによって光を通す
ようになるため、露光の進行とともにコントラスト増強
層の退色が進み、光の透過率が大きくなる。これによ
り、露光の強弱に応じて明暗がつけられた状態で感光層
に光が入射し、露光のコントラストが強調されることに
なる。そのため、光強度が中心部で最大で外周部に向か
うに従って弱くなるように分布している露光用の光ビー
ムにてコントラスト増強層を介して感光層を露光する
と、光ビームの中心部ではコントラスト増強層が直ちに
透明となって感光層が露光される一方、光ビームの外周
部ではたとえサイドローブが発生していてもその強度が
一定値以下であればコントラスト増強層が透明になるこ
とはなく、感光層は露光されず、その結果幅の細いピッ
トを形成することができる。
【0013】また、本発明の露光装置は、記録パターン
に応じた記録信号パルスを出力する記録信号発生器と、
記録信号パルスを複数の短パルスに分割するとともに記
録信号パルスのパルス幅に応じて各短パルスの振幅、パ
ルス幅、パルス立ち上がりタイミングを設定する記録信
号変換器と、レーザ光を出力するレーザ光源と、記録信
号変換器からのパルス信号に応じてレーザ光を変調する
光変調器と、光変調器からのレーザ光を感光層を有する
基板に集光する対物レンズと、基板を回転させる手段と
を備えたものであり、上記露光方法を実施してその効果
を奏することができる。
に応じた記録信号パルスを出力する記録信号発生器と、
記録信号パルスを複数の短パルスに分割するとともに記
録信号パルスのパルス幅に応じて各短パルスの振幅、パ
ルス幅、パルス立ち上がりタイミングを設定する記録信
号変換器と、レーザ光を出力するレーザ光源と、記録信
号変換器からのパルス信号に応じてレーザ光を変調する
光変調器と、光変調器からのレーザ光を感光層を有する
基板に集光する対物レンズと、基板を回転させる手段と
を備えたものであり、上記露光方法を実施してその効果
を奏することができる。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、本発明の露光方法及び装置
を光ディスク原盤の露光装置に適用した一実施形態につ
いて、図1、図2を参照して説明する。
を光ディスク原盤の露光装置に適用した一実施形態につ
いて、図1、図2を参照して説明する。
【0015】図1において、直進光である光ビームを出
射するArレーザなどのレーザ光源1からのレーザ光L
を、絞り2、コリメータ光学系4を通して適当な径の平
行光とし、自動レーザ制御器(オートパワーコントロー
ラ)6に入射させ、レーザパワーの安定化を図る。自動
レーザ制御器6から出射されたレーザ光Lは、光変調器
(E/Oモジュレータ)7に入射させる。
射するArレーザなどのレーザ光源1からのレーザ光L
を、絞り2、コリメータ光学系4を通して適当な径の平
行光とし、自動レーザ制御器(オートパワーコントロー
ラ)6に入射させ、レーザパワーの安定化を図る。自動
レーザ制御器6から出射されたレーザ光Lは、光変調器
(E/Oモジュレータ)7に入射させる。
【0016】ここで、記録信号発生器18からのピット
パターンに応じて変調された電気信号E1を記録信号変
換器19に入力し、この記録信号変換器19にて電気信
号E1を先頭パルス、中間パルス、最終パルスの3つの
パルス群に分解するとともにそれぞれのパルスの振幅、
幅、立ち上がりタイミングを調整した電気信号E2に変
換し、この電気信号E2を光変調器7に入力する。光変
調器7ではこの電気信号E2に応じて透過するレーザ光
Lを変調する。
パターンに応じて変調された電気信号E1を記録信号変
換器19に入力し、この記録信号変換器19にて電気信
号E1を先頭パルス、中間パルス、最終パルスの3つの
パルス群に分解するとともにそれぞれのパルスの振幅、
幅、立ち上がりタイミングを調整した電気信号E2に変
換し、この電気信号E2を光変調器7に入力する。光変
調器7ではこの電気信号E2に応じて透過するレーザ光
Lを変調する。
【0017】光変調器7から出射されたレーザ光Lは、
波長板8、コリメータ光学系10、偏向ビームスプリッ
タ11を通過させる。波長板8をレーザ光軸と垂直な面
内で回転させることにより偏向ビームスプリッタ11を
透過するレーザパワーの上限値を調整することができ
る。コリメータ光学系10では、対物レンズ15の開口
径に等しいか、それ以上になるような直径の平行光にす
る。
波長板8、コリメータ光学系10、偏向ビームスプリッ
タ11を通過させる。波長板8をレーザ光軸と垂直な面
内で回転させることにより偏向ビームスプリッタ11を
透過するレーザパワーの上限値を調整することができ
る。コリメータ光学系10では、対物レンズ15の開口
径に等しいか、それ以上になるような直径の平行光にす
る。
【0018】偏向ビームスプリッタ11を透過したレー
ザ光Lを記録ヘッド13の対物レンズ15に供給するこ
とにより、スピンドル17に取付けられて回転される円
盤などの基板16上の感光膜16aに集光させて露光
し、凹凸のピットパターンの書き込みを行い、その後現
像などの処理を行って光ディスク原盤を製造する。
ザ光Lを記録ヘッド13の対物レンズ15に供給するこ
とにより、スピンドル17に取付けられて回転される円
盤などの基板16上の感光膜16aに集光させて露光
し、凹凸のピットパターンの書き込みを行い、その後現
像などの処理を行って光ディスク原盤を製造する。
【0019】なお、上記露光光学系20は各光学要素の
配置上、必要に応じてミラー3、5、9、12、14な
どの反射光学要素を用いてレーザ光Lの光路を折り曲げ
ている。
配置上、必要に応じてミラー3、5、9、12、14な
どの反射光学要素を用いてレーザ光Lの光路を折り曲げ
ている。
【0020】図2(a)に、記録信号発生器18から出
力される電気信号E1及びその上部にそれによって形成
されるピットパターンを示し、図2(b)に、記録信号
変換器19から出力される電気信号E2及びその上部に
それによって形成されるピットパターンを示す。
力される電気信号E1及びその上部にそれによって形成
されるピットパターンを示し、図2(b)に、記録信号
変換器19から出力される電気信号E2及びその上部に
それによって形成されるピットパターンを示す。
【0021】記録信号発生器18では、記録ピット長さ
に比例したパルス幅(時間)t0 、一定振幅a0 のパル
ス出力を発生する。記録信号変換器19では、上記一定
振幅の出力パルスを、先頭パルス、中間パルス、最終パ
ルスの3つに分解する。また、記録信号発生器18から
のパルス出力の立ち上がりタイミングを基準として、そ
のタイミングからの、先頭パルスの遅れ時間をd1 、中
間パルスの遅れ時間をd2 、最終パルスの遅れ時間をd
3 とし、また先頭パルス、中間パルス、最終パルスのそ
れぞれのパルス幅(時間幅)をt1 、t2 、t3 とし、
さらにそれぞれのパルスの振幅をa1 、a2 、a3 に設
定している。ここで、先頭パルス、中間パルス、最終パ
ルスの振幅a1 、a2 、a3 を、a1 ≧a3 ≧a2 のよ
うな関係にし、かつそれぞれのパルス幅t1 、t2 、t
3 と、それぞれの遅れ時間d1 、d2 、d3 を適当に設
定することにより、ピット長の長いピットと短いピット
のピット幅の差がなく、より細い幅のピットを形成でき
るとともに、ディスクの信号特性を改善できるピットを
形成できる。
に比例したパルス幅(時間)t0 、一定振幅a0 のパル
ス出力を発生する。記録信号変換器19では、上記一定
振幅の出力パルスを、先頭パルス、中間パルス、最終パ
ルスの3つに分解する。また、記録信号発生器18から
のパルス出力の立ち上がりタイミングを基準として、そ
のタイミングからの、先頭パルスの遅れ時間をd1 、中
間パルスの遅れ時間をd2 、最終パルスの遅れ時間をd
3 とし、また先頭パルス、中間パルス、最終パルスのそ
れぞれのパルス幅(時間幅)をt1 、t2 、t3 とし、
さらにそれぞれのパルスの振幅をa1 、a2 、a3 に設
定している。ここで、先頭パルス、中間パルス、最終パ
ルスの振幅a1 、a2 、a3 を、a1 ≧a3 ≧a2 のよ
うな関係にし、かつそれぞれのパルス幅t1 、t2 、t
3 と、それぞれの遅れ時間d1 、d2 、d3 を適当に設
定することにより、ピット長の長いピットと短いピット
のピット幅の差がなく、より細い幅のピットを形成でき
るとともに、ディスクの信号特性を改善できるピットを
形成できる。
【0022】具体的な実施例について述べると、平坦な
ガラスの基板16を洗浄後、その表面をシランカップリ
ング剤で処理する。これは基板16と感光膜16aとの
密着性を良くするためである。基板16の上にポジ型感
光膜16aを塗布する。ガラス基板16は、直径200
mm、厚さ6mmの平坦なもので、洗浄後に使用するシ
ランカップリング剤は、HMDS(ヘキサメチルジシラ
ザン)を用いる。ポジ型の感光膜16aは東京応化工業
社製のiP−3650を用い、0.07μmの厚さに塗
布し、80℃で15分ベークした後、室温まで十分に自
然冷却する。
ガラスの基板16を洗浄後、その表面をシランカップリ
ング剤で処理する。これは基板16と感光膜16aとの
密着性を良くするためである。基板16の上にポジ型感
光膜16aを塗布する。ガラス基板16は、直径200
mm、厚さ6mmの平坦なもので、洗浄後に使用するシ
ランカップリング剤は、HMDS(ヘキサメチルジシラ
ザン)を用いる。ポジ型の感光膜16aは東京応化工業
社製のiP−3650を用い、0.07μmの厚さに塗
布し、80℃で15分ベークした後、室温まで十分に自
然冷却する。
【0023】レーザ光源1のArレーザは、最大出力1
50mWで、波長363.8nmの紫外レーザ光Lを出
射する。絞り2は、このレーザ光Lを直径1.5mmに
絞って通過させる。コリメータ光学系4は、レーザ光L
を直径0.75mmの平行ビームにするもので、例えば
直径が15mmで、焦点距離が100mmと50mmの
2個の平凸レンズを150mmの間隔でレーザ光Lのビ
ームに対して垂直に設置したものから構成されている。
自動レーザ制御器6に入射させるレーザ光Lの光強度は
60mW程度にする。光変調器7は、信号応答速度が5
MHz以上のものが必要であり、50MHzのものを採
用している。
50mWで、波長363.8nmの紫外レーザ光Lを出
射する。絞り2は、このレーザ光Lを直径1.5mmに
絞って通過させる。コリメータ光学系4は、レーザ光L
を直径0.75mmの平行ビームにするもので、例えば
直径が15mmで、焦点距離が100mmと50mmの
2個の平凸レンズを150mmの間隔でレーザ光Lのビ
ームに対して垂直に設置したものから構成されている。
自動レーザ制御器6に入射させるレーザ光Lの光強度は
60mW程度にする。光変調器7は、信号応答速度が5
MHz以上のものが必要であり、50MHzのものを採
用している。
【0024】波長板8はλ/2板で、例えば材質が水晶
のものを使用しているが、2枚のガラス板に雲母波長板
を挟んだものでもよい。コリメータ光学系10は例えば
直径が15mmで焦点距離が30mmと150mmの2
個の平凸レンズを、150mm間隔でレーザ光Lのビー
ムに対して垂直に設置したもので構成し、レーザ光Lの
ビーム径を例えば対物レンズ15の開口径に等しい3.
6mmとしてある。
のものを使用しているが、2枚のガラス板に雲母波長板
を挟んだものでもよい。コリメータ光学系10は例えば
直径が15mmで焦点距離が30mmと150mmの2
個の平凸レンズを、150mm間隔でレーザ光Lのビー
ムに対して垂直に設置したもので構成し、レーザ光Lの
ビーム径を例えば対物レンズ15の開口径に等しい3.
6mmとしてある。
【0025】記録信号発生器18は、例えばDCA社の
マスタリングインターフェースシステムを用いる。記録
信号変換器19は、記録信号発生器18からの出力を、
例えば基準クロックとシフトレジスタにより、最短ピッ
トパターン、第2番目に短いピットパターン、それ以上
のピットパターンの3種類の幅に分類し、それぞれの幅
に応じて、先頭パルス、中間パルス、最終パルスの基準
からの遅れ時間、パルス幅が調整される。その後、ピッ
ト幅に対応して先頭パルス、中間パルス、最終パルス
が、ピットパターンに応じ、時系列に別々に出力され、
それぞれについて増幅回路により振幅調整されて光変調
器7に出力される。
マスタリングインターフェースシステムを用いる。記録
信号変換器19は、記録信号発生器18からの出力を、
例えば基準クロックとシフトレジスタにより、最短ピッ
トパターン、第2番目に短いピットパターン、それ以上
のピットパターンの3種類の幅に分類し、それぞれの幅
に応じて、先頭パルス、中間パルス、最終パルスの基準
からの遅れ時間、パルス幅が調整される。その後、ピッ
ト幅に対応して先頭パルス、中間パルス、最終パルス
が、ピットパターンに応じ、時系列に別々に出力され、
それぞれについて増幅回路により振幅調整されて光変調
器7に出力される。
【0026】対物レンズ15は、例えば焦点距離2m
m、開口数(NA)0.9、開口径3.6mmのものを
用いる。
m、開口数(NA)0.9、開口径3.6mmのものを
用いる。
【0027】露光後の現像に使用する現像液は、東京応
化工業社製のNMD−W(2.38%)を純水で75%
希釈したものを使用し、現像は基板16を回転させなが
ら、50秒間基板16の表面に現像液をかけながら行
う。
化工業社製のNMD−W(2.38%)を純水で75%
希釈したものを使用し、現像は基板16を回転させなが
ら、50秒間基板16の表面に現像液をかけながら行
う。
【0028】次に、本発明の露光方法及び装置の他の実
施形態について、図3を参照して説明する。なお、上記
実施形態と同一の構成要素については同一参照番号を付
して説明を省略し、相違点のみを説明する。
施形態について、図3を参照して説明する。なお、上記
実施形態と同一の構成要素については同一参照番号を付
して説明を省略し、相違点のみを説明する。
【0029】図3において、本実施形態では、基板16
の感光膜16aの上にコントラスト増強層21が設けら
れている。そして、上記実施形態の露光光学系20によ
り同様の露光を行う。
の感光膜16aの上にコントラスト増強層21が設けら
れている。そして、上記実施形態の露光光学系20によ
り同様の露光を行う。
【0030】本実施形態によると、コントラスト増強層
21はレーザ光Lの光強度の強い中央部が入射する部分
は直ちに透明になり、その下の感光膜16aを露光する
ことができ、光強度の弱いまわりの部分は透明になら
ず、感光膜16aに達しないようにするので、ピット幅
が微小化した高密度な光学的書き込みが安定して達成さ
れる。
21はレーザ光Lの光強度の強い中央部が入射する部分
は直ちに透明になり、その下の感光膜16aを露光する
ことができ、光強度の弱いまわりの部分は透明になら
ず、感光膜16aに達しないようにするので、ピット幅
が微小化した高密度な光学的書き込みが安定して達成さ
れる。
【0031】具体的な操作は、平坦なガラスの基板16
を洗浄後、その表面をシランカップリング剤で処理す
る。これは基板16と感光膜16aとの密着性をよくす
るためである。この基板16の上にポジ型感光膜16a
を塗布する。これを80℃で15分ベークした後、基板
16が室温になるまで十分に自然冷却する。次いで、回
転塗布により、ポジ型感光膜16aの上にコントラスト
増強層21を形成する。
を洗浄後、その表面をシランカップリング剤で処理す
る。これは基板16と感光膜16aとの密着性をよくす
るためである。この基板16の上にポジ型感光膜16a
を塗布する。これを80℃で15分ベークした後、基板
16が室温になるまで十分に自然冷却する。次いで、回
転塗布により、ポジ型感光膜16aの上にコントラスト
増強層21を形成する。
【0032】コントラスト増強層21は、露光するレー
ザ光Lに対し、初期透過率は20%と低いが、一定以上
の強い光を照射すると透過率が90%以上となる。
ザ光Lに対し、初期透過率は20%と低いが、一定以上
の強い光を照射すると透過率が90%以上となる。
【0033】感光膜16a上にコントラスト増強層21
を形成したガラスの基板16を上記実施形態の装置で露
光した後、基板16を回転させながら表面を5分間純水
で洗浄する。これによりコントラスト増強層21を除去
することができ、その後感光膜16aを現像する。
を形成したガラスの基板16を上記実施形態の装置で露
光した後、基板16を回転させながら表面を5分間純水
で洗浄する。これによりコントラスト増強層21を除去
することができ、その後感光膜16aを現像する。
【0034】具体的な実施例について述べると、ガラス
の基板16は直径200mm、厚み6mmの平坦なもの
で、洗浄後に使用するシランカップリング剤はHMDS
(ヘキサメチルジシラザン)を用いる。ポジ型の感光膜
16aは東京応化工業社製のiP−3650を用い、
0.07μmの厚さに塗布し、80℃で15分ベークし
た後、室温まで十分に自然冷却する。コントラスト増強
層21は、信越化学工業社製ACEM−365iMを用
い、0.2μmの厚みに塗布する。このコントラスト増
強層21は、露光を行うレーザ光Lの波長363.8n
mに対して、透過率が25%であるが、強い光を照射す
ると透過率が95%になる。現像液は、東京応化工業社
製のNMD−W(2.38%)を純水で75%希釈した
ものを使用する。
の基板16は直径200mm、厚み6mmの平坦なもの
で、洗浄後に使用するシランカップリング剤はHMDS
(ヘキサメチルジシラザン)を用いる。ポジ型の感光膜
16aは東京応化工業社製のiP−3650を用い、
0.07μmの厚さに塗布し、80℃で15分ベークし
た後、室温まで十分に自然冷却する。コントラスト増強
層21は、信越化学工業社製ACEM−365iMを用
い、0.2μmの厚みに塗布する。このコントラスト増
強層21は、露光を行うレーザ光Lの波長363.8n
mに対して、透過率が25%であるが、強い光を照射す
ると透過率が95%になる。現像液は、東京応化工業社
製のNMD−W(2.38%)を純水で75%希釈した
ものを使用する。
【0035】以上の条件によって、0.2μm程度の幅
や径を持ったピットを高密度に形成できた。
や径を持ったピットを高密度に形成できた。
【0036】なお、上記実施形態では、基板16として
感光膜16aに露光して現像することにより凹凸状ピッ
トを形成するものを例示したが、感光膜16aとして露
光により凹部や凸部ができる材質のものを採用すれば現
像は不要である。また、場合によっては露光による変形
や変質を伴って光ディスクそのものを製造するものにも
本発明は適用できる。
感光膜16aに露光して現像することにより凹凸状ピッ
トを形成するものを例示したが、感光膜16aとして露
光により凹部や凸部ができる材質のものを採用すれば現
像は不要である。また、場合によっては露光による変形
や変質を伴って光ディスクそのものを製造するものにも
本発明は適用できる。
【0037】
【発明の効果】本発明の露光方法及び装置によれば、以
上の説明から明らかなように、各記録パターンに応じた
記録信号パルスを複数の短パルスに分割し、各短パルス
の振幅、パルス幅、パルス立ち上がりタイミングを記録
信号パルスのパルス幅に応じて設定することにより、ピ
ット長の長短によって幅の差のない、より細い幅のピッ
トを形成することができる。
上の説明から明らかなように、各記録パターンに応じた
記録信号パルスを複数の短パルスに分割し、各短パルス
の振幅、パルス幅、パルス立ち上がりタイミングを記録
信号パルスのパルス幅に応じて設定することにより、ピ
ット長の長短によって幅の差のない、より細い幅のピッ
トを形成することができる。
【0038】また、各記録信号パルスを、先頭パルス、
中間パルス、最終パルスを有する3つ以上の短パルスに
分解し、先頭パルス、中間パルス、最終パルスの振幅を
それぞれa1 、a2 、a3 として、a1 ≧a3 ≧a2 と
すると、幅が細くかつピット全長にわたって幅の差が小
さいピットを安定的に形成することができるとともに、
1つのピットの書き始め及び書き終わりの部分の壁面の
形状が鋭くなり、再生信号の特性を改善できる。
中間パルス、最終パルスを有する3つ以上の短パルスに
分解し、先頭パルス、中間パルス、最終パルスの振幅を
それぞれa1 、a2 、a3 として、a1 ≧a3 ≧a2 と
すると、幅が細くかつピット全長にわたって幅の差が小
さいピットを安定的に形成することができるとともに、
1つのピットの書き始め及び書き終わりの部分の壁面の
形状が鋭くなり、再生信号の特性を改善できる。
【0039】また、感光層の上に光を強く吸収し、それ
によって退色することによって光を通すようになるコン
トラスト増強層を設けて露光すると、露光時に使用する
光の波長によって決まる回折限界幅よりも幅の細いピッ
トをより安定的に形成することができ、さらに上記露光
方法と組み合わせると、より安定的に細いピットを形成
することができる。
によって退色することによって光を通すようになるコン
トラスト増強層を設けて露光すると、露光時に使用する
光の波長によって決まる回折限界幅よりも幅の細いピッ
トをより安定的に形成することができ、さらに上記露光
方法と組み合わせると、より安定的に細いピットを形成
することができる。
【図1】本発明の露光装置の一実施形態の概略構成図で
ある。
ある。
【図2】同実施形態における電気信号と形成されるピッ
トパターンの説明図である。
トパターンの説明図である。
【図3】本発明の露光装置の他の実施形態の要部の側面
図である。
図である。
1 レーザ光源 15 対物レンズ 16 基板 16a 感光膜 17 スピンドル 18 記録信号発生器 19 記録信号変換器 21 コントラスト増強層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H097 AA03 AB07 BB02 CA17 FA03 FA06 LA20 5D090 AA01 BB01 DD03 DD05 FF11 5D121 AA01 AA03 BB26 BB38
Claims (7)
- 【請求項1】 基板上の感光層に、記録パターンに応じ
た記録信号パルスにて強度変調された光ビームを照射し
て露光する露光方法において、各記録パターンに応じた
記録信号パルスを複数の短パルスに分割し、各短パルス
の振幅、パルス幅、パルス立ち上がりタイミングを記録
信号パルスのパルス幅に応じて設定することを特徴とす
る露光方法。 - 【請求項2】 基板をビームに対して相対的に回転させ
ながら基板上の感光層に、記録パターンに応じた記録信
号パルスにて強度変調された光ビームを照射して露光す
る請求項1記載の露光方法。 - 【請求項3】 各記録信号パルスを、先頭パルス、中間
パルス、最終パルスを有する3つ以上の短パルスに分解
することを特徴とする請求項1又は2記載の露光方法。 - 【請求項4】 先頭パルス、中間パルス、最終パルスの
振幅をそれぞれa1、a2 、a3 として、a1 ≧a3 ≧
a2 とすることを特徴とする請求項3記載の露光方法。 - 【請求項5】 感光層の上に、光を強く吸収し、それに
よって退色することによって光を通すようになるコント
ラスト増強層を設けて露光することを特徴とする請求項
1〜4の何れかに記載の露光方法。 - 【請求項6】 基板を回転させながら基板上の感光層に
必要な記録パターンに応じた記録信号パルスにて強度変
調された光ビームを照射して露光する露光方法におい
て、感光層の上にコントラスト増強層を設けて露光する
ことを特徴とする露光方法。 - 【請求項7】 記録パターンに応じた記録信号パルスを
出力する記録信号発生器と、記録信号パルスを複数の短
パルスに分割するとともに記録信号パルスのパルス幅に
応じて各短パルスの振幅、パルス幅、パルス立ち上がり
タイミングを設定する記録信号変換器と、レーザ光を出
力するレーザ光源と、記録信号変換器からのパルス信号
に応じてレーザ光を変調する光変調器と、光変調器から
のレーザ光を感光層を有する基板に集光する対物レンズ
と、基板を回転させる手段とを備えたことを特徴とする
露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11108006A JP2000298839A (ja) | 1999-04-15 | 1999-04-15 | 露光方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11108006A JP2000298839A (ja) | 1999-04-15 | 1999-04-15 | 露光方法及び装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000298839A true JP2000298839A (ja) | 2000-10-24 |
Family
ID=14473607
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11108006A Pending JP2000298839A (ja) | 1999-04-15 | 1999-04-15 | 露光方法及び装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000298839A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1482486A2 (en) * | 2003-05-27 | 2004-12-01 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical information recording method, optical information recording device and optical information recording medium |
KR101744842B1 (ko) | 2016-05-23 | 2017-06-12 | (주)하드램 | 멀티펄스 레이저를 이용한 레이저 다이렉트 이미징 시스템 및 이미징 방법 |
-
1999
- 1999-04-15 JP JP11108006A patent/JP2000298839A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1482486A2 (en) * | 2003-05-27 | 2004-12-01 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical information recording method, optical information recording device and optical information recording medium |
KR101744842B1 (ko) | 2016-05-23 | 2017-06-12 | (주)하드램 | 멀티펄스 레이저를 이용한 레이저 다이렉트 이미징 시스템 및 이미징 방법 |
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